JP5952274B2 - 光源焦点のアラインメント - Google Patents
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Description
105 光源
110 ステアリングシステム
115 検出システム
120 波面修正システム
Claims (20)
- 極紫外線システムであって、
伝播方向に沿ってビームパス上を進む増幅光ビームを生成する光源であって、前記ビームパスは、前記光源とターゲット場所との間にある、光源と、
前記増幅光ビームを前記ターゲット場所の近くの焦点面に誘導して集束させるステアリングシステムと、
ターゲット材料を前記ターゲット場所へ供給するターゲット材料送出システムであって、前記ターゲット材料は、前記増幅光ビームを反射し、反射した前記増幅光ビームは、前記ターゲット場所から離れる方向に前記ビームパスを伝搬する、ターゲット材料送出システムと、
極紫外線コレクターと前記ターゲット場所におけるターゲット材料とを含む極紫外線チャンバと、
前記ターゲット材料の少なくとも一部分から反射された前記増幅光ビームの像を検出するように位置決めされた少なくとも1つの検出器を含む検出システムと、
反射された前記増幅光ビームの経路内で前記ターゲット場所と前記検出システムの間にある波面修正システムであって、反射された前記増幅光ビームの波面を前記伝播方向に沿ったターゲット焦点面位置の関数として修正するよう構成された波面修正システムと、
前記検出システムと前記ステアリングシステムとに結合され、反射された前記増幅光ビームの前記検出像に基づいて前記伝播方向に沿って前記ターゲット材料に対する前記増幅光ビームの前記焦点面の場所を調節するための論理を含むコントローラと、
を含むことを特徴とする極紫外線システム。 - 前記波面修正システムは、透過光学要素を含むことを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記透過光学要素は、非点収差レンズ及び円柱レンズのうちの1つ又はそれよりも多くからなることを特徴とする請求項2に記載のシステム。
- 前記波面修正システムは、反射光学要素を含むことを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記反射光学要素は、円柱ミラー又は鞍形ミラーを含むことを特徴とする請求項4に記載のシステム。
- 反射した前記増幅光ビームの前記検出像のサイズ及び向きは、前記ターゲット場所に対する前記ターゲット焦点面位置と共に変化することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記波面修正システムは、前記光源の出力窓と前記検出システムとの間又は前記ターゲット場所と該光源の出力窓との間のいずれかにあることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記ターゲット焦点面は、前記増幅光ビームの前記焦点面であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記増幅光ビームと整列する案内レーザビームを生成する案内レーザを更に含み、
前記案内レーザビームは、前記増幅光ビームの波長とは異なる波長で作動する、
ことを特徴とする請求項8に記載のシステム。 - 極紫外線を発生させる方法であって、
伝播方向にビームパスに沿って進む増幅光ビームによってターゲット場所でターゲット材料を照射する段階と、ここで、前記増幅光ビームは、焦点面を有し、前記ターゲット材料と集束された増幅光ビームとの相互作用は、前記ターゲット材料を消費して極紫外放射を放射するプラズマに変換し、かつ前記増幅光ビームの反射を生成し、反射した前記増幅光ビームは、前記ターゲット場所から離れる方向に前記ビームパスを伝搬し、前記ターゲット材料から反射された前記増幅光ビームの波面を修正し、該修正は前記伝播方向に沿ったターゲット焦点面の位置の関数である段階と、
前記修正され反射された前記増幅光ビームの像を検出する段階と、
前記検出像に基づいて、前記ターゲット場所に対する前記焦点面の場所を判断する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記判断された焦点面の場所がターゲット場所に重ならない場合に、焦点面の前記位置を調節する段階と、
前記調節された焦点面位置を有する前記増幅光ビームで前記ターゲット材料を照射する段階と、
を含むことを特徴とする、請求項10に記載の方法。 - 反射した前記増幅光ビームの前記波面を修正する段階は、前記パルスが発生している間だけ該波面を修正する段階を含むことを特徴とする、請求項10に記載の方法。
- 前記波面を修正する段階は、前記伝播方向に対するそれぞれの横断方向に焦点を各々が有する焦点面の間に該伝播方向に沿って分離を導入する段階を含むことを特徴とする、請求項10に記載の方法。
- 前記波面を修正する段階は、反射した前記増幅光ビームの波面の曲率及び形状のうちの1つ又はそれよりも多くを修正する段階を含むことを特徴とする、請求項10に記載の方法。
- 前記波面を修正する段階は、反射された前記増幅光ビームの前記波面に非点収差を導入する段階を含むことを特徴とする、請求項11に記載の方法。
- 前記ターゲット場所に対する焦点面の場所を判断する前記段階は、
前記検出像を測定基準に適合させ、かつ該測定基準に基づいて像強度の中心と該検出像の向きとを判断する段階と、
像強度の中心と向きとの所定の組に対して前記判断された像強度の中心と前記向きとを比較する段階とを含むことを特徴とする、請求項10に記載の方法。 - 前記ターゲット場所に対する焦点面の場所を判断する前記段階は、
前記像強度の小さい及び大きい慣性モーメント間の比が所定の値よりも大きいか否かを確認する段階と、
前記検出像の前記向きが所定の角度よりも大きいか否かを確認する段階とを含むことを特徴とする、請求項11に記載の方法。 - 前記ターゲット場所に対する焦点面の場所を判断する前記段階は、
前記検出像を前記測定基準に適合させ、かつ該測定基準に基づいて楕円率を判断する段階と、
前記判断された楕円率の特性を1組の所定の値と比較する段階とを含むことを特徴とする、請求項17に記載の方法。 - さらに、光源に前記ターゲット材料に向けて増幅光ビームを放射させる段階を含むことを特徴とする、請求項10に記載の方法。
- 光源に前記ターゲット材料に向けて増幅光ビームを放射させる前記段階は、前記光源に複数のパルスを放射させる段階を含み、前記複数のパルスはメインパルスと少なくとも1つのプレパルスを含むことを特徴とする、請求項19に記載の方法。
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