JP5949205B2 - カラーフィルタ - Google Patents
カラーフィルタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP5949205B2 JP5949205B2 JP2012141251A JP2012141251A JP5949205B2 JP 5949205 B2 JP5949205 B2 JP 5949205B2 JP 2012141251 A JP2012141251 A JP 2012141251A JP 2012141251 A JP2012141251 A JP 2012141251A JP 5949205 B2 JP5949205 B2 JP 5949205B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- color filter
- organic
- transparent substrate
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 152
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 95
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 28
- 239000002052 molecular layer Substances 0.000 claims description 26
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 17
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 361
- 239000010408 film Substances 0.000 description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 description 70
- 239000002585 base Substances 0.000 description 54
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 51
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 51
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 36
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 34
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 28
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 22
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 22
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 17
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 10
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 10
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 10
- 238000007699 photoisomerization reaction Methods 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- -1 cinnamate ester Chemical class 0.000 description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 6
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 6
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 5
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical group C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 description 2
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000007697 cis-trans-isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229940110337 pigment blue 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940067265 pigment yellow 138 Drugs 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
すなわち、上記有機EL表示装置に用いられるカラーフィルタは、通常、赤色、緑色、青色の3色の副画素には着色層が形成され、白色副画素は開口部が設けられるか、もしくは必要に応じて透明樹脂層が形成されることから、カラーフィルタの白色副画素は、他の副画素に比べて外光の透過率が高いものとなる。そのため、有機EL表示装置においてカラーフィルタの白色副画素に対応する部分(以下、有機EL表示装置の白色副画素と称する場合がある。)から有機EL表示装置内部へ入射した外光が、有機EL素子の電極に反射して再び有機EL表示装置外部へ出射する、いわゆる外光反射に起因して有機EL表示装置の表示が見えにくくなるという問題がある。
まず、本発明のカラーフィルタについて説明する。
本発明のカラーフィルタは、透明基材と、上記透明基材上にパターン状に形成された遮光部と、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素と、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素と、上記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層とを有し、上記白色副画素では、上記透明基材上に上記直線偏光層と上記位相差制御層とが積層されて形成されていることを特徴とするものである。
図1は本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。図1に例示するように、本発明のカラーフィルタ10は、透明基材1と、透明基材1上にパターン状に形成された遮光部2と、遮光部2の開口部に設けられ、透明基材1上にパターン状に形成された着色層3(図1では赤色着色層3R、緑色着色層3G、および青色着色層3B)を有する着色副画素10C(図1では赤色副画素10R、緑色副画素10G、および青色副画素10B)と、遮光部2の開口部に設けられ、透明基材2上にパターン状に形成された直線偏光層4を有する白色副画素10Wと、透明基材1上の少なくとも白色副画素10Wに形成された位相差制御層5とを有し、白色副画素10Wでは、透明基材1上に直線偏光層4と位相差制御層5とが積層されて形成されていることを特徴とする。また、この例では、位相差制御層5が透明基材1上の白色副画素10Wに加えて着色副画素10Cにも連続的に形成されている例について示しており、白色副画素10Wでは、透明基材1上に直線偏光層4および位相差制御層5がこの順に積層されて形成されている例について示している。また、直線偏光層4が、配向層4aおよび配向層4a表面上に形成され二色性分子を含有する二色性分子層4bの積層体から構成されている例について示している。
本発明のカラーフィルタは、透明基材上に、遮光部、着色層、直線偏光層、および位相差制御層の各層が形成される。また、本発明においては、上述した各層および必要に応じて形成される層は、通常、透明基材の同一の表面側に形成される。
本発明のカラーフィルタは、透明基材と、遮光部と、着色副画素と、白色副画素と、位相差制御層とを有する。以下、各構成について説明する。
本発明における白色副画素は、後述する遮光部の開口部に設けられるものであり、透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有するものである。
また、白色副画素は、後述する着色副画素とともにカラーフィルタの画素部を構成するものである。
本発明に用いられる直線偏光層について説明する。
本発明の直線偏光層は、透明基材上の白色副画素にパターン状に形成されるものである。また、直線偏光層は、透明基材上に直接形成されてもよく、後述する位相差制御層、または必要に応じて形成される透明樹脂層等の他の層を介して形成されてもよい。
このような直線偏光層としては、光を直線偏光に変換させることができるものであれば特に限定されないが、配向層および上記配向層の表面上に形成され二色性分子を含有する二色性分子層の積層体から構成されるものであることが好ましい。
以下、このような直線偏光層に用いられる配向層および二色性分子層についてそれぞれ説明する。
配向層は、透明基材上の白色副画素にパターン状に形成されるものであり、後述する二色性分子層に含有される二色性分子を所定の方向に配列させるものである。
このような配向層としては、配向層に用いられる配向処理の違いにより、2つの態様に分けることができる。具体的には、配向層がその表面に微細凹凸形状が形成されたものである態様(第1態様)と、配向層が光配向膜から構成されるものである態様(第2態様)とに分けることができる。
本態様の配向層は、その表面に微細凹凸形状が形成されたものである。
またここで、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに不連続な状態で形成された態様とは、例えば、表面にラビング処理がなされた場合等に形成されるような微小な傷のようなライン状凹凸構造が、略一定方向に不連続な状態で形成された態様を意味するものである。
より具体的には、ポリイミド樹脂、ポリビニール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂、アクリル樹脂、ポリビニールアルコール樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等を挙げることができる。
ウェットプロセスとしては、例えば、フォトリソグラフィー法を用いた形成方法や、インクジェット方式、印刷方式等を挙げることができる。本発明においては、なかでもフォトリソグラフィー法を用いた形成方法であることが好ましい。透明基材上の白色副画素が設けられる遮光部の開口部に、配向層を精度良くパターン状に形成することができるからである。
まず、感光性樹脂等の配向層の材料を含有する塗工液を調製する。次に、上記塗工液を透明基材の遮光部側表面上の全面に塗布して乾燥させることにより塗膜を形成する。次に、上記塗膜を、フォトマスクを用いて露光光を照射してパターン露光処理を行い、パターニング処理をして所定位置に配向層形成用層を形成し、加熱処理を行う。そのあと、配向層形成用層をラビング処理することにより透明基材上の白色副画素に配向層をパターン状に形成する。なお、透明基材上に着色層および配向層形成用層が形成されている場合は、着色層上には保護用のレジストを形成した後、配向層形成用層のラビング処理を行い、その後に保護用のレジストを剥離して配向層が形成される場合もある。
また、上記塗工液の塗布方法としては、例えばスピンコート法、ロールコート法、ロッドバーコート法、スプレーコート法、エアナイフコート法、スロットダイコート法、ワイヤーバーコート法などを用いることができる。
ラビング処理については、一般的な配向処理に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、パターン露光処理、現像処理、加熱処理等については一般的なフォトリソグラフィー法に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本態様の配向層は、光配向膜から構成されるものである。
まず、透明基材上の白色副画素に、上述の光配向膜の構成材料を有機溶剤で希釈した塗工液をパターン状に塗布し、乾燥させる。この場合に、塗工液中の光二量化反応性化合物または光異性化反応性化合物の含有量は、0.05重量%〜10重量%の範囲内であることが好ましく、0.2重量%〜2重量%の範囲内であることがより好ましい。含有量が上記範囲より小さいと、配向膜に適度な異方性を付与することが困難となり、逆に含有量が上記範囲より大きいと、塗工液の粘度が高くなるので均一な塗膜を形成しにくくなるからである。
なお、上記有機溶剤については、一般的な光配向膜の形成に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明における二色分子層について説明する。
本発明に用いられる二色性分子層の厚みとしては、直線偏光性を示すことが可能な程度であれば特に限定されず、後述する二色性分子の種類により適宜選択される。通常、0.5μm〜2μmの範囲内となるがこれに限られるものではない。
なお、本発明においては片末端に重合性官能基を有する液晶性材料を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。
このような二色性分子層の形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィー法を用いる方法、すなわち二色性分子を含有する塗工液を透明基材の遮光部側全面に塗布した後、フォトマスク等を用いて露光および現像することにより形成する方法を挙げることができる。また、インクジェット法等を用いて、二色性分子を含有する塗工液をパターン状に塗布して形成する方法を挙げることができる。なお、上記塗工液は必要に応じて溶剤が添加されていてもよい。上記溶剤については一般的なものとすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明に用いられる直線偏光層としては、上述した配向層および二色性分子層の積層体以外にも、例えば、ヨウ素を含有するポリビニルアルコール系樹脂を含む高分子フィルムを延伸し、パターニングしたものを用いても良い。
本発明における白色副画素は、上述した直線偏光層以外の構成を有していてもよい。このような構成としては、例えば透明樹脂層が挙げられる。また、透明樹脂層を有する場合、上記透明樹脂層は、透明基材と直線偏光層との間に形成され、後述する着色副画素が有する着色層と同等の厚みで形成される。上記透明樹脂層を有する場合は、上述した直線偏光層における配向層表面を着色層表面よりも高い位置に形成することが可能となるため、配向層を形成する際のラビング処理による着色層へのダメージを少ないものとすることができる。また、カラーフィルタの着色副画素に形成された着色層と、上記直線偏光層との高さを揃えることができるため、有機EL表示装置に用いた場合に着色副画素と白色副画素との視差を生じにくくすることができる。
上記透明樹脂層に用いられる樹脂材料、および形成方法等については一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
次に、本発明における位相差制御層について説明する。
本発明における位相差制御層は、透明基材上の少なくとも白色副画素に形成されるものであり、直線偏光層により変換された直線偏光を透過させることにより円偏光に変換させるものである。
より具体的には上記位相差制御層の面内レターデーション値は、100nm〜160nmの範囲内であることが好ましく、110nm〜150nmの範囲内であることがより好ましく、120nm〜140nmの範囲内であることがさらに好ましい。
Re[nm]=(Nx−Ny)×d[nm]
で表わされる値である。面内レターデーション値(Re値)は、例えば、王子計測機器株式会社製 KOBRA−WRを用い、平行ニコル回転法により測定することができるし、微小領域の面内レターデーション値はAXOMETRICS社(米国)製のAxoScanでミューラーマトリクスを使って測定することも出来る。また、本願明細書においては特に別段の記載をしない限り、Re値は波長589nmにおける値を意味するものとする。
本態様の位相差制御層は、位相差性を示す位相差性化合物を含む樹脂層から構成される位相差制御樹脂層である。
また、上述した二色性分子を位相差性化合物として用いることができる。
位相差制御樹脂層を透明基材上の白色副画素にパターン状に形成する場合は、例えば、以下の形成方法により位相差制御樹脂層を形成することができる。
まず、位相差性化合物および感光性樹脂を含有する塗工液を調製する。次に、上記塗工液を透明基材の遮光部側表面上の全面に塗布して、位相差制御樹脂層形成用層を形成する。次に、位相差制御樹脂層形成用層にフォトマスクを用いて露光光を照射して、パターン露光処理を行い、次いで、現像処理を行い、さらに必要に応じて加熱処理を行うことにより透明基材上の白色副画素に位相差制御樹脂層をパターン状に形成する。
また、上記塗工液の塗布方法としては、上述した第1態様の配向層の形成方法に用いられる塗布法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、パターン露光処理、現像処理等については一般的なフォトリソグラフィー法に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本態様の位相差制御層は、位相差制御フィルムから構成される。このような位相差制御フィルムとしては、所望の位相差性を示すものであれば特に限定されないが、その面内レターデーション値がλ/4分を示すλ/4板であることが好ましい。
また、上記λ/4板としては、上述した樹脂から構成される1層のフィルムであってもよく、一対の保護シートの間に上述した樹脂層から構成される層が配置されたフィルムであってもよい。保護シートについては、一般的なλ/4板に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明における着色副画素は、上記遮光部の開口部に設けられるものである。また着色副画素は、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する。
また、上記着色副画素は上述した白色副画素とともにカラーフィルタの画素部を構成するものである。
上記着色上に偏光層等を形成する場合は、緑色副画素に形成することが好ましい。
本発明における遮光部は、透明基材上にパターン状に形成されるものである。
また、上記遮光部はそれぞれの着色副画素および白色副画素を画定するものである。
これらの遮光部に用いられる材料、厚み、およびその形成方法等については、公知のものを用いることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明における透明基材は、上述した遮光部、着色副画素に形成される着色層、白色副画素に形成される直線偏光層、および位相差制御層等を支持するものである。
本発明のカラーフィルタは、上述した透明基材、遮光部、着色層、直線偏光層、および位相差制御層を有するものであれば特に限定されず、必要な構成を適宜選択して追加することができる。このような構成としては、例えば、上記遮光部、着色層、直線偏光層、および必要に応じてパターン状に形成された位相差制御層を覆うように形成される保護層を挙げることができる。保護層については一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、本発明のカラーフィルタをボトムエミッション型の有機EL表示装置に用いる場合は、透明基材上に形成されたTFTを有することができる。
上記TFTについては一般的な有機EL表示装置に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明のカラーフィルタは、有機EL表示装置に用いることができる。特に、屋外利用を目的とした携帯機器に使用される有機EL表示装置に好適に用いることができる。
次に、本発明の有機EL表示装置について説明する。
本発明の有機EL表示装置は、透明基材、上記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素、および上記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層を有し、上記白色副画素では、上記透明基材上に上記直線偏光層と上記位相差制御層とが積層されて形成されているカラーフィルタと、対向基材と、上記カラーフィルタ上または上記対向基材上のいずれか一方に形成され、かつ、上記カラーフィルタおよび上記対向基材の間に配置された有機EL素子と、を有することを特徴とするものである。
図4は、本発明の有機EL表示装置の一例を示す概略断面図である。また、図4は本発明の有機EL表示装置がトップエミッション型の有機EL表示装置である例について示している。図4に例示するように、本発明の有機EL表示装置100は、カラーフィルタ10と、対向基材20と、対向基材20の一方の表面上に形成され、かつ、カラーフィルタ10および対向基材20の間に配置された有機EL素子30とを有する。また、有機EL素子30は、通常、対向基材20上に形成された第1電極層31aと、第1電極層31a上に形成され、少なくとも発光層を含む有機EL層32と、有機EL層32上に形成された第2電極層31bとを有するものである。また、この場合、第2電極層31bには透明電極が用いられる。また本発明においては、通常、カラーフィルタ10および対向基材20の間であって、カラーフィルタ10および対向基材20の外周に、シール材40が配置される。なお、カラーフィルタ10については、図1で説明した内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
なお、図6において説明していない符号については、図4で説明した符号と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明におけるカラーフィルタについて説明する。
本発明におけるカラーフィルタは、本発明の有機EL表示装置がボトムエミッション型の有機EL表示装置である場合は、遮光部等側の表面上に後述する有機EL素子が形成される。
一方、本発明の有機EL表示装置がトップエミッション型の有機EL表示装置である場合は、対向基材の表面上に形成された有機EL素子とカラーフィルタの遮光部等側とが対向するように配置されてもよく、上記有機EL素子とカラーフィルタの遮光部側とは反対側とが対向するように配置されてもよい。
なかでも、本発明においては、上記有機EL素子とカラーフィルタの遮光部側とが対向するように配置されることが好ましい。カラーフィルタの透明基材を有機EL表示装置の外部に形成することにより、カラーフィルタにおける各構成を保護することができるからである。
次に、本発明における対向基材について説明する。
本発明における対向基材は、本発明の有機EL表示装置がトップエミッション型の有機EL表示装置である場合は、後述する有機EL素子が形成される。
TFTとしては、有機EL素子に一般的に用いられるものを使用することができる。
本発明に用いられる有機EL素子は、カラーフィルタ上または対向基材上のいずれか一方に形成される第1透明電極層と、第1透明電極層上に形成され、少なくとも発光層を含む有機EL層と、有機EL層上に形成された第2電極層とを有するものとすることができる。以下、有機EL素子の各構成について説明する。
有機EL層は、少なくとも発光層を含む1層もしくは複数層の有機層を有するものである。有機EL層を構成する層としては、発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等が挙げられる。
発光層の発光は、単色であってもよく、複数色であってもよい。発光層は、例えば、白色発光する白色発光層であってもよく、青色発光する青色発光層であってもよく、三原色をそれぞれ発光する赤色発光層、緑色発光層および青色発光層を有する発光層であってもよい。
有機EL層としては、有機EL素子に用いられる一般的な有機EL層と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
第1電極層および第2電極層としては、有機EL素子に一般的に用いられるものを使用することができる。また、本発明においては第1電極層および第2電極層のうち、カラーフィルタ側に形成されるものについては透明電極が用いられ、対向基材側に形成されるものについては反射性を有する電極が用いられる。
また、第1電極層は、カラーフィルタ上または対向基材上に一様に形成されていてもよくパターン状に形成されていてもよく、本発明の有機EL装置の用途や駆動方法に応じて適宜選択される。
本発明の有機EL表示装置は、上述したカラーフィルタ、対向基材、および有機EL素子を有するものであれば特に限定されない。
シール材に用いられる材料としては、カラーフィルタおよび対向基材を接着し、有機EL素子が大気中の水分等と接触するのを抑制することができるものであればよく、有機EL素子に一般的に用いられるものを使用することができる。
絶縁層としては、有機EL素子に一般的に用いられるものを使用することができる。
本発明の有機EL表示装置は、特に携帯機器に好ましく使用される。
本発明の有機EL表示装置の駆動方法としては、パッシブマトリクスおよびアクティブマトリクスのいずれも適用することができる。
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基材、上記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、および上記遮光部の開口部に設けられ、透明基材上に上記着色層が形成されていない白色副画素を有するカラーフィルタ用基板を準備し、上記カラーフィルタ用基板の透明基材上の上記白色副画素に配向層をパターン状に形成した後、上記配向層の表面上に二色性分子を含有する二色性分子層をパターン状に形成することにより直線偏光層をパターン状に形成する直線偏光層形成工程と、上記カラーフィルタ用基板の上記透明基材上の少なくとも上記白色副画素に位相差制御層を形成する位相差制御層形成工程と、を有することを特徴とする製造方法である。
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、まず、図7(a)に例示するように、透明基材1、透明基材1上にパターン状に形成された遮光部2、遮光部2の開口部に設けられ、透明基材1上にパターン状に形成された着色層3(図7では赤色着色層3R、緑色着色層3G、および青色着色層3B)を有する着色副画素10C、および遮光部2の開口部に設けられ、透明基材1上に着色層が形成されていない白色副画素10Wを有するカラーフィルタ用基板11を準備する。次に、図7(b)、(c)に例示するように、カラーフィルタ用基板11の透明基材1上の白色副画素10Wに配向層4aをパターン状に形成した後、配向層4aの表面上に二色性分子を含有する二色性分子層4bをパターン状に形成することにより直線偏光層4をパターン状に形成する(直線偏光層形成工程)。次に、図7(d)に例示するように、カラーフィルタ用基板11の透明基材1上の少なくとも白色副画素10Wに位相差制御層5を形成する(位相差制御層形成工程)。以上の工程を行うことにより、図7(d)に例示するカラーフィルタ10を製造することができる。
なお、図示しないが、本発明においては、直線偏光層形成工程の前に位相差制御層形成工程を行ってもよい。
本発明の直線偏光層形成工程は、上記カラーフィルタ用基板の透明基材上の上記白色副画素に配向層をパターン状に形成した後、上記配向層の表面上に二色性分子を含有する二色性分子層をパターン状に形成することにより直線偏光層をパターン状に形成する工程である。
本発明の位相差制御層形成工程は、上記カラーフィルタ用基板の上記透明基材上の少なくとも上記白色副画素に位相差制御層を形成する工程である。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述した直線偏光層形成工程および位相差制御層形成工程を有する製造方法であれば特に限定されず、他にも必要な構成を適宜選択して追加することができる。このような工程としては、例えば、上述したカラーフィルタ用基板を形成するカラーフィルタ用基板形成工程や、カラーフィルタの保護層を形成する保護層形成工程等を挙げることができる。
本発明の製造方法により製造されるカラーフィルタについては、上述した「A.カラーフィルタ」の項で説明した内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
(硬化性樹脂組成物の調整)
重合槽中にメタクリル酸メチル(MMA)を63質量部、アクリル酸(AA)を12質量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)を6質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を88質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、2,2’ −アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7質量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、更に100℃で1時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル(GMA)を7質量部、トリエチルアミンを0.4質量部、およびハイドロキノンを0.2質量部添加し、100℃で5時間攪拌し、共重合樹脂溶液(固形分50%)を得た。
・上記共重合樹脂溶液(固形分50%) 16質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399)
24質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70) 4質量部
・2‐メチル‐1‐(4‐メチルチオフェニル)‐2‐モルフォリノプロパン‐1‐オン
4質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル 52質量部
まず、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調整した。
<黒色顔料分散液の組成>
・黒色顔料 23質量部
・高分子分散材(ビックケミー・ジャパン(株) Disperbyk111) 2質量部
・溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) 75質量部
<遮光部用組成物の組成>
・上記黒色顔料分散液 61質量部
・上記硬化性樹脂組成物 20質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル 30質量部
上記遮光部を形成した後、配向膜(日産化学社製、SE-130)を0.5μmの厚さで塗布し、150℃の雰囲気下に30分間放置した。配向膜形成基板上にフォトレジスト(東京応化製、OFPR-800)を厚さ約1μmに塗布し、マスクを用いて露光、現像、エッチング、レジスト剥離し所定の位置に配向膜パターニングした。パターニング後の基板を230℃の雰囲気下に30分放置した。
配向膜形成後基板に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布(塗布厚み3.0μm)し、その後、70℃のオーブン中で3分間乾燥した。次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を170℃の雰囲気下に30分間放置することにより、加熱処理を施して赤色副画素を形成すべき領域に赤色のレリーフパターン(赤色着色層)を形成した。
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、緑色副画素を形成すべき領域に緑色のレリーフパターン(緑色着色層)を形成した。
さらに、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、青色副画素を形成すべき領域に青色のレリーフパターン(青色着色層)を形成した。
・C.I.ピグメントレッド254 7質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 3質量部
・上記硬化性樹脂組成物 23質量部
・酢酸−3−メトキシブチル 67質量部
・C.I.ピグメントグリーン58 7質量部
・C.I.ピグメントイエロー138 1質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 3質量部
・上記硬化性樹脂組成物 22質量部
・酢酸−3−メトキシブチル 67質量部
・C.I.ピグメントブルー1 5質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 3質量部
・上記硬化性樹脂組成物 25質量部
・酢酸−3−メトキシブチル 67質量部
着色後形成基板をラビング処理し配向層を得た。
配向層形成後基板上に、硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し塗布膜を形成した。硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を230℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施して所定の個数密度となるように形成した。
下記組成物Aを塗布し、フォトマスクを用いて露光、現像して170℃のオーブンを用いて30分焼成して膜厚1.0μmの二色性分子層を配向層上に形成し、直線偏光層を得た。なお、化合物(a)〜(d)は下記式で示される化合物である。
・化合物(a) 3.27質量部
・化合物(b) 1.87質量部
・化合物(c) 2.10質量部
・化合物(d) 2.10質量部
・ドデカノール 0.10質量部
・BHT 0.01質量部
・イルガキュアー907 0.45質量部
・上記共重合樹脂溶液(固形分50%) 20.00質量部
・3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン(信越化学社製KBM−802)
0.10質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 80.00質量部
直線偏光層形成後基板に、組成物Aを塗布して、基板全面を露光し、170℃のオーブンを用いて30分焼成してλ/4分に相当するように膜厚を2.0μmに調整し、位相差制御層を形成し、カラーフィルタ基板を得た。位相差は位相差測定装置(AXOMETRICS社製AxoscanTM Mueller Matrix Polarimeter)を用いて測定した。面内における進相軸方向(屈折率が最も小さい方向)の屈折率Nx、遅相軸方向(屈折率が最も大きい方向)の屈折率Ny、厚み方向の屈折率Nz、及び、層の厚みd(nm)により、Rth={(Nx+Ny)/2−Nz}×dの式から求められる。位相差の値は589nmのときの値である。
上記カラーフィルタ基板を脱水処理後、白色有機EL基板上にシール材を塗布しカラーフィルタ基板と膜面同士を張り合わせて表示装置を得た。
フォトマスクを用いて位相差制御層を直線偏光層のみに形成した以外は実施例1同様にして表示装置を作製した。
カラーフィルタ基板において、遮光層形成後に位相差制御層を形成し、スペーサを形成せず、下記の通り保護層を形成し、白色有機EL基板上にスペーサを形成し、カラーフィルタ基板の裏面と白色有機EL基板の膜面を張り合わせた以外は実施例1と同様にして表示装置を作製した。
位相差制御層を形成した基板上に、上記硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜2μmの塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて保護層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を170℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施して保護膜を形成した。
位相差フィルム(S-148、帝人化成社製)を用いて位相差制御層を形成した以外は実施例1と同様にして表示装置を得た。
直線偏光層、位相差制御層を形成せず、上記硬化性樹脂組成物を用いて白画素部に形成した以外は実施例1と同様にして表示装置を作製した。
[比較例2]
円偏光板(サンリッツ社製)をカラーフィルタ裏面に設置した以外は比較例1と同様にして表示装置を作製した。
作製した表示装置の電圧値を一定として、輝度計(TOPCON社製 SR-UL1)を用いて測定した。比較例1に対して、輝度が50%以上低下している場合は×、輝度の低下率が50%未満である場合は○とした。比較例1は◎とした。
作製した表示装置の電源をOFFした状態で、D65光源を用いて視認性評価を行った。反射光により視認性が低下する場合は×、視認性が低下しない場合は○とした。
2 … 遮光部
3 … 着色層
4 … 直線偏光層
4a … 配向層
4b … 二色性分子層
5 … 位相差制御層
10 … カラーフィルタ
10C … 着色副画素
10W … 白色副画素
11 … カラーフィルタ用基板
20 … 対向基材
30 … 有機EL素子
Claims (5)
- 透明基材と、
前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部と、
前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素と、
前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素と、
前記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層とを有し、
前記白色副画素では、前記透明基材上に前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成され、
前記着色副画素にも、前記透明基材上に前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成されていることを特徴とするカラーフィルタ。 - 前記直線偏光層が、配向層および前記配向層の表面上に形成され二色性分子を含有する二色性分子層の積層体であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ。
- 前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成されている着色副画素が、緑色副画素であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタ。
- 透明基材、前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素、および前記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層を有し、前記白色副画素では、前記透明基材上に前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成され、前記着色副画素にも、前記透明基材上に前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成されているカラーフィルタと、
対向基材と、
前記カラーフィルタ上または前記対向基材上のいずれか一方に形成され、かつ、前記カラーフィルタおよび前記対向基材の間に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 - 透明基材、前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、および前記遮光部の開口部に設けられ、透明基材上に前記着色層が形成されていない白色副画素を有するカラーフィルタ用基板を準備し、
前記カラーフィルタ用基板の透明基材上の前記白色副画素に配向層をパターン状に形成した後、前記配向層の表面上に二色性分子を含有する二色性分子層をパターン状に形成することにより直線偏光層をパターン状に形成する直線偏光層形成工程と、
前記カラーフィルタ用基板の前記透明基材上の少なくとも前記白色副画素に位相差制御層を形成する位相差制御層形成工程と、
を有し、
前記直線偏光層形成工程が前記着色副画素にも、前記直線偏光層をパターン状に形成し、
前記位相差制御層形成工程が、前記透明基材上の前記着色副画素にも、前記位相差制御層を形成するものであることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012141251A JP5949205B2 (ja) | 2012-06-22 | 2012-06-22 | カラーフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012141251A JP5949205B2 (ja) | 2012-06-22 | 2012-06-22 | カラーフィルタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014006353A JP2014006353A (ja) | 2014-01-16 |
JP5949205B2 true JP5949205B2 (ja) | 2016-07-06 |
Family
ID=50104135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012141251A Active JP5949205B2 (ja) | 2012-06-22 | 2012-06-22 | カラーフィルタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5949205B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103811532B (zh) * | 2014-01-28 | 2016-07-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示装置及其制作方法 |
WO2017038927A1 (ja) | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 富士フイルム株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
KR102651858B1 (ko) * | 2016-07-04 | 2024-03-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 패널 |
CN106157818B (zh) | 2016-09-05 | 2022-06-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性显示面板、其制作方法及显示装置 |
CN111312919B (zh) * | 2020-01-19 | 2022-09-20 | Oppo(重庆)智能科技有限公司 | 一种显示屏组件、电子装置以及显示屏组件的制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5657243B2 (ja) * | 2009-09-14 | 2015-01-21 | ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド | カラーフィルタ及び発光表示素子 |
JP5473506B2 (ja) * | 2009-09-14 | 2014-04-16 | ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド | カラーフィルタ及び発光表示素子 |
JP2011095390A (ja) * | 2009-10-28 | 2011-05-12 | Fujifilm Corp | 二軸性光学異方性層を有するカラーフィルタ基板 |
JP5693182B2 (ja) * | 2010-11-29 | 2015-04-01 | 住友化学株式会社 | 表示装置用部材の製造方法および表示装置 |
-
2012
- 2012-06-22 JP JP2012141251A patent/JP5949205B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014006353A (ja) | 2014-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7356480B2 (ja) | 光学フィルム及びその製造方法 | |
US7575786B2 (en) | Process for producing optical element | |
KR101917883B1 (ko) | 광학 이방성 층의 제조 방법 | |
JP6614251B2 (ja) | パターンドリターダー付カラーフィルタおよび液晶表示装置 | |
JP5949205B2 (ja) | カラーフィルタ | |
CN104339796A (zh) | 层叠体 | |
US10998528B2 (en) | Organic EL image display device | |
CN104808275A (zh) | 光学各向异性膜 | |
CN104698523A (zh) | 光学各向异性膜 | |
WO2018207851A1 (ja) | 有機el画像表示装置 | |
JP6137639B2 (ja) | 柱状体を有する位相差制御板 | |
KR101740768B1 (ko) | 광학 부재 | |
JP5120540B2 (ja) | 光学素子、上記光学素子を用いた液晶表示装置用部材、上記液晶表示装置用部材を用いた液晶表示装置、上記光学素子の製造方法及び複屈折率機能層の評価方法 | |
JP6820421B2 (ja) | 光学フィルムの製造方法 | |
JP5893237B2 (ja) | 柱状体を有する位相差制御板 | |
JP2005352320A (ja) | 偏光板およびその製造方法 | |
US11522165B2 (en) | Organic EL image display device | |
WO2020179803A1 (ja) | 有機el画像表示装置およびその製造方法 | |
JP5555144B2 (ja) | 表示装置の製造方法 | |
JP2009151267A (ja) | 光学素子、上記光学素子を備える液晶セル、及び上記光学素子の製造方法 | |
JP2009020396A (ja) | カラーフィルタ、これを用いた液晶表示装置およびカラーフィルタの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160121 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160510 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160523 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5949205 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |