JP5949205B2

JP5949205B2 - カラーフィルタ

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Publication number: JP5949205B2
Application number: JP2012141251A
Authority: JP
Inventors: 和幸日野; 俵屋　誠治; 誠治俵屋; 晶子内田
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2012-06-22
Filing date: 2012-06-22
Publication date: 2016-07-06
Anticipated expiration: 2032-06-22
Also published as: JP2014006353A

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いた場合に、有機エレクトロルミネッセンス表示装置においてカラーフィルタの白色副画素に対応する部分における外光反射を好適に抑制し、良好な輝度で表示を行うことを可能とするカラーフィルタ、これを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置、およびカラーフィルタの製造方法に関するものである。

有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと略す。）表示装置は、自己発色により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体ディスプレイであるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および視野角が大きいことなどの利点が注目されている。

有機ＥＬ表示装置は、陽極、発光層を含む有機ＥＬ層、および陰極の順に積層された積層構造を基本とする有機ＥＬ素子を有するものである。また、有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ素子の発光層からの光の色によりカラー表示を行うことができるものであるが、より良好な発色のカラー表示を行うために、着色層を有するカラーフィルタをさらに組み合わせたものも広く採用されている。

ここで、カラー表示が可能な有機ＥＬ表示装置としては、赤色、緑色、青色の３色の副画素を有する画素部を備えたものが従来から知られているが、このような有機ＥＬ表示装置においては、白色表示を行う際に、赤色、緑色、青色の３色の副画素に対応する有機ＥＬ素子を発光させる必要があることから、消費電力が大きく、また有機ＥＬ表示装置全体の有機ＥＬ素子が劣化しやすいという問題がある。

そこで、このような問題に対して、近年では、赤色、緑色、および青色の３色の副画素に白色副画素を加えた４色の副画素を有する画素部を備えた有機ＥＬ表示装置が提案されている（例えば、特許文献１）。このような有機ＥＬ表示装置においては、白色表示を行う際に、白色副画素に対応する有機ＥＬ素子を発光させればよく、消費電力を小さくすることが可能であり、また、赤色、緑色、青色の３色の副画素に対応する有機ＥＬ素子を発光させる場合に比べて、有機ＥＬ表示装置全体の有機ＥＬ素子の劣化についても抑制することが可能となる。

しかしながら、このような有機ＥＬ表示装置においては、以下の問題がある。
すなわち、上記有機ＥＬ表示装置に用いられるカラーフィルタは、通常、赤色、緑色、青色の３色の副画素には着色層が形成され、白色副画素は開口部が設けられるか、もしくは必要に応じて透明樹脂層が形成されることから、カラーフィルタの白色副画素は、他の副画素に比べて外光の透過率が高いものとなる。そのため、有機ＥＬ表示装置においてカラーフィルタの白色副画素に対応する部分（以下、有機ＥＬ表示装置の白色副画素と称する場合がある。）から有機ＥＬ表示装置内部へ入射した外光が、有機ＥＬ素子の電極に反射して再び有機ＥＬ表示装置外部へ出射する、いわゆる外光反射に起因して有機ＥＬ表示装置の表示が見えにくくなるという問題がある。

また、有機ＥＬ表示装置においては、上述した外光反射の問題に対して、従来から、有機ＥＬ表示装置の観察者側に円偏光板を配置することにより、有機ＥＬ表示装置内部へ入射した外光を円偏光に変換することで、反射光が有機ＥＬ表示装置外部へ出射することを防止する方法も提案されているが、円偏光板を配置した場合は、有機ＥＬ表示装置の輝度が円偏光板の配置前に比べて５０％以上低下してしまうという問題がある。また、円偏光板自体が高価であることから、有機ＥＬ表示装置の製造コストが高くなるという問題もある。

特開２００４−３３４２０４号公報

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、有機ＥＬ表示装置の白色副画素での外光反射を抑制し、有機ＥＬ表示装置全体の輝度を良好なものとすることが可能なカラーフィルタ、これを用いた有機ＥＬ表示装置、およびカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。

本発明は、上記課題を解決するために、透明基材と、上記透明基材上にパターン状に形成された遮光部と、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素と、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素と、上記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層とを有し、上記白色副画素では、上記透明基材上に上記直線偏光層と上記位相差制御層とが積層されて形成されていることを特徴とするカラーフィルタを提供する。

本発明によれば、カラーフィルタの白色副画素が直線偏光層を有し、かつ白色副画素では透明基材上に直線偏光層および位相差制御層が積層されて形成されていることから、白色副画素に円偏光機能を付与することが可能となる。よって、本発明のカラーフィルタを有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、有機ＥＬ表示装置の白色副画素における外光反射を防止することが可能となり、良好な表示を行うことができる。またこの場合、外光反射防止のために本発明のカラーフィルタを円偏光板と併用しなくてもよくなることから、有機ＥＬ表示装置全体の輝度を良好なものとすることができ、また、有機ＥＬ表示装置の製造コストを抑えることができる。

本発明においては、上記直線偏光層が、配向層および上記配向層の表面上に形成され二色性分子を含有する二色性分子層の積層体であることが好ましい。上記直線偏光層が配向層および二色性分子層の積層体であることにより、透明基材上の白色副画素に直線偏光層を精度良くパターン状に形成することができるからである。

本発明は、透明基材、上記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素、および上記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層を有し、上記白色副画素では、上記透明基材上に上記直線偏光層と上記位相差制御層とが積層されて形成されているカラーフィルタと、対向基材と、上記カラーフィルタ上または上記対向基材上のいずれか一方に形成され、かつ、上記カラーフィルタおよび上記対向基材の間に配置された有機ＥＬ素子と、を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供する。

本発明によれば、上記カラーフィルタを有することにより、有機ＥＬ表示装置の白色副画素における外光反射を防止することが可能となり、良好な表示を行うことが可能な有機ＥＬ表示装置を得ることができる。また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、外光反射防止のために円偏光板を配置しなくてもよく、有機ＥＬ表示装置全体の輝度を良好なものとすることができ、また、コスト的にも有利な有機ＥＬ表示装置とすることができる。

本発明は、透明基材、上記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、および上記遮光部の開口部に設けられ、透明基材上に上記着色層が形成されていない白色副画素を有するカラーフィルタ用基板を準備し、上記カラーフィルタ用基板の透明基材上の上記白色副画素に配向層をパターン状に形成した後、上記配向層の表面上に二色性分子を含有する二色性分子層をパターン状に形成することにより直線偏光層をパターン状に形成する直線偏光層形成工程と、上記カラーフィルタ用基板の上記透明基材上の少なくとも上記白色副画素に位相差制御層を形成する位相差制御層形成工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。

本発明によれば、上述した直線偏光層形成工程および位相差制御層形成工程を有することにより、カラーフィルタの透明基材上の白色副画素に直線偏光層をパターン状に形成することができ、上記白色副画素において透明基材上に直線偏光層および位相差制御層を積層させて形成することができることから、白色副画素に円偏光機能が付与されたカラーフィルタを製造することが可能となる。

本発明によれば、有機ＥＬ表示装置の白色副画素での外光反射を抑制し、有機ＥＬ表示装置全体の輝度を良好なものとすることが可能なカラーフィルタ、これを用いた有機ＥＬ表示装置、およびカラーフィルタの製造方法を提供することができるといった作用効果を奏する。

本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。

本発明は、カラーフィルタ、有機ＥＬ表示装置、およびカラーフィルタの製造方法に関する。以下、それぞれの発明について説明する。

Ａ．カラーフィルタ
まず、本発明のカラーフィルタについて説明する。
本発明のカラーフィルタは、透明基材と、上記透明基材上にパターン状に形成された遮光部と、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素と、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素と、上記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層とを有し、上記白色副画素では、上記透明基材上に上記直線偏光層と上記位相差制御層とが積層されて形成されていることを特徴とするものである。

なお、本発明において「透明基材上の白色副画素に形成される」とは、透明基材上の白色副画素が設けられる遮光部の開口部に形成されることをいう。

ここで、本発明のカラーフィルタについて図を用いて説明する。
図１は本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。図１に例示するように、本発明のカラーフィルタ１０は、透明基材１と、透明基材１上にパターン状に形成された遮光部２と、遮光部２の開口部に設けられ、透明基材１上にパターン状に形成された着色層３（図１では赤色着色層３Ｒ、緑色着色層３Ｇ、および青色着色層３Ｂ）を有する着色副画素１０Ｃ（図１では赤色副画素１０Ｒ、緑色副画素１０Ｇ、および青色副画素１０Ｂ）と、遮光部２の開口部に設けられ、透明基材２上にパターン状に形成された直線偏光層４を有する白色副画素１０Ｗと、透明基材１上の少なくとも白色副画素１０Ｗに形成された位相差制御層５とを有し、白色副画素１０Ｗでは、透明基材１上に直線偏光層４と位相差制御層５とが積層されて形成されていることを特徴とする。また、この例では、位相差制御層５が透明基材１上の白色副画素１０Ｗに加えて着色副画素１０Ｃにも連続的に形成されている例について示しており、白色副画素１０Ｗでは、透明基材１上に直線偏光層４および位相差制御層５がこの順に積層されて形成されている例について示している。また、直線偏光層４が、配向層４ａおよび配向層４ａ表面上に形成され二色性分子を含有する二色性分子層４ｂの積層体から構成されている例について示している。

また、図２は、本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。図２に例示するように、本発明のカラーフィルタ１０においては、位相差制御層５が、透明基材１上白色副画素１０Ｗにパターン状に形成されていてもよい。図２において説明していない符号については、図１で説明した符号と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

また、図３は、本発明のカラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。図３に例示するように、本発明のカラーフィルタ１０においては、白色副画素１０Ｗでは、透明基材１上に位相差制御層５および直線偏光層４がこの順に積層されていてもよい。なお、図３において説明していない符号については、図１で説明した符号と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

以下、本発明のカラーフィルタの詳細について説明する。

Ｉ．カラーフィルタの層構成
本発明のカラーフィルタは、透明基材上に、遮光部、着色層、直線偏光層、および位相差制御層の各層が形成される。また、本発明においては、上述した各層および必要に応じて形成される層は、通常、透明基材の同一の表面側に形成される。

本発明のカラーフィルタの白色副画素における直線偏光層と位相差制御層との積層順については、本発明のカラーフィルタを有機ＥＬ表示装置に用いた場合のカラーフィルタの配置により適宜決定される。具体的には、有機ＥＬ表示装置において外光の入射方向に対して、直線偏光層および位相差制御層の順に積層されて形成される。より具体的には、後述する図４に例示するように、有機ＥＬ表示装置１００において、カラーフィルタ１０の遮光部２等側と、対向基材２０上に形成された有機ＥＬ素子３０とが対向する場合や、図６に例示するように、カラーフィルタ１０の遮光部２等側の表面上に有機ＥＬ素子３０が形成される場合は、図１および図２に例示するように、白色副画素１０Ｗでは、透明基材１上に直線偏光層４および位相差制御層５がこの順に積層されて形成される。一方、例えば、後述する図５で例示するように、有機ＥＬ表示装置１００において、カラーフィルタ１０の遮光部２等側とは反対側と、対向基材２０上に形成された有機ＥＬ素子３０とが対向する場合は、図３に例示するように、白色副画素１０Ｗでは、透明基材１上に位相差制御層５および直線偏光層４がこの順に積層されて形成される。

ＩＩ．カラーフィルタの各構成
本発明のカラーフィルタは、透明基材と、遮光部と、着色副画素と、白色副画素と、位相差制御層とを有する。以下、各構成について説明する。

１．白色副画素
本発明における白色副画素は、後述する遮光部の開口部に設けられるものであり、透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有するものである。
また、白色副画素は、後述する着色副画素とともにカラーフィルタの画素部を構成するものである。

（１）直線偏光層
本発明に用いられる直線偏光層について説明する。
本発明の直線偏光層は、透明基材上の白色副画素にパターン状に形成されるものである。また、直線偏光層は、透明基材上に直接形成されてもよく、後述する位相差制御層、または必要に応じて形成される透明樹脂層等の他の層を介して形成されてもよい。
このような直線偏光層としては、光を直線偏光に変換させることができるものであれば特に限定されないが、配向層および上記配向層の表面上に形成され二色性分子を含有する二色性分子層の積層体から構成されるものであることが好ましい。
以下、このような直線偏光層に用いられる配向層および二色性分子層についてそれぞれ説明する。

（ａ）配向層
配向層は、透明基材上の白色副画素にパターン状に形成されるものであり、後述する二色性分子層に含有される二色性分子を所定の方向に配列させるものである。
このような配向層としては、配向層に用いられる配向処理の違いにより、２つの態様に分けることができる。具体的には、配向層がその表面に微細凹凸形状が形成されたものである態様（第１態様）と、配向層が光配向膜から構成されるものである態様（第２態様）とに分けることができる。

（ｉ）第１態様
本態様の配向層は、その表面に微細凹凸形状が形成されたものである。

上記微細凹凸形状としては、上記二色性分子層中に含まれる二色性分子を一定方向に配列させることが可能なものであれば特に限定されない。例えば、ストライプ状のライン状凹凸構造であってもよく、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに不連続な状態で形成された態様であってもよい。

ここで、ストライプ状のライン状凹凸構造とは、壁状に形成された凸部が一定の間隔でストライプ状に形成された態様を意味するものであり、例えば表面にラビング処理がなされた場合に形成されるような微小な傷のような凹凸形状はこれに含まれないものである。
またここで、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに不連続な状態で形成された態様とは、例えば、表面にラビング処理がなされた場合等に形成されるような微小な傷のようなライン状凹凸構造が、略一定方向に不連続な状態で形成された態様を意味するものである。

本態様においては、なかでも微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに不連続な状態で形成された態様であることが好ましい。

上記配向層の厚みとしては、その表面に微細凹凸形状を形成することができ、上記微細凹凸形状を用いて、後述する二色性分子層に含有される二色性分子を所望の方向に配列させることが可能な程度であれば特に限定されないが、０．００１μｍ〜１０μｍの範囲内、なかでも０．０１μｍ〜５μｍの範囲内、特に０．１μｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましい。配向層の厚みが上記範囲に満たない場合は、配向層を均一な厚みで形成することが困難となる可能性があるからである。また、ラビング処理により配向層の表面上に微細凹凸形状を形成する際に、配向層の下層に位置する構成を傷つける可能性があるからである。

本態様における配向層を形成するために用いられる構成材料としては、配向層を白色副画素が設けられる遮光部の開口部にパターン状に形成することができるものであれば特に限定されない。例えば、感光性樹脂等が挙げられる。
より具体的には、ポリイミド樹脂、ポリビニール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂、アクリル樹脂、ポリビニールアルコール樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等を挙げることができる。

上記配向層の形成方法としては、透明基材上の白色副画素が設けられる遮光部の開口部にパターン状に配向層を形成することが可能な方法であれば特に限定されず、例えば、酸、アルカリ溶液、有機溶剤を用いたウェットプロセスであってもよく、ＣＦ_４、ＣＨＦ_３などを用いたドライプロセスであってもよい。なかでも、感光性樹脂組成物の選択性、装置コストなどの観点からウェットプロセスが好ましい。
ウェットプロセスとしては、例えば、フォトリソグラフィー法を用いた形成方法や、インクジェット方式、印刷方式等を挙げることができる。本発明においては、なかでもフォトリソグラフィー法を用いた形成方法であることが好ましい。透明基材上の白色副画素が設けられる遮光部の開口部に、配向層を精度良くパターン状に形成することができるからである。

フォトリソグラフィー法を用いた配向層の形成方法の一例を以下に説明する。
まず、感光性樹脂等の配向層の材料を含有する塗工液を調製する。次に、上記塗工液を透明基材の遮光部側表面上の全面に塗布して乾燥させることにより塗膜を形成する。次に、上記塗膜を、フォトマスクを用いて露光光を照射してパターン露光処理を行い、パターニング処理をして所定位置に配向層形成用層を形成し、加熱処理を行う。そのあと、配向層形成用層をラビング処理することにより透明基材上の白色副画素に配向層をパターン状に形成する。なお、透明基材上に着色層および配向層形成用層が形成されている場合は、着色層上には保護用のレジストを形成した後、配向層形成用層のラビング処理を行い、その後に保護用のレジストを剥離して配向層が形成される場合もある。

なお、上記の形成方法において、上記塗工液には必要に応じて溶剤等を添加してもよい。このような溶剤については、一般的な樹脂部材を形成する際に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、上記塗工液の塗布方法としては、例えばスピンコート法、ロールコート法、ロッドバーコート法、スプレーコート法、エアナイフコート法、スロットダイコート法、ワイヤーバーコート法などを用いることができる。
ラビング処理については、一般的な配向処理に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、パターン露光処理、現像処理、加熱処理等については一般的なフォトリソグラフィー法に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

（ｉｉ）第２態様
本態様の配向層は、光配向膜から構成されるものである。

ここで、光配向膜は、後述する光配向膜の構成材料を塗布した基板に偏光を制御した光を照射し、光励起反応（分解、異性化、二量化）を生じさせて得られた膜に異方性を付与することによりその膜上の二色性分子を配向させるものである。

本態様に用いられる光配向膜の構成材料は、光を照射して光励起反応を生じることにより、二色性分子を配向させる効果（光配列性：ｐｈｏｔｏａｌｉｇｎｉｎｇ）を有するものであれば特に限定されるものではなく、このような材料としては、大きく、分子の形状のみが変化し可逆的な配向変化が可能な光異性化型と、分子そのものが変化する光反応型とに分けることができる。

ここで、光異性化反応とは、光照射により単一の化合物が他の異性体に変化する現象をいう。このような光異性化型材料を用いることにより、光照射により、複数の異性体のうち安定な異性体が増加し、それにより光配向膜に容易に異方性を付与することができる。

また、上記光反応は、光照射により分子そのものが変化し、光配向膜の光配列性に異方性を付与することができるものであればよいが、光配向膜への異方性の付与がより容易となることから、光二量化反応または光分解反応であることが好ましい。ここで、光二量化反応とは、光照射により偏光方向に配向した反応部位がラジカル重合して分子２個が重合する反応をいう。この反応により偏光方向の配向を安定化し、光配向膜に異方性を付与することができる。一方、光分解反応とは、光照射により偏光方向に配向したポリイミドなどの分子鎖を分解する反応をいう。この反応により偏光方向に垂直な方向に配向した分子鎖を残し、光配向膜に異方性を付与することができる。

本態様においては、光配向膜の構成材料として、上記のなかでも、光二量化反応または光分解反応を生じることにより光配向膜に異方性を付与する光反応型の材料を用いることが好ましい。

上記光配向膜の構成材料が光励起反応を生じる光の波長領域は、紫外光域の範囲内、すなわち１００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。

光異性化型材料としては、光異性化反応により光配向膜に異方性を付与することができる材料であれば特に限定されるものではないが、偏光方向により吸収を異にする二色性を有し、かつ、光照射により異性化反応を生じる光異性化反応性化合物を含むことが好ましい。このような特性を有する光異性化反応性化合物の偏光方向に配向した反応部位の異性化を生じさせることにより、上記光配向膜に容易に異方性を付与することができる。

上記光異性化反応性化合物において、上記異性化反応は、シス−トランス異性化反応であることが好ましい。光照射によりシス体またはトランス体のいずれかの異性体が増加し、それにより光配向膜に異方性を付与することができるからである。

本態様に用いられる光異性化反応性化合物としては、単分子化合物、または、光もしくは熱により重合する重合性モノマーを挙げることができる。これらは、用いられる二色性分子の種類に応じて適宜選択すればよいが、光照射により光配向膜に異方性を付与した後、ポリマー化することにより、その異方性を安定化することができることから、重合性モノマーを用いることが好ましい。このような重合性モノマーのなかでも、光配向膜に異方性を付与した後、その異方性を良好な状態に維持したまま容易にポリマー化できることから、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマーであることが好ましい。

このような光異性化反応性化合物としては、具体的には、アゾベンゼン骨格やスチルベン骨格などのシス−トランス異性化反応性骨格を有する化合物を挙げることができる。

上述したような単分子化合物または重合性モノマーの光異性化反応性化合物のなかでも、本態様に用いられる光異性化反応性化合物としては、分子内にアゾベンゼン骨格を有する化合物であることが好ましい。アゾベンゼン骨格は、π電子を多く含むため、液晶分子との相互作用が高く、二色性分子として好適に用いられる液晶材料の配向制御に特に適しているからである。

また、光二量化反応を利用した光反応型の材料としては、光二量化反応により光配向膜に異方性を付与することができる材料であれば特に限定されるものではないが、ラジカル重合性の官能基を有し、かつ、偏光方向により吸収を異にする二色性を有する光二量化反応性化合物を含むことが好ましい。偏光方向に配向した反応部位をラジカル重合することにより、光二量化反応性化合物の配向が安定化し、光配向膜に容易に異方性を付与することができるからである。

このような特性を有する光二量化反応性化合物としては、側鎖としてケイ皮酸エステル、クマリン、キノリン、カルコン基およびシンナモイル基から選ばれる少なくとも１種の反応部位を有する二量化反応性ポリマーを挙げることができる。これらのなかでも光二量化反応性化合物としては、側鎖としてケイ皮酸エステル、クマリンまたはキノリンのいずれかを含む二量化反応性ポリマーであることが好ましい。偏光方向に配向したα、β不飽和ケトンの二重結合が反応部位となってラジカル重合することにより、光配向膜に容易に異方性を付与することができるからである。

上記二量化反応性ポリマーの主鎖としては、ポリマー主鎖として一般に知られているものであれば特に限定されるものではないが、芳香族炭化水素基などの、上記側鎖の反応部位同士の相互作用を妨げるようなπ電子を多く含む置換基を有していないものであることが好ましい。

さらに、光分解反応を利用した光反応型の材料としては、例えば日産化学工業（株）製のポリイミド「ＲＮ１１９９」などを挙げることができる。

また、本態様に用いられる光配向膜の構成材料は、光配向膜の光配列性を妨げない範囲内で添加剤を含んでいてもよい。上記添加剤としては、重合開始剤、重合禁止剤などが挙げられる。

光配向膜を用いた場合の配向層の形成方法としては、透明基材上の白色副画素に光配向膜をパターン状に形成することができれば特に限定されない。具体的には、パターン塗布法を用いた形成方法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。

パターン塗布法を用いた配向層の形成方法の一例を以下に説明する。
まず、透明基材上の白色副画素に、上述の光配向膜の構成材料を有機溶剤で希釈した塗工液をパターン状に塗布し、乾燥させる。この場合に、塗工液中の光二量化反応性化合物または光異性化反応性化合物の含有量は、０．０５重量％〜１０重量％の範囲内であることが好ましく、０．２重量％〜２重量％の範囲内であることがより好ましい。含有量が上記範囲より小さいと、配向膜に適度な異方性を付与することが困難となり、逆に含有量が上記範囲より大きいと、塗工液の粘度が高くなるので均一な塗膜を形成しにくくなるからである。
なお、上記有機溶剤については、一般的な光配向膜の形成に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

塗布法としては、透明基材上の白色副画素に上述した塗工液をパターン状に塗布することができれば特に限定されず、具体的にはインクジェット法等を挙げることができる。

上記構成材料を塗布することにより得られる膜の厚みは、１ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは３ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内である。膜の厚みが上記範囲より薄いと十分な光配列性を得ることができない可能性があり、逆に厚みが上記範囲より厚いとコスト的に不利になる場合があるからである。

得られた膜は、偏光を制御した光を照射することにより、光励起反応を生じさせて異方性を付与することができる。照射する光の波長領域は、用いられる光配向膜の構成材料に応じて適宜選択すればよいが、紫外光域の範囲内、すなわち１００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲内である。

偏光方向は、上記光励起反応を生じさせることができるものであれば特に限定されるものではないが、二色性分子の配向状態を良好なものとすることができることから透明基材面に対して斜め０°〜４５°の範囲内とすることが好ましく、より好ましくは２０°〜４５°の範囲内とする。

さらに、光配向膜の構成材料として、上記の光異性化反応性化合物の中でも重合性モノマーを用いた場合には、光配向処理を行った後、加熱することにより、ポリマー化し、光配向膜に付与された異方性を安定化することができる。

（ｂ）二色性分子層
本発明における二色分子層について説明する。
本発明に用いられる二色性分子層の厚みとしては、直線偏光性を示すことが可能な程度であれば特に限定されず、後述する二色性分子の種類により適宜選択される。通常、０．５μｍ〜２μｍの範囲内となるがこれに限られるものではない。

次に、二色性分子層に含有される二色性分子について説明する。本発明に用いられる上記二色性分子は上述した配向層により規則的に配列されることにより、直線偏光性を発現するものである。本発明における二色性分子層中に含有される上記二色性分子としては、規則的に配列することにより本発明における二色性分子層に所望の直線偏光性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。本発明に用いられる二色性分子は、なかでも棒状化合物であることが好ましく、特に液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料を用いることにより、本発明の二色性分子層に直線偏光性を容易に付与することができるからである。

本発明に用いられる上記液晶性材料としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料を挙げることができる。本発明においては、これらのいずれの液晶相を示す材料であっても好適に用いることができるが、なかでもネマチック相を示す液晶性材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、他の液晶相を示す液晶性材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。

また、本発明においては上記ネマチック相を示す液晶性材料として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶性材料は柔軟性に優れるため、このような液晶性材料を用いることにより、上記直線偏光層を透明性に優れたものにできるからである。

さらに、本発明に用いられる二色性分子は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも３次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記二色性分子が重合性官能基を有することにより、上記二色性分子を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、直線偏光性の経時変化が生じにくい二色性分子層を得ることができるからである。なお、重合性官能基を有する二色性分子を用いた場合、本発明における二色性分子層には、重合性官能基によって架橋された二色性分子が含有されることになる。

なお、上記「３次元架橋」とは、液晶性分子を互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることを意味する。

上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。

さらにまた、本発明における二色性分子は液晶性を示す液晶性材料であって、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような液晶性材料を用いることにより、例えば、互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、配列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記二色性分子層を形成することができるからである。
なお、本発明においては片末端に重合性官能基を有する液晶性材料を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。

本発明に用いられる二色性分子の具体例としては、下記式（１）〜（１７）で表される化合物を例示することができる。

なお、本発明において上記二色性分子は、１種類のみを用いてもよく、または、２種以上を混合して用いてもよい。例えば、上記二色性分子として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）および光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料が好ましいが、液晶配向の観点からは両末端の重合性官能基が１つであることが好ましい。

上記二色性分子層の形成方法としては、上述した配向層上に二色性分子層をパターン状に配列させることができれば特に限定されない。
このような二色性分子層の形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィー法を用いる方法、すなわち二色性分子を含有する塗工液を透明基材の遮光部側全面に塗布した後、フォトマスク等を用いて露光および現像することにより形成する方法を挙げることができる。また、インクジェット法等を用いて、二色性分子を含有する塗工液をパターン状に塗布して形成する方法を挙げることができる。なお、上記塗工液は必要に応じて溶剤が添加されていてもよい。上記溶剤については一般的なものとすることができるので、ここでの説明は省略する。

（ｃ）直線偏光層
本発明に用いられる直線偏光層としては、上述した配向層および二色性分子層の積層体以外にも、例えば、ヨウ素を含有するポリビニルアルコール系樹脂を含む高分子フィルムを延伸し、パターニングしたものを用いても良い。

（２）その他の構成
本発明における白色副画素は、上述した直線偏光層以外の構成を有していてもよい。このような構成としては、例えば透明樹脂層が挙げられる。また、透明樹脂層を有する場合、上記透明樹脂層は、透明基材と直線偏光層との間に形成され、後述する着色副画素が有する着色層と同等の厚みで形成される。上記透明樹脂層を有する場合は、上述した直線偏光層における配向層表面を着色層表面よりも高い位置に形成することが可能となるため、配向層を形成する際のラビング処理による着色層へのダメージを少ないものとすることができる。また、カラーフィルタの着色副画素に形成された着色層と、上記直線偏光層との高さを揃えることができるため、有機ＥＬ表示装置に用いた場合に着色副画素と白色副画素との視差を生じにくくすることができる。
上記透明樹脂層に用いられる樹脂材料、および形成方法等については一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

２．位相差制御層
次に、本発明における位相差制御層について説明する。
本発明における位相差制御層は、透明基材上の少なくとも白色副画素に形成されるものであり、直線偏光層により変換された直線偏光を透過させることにより円偏光に変換させるものである。

このような位相差制御層としては、透明基材上の少なくとも白色副画素に形成されていればよく、図１に例示するように位相差制御層５が透明基材１上の白色副画素１０Ｗに加えて着色副画素１０Ｃ等の白色副画素１０Ｗ以外の部分にも連続的に形成されていてもよく、図２に例示するように位相差制御層５が透明基材１上の白色副画素１０Ｗにパターン状に形成されていてもよい。

このような位相差制御層としては、直線偏光を円偏光に変換させることが可能なものであれば特に限定されないが、その面内レターデーション値がλ／４分もしくはλ／２×ｎ（ｎは自然数）＋λ／４分であるものが用いられるが、なかでもその面内レターデーション値がλ／４分であるものがより好ましい。後述するように位相差制御層の面内レターデーション値は厚みに依存するものであることから、その面内レターデーション値がλ／４分であるものとすることにより、位相差制御層の厚みを薄く形成することが可能となる。
より具体的には上記位相差制御層の面内レターデーション値は、１００ｎｍ〜１６０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることがより好ましく、１２０ｎｍ〜１４０ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。

ここで、面内レターデーション値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標であり、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をＮｘ、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をＮｙ、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚みをｄとした場合に、
Ｒｅ［ｎｍ］＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ［ｎｍ］
で表わされる値である。面内レターデーション値（Ｒｅ値）は、例えば、王子計測機器株式会社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができるし、微小領域の面内レターデーション値はＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社（米国）製のＡｘｏＳｃａｎでミューラーマトリクスを使って測定することも出来る。また、本願明細書においては特に別段の記載をしない限り、Ｒｅ値は波長５８９ｎｍにおける値を意味するものとする。

このような位相差制御層の構成としては、直線偏光を円偏光に変換させることが可能なものであれば特に限定されず、位相差制御層の形態により２つの態様に分けることができる。具体的には、位相差性を示す位相差性化合物を含む樹脂層から構成される位相差制御樹脂層である態様（第３態様）と、位相差制御フィルムである態様（第４態様）とに分けることができる。以下、各態様についてそれぞれ説明する。

（１）第３態様
本態様の位相差制御層は、位相差性を示す位相差性化合物を含む樹脂層から構成される位相差制御樹脂層である。

位相差性化合物としては、所望の位相差性を位相差制御樹脂に付与することが可能なものであれば特に限定されない。本発明においては、なかでもコレステリック相を示す液晶性材料であることが好ましい。コレステリック相を示す液晶性材料としては、一般的な光学フィルム等に用いられているものを用いることができ、例えば国際公開公報２０１１−０７８０５５号等に挙げられているものを用いることができる。
また、上述した二色性分子を位相差性化合物として用いることができる。

位相差制御樹脂層中の位相差性化合物の含有量としては、所望の位相差性を示す程度であれば特に限定されず、位相差性化合物の種類、位相差制御層の厚みにより適宜選択されるものである。

また、位相差制御樹脂層に用いられる樹脂としては、例えば、感光性樹脂等を好適に用いることができる。感光性樹脂は、特に、位相差制御樹脂層をパターニングして形成する場合に好適に用いることができる。感光性樹脂については一般的なフォトレジストに用いられるものと同様とする。

位相差制御樹脂層の厚みとしては、所望の位相差性を示すことが可能な程度であれば特に限定されないが、その面内レターデーション値がλ／４分となる厚みであることが好ましい。このような位相差制御樹脂層の厚みとしては、位相差性化合物の種類等により適宜選択されるものであるが、上述した位相差性化合物を用いる場合は、０．０１μｍ〜１０μｍの範囲内、なかでも０．１μｍ〜７μｍの範囲内、特に０．５μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。なお、位相差制御樹脂層の厚みとは、位相差制御樹脂層が直線偏光層上に形成される場合は、直線偏光層の表面から位相差制御樹脂層の表面までの距離をいい、図１および図２においてｐ１で示される距離をいう。一方、位相差制御樹脂層が透明基材上に形成される場合は、透明基材表面から位相差制御樹脂層表面までの距離をいい、図３においてｐ２で示される距離をいう。

位相差制御樹脂層の形成方法としては、透明基材上の少なくとも白色副画素に所望の厚みを有する位相差制御層を形成することができる方法であれば特に限定されない。
位相差制御樹脂層を透明基材上の白色副画素にパターン状に形成する場合は、例えば、以下の形成方法により位相差制御樹脂層を形成することができる。
まず、位相差性化合物および感光性樹脂を含有する塗工液を調製する。次に、上記塗工液を透明基材の遮光部側表面上の全面に塗布して、位相差制御樹脂層形成用層を形成する。次に、位相差制御樹脂層形成用層にフォトマスクを用いて露光光を照射して、パターン露光処理を行い、次いで、現像処理を行い、さらに必要に応じて加熱処理を行うことにより透明基材上の白色副画素に位相差制御樹脂層をパターン状に形成する。

なお、上記の形成方法において、上記塗工液には必要に応じて溶剤等を添加してもよい。このような溶剤については、一般的な樹脂部材を形成する際に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、上記塗工液の塗布方法としては、上述した第１態様の配向層の形成方法に用いられる塗布法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、パターン露光処理、現像処理等については一般的なフォトリソグラフィー法に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

（２）第４態様
本態様の位相差制御層は、位相差制御フィルムから構成される。このような位相差制御フィルムとしては、所望の位相差性を示すものであれば特に限定されないが、その面内レターデーション値がλ／４分を示すλ／４板であることが好ましい。

λ／４板としては、一般的なものを用いることができ、例えばポリカーボネート樹脂から構成されるものや、シクロオレフィンポリマーから構成されるもの等を挙げることができる。また、ポリカーボネート樹脂から構成されるλ／４板としては、例えば、特開２０１２−６７３００号公報に開示されているポリカーボネート樹脂から構成されるものを好適に用いることができる。
また、上記λ／４板としては、上述した樹脂から構成される１層のフィルムであってもよく、一対の保護シートの間に上述した樹脂層から構成される層が配置されたフィルムであってもよい。保護シートについては、一般的なλ／４板に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

位相差制御層が位相差制御フィルムである場合、接着層を介して透明基材上に位相差制御フィルムが配置される。接着層に用いられる接着剤または粘着剤としては、透明性を有するものであれば特に限定されず、一般的なものとすることができる。

また、位相差制御層として位相差制御フィルムを用いる場合は、透明基材上の全面に位相差制御フィルムが配置されることが好ましい。位相差制御層の配置を容易に行うことができるからである。

３．着色副画素
本発明における着色副画素は、上記遮光部の開口部に設けられるものである。また着色副画素は、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する。
また、上記着色副画素は上述した白色副画素とともにカラーフィルタの画素部を構成するものである。

上記着色副画素は、通常、赤色着色層を有する赤色副画素、緑色着色層を有する緑色副画素、および青色着色層を有する青色副画素の３色の着色副画素を有するが、本発明においてはこれに限定されない。

着色副画素に用いられる着色層の材料、厚み、およびその形成方法等については、一般的なカラーフィルタに用いられる着色層と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

本発明においては、着色副画素が有する着色層の光透過率が比較的高い場合には、着色副画素においても直線偏光層および位相差制御層を積層させて形成してもよい。これにより、本発明のカラーフィルタを有機ＥＬ表示装置に用いた場合に有機ＥＬ表示装置の着色副画素に対応する部分における外光反射を抑制することが可能となる。
上記着色上に偏光層等を形成する場合は、緑色副画素に形成することが好ましい。

４．遮光部
本発明における遮光部は、透明基材上にパターン状に形成されるものである。
また、上記遮光部はそれぞれの着色副画素および白色副画素を画定するものである。

上記遮光部の開口部のパターン配列としては、上述した着色副画素、および白色副画素を備える画素部を配列させることができれば特に限定されず、一般的なカラーフィルタの画素部のパターン配列と同様とすることができる。上記画素部のパターン配列としては具体的には、ストライプ配列、モザイク配列、ドット配列、ペンタイル配列等を挙げることができる。

上記遮光部としては、例えば、クロム等の金属材料から構成されるもの、樹脂層中に遮光材料を分散させたもの、着色層と同一の材料からなる層を複数積層させたもの等を挙げることができる。
これらの遮光部に用いられる材料、厚み、およびその形成方法等については、公知のものを用いることができるので、ここでの説明は省略する。

また、本発明においては、遮光部がインクジェット法等に用いられる隔壁を兼ねたもの（インクジェット用遮光部）であってもよい。光配向膜から構成される配向層等をパターン状に塗布しやすくなるからである。遮光部がインクジェット用遮光部である場合は、インクジェット用遮光部の厚みとしては、カラーフィルタの用途等に応じて適宜選択することができ特に限定されないが、例えば２μｍ以上とすることが好ましい。

５．透明基材
本発明における透明基材は、上述した遮光部、着色副画素に形成される着色層、白色副画素に形成される直線偏光層、および位相差制御層等を支持するものである。

上記透明基材の透明性としては、本発明のカラーフィルタを有機ＥＬ表示装置に用いた場合に、有機ＥＬ層からの発光を透過させて表示を行うことが可能な程度であれば特に限定されないが、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳＫ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

透明基材としては、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることができる。また、樹脂フィルムにバリア層が形成されたものを用いてもよい。

透明基材の厚みについては、本発明のカラーフィルタの用途および透明基材を構成する材料等に応じて適宜決定することができる。

６．その他の構成
本発明のカラーフィルタは、上述した透明基材、遮光部、着色層、直線偏光層、および位相差制御層を有するものであれば特に限定されず、必要な構成を適宜選択して追加することができる。このような構成としては、例えば、上記遮光部、着色層、直線偏光層、および必要に応じてパターン状に形成された位相差制御層を覆うように形成される保護層を挙げることができる。保護層については一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、本発明のカラーフィルタをボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置に用いる場合は、透明基材上に形成されたＴＦＴを有することができる。
上記ＴＦＴについては一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

ＩＩＩ．カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、有機ＥＬ表示装置に用いることができる。特に、屋外利用を目的とした携帯機器に使用される有機ＥＬ表示装置に好適に用いることができる。

また、本発明のカラーフィルタの製造方法については、特に限定されず、例えば後述する「Ｃ．カラーフィルタの製造方法」の項に記載する製造方法を好適に用いることができる。

Ｂ．有機ＥＬ表示装置
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置について説明する。
本発明の有機ＥＬ表示装置は、透明基材、上記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素、および上記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層を有し、上記白色副画素では、上記透明基材上に上記直線偏光層と上記位相差制御層とが積層されて形成されているカラーフィルタと、対向基材と、上記カラーフィルタ上または上記対向基材上のいずれか一方に形成され、かつ、上記カラーフィルタおよび上記対向基材の間に配置された有機ＥＬ素子と、を有することを特徴とするものである。

ここで、本発明の有機ＥＬ表示装置について図を用いて説明する。
図４は、本発明の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。また、図４は本発明の有機ＥＬ表示装置がトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置である例について示している。図４に例示するように、本発明の有機ＥＬ表示装置１００は、カラーフィルタ１０と、対向基材２０と、対向基材２０の一方の表面上に形成され、かつ、カラーフィルタ１０および対向基材２０の間に配置された有機ＥＬ素子３０とを有する。また、有機ＥＬ素子３０は、通常、対向基材２０上に形成された第１電極層３１ａと、第１電極層３１ａ上に形成され、少なくとも発光層を含む有機ＥＬ層３２と、有機ＥＬ層３２上に形成された第２電極層３１ｂとを有するものである。また、この場合、第２電極層３１ｂには透明電極が用いられる。また本発明においては、通常、カラーフィルタ１０および対向基材２０の間であって、カラーフィルタ１０および対向基材２０の外周に、シール材４０が配置される。なお、カラーフィルタ１０については、図１で説明した内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

また、図５は本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。図５に例示するように、本発明の有機ＥＬ表示装置１００がトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置である場合は、カラーフィルタ１０の遮光部２等側とは反対側と、有機ＥＬ素子３０とが対向するように配置されていてもよい。

また、図６は本発明の有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。図６は本発明の有機ＥＬ表示装置がボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置である例について示している。この場合、本発明の有機ＥＬ表示装置１００は、カラーフィルタ１０と、対向基材２０と、カラーフィルタ１０の位相差制御層５上に形成され、カラーフィルタ１０および対向基材２０の間に配置された有機ＥＬ素子３０を有する。有機ＥＬ素子３０は、カラーフィルタ１０上に形成された第１電極層３１ａと、第１電極層３１ａ上に形成された有機ＥＬ層３２と、有機ＥＬ層３２上に形成された第２電極層３１ｂとを有し、第１電極層３１ａとして透明電極が用いられる。
なお、図６において説明していない符号については、図４で説明した符号と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の各構成について説明する。

１．カラーフィルタ
本発明におけるカラーフィルタについて説明する。
本発明におけるカラーフィルタは、本発明の有機ＥＬ表示装置がボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置である場合は、遮光部等側の表面上に後述する有機ＥＬ素子が形成される。
一方、本発明の有機ＥＬ表示装置がトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置である場合は、対向基材の表面上に形成された有機ＥＬ素子とカラーフィルタの遮光部等側とが対向するように配置されてもよく、上記有機ＥＬ素子とカラーフィルタの遮光部側とは反対側とが対向するように配置されてもよい。
なかでも、本発明においては、上記有機ＥＬ素子とカラーフィルタの遮光部側とが対向するように配置されることが好ましい。カラーフィルタの透明基材を有機ＥＬ表示装置の外部に形成することにより、カラーフィルタにおける各構成を保護することができるからである。

本発明におけるカラーフィルタの詳細については、上述した「Ａ．カラーフィルタ」の項で説明したため、ここでの説明は省略する。

２．対向基材
次に、本発明における対向基材について説明する。
本発明における対向基材は、本発明の有機ＥＬ表示装置がトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置である場合は、後述する有機ＥＬ素子が形成される。

本発明の有機ＥＬ表示装置は、カラーフィルタ側を発光面として用いることから、対向基材としては、透明性を有するものであってもよく、透明性を有さないものであってもよい。

対向基材としては、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッド材、あるいは、樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることができる。また、樹脂フィルムにバリア層が形成されたものを用いてもよい。

本発明の有機ＥＬ表示装置がボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置である場合は、対向基材上にＴＦＴが形成されていてもよい。
ＴＦＴとしては、有機ＥＬ素子に一般的に用いられるものを使用することができる。

３．有機ＥＬ素子
本発明に用いられる有機ＥＬ素子は、カラーフィルタ上または対向基材上のいずれか一方に形成される第１透明電極層と、第１透明電極層上に形成され、少なくとも発光層を含む有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に形成された第２電極層とを有するものとすることができる。以下、有機ＥＬ素子の各構成について説明する。

（ａ）有機ＥＬ層
有機ＥＬ層は、少なくとも発光層を含む１層もしくは複数層の有機層を有するものである。有機ＥＬ層を構成する層としては、発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等が挙げられる。
発光層の発光は、単色であってもよく、複数色であってもよい。発光層は、例えば、白色発光する白色発光層であってもよく、青色発光する青色発光層であってもよく、三原色をそれぞれ発光する赤色発光層、緑色発光層および青色発光層を有する発光層であってもよい。
有機ＥＬ層としては、有機ＥＬ素子に用いられる一般的な有機ＥＬ層と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。

（ｂ）第１電極層および第２電極層
第１電極層および第２電極層としては、有機ＥＬ素子に一般的に用いられるものを使用することができる。また、本発明においては第１電極層および第２電極層のうち、カラーフィルタ側に形成されるものについては透明電極が用いられ、対向基材側に形成されるものについては反射性を有する電極が用いられる。
また、第１電極層は、カラーフィルタ上または対向基材上に一様に形成されていてもよくパターン状に形成されていてもよく、本発明の有機ＥＬ装置の用途や駆動方法に応じて適宜選択される。

４．その他の構成
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述したカラーフィルタ、対向基材、および有機ＥＬ素子を有するものであれば特に限定されない。

本発明においては、通常、カラーフィルタおよび対向基材の間であって、カラーフィルタおよび対向基材の外周に、シール材が配置される。シール材は、カラーフィルタおよび対向基材を接着し、有機ＥＬ素子を封止するために設けられるものである。
シール材に用いられる材料としては、カラーフィルタおよび対向基材を接着し、有機ＥＬ素子が大気中の水分等と接触するのを抑制することができるものであればよく、有機ＥＬ素子に一般的に用いられるものを使用することができる。

また、本発明においては、カラーフィルタ上または対向基材上にパターン状に形成された第１電極層の開口部に絶縁層が形成されていてもよい。絶縁層は、第１電極層と第２電極層とが直接接触することを防ぐために設けられるものである。
絶縁層としては、有機ＥＬ素子に一般的に用いられるものを使用することができる。

本発明においては、上述したシール材、絶縁層以外にも必要な構成を適宜選択して追加することができる。

本発明の有機ＥＬ表示装置のカラーフィルタおよび対向基材の間の空間は不活性ガスで充填されていてもよい。不活性ガスとしては、有機ＥＬ素子に用いられる一般的なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガスが挙げられる。また、カラーフィルタおよび対向基材の間の空間は真空とされていてもよい。

５．有機ＥＬ表示装置
本発明の有機ＥＬ表示装置は、特に携帯機器に好ましく使用される。
本発明の有機ＥＬ表示装置の駆動方法としては、パッシブマトリクスおよびアクティブマトリクスのいずれも適用することができる。

本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法としては、一般的な有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

Ｃ．カラーフィルタの製造方法
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基材、上記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、上記遮光部の開口部に設けられ、上記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、および上記遮光部の開口部に設けられ、透明基材上に上記着色層が形成されていない白色副画素を有するカラーフィルタ用基板を準備し、上記カラーフィルタ用基板の透明基材上の上記白色副画素に配向層をパターン状に形成した後、上記配向層の表面上に二色性分子を含有する二色性分子層をパターン状に形成することにより直線偏光層をパターン状に形成する直線偏光層形成工程と、上記カラーフィルタ用基板の上記透明基材上の少なくとも上記白色副画素に位相差制御層を形成する位相差制御層形成工程と、を有することを特徴とする製造方法である。

ここで、本発明のカラーフィルタの製造方法について、図を用いて説明する。図７は本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す概略断面図である。
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、まず、図７（ａ）に例示するように、透明基材１、透明基材１上にパターン状に形成された遮光部２、遮光部２の開口部に設けられ、透明基材１上にパターン状に形成された着色層３（図７では赤色着色層３Ｒ、緑色着色層３Ｇ、および青色着色層３Ｂ）を有する着色副画素１０Ｃ、および遮光部２の開口部に設けられ、透明基材１上に着色層が形成されていない白色副画素１０Ｗを有するカラーフィルタ用基板１１を準備する。次に、図７（ｂ）、（ｃ）に例示するように、カラーフィルタ用基板１１の透明基材１上の白色副画素１０Ｗに配向層４ａをパターン状に形成した後、配向層４ａの表面上に二色性分子を含有する二色性分子層４ｂをパターン状に形成することにより直線偏光層４をパターン状に形成する（直線偏光層形成工程）。次に、図７（ｄ）に例示するように、カラーフィルタ用基板１１の透明基材１上の少なくとも白色副画素１０Ｗに位相差制御層５を形成する（位相差制御層形成工程）。以上の工程を行うことにより、図７（ｄ）に例示するカラーフィルタ１０を製造することができる。
なお、図示しないが、本発明においては、直線偏光層形成工程の前に位相差制御層形成工程を行ってもよい。

以下、本発明のカラーフィルタの製造方法における各工程について説明する。なお、本発明に用いられるカラーフィルタ用基板における透明基材、遮光部、着色副画素に用いられる着色層等については、上述した「Ａ．カラーフィルタ」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

１．直線偏光層形成工程
本発明の直線偏光層形成工程は、上記カラーフィルタ用基板の透明基材上の上記白色副画素に配向層をパターン状に形成した後、上記配向層の表面上に二色性分子を含有する二色性分子層をパターン状に形成することにより直線偏光層をパターン状に形成する工程である。

本工程と、後述する位相差制御層形成工程との工程順は、カラーフィルタの白色副画素での、透明基材上の直線偏光層と位相差制御層との積層順により決定される。例えば、本発明の製造方法により得られるカラーフィルタにおいて、透明基材上に直線偏光層および位相差制御層の順に積層されて形成される場合は、本工程は位相差制御層形成工程の前に行われる。

本工程において形成される配向層、および配向層の形成方法については、上述した「Ａ．カラーフィルタ」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

また、本工程において形成される二色性分子層、および二色性分子層の形成方法について、上述した「Ａ．カラーフィルタ」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

２．位相差制御層形成工程
本発明の位相差制御層形成工程は、上記カラーフィルタ用基板の上記透明基材上の少なくとも上記白色副画素に位相差制御層を形成する工程である。

本工程に用いられる位相差制御層の形成方法、および形成される位相差制御層については上述した「Ａ．カラーフィルタ」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

３．その他の工程
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述した直線偏光層形成工程および位相差制御層形成工程を有する製造方法であれば特に限定されず、他にも必要な構成を適宜選択して追加することができる。このような工程としては、例えば、上述したカラーフィルタ用基板を形成するカラーフィルタ用基板形成工程や、カラーフィルタの保護層を形成する保護層形成工程等を挙げることができる。

４．カラーフィルタ
本発明の製造方法により製造されるカラーフィルタについては、上述した「Ａ．カラーフィルタ」の項で説明した内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。

本態様は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本態様の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本態様の技術的範囲に包含される。

以下、実施例および比較例を挙げて本態様を具体的に説明する。

［実施例１］
（硬化性樹脂組成物の調整）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３質量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２質量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２’ −アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７質量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７質量部、トリエチルアミンを０．４質量部、およびハイドロキノンを０．２質量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。

次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。

＜硬化性樹脂組成物の組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）１６質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社ＳＲ３９９）
２４質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社エピコート１８０Ｓ７０）４質量部
・２‐メチル‐１‐（４‐メチルチオフェニル）‐２‐モルフォリノプロパン‐１‐オン
４質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル５２質量部

（遮光部の形成）
まず、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調整した。
＜黒色顔料分散液の組成＞
・黒色顔料２３質量部
・高分子分散材（ビックケミー・ジャパン（株） Disperbyk111）２質量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）７５質量部

次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光層用組成物を得た。
＜遮光部用組成物の組成＞
・上記黒色顔料分散液６１質量部
・上記硬化性樹脂組成物２０質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル３０質量部

厚み０．７ｍｍのガラス基板（旭硝子（株）ＡＮ材）上に上記遮光層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、膜厚約１μｍの遮光層を形成した。当該遮光層を、超高圧水銀ランプで遮光パターン(ＲＧＢの繰り返しが７５μｍピッチのストライプ状)に露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を１７０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して遮光部を形成すべき領域に遮光部を形成した。
上記遮光部を形成した後、配向膜(日産化学社製、SE-130)を０．５μｍの厚さで塗布し、１５０℃の雰囲気下に３０分間放置した。配向膜形成基板上にフォトレジスト（東京応化製、OFPR-800）を厚さ約１μｍに塗布し、マスクを用いて露光、現像、エッチング、レジスト剥離し所定の位置に配向膜パターニングした。パターニング後の基板を２３０℃の雰囲気下に３０分放置した。

（着色層の形成）
配向膜形成後基板に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布（塗布厚み３．０μｍ）し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を１７０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより、加熱処理を施して赤色副画素を形成すべき領域に赤色のレリーフパターン（赤色着色層）を形成した。
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、緑色副画素を形成すべき領域に緑色のレリーフパターン（緑色着色層）を形成した。
さらに、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、青色副画素を形成すべき領域に青色のレリーフパターン（青色着色層）を形成した。

＜赤色硬化性樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４７質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤３質量部
・上記硬化性樹脂組成物２３質量部
・酢酸−３−メトキシブチル６７質量部

＜緑色硬化性樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８７質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８１質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤３質量部
・上記硬化性樹脂組成物２２質量部
・酢酸−３−メトキシブチル６７質量部

＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤３質量部
・上記硬化性樹脂組成物２５質量部
・酢酸−３−メトキシブチル６７質量部

（配向層の形成）
着色後形成基板をラビング処理し配向層を得た。

（スペーサの形成）
配向層形成後基板上に、硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し塗布膜を形成した。硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を２３０℃の雰囲気中に３０分間放置することにより加熱処理を施して所定の個数密度となるように形成した。

（二色性分子層の形成）
下記組成物Ａを塗布し、フォトマスクを用いて露光、現像して１７０℃のオーブンを用いて３０分焼成して膜厚１．０μｍの二色性分子層を配向層上に形成し、直線偏光層を得た。なお、化合物（ａ）〜（ｄ）は下記式で示される化合物である。

＜組成物Ａの組成＞
・化合物（ａ）３．２７質量部
・化合物（ｂ）１．８７質量部
・化合物（ｃ）２．１０質量部
・化合物（ｄ）２．１０質量部
・ドデカノール０．１０質量部
・ＢＨＴ０．０１質量部
・イルガキュアー９０７０．４５質量部
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）２０．００質量部
・３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学社製ＫＢＭ−８０２）
０．１０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８０．００質量部

（位相差制御層の形成）
直線偏光層形成後基板に、組成物Ａを塗布して、基板全面を露光し、１７０℃のオーブンを用いて３０分焼成してλ／４分に相当するように膜厚を２．０μｍに調整し、位相差制御層を形成し、カラーフィルタ基板を得た。位相差は位相差測定装置（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製Ａｘｏｓｃａｎ^ＴＭＭｕｅｌｌｅｒＭａｔｒｉｘＰｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ）を用いて測定した。面内における進相軸方向（屈折率が最も小さい方向）の屈折率Ｎｘ、遅相軸方向（屈折率が最も大きい方向）の屈折率Ｎｙ、厚み方向の屈折率Ｎｚ、及び、層の厚みｄ（ｎｍ）により、Ｒｔｈ＝｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｝×ｄの式から求められる。位相差の値は５８９ｎｍのときの値である。

（表示装置の作成）
上記カラーフィルタ基板を脱水処理後、白色有機ＥＬ基板上にシール材を塗布しカラーフィルタ基板と膜面同士を張り合わせて表示装置を得た。

［実施例２］
フォトマスクを用いて位相差制御層を直線偏光層のみに形成した以外は実施例１同様にして表示装置を作製した。

［実施例３］
カラーフィルタ基板において、遮光層形成後に位相差制御層を形成し、スペーサを形成せず、下記の通り保護層を形成し、白色有機ＥＬ基板上にスペーサを形成し、カラーフィルタ基板の裏面と白色有機ＥＬ基板の膜面を張り合わせた以外は実施例１と同様にして表示装置を作製した。

（保護膜の形成）
位相差制御層を形成した基板上に、上記硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜２μｍの塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて保護層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を１７０℃の雰囲気中に３０分間放置することにより加熱処理を施して保護膜を形成した。

［実施例４］
位相差フィルム(S-148、帝人化成社製)を用いて位相差制御層を形成した以外は実施例1と同様にして表示装置を得た。

［比較例１］
直線偏光層、位相差制御層を形成せず、上記硬化性樹脂組成物を用いて白画素部に形成した以外は実施例１と同様にして表示装置を作製した。
［比較例２］
円偏光板(サンリッツ社製)をカラーフィルタ裏面に設置した以外は比較例１と同様にして表示装置を作製した。

（輝度評価）
作製した表示装置の電圧値を一定として、輝度計（TOPCON社製 SR-UL1）を用いて測定した。比較例1に対して、輝度が５０％以上低下している場合は×、輝度の低下率が５０％未満である場合は○とした。比較例１は◎とした。

（反射視認性評価）
作製した表示装置の電源をＯＦＦした状態で、Ｄ６５光源を用いて視認性評価を行った。反射光により視認性が低下する場合は×、視認性が低下しない場合は○とした。

１ … 透明基材
２ … 遮光部
３ … 着色層
４ … 直線偏光層
４ａ … 配向層
４ｂ … 二色性分子層
５ … 位相差制御層
１０ … カラーフィルタ
１０Ｃ … 着色副画素
１０Ｗ … 白色副画素
１１ … カラーフィルタ用基板
２０ … 対向基材
３０ … 有機ＥＬ素子

Claims

透明基材と、
前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部と、
前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素と、
前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素と、
前記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層とを有し、
前記白色副画素では、前記透明基材上に前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成され、
前記着色副画素にも、前記透明基材上に前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成されていることを特徴とするカラーフィルタ。
前記直線偏光層が、配向層および前記配向層の表面上に形成され二色性分子を含有する二色性分子層の積層体であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ。
前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成されている着色副画素が、緑色副画素であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ。
透明基材、前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された直線偏光層を有する白色副画素、および前記透明基材上の少なくとも白色副画素に形成された位相差制御層を有し、前記白色副画素では、前記透明基材上に前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成され、前記着色副画素にも、前記透明基材上に前記直線偏光層と前記位相差制御層とが積層されて形成されているカラーフィルタと、
対向基材と、
前記カラーフィルタ上または前記対向基材上のいずれか一方に形成され、かつ、前記カラーフィルタおよび前記対向基材の間に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
透明基材、前記透明基材上にパターン状に形成された遮光部、前記遮光部の開口部に設けられ、前記透明基材上にパターン状に形成された着色層を有する着色副画素、および前記遮光部の開口部に設けられ、透明基材上に前記着色層が形成されていない白色副画素を有するカラーフィルタ用基板を準備し、
前記カラーフィルタ用基板の透明基材上の前記白色副画素に配向層をパターン状に形成した後、前記配向層の表面上に二色性分子を含有する二色性分子層をパターン状に形成することにより直線偏光層をパターン状に形成する直線偏光層形成工程と、
前記カラーフィルタ用基板の前記透明基材上の少なくとも前記白色副画素に位相差制御層を形成する位相差制御層形成工程と、
を有し、
前記直線偏光層形成工程が前記着色副画素にも、前記直線偏光層をパターン状に形成し、
前記位相差制御層形成工程が、前記透明基材上の前記着色副画素にも、前記位相差制御層を形成するものであることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。