JP5931397B2 - 貴金属被膜およびその製造方法 - Google Patents
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Description
また、本発明は、貴金属被膜に含まれる金属が粒成長する温度以上の酸化雰囲気での熱処理(例えば、めっき膜中に含まれる不純物をガスとして除去するために不可避な熱処理など)を行った場合でも上記セラミックス基板への密着が維持され、2μm未満の膜厚を有する貴金属被膜と、セラミックス基板とを少なくとも含む積層体及びその製造方法を提供することを課題とする。
セラミックス微粒子は、セリア、ジルコニア、イットリア、アルミナ、チタニア、スピネル(アルミン酸マグネシウム、アルミン酸ニッケル)、イットリア安定化ジルコニア、セリア安定化ジルコニア、TiC及びTiNからなる群から選択された少なくとも1種のセラミックスを含むことが好ましい。
また、上記セラミックス微粒子の含有量は、上記マトリクス金属100重量部に対して3〜30重量部であることが好ましい。
また、上記セラミックス微粒子の平均粒径は、5〜100nmであることが好ましい。
さらに、上記セラミックス微粒子の平均粒径と、貴金属被膜の膜厚との比は1/1.5〜1/400であることが好ましい。
さらにまた、本発明の貴金属被膜は、貴金属被膜のマトリクス金属の粒成長開始温度以上の温度で熱処理されていてもよい。
本発明の貴金属被膜は、好ましくはめっき法で形成される。
本発明の貴金属被膜の製造方法は、さらに、上記マトリクス金属の粒成長開始温度以上の温度で熱処理する熱処理工程を含んでいてもよい。
また、さらに、上記めっき工程の前に、セラミックス基板の粗面化処理を行う粗面化工程を含んでいてもよい。
また、上記めっき工程におけるめっき液のpHは10〜14であることが好ましい。
さらに、めっき液の温度は30〜85℃であることが好ましい。
本発明の積層体は、貴金属被膜のセラミックス基板と反対側の表面にさらにセラミックス層を備え、貴金属被膜とセラミックス層とが共焼成された、誘電素子、圧電/電歪素子、焦電素子、熱電素子、半導体素子、超伝導素子、イオン伝導素子などに用いられてもよく、また単独で酸素やNOxといったガスセンサーなどに用いられてもよい。
また、本発明の積層体によれば、上記貴金属被膜上に、高温焼結(例えば1700℃以下で800〜1700℃程度)が必要とされるセラミックスを積層して酸化雰囲気で共焼成を行うことができる。このため、上記貴金属被膜を電極として使用した場合の密着力が高く、且つ、電極が薄いため電極の影響が低減され特性が向上し、さらにコストの削減されたセラミックス素子として有用である。
本発明の貴金属被膜は、セラミックス基板上に形成され、Pt,Pd,Ru,Rh,Os,Ir及びAuからなる群から選択された少なくとも1種の金属を主成分として含有するマトリクス金属とセラミックス微粒子とを含み、2μm未満の膜厚を有する。貴金属被膜は、セラミックス基板との間に任意の中間層を介して形成されていてもよい。
マトリクス金属は、Pt,Pd,Ru,Rh,Os,Ir及びAuからなる群から選択された少なくとも1種の金属を主成分として含有する。なお、本明細書において「主成分として含有する」とは、その成分を60重量%以上含有することを意味してもよいし、80重量%以上含有することを意味してもよいし、90重量%以上含有することを意味してもよい。マトリクス金属に主成分として含有される金属としては、上記で列挙された金属うちの2種以上の混合物であってもよい。この場合に、上記で列挙された金属の含有量の合計として主成分として含有される。
本発明の貴金属被膜は、マトリクス金属中にセラミックス微粒子を含有する。このため、マトリクス金属の粒子が粒成長を開始する温度以上の熱処理において、フィラーとなるセラミックス微粒子によってマトリクス金属の粒子の粒界移動をピン止めさせることにより粒成長が抑制されると考えられる。
本発明の貴金属被膜が形成されるセラミックス基板としては、絶縁性を有する部材であり、例えば絶縁性セラミックスの焼成体が挙げられる。絶縁性セラミックスとしては、例えば、ジルコニア、アルミナ、マグネシア、スピネル、ムライト、窒化アルミニウム、及び窒化ケイ素からなる群より選択される少なくとも1種類の物質が用いられる。ジルコニアは、イットリウムなどの添加物により安定化または部分安定化されているものを包含する。
本発明の貴金属被膜の製造方法は、上記マトリクス金属に対応する金属イオンを含むめっき液に上記セラミックス微粒子を分散させる分散工程と、上記セラミックス微粒子が分散しためっき液を用いて、セラミックス基板に、2μm未満の膜厚にめっきするめっき工程とを含んでいる。本発明の貴金属被膜は、無電解めっきにより製造されることが好ましい。無電解めっきにおける諸条件は、マトリクス金属材料に応じて、その材料が析出するように設定される。
分散工程では、セラミックス微粒子を上記マトリクス金属に対応する金属イオンを含むめっき液に分散させる。めっき液は、上記セラミックス微粒子が分散するようにアンモニア等のアルカリ性溶液でpH調整を行うことが好ましい。めっき液のpHは、例えばpH5.5〜14であり、pH10以上が好ましい。セラミックス微粒子は、目視にて沈殿物が存在していなければよく、さらには、凝集体が観察されず均一に分散していることが好ましい。
めっき工程では、上記分散工程で作製したセラミックス微粒子が分散しためっき液を用いて、セラミックス基板に、2μm未満の膜厚にめっきする。めっき工程により、セラミックス基板の表面に、セラミックス微粒子とマトリクス金属を含んだ被膜を作製できる。めっきは、具体的には、例えば、形成される金属膜が所望の厚さになるように調合した無電解めっき液に基板を浸漬し、0.1〜10時間程度放置することにより行うことができる。上記浸漬は、セラミックス基板の揺動および/または回転と無電解めっき液を攪拌しながら行うことが好ましい。
めっき工程後、例えば、めっき膜中に含まれる不純物をガスとして除去するために、貴金属被膜を作製したセラミックス基板を、貴金属被膜の金属の粒成長開始温度以上の処理温度で熱処理できる。マトリクス金属の粒成長開始温度以上の温度とは、Tm/3(K)以上の温度であってもよく、さらにはTm/2(K)以上の温度であってもよい。ここでTmは、マトリクス金属の主成分である金属の粒成長温度である。なお、粒成長とは、結晶粒成長と言い換えられてもよい。なお、成膜後の貴金属被膜は、例えば、800℃〜1500℃で1〜5時間程度焼成することにより、被膜中に含まれる不純物をガスとして除去できる。
本発明の貴金属被膜の製造方法は、さらに、上記めっき工程の前に、セラミックス基板の粗面化処理を行う粗面化工程を含んでいてもよい。粗面化処理とは、セラミックス基板の表面に凹凸を形成することであり、例えば、焼成前のセラミックス基板にナノインプリント法により凹凸を形成すること、フッ化水素酸等の酸によって焼成後のセラミックス基板を処理することで実行可能である。粗面化処理は、セラミックス基板の焼成の前後のいずれで行われてもよい。
本発明の積層体は、上記貴金属被膜と、セラミックス基板とを備えている。セラミックス基板としては、上記例示のものが使用できる。本発明の積層体では、上記貴金属被膜とセラミックス基板との密着強度は、セバスチャン法で測定した場合に、例えば1.5N/mm2以上、好ましくは2.50N/mm2以上、より好ましくは4.0N/mm2以上、特に好ましくは5.2N/mm2以上である。また、貴金属被膜による被覆率は、マトリクスの金属粒子が粒成長を開始する温度以上の熱処理を行った場合でも、80%以上、好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上、特に好ましくは99%以上とすることができる。
本発明の積層体の製造方法は、上記貴金属被膜の製造方法により製造された貴金属被膜の、セラミックス基板と反対側の表面にさらにセラミックス層を形成するセラミックス層形成工程と、上記貴金属被膜と上記セラミックス層とを共焼成する共焼成工程とを有する。セラミックス層としては、上記例示のものが使用できる。
セラミックス層形成工程におけるセラミックス層の形成は、セラミックスグリーンシートを積層することで実行されてもよいし、セラミックスペーストを塗布することで実行されてもよい。ペーストは、セラミックス材料及びバインダーを含有する。バインダーとしては、例えばブチラール樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹脂等が使用可能である。複数種類のバインダーが混合されてもよい。セラミックペーストの塗布方法に特に制限はないが、例えばスピンコート、スリットコート、ロールコート、ゾルゲル法、スプレー法、スクリーン印刷法の湿式塗布、貴金属被膜を電極にした電気泳動法等が用いられる。
共焼成工程では、上記貴金属被膜と上記セラミックス層とを共焼成する。共焼成は、例えば、1700℃以下の任意の温度で行うことができる。この工程により、上記貴金属被膜と上記セラミックス層との密着性に優れた、例えば、誘電体、焦電体、熱電素子、半導体素子、超伝導素子、イオン伝導素子、又はセンサーなどのセラミックス電子部品等の積層体を製造できる。
サイズが30mm×20mmかつ厚みが0.2mmのジルコニア基板の表面に対して、フッ化水素酸で粗面化処理を行った。
実施例1と同様のプロセスで、めっき液に添加した粒子をジルコニアに変更した水準で複合めっき液を作製した以外は、実施例1と同様にして、ジルコニア基板上にPt膜を作製した。
実施例1と同様のプロセスで、めっき液に添加した粒子をイットリアに変更した水準で複合めっき液を作製した以外は、実施例1と同様にして、ジルコニア基板上にPt膜を作製した。
実施例1と同様のプロセスで、めっき液に添加した粒子をアルミナに変更した水準で複合めっき液を作製した以外は、実施例1と同様にして、ジルコニア基板上にPt膜を作製した。
実施例1と同様のプロセスで、めっき液に添加した粒子をチタニアに変更した水準で複合めっき液を作製した以外は、実施例1と同様にして、ジルコニア基板上にPt膜を作製した。
実施例1と同様のプロセスで、めっき液に添加した粒子をスピネルに変更した水準で複合めっき液を作製した以外は、実施例1と同様にして、ジルコニア基板上にPt膜を作製した。
実施例1と同様のプロセスで、粒子添加をおこなわずに成膜をおこなった。
サイズが30mm×20mmかつ厚みが0.2mmのジルコニア基板に田中貴金属工業製Ptペーストをスクリーン印刷法で2×2mm、厚さ0.5μmのパターンを形成し、1350℃で焼成してPt膜を得た。
サイズが30mm×20mmかつ厚みが0.2mmのジルコニア基板に田中貴金属工業製Ptペーストをスクリーン印刷法で2×2mm、厚さ10.5μmのパターンを形成し、1350℃で焼成してPt膜を得た。
得られたセラミックス基板をマイクロスコープで透過観察し、被覆率を画像解析により求めた。
外観上に不良の見られなかった試料について、セバスチャン法により金属被膜の密着強度を測定した。
まず、めっきにより形成された2×2mmの金属膜を、半田でアルミニウム線と接合した。引張り試験機で基板を固定して、金属膜と接合したアルミニウム線を引っ張り、金属膜と基板とが剥離したときの荷重を計測した。
積層体の断面微構造をJEOL製FE-SEMで観察した。
表1に示すように、複合めっきを形成した場合、熱処理後の被覆率も高く、密着強度も向上していることがわかった。
また、断面微構造を観察したところ、金属膜の粒界にセラミックス粒子が存在し、金属膜は微細な結晶粒で構成されていることが判った。特に、粗面化によって形成された凹部内に空隙が形成されておらず、アンカー効果が維持されていることがわかった。
Claims (5)
- セラミックス基板上に形成され、
Pt,Pd,Ru,Rh,Os,Ir及びAuからなる群から選択された少なくとも1種の金属を主成分として含有するマトリクス金属と、セリア、ジルコニア、イットリア、アルミナ、スピネル(アルミン酸マグネシウム、アルミン酸ニッケル)、イットリア安定化ジルコニア、セリア安定化ジルコニア、TiC及びTiNからなる群から選択された少なくとも1種のセラミックスを含むセラミックス微粒子とを含み、2μm未満の膜厚を有する、貴金属被膜の製造方法であって、
前記セラミックス微粒子を、前記マトリクス金属に対応する金属イオンを含むめっき液に分散させる分散工程と、
前記セラミックス微粒子が分散しためっき液を用いて、前記セラミックス基板に、2μm未満の膜厚にめっきするめっき工程と
を含む、貴金属被膜の製造方法。 - さらに、前記マトリクス金属の粒成長開始温度以上の温度で熱処理する熱処理工程を含む、請求項1に記載の貴金属被膜の製造方法。
- さらに、前記めっき工程の前に、セラミックス基板の粗面化処理を行う粗面化工程を含む、請求項1又は2記載の貴金属被膜の製造方法。
- 前記めっき工程におけるめっき液のpHが10〜14である、請求項1〜3の何れか1項に記載の貴金属被膜の製造方法。
- 前記めっき液の温度が30〜85℃である、請求項1〜4の何れか1項に記載の貴金属被膜の製造方法。
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