JP5929992B2 - ワイヤ放電加工装置、ワイヤ放電加工方法 - Google Patents

Description

本発明は、ワイヤ放電加工装置、ワイヤ放電加工方法に関し、加工液槽内の加工液によるワイヤのブレを低減し、被加工物を適切に放電加工する技術に関する。

近年、半導体材料や太陽電池材料、硬質材料等の被加工材料を、放電加工により、短時間で同時に複数切り出す方法が開発されている。

たとえば、ワイヤ放電加工装置は、当該被加工材料を薄板状に切り出すために、給電子を介してワイヤに電圧を印加しながら走行させ、そのワイヤに当該被加工材料を近づけることで放電現象を発生させ、当該被加工材料を放電加工するものである。

特許文献１には、走行する複数本のワイヤで被加工物を放電加工することにより、薄片に切断することが記載されている。

特開２０１０−２６０１５１号公報

しかしながら、従来、例えば、走行するワイヤの速度が速くなるにつれ、また、ワイヤ電極の本数が多くなるにつれ、また、ワイヤ間隔が狭小するにつれて、加工水槽内の加工液が、走行するワイヤによって加工水槽の外に運び出されてしまい、加工水槽内にワイヤ放電加工に必要な加工液の水量を十分に確保することができない場合がある。

そのため、放電発生部である、被加工物（ワーク）とワイヤとの間に、放電加工に必要な加工液の水量を十分に確保できない場合には、例えば、空中放電等が発生し、被加工物であるワークやワイヤを破損してしまい、被加工物を適切に放電加工することができないおそれがあった。

ワイヤ放電加工装置の被加工物（ワーク）とワイヤとの間（放電発生部）には、このような空中放電等を防止するため、加工液で満たす必要である。そこで、放電発生部を加工液で満たすために、加工液槽の下部から放電発生部に対して大量の加工液を供給する仕組みにした場合、加工液槽の下部から供給される大量の加工液の噴流によりワイヤがぶれてしまうおそれがあった。そして、大量の加工液の噴流によりワイヤがぶれてしまうと、被加工物を均一に加工することが出来ず、被加工物を適切に放電加工することができなかった。

また、放電加工装置では、大きな被加工物をスライス加工する場合もあれば、小さな被加工物をスライス加工する場合もある。

そのため、大きな被加工物のスライス加工の場合には、多くのワイヤを必要とし、そのワイヤ数に応じた大きさのメインローラを用いることが考えられる。

すなわち、大きな被加工物のスライス加工の場合、メインローラは、大きく重たいものを使用し、一方、小さな被加工物のスライス加工の場合、メインローラは小さいものを使用するように、被加工物の大きさに応じて、メインローラを取り替えることが考えられる。

しかしながら、メインローラを取り替える場合には、ワイヤをメインローラから外して、再度取り替えるメインローラにワイヤを巻き直さなければならないなど、非常に煩雑な操作を必要とする。

そこで、メインローラを出来るだけ交換しなくて済むように、小さな被加工物をスライス加工する場合でも、大きな被加工物のスライス加工で用いる大きさ（大型）のメインローラを取り付けておくことが考えられる。

ところで、図１に示すメインローラ８とメインローラ９とに巻かれたワイヤが一定の張力を維持して走行するために、メインローラ８、メインローラ９の両方のそれぞれに、各メインローラをそれぞれ回転させる駆動モータを設けることが考えられるが、メインローラ８、メインローラ９の両方のそれぞれに駆動モータを設けると、駆動モータがメインローラの数分必要になるだけではなく、各駆動モータが完全に同期をとり回転する高価な駆動モータ、及びそのシステムが必要となる。その結果、生産コストが高くなると共に、多くの電気を消費することになる。

そこで、省エネ、生産コスト低減等のため、ワイヤが巻かれた複数のメインローラ（８、９）のうち１つのメインローラ（９）にのみ、メインローラを回転させるモータ（駆動モータ２３）を設けることが考えられる。

しかしながら、メインローラ（８、９）間でワイヤを走行させ、当該ワイヤのワイヤ走行時の張力を一定にするべく、駆動モータが設けられていないメインローラ８を回転させる必要がある。

そこで、各メインローラ（８、９）間に放電で用いるワイヤが巻きつけられるので、その放電で用いるワイヤの走行により、メインローラ（８）を連れ回しすることが考えられる。

しかしながら、メインローラをできるだけ交換しなくて済むようにするために、小さな被加工物をスライス加工する場合でも、大型の重たいメインローラ（８、９）が取り付けられている場合、放電に用いるワイヤ数が少ないため、そのワイヤのみで、メインローラ（８）を連れ回しすることが難しい。

そこで、放電で用いるワイヤと同じ一本のワイヤであり、メインローラ８を連れ回しするためのワイヤ（連れ回し用のワイヤ）を、複数のメインローラ（８，９）間で巻き、駆動モータ２３が回転することで、メインローラ８も、ワイヤの走行速度に応じた連れ回しを行うことが可能となる。

しかしながら、その連れ回し用のワイヤが加工液槽内を走行すると、加工液槽内の加工液の水流が増してしまい、その加工液の水流により加工に用いるワイヤの間隔が変動して（ワイヤがぶれてしまい）、被加工物を適切に放電加工することができない可能性が増してしまう。

そのため、駆動モータが接続されていないメインローラ８を回転させるためのワイヤ（連れ回し用のワイヤ）が加工液槽内を走行することによる加工液槽内の加工液の水流を無くして、被加工物を適切に放電加工するための仕組みが必要となる。

本発明は、加工液槽内の加工液によるワイヤのブレを低減し、被加工物を適切に放電加工するための仕組みを提供することを目的とする。

本発明は、ワイヤと被加工物との間の放電により前記被加工物を加工するワイヤ放電加工装置であって、ローラを回転させる駆動部と接続され、前記駆動部による駆動により回転する第１のローラと、前記駆動部と接続されていない第２のローラであって、前記駆動部による駆動により前記第１のローラが回転することで走行するワイヤにより回転する第２のローラと、を備え、前記第１のローラ、及び前記第２のローラは、前記被加工物との放電に用いられるワイヤと共に、前記被加工物との放電に用いられない、前記第２のローラを回転させるために走行するワイヤが、前記第１のローラと前記第２のローラとの間で張られるために巻かれるローラであり、前記ワイヤ放電加工装置は、更に、前記被加工物と当該ワイヤとの間の放電により前記被加工物を加工するために用いられる加工液が貯留される加工液槽であって、前記被加工物との放電に用いられるワイヤが前記加工液槽内の加工液に接するように設けられ、かつ、前記被加工物との放電に用いられないワイヤが前記加工液槽内の加工液に接しないように設けられた加工液槽を備え、前記加工液槽は、前記被加工物との放電に用いられるワイヤの前記加工液槽内からの出口である第１のワイヤ走行口と、前記第１のワイヤ走行口よりも上部に、当該ワイヤの走行による、前記加工液槽内に貯留される加工液の当該加工液槽からの流出を抑制する第１の流出抑制板と、を更に備えることを特徴とする。

また、本発明は、ワイヤと被加工物との間の放電により前記被加工物を加工するワイヤ放電加工装置によるワイヤ放電加工方法であって、前記ワイヤ放電加工装置が備える第１のローラ、及び第２のローラは、前記被加工物との放電に用いられるワイヤと共に、前記被加工物との放電に用いられない、前記第２のローラを回転させるために走行するワイヤが、前記第１のローラと前記第２のローラとの間で張られるために巻かれるローラであり、前記ワイヤ放電加工装置が備える加工液槽は、前記被加工物との放電に用いられるワイヤとの間の放電により前記被加工物を加工するために用いられる加工液が貯留される加工液槽であって、前記被加工物との放電に用いられるワイヤが前記加工液槽内の加工液に接するように設けられ、かつ、前記被加工物との放電に用いられないワイヤが前記加工液槽内の加工液に接しないように設けられた加工液槽であり、前記加工液槽は、前記被加工物との放電に用いられるワイヤの前記加工液槽内からの出口である第１のワイヤ走行口と、前記第１のワイヤ走行口よりも上部に、当該ワイヤの走行による、前記加工液槽内に貯留される加工液の当該加工液槽からの流出を抑制する第１の流出抑制板と、を更に備え、前記第１のローラが、ローラを回転させる駆動部と接続され、前記駆動部による駆動により回転し、前記駆動部と接続されていない前記第２のローラが、前記駆動部による駆動により前記第１のローラが回転することで走行するワイヤにより回転することを特徴とする。

本発明によれば、加工液によるワイヤのブレを低減し、被加工物を適切に放電加工することができる。

マルチワイヤ放電加工システムを前方から見た正面図である。 図１に示す点線１６枠内の拡大図である。 ワイヤ７とワイヤ１７が巻かれているメインローラ８と、駆動モータ２３により回転するメインローラ９の斜視図の一例である。 図１、図２に示す加工液槽６の斜視図の一例である。 図４に示す加工液槽６の正面図の一例である。 図４に示す加工液槽６の側面図の一例である。 ワイヤ７とワイヤ１７とが加工液槽６のワイヤ走行口４０２を走行可能に構成された加工液槽６の側面図の一例である。 図７に示す加工液槽６と、メインローラ８、９の上面図の一例である。 図４、図６に示す加工液槽６、メインローラ８、９の上面図の一例である。 図８に示す点線８０１、図９の点線８０２の拡大図であって、加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図１０に示す断面Ｂの断面図と、図１０に示す断面Ｃ（図４に示す断面Ｃと同じ断面）の断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図４に示す断面Ａの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図４、図１２に示す断面Ｄの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図４に示す断面Ｃの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図４に示す断面Ａの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図４に示す断面Ｄの断面図一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図４に示す断面Ｃの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図４に示す断面Ａの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図４に示す断面Ｄの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 図４に示す断面Ｃの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 傾斜部を有する囲い板１２が設けられた加工液槽６の図４に示す断面Ｃの断面図と、傾斜部を有しない囲い板１２が設けられた加工液槽６の図４に示す断面Ｃの断面図の一例を示す図であって、囲い板１２内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。 給液管２０から加工液槽６内に加工液を注入する給液口（穴）の大きさと、給液口（穴）が給液管２０に設けられている間隔を説明するための図である。 加工液槽６と、メインローラ９と、整流板２４と、メインローラ９と整流板２４とに加工液を噴射する給水部１３とを示す側面図の一例である。 整流板２４の上を走行するワイヤ７の上部、及び下部を流れる加工液の流れ方向を示す図である。

以下、添付図面を参照して、本発明を好適な実施形態に従って詳細に説明する。

図１は、マルチワイヤ放電加工システムを前方から見た正面図である。尚、図１に示す各機構の構成は一例であり、目的や用途に応じて様々な構成例があることは言うまでもない。

本発明の実施の形態に係るマルチワイヤ放電加工システムは、マルチワイヤ放電加工装置１、電源ユニット（電源装置）１５、加工液供給装置１８から構成されている。

マルチワイヤ放電加工システムは、放電により、並設された複数本のワイヤ７（ワイヤ電極）の間隔で被加工物（図１の例では、シリコンインゴット５）を薄片にスライスすることができる。

マルチワイヤ放電加工装置１は、大きな被加工物をスライス加工することも、小さな被加工物をスライス加工することも可能である。

マルチワイヤ放電加工装置１は、電源ユニット１５と電線（電圧印加線）を介して接続されており、電源ユニット１５から供給される電力により作動する。

マルチワイヤ放電加工装置１は、不図示のサーボモータにより駆動されるワーク送り装置３が上下方向に移動することにより、ワーク送り装置３に接着剤（接着部４の接着剤）により接着されているワーク（ワークは、被加工物を示し、図１の例ではシリコンインゴット５である）を上下方向に移動することができる。

また、マルチワイヤ放電加工装置１は、本発明のワイヤ放電加工装置の適用例であり、ワイヤと被加工物との間で発生する放電により被加工物を加工する。

本発明の実施の形態では、シリコンインゴット５が下方向に移動することで、シリコンインゴット５とワイヤ７とが接近し、シリコンインゴット５とワイヤ７との間で放電が発生し、シリコンインゴット５の放電加工を行う。このとき、シリコンインゴット５とワイヤ７との間の空間（放電ギャップ（シリコンインゴット５とワイヤ７との間の隙間））には加工液が満たされており、この加工液が所定幅の電気抵抗値を有していることから、シリコンインゴット５とワイヤ７との間で放電が発生し、シリコンインゴット５の放電加工を行うことができる。

また、ワーク送り装置３をワイヤ７よりも下部へ設け、シリコンインゴット５を上方向へ移動させることにより、シリコンインゴット５とワイヤ７との間で放電加工を行わせるようにすることも可能である。

本実施の形態では、被加工物の一例としてシリコンインゴット５を用いて説明するが、ＳＩＣ（炭化シリコン）などの、絶縁体ではない他の材料（導体又は半導体）を用いることもできる。

マルチワイヤ放電加工装置１は、図１に示すように、マルチワイヤ放電加工装置１の土台として機能するブロック１９と、ブロック１９の上部の装置内に設置されている、ブロック２と、ワーク送り装置３と、接着部４と、シリコンインゴット５と、加工液槽６と、メインローラ８と、ワイヤ７、１４と、メインローラ９と、給電ユニット１０と、給電子１１と、囲い板１２と、給水部１３と、整流板２４と、加工液供給口２１、２２と、加工液槽６が備える給液管２０とを備えている。

１５は、電源ユニット（電源装置）であり、３は、サーボモータを制御する放電サーボ制御回路が放電の状態に応じて効率よく放電を発生させるために放電ギャップを一定の隙間に保つように制御し、またワークの位置決めを行い、放電加工を進行させる。

１８は、加工液供給装置であり、放電加工部の冷却、加工チップ（屑）の除去に必要な加工液をポンプによりシリコンインゴット５とワイヤ７へ送液すると共に、加工液中の加工チップの除去、イオン交換樹脂による比抵抗または電導度（１μＳ〜２５０μＳ）の管理、液温（２０℃付近）の管理を行う。加工液には、主に水が使用されるが、放電加工油を用いることもできる。本実施の形態では、加工液の例として水を用いるが、放電加工油でもよい。

８，９はメインローラであり、メインローラには、所望する厚さで加工出来るようにあらかじめ決められたピッチ、数で溝が形成されており、ワイヤ供給ボビンからの張力制御されたワイヤが２つのメインローラに必要数巻きつけられ、巻き取りボビンへ送られる。ワイヤ速度は１００ｍ／ｍｉｎから９００ｍ／ｍｉｎ程度が用いられる。

メインローラ９は、本発明の第１のローラの適用例であり、メインローラ９が回転することによりメインローラ９に巻きつけられたワイヤ７を走行させる。

２つのメインローラが同じ方向でかつ同じ速度で連動して回転することにより、ワイヤ繰出し部から送られた１本のワイヤ７がメインローラ（２つ）の外周を周回し、並設されている複数本のワイヤ７を同一方向に走行させることができる。

ワイヤ７、１４は、１本の繋がった同一のワイヤであり、図示しないボビンから繰り出され、メインローラ８、９の外周面のガイド溝（図示しない）に嵌め込まれながら、当該メインローラの外側に多数回（最大で２０００回程度）螺旋状に巻回された後、図示しないボビンに巻き取られる。

加工液槽６は、所定の範囲の比抵抗（電気伝導度）に管理されたイオン交換水を、並設されたワイヤ７（ワイヤ電極とも言う）とシリコンインゴット５とが近接する放電ギャップの位置（放電点）に加工液として供給している。

加工液槽６は、本発明の加工液槽の適用例であり、被加工物とワイヤとの間で放電加工されるために用いられる加工液が貯留される。

給水部１３から噴射される冷却水の比抵抗は、イオン交換水（加工液）の比抵抗とほぼ等しく、冷却水の比抵抗も加工液と同様にイオン交換樹脂により管理されている。これは冷却水と加工液が混ざっても放電に影響をあたえないためである。

すなわち、給水部１３から噴射される冷却水は、メインローラ８、９、ワイヤ７、１４を冷却する加工液である。

また、給水部１３から噴射される加工液は、加工液槽６に貯留されている加工液と同一、又はほぼ同一の比抵抗を有する加工液である。

また、整流板２４は、給水部１３から噴射される加工液を、走行しているワイヤ７により、加工液槽６に流し込むための機構である。整流板２４の構成については、後で詳しく説明する。

また、囲い板１２は、加工液槽６、及びワイヤ７の上部に設けられており、加工液槽６内に流入する加工液の界面（液面）がワイヤ７よりも高い位置になるように、ワークの周りを囲っている、囲い板１２を用いることで、加工液の水位がワイヤ７よりも高くすることが可能となる。

囲い板１２は、本発明の流出抑制板の適用例であり、加工液槽よりも上部に設けられ、加工液槽内に貯留される加工液の当該加工液槽からの流出を抑制する。また、流出抑制板と加工液槽との間の隙間には、走行するワイヤが設けられている。

囲い板１２は、加工液槽６の縁上に設けられているが、加工液槽６の縁の直上ではなく、加工液槽６の内側、又は外側に設けるようにすることもできる。

また、流出抑制板は、加工液槽６内の加工液を囲むように構成されているが、少なくとも、被加工物に対してワイヤの走行方向側に設けることで、加工液槽６内の加工液が、ワイヤが走行している方向に運び出され加工液槽６の外に運び出されるのを防ぎ、ワークとワイヤとの間の隙間（放電ギャップ）に、放電加工に必要な加工液の水量を確保することができるようになる。

流出抑制板は、被加工物に対してワイヤの走行方向側の加工液槽の縁よりも上部に設けられている。

また、加工液槽６の内部には、加工液供給口７０１からの水流を分散して抑制するための水流制御機構（水流抑制機構とも言う）を備えている。

加工液槽６内への加工液の供給は、加工液槽６の下部に備えられた給液管２０（単に管とも言う）から行われる。

この管は、加工液槽に導通し、加工液を供給する加工液供給装置１８から加工液槽６内に加工液を供給する口（給液口とも言う）が設けられている。

そのため、給液口から供給された加工液の水流がワイヤ７の下部からワイヤ７にあたり、その加工液の水流によりワイヤの間隔が変動してしまい（ワイヤがぶれてしまい）、被加工物を均一に加工することが難しくなるおそれがある。

そのため、後で説明するが、加工水の水流による被加工物の加工の不均一性の増大を抑えるために、給液口から供給された加工液の水流を減速するために、水流制御機構を、加工液槽６内に設けている。

加工液供給口２１、２２は、加工液槽６の下部の左右にそれぞれ設けられており、加工液槽６内の給液管２０に左右から加工液を供給する口である。このように、加工液槽６には、加工液を加工液槽６内に供給する加工液供給口が複数設けられている。

加工液槽６の左右の加工液供給口２１、２２から給液管２０に加工液が供給されると、給液管２０に設けられた複数の口（給液口）から、加工液槽６に加工液を供給される。

次に、図２について、説明する。

図２は、図１に示す点線１６枠内の拡大図である。

ブロック２は、ワーク送り装置３と接合されている。また、ワーク送り装置３は、シリコンインゴット５と接着部４により接着（接合）されている。

本実施例では、被加工材料として、シリコンインゴット５を例に説明する。

接着部４は、ワーク送り装置３と、シリコンインゴット５（ワーク）とを接着（接合）するためのものであれば何でもよく、例えば、導電性接着剤が用いられる。

ワーク送り装置３は、接着部４により接着（接合）されているシリコンインゴット５を上下方向に移動する機構を備えた装置であり、ワーク送り装置３が下方向に移動することにより、シリコンインゴット５をワイヤ７に近づけることが可能となる。

加工液槽６は、加工液を溜めるための容器である。加工液は、例えば、抵抗値が高い脱イオン水である。ワイヤ７と、シリコンインゴット５との間に、加工液が設けられることにより、ワイヤ７と、シリコンインゴット５との間で放電が発生し、シリコンインゴット５を削ることが可能となる。

また、図１でも説明したが、マルチワイヤ放電加工装置１は、加工液槽６の上部に囲い板１２を備えている。

囲い板１２は、放電発生部である、ワークとワイヤとの間（放電ギャップ）に、放電加工に必要な加工液の量を確保するために備えている。

囲い板１２は、加工液槽６の上部に設けられ、加工液槽６内に貯留される加工液の水位をワイヤ７よりも上位になるように貯留し、ワイヤが走行することによる、加工液槽内の加工液の加工漕外への流出量を減らすように機能する。

また、囲い板１２と加工液槽６との間には、隙間（ワイヤ走行口４０１、４０２）があり、その隙間を走行するワイヤが設けられている。

図２に示すように、加工液槽６の上部に囲い板１２が設けられ、更に、給水部１３から加工液がメインローラ９、ワイヤ７、１４に、噴射され、当該噴射された加工液が、整流板２４を通り、さらに、ワイヤ走行口４０１、４０２を通り、加工液槽６内に貯留される。このようにして加工液槽６内に貯留される加工液の水位がワイヤ７よりも上位になるように貯留することができ、ワイヤが走行することによる、加工液槽内の加工液の加工漕外への流出量を減らすことができる。

これにより、放電発生部である、ワークとワイヤとの間（放電ギャップ）に、放電加工に必要な加工液の量を確保することが出来るようになり、放電加工を安定して行うことができ被加工物への欠陥の発生を防ぐことが可能となる。

図２に示すように、マルチワイヤ放電加工装置１は、整流板２４と給水部１３を備えている。

給水部１３は、加工液を、メインローラ９の上部でありメインローラ９に巻きつけられたワイヤの上部、及び／又はメインローラ９と加工液槽６との間のワイヤの上部に流すように、これらの上部に配置されている。

給水部１３は、メインローラ９と加工液槽との間の走行するワイヤ、及び／又はメインローラ９に加工液を噴射する。

この給水部１３は、ワイヤ７、１４の走行方向とは逆方向に設けられたメインローラ９と加工液槽６との間のワイヤ７、１４、及び／又はメインローラ９に加工液を噴射する。

また、給水機構は、ワイヤ７、１４の走行方向とは逆方向に設けられたメインローラ９と加工液槽６との間のワイヤ７、１４、及び／又はメインローラ９よりも上部に設けられている。

給水部１３は、ワイヤ７、１４に給電されている場合にワイヤ電極（ワイヤ７、１４）から発する熱から、メインローラ９を保護するために、メインローラ９の上部でかつ、メインローラ９に巻きつけられたワイヤの上部に、冷却水としての加工液を噴射する。

ここでは、シリコンインゴット５とワイヤ７との間の隙間に、放電加工に必要な加工液の量を確保するために、この冷却水としての加工液を利用する。そのために、整流板２４を設けて、メインローラ９を伝わってきた冷却用の加工液を加工液槽６に運ぶように構成している。これにより、ワイヤの静止状態からワイヤの走行状態まで放電加工に必要な加工液槽６内の加工液量の確保が可能となる。

例えば、給水部１３からの加工液の噴射を行わず、ワイヤを走行した場合、囲い板１２と加工液槽６との間の隙間（ワイヤ走行口）を走行しているワイヤにより、空気が加工液槽６内に大量に入り込むこと共に、囲い板１２と加工液槽６との間の隙間（ワイヤ走行口）から、加工液槽６内の加工液が漏れ出し加工液槽６内の水位が低下してしまうおそれがある。

このような課題を解消するために、マルチワイヤ放電加工装置１は、整流板２４と給水部１３を備えている。

メインローラ８、９（ガイドローラとも言う）には、ワイヤ７、１４を取り付けるための溝が複数列形成されており、その溝にワイヤ７、１４が取り付けられている。そして、メインローラ８、９が右又は左回転することにより、ワイヤ７、１４が走行する。

メインローラにワイヤ７、１４が複数回巻きつけられており、メインローラに刻まれた溝に従い、所定ピッチでワイヤ７、１４が整列している。

メインローラ８、９は中心に金属を使用し、外側は樹脂で覆う構造である。

給電子１１は、機械的摩耗に強く、導電性があることが要求され超硬合金が使用されている。

メインローラの間の中央部の上部に、シリコンインゴット５が配置され、シリコンインゴット５はワーク送り装置３に取付けられており、ワーク送り装置３が上下方向に移動することにより、シリコンインゴット５が上下方向に移動し、シリコンインゴット５の加工を行う。

また、メインローラ間の中央部に加工液槽６を設け、ワイヤ７およびシリコンインゴット５を加工液槽６に浸漬し、放電加工部の冷却、加工チップの除去を行う。

ワイヤ７、１４は、図２に示すように、メインローラ８、９に取り付けられ、メインローラ８、９の上側、及び下側にワイヤ列を形成している。

また、ワイヤ７、１４は、伝導体であり、電源ユニット１５から電圧が供給された給電ユニット１０の給電子１１と、ワイヤ７とが接触することにより、当該供給された電圧が給電子１１からワイヤ７に印加される。（給電子１１がワイヤ７に電圧を印加しているが、給電子１１は、ワイヤ１４に直接電圧を印加していない。）

そして、ワイヤ７と、シリコンインゴット５との間で放電が起き、シリコンインゴット５を削り（放電加工を行い）、薄板状のシリコン（シリコンウエハ）（加工物）を作成することが可能となる。

次に、図３を用いて、ワイヤ７とワイヤ１７が巻かれているメインローラ８と、駆動モータ２３により回転するメインローラ９について説明する。

大きな被加工物のスライス加工の場合、メインローラ８、９は、大きく重たいものを使用し、一方、小さな被加工物のスライス加工の場合、メインローラは小さいものを使用するように、被加工物の大きさに応じて、メインローラ８、９を取り替えることが可能である。

すなわち、メインローラ８、９は、マルチワイヤ放電加工装置１に着脱可能に構成されている。

しかしながら、メインローラ８，９を取り替える場合には、ワイヤをメインローラ８、９から外して、再度取り替えるメインローラにワイヤを巻き直さなければならないなど、非常に煩雑な操作を必要となる。

そこで、メインローラを交換しないようにするために、小さな被加工物をスライス加工する場合でも、大きな被加工物のスライス加工で用いる大きさのメインローラをマルチワイヤ放電加工装置１に取り付けておく。

すなわち、本実施形態に示すメインローラ８、９は、比較的大きな被加工物のスライス加工で用いる大きさの重たいメインローラである。

図３は、ワイヤ７とワイヤ１７が巻かれているメインローラ８と、駆動モータ２３により回転するメインローラ９の斜視図の一例である。

ワイヤ７は、被加工物との放電に用いられるワイヤであり、ワイヤ１７は、被加工物との放電に用いられない、メインローラ８を回転させるために走行するワイヤである。

すなわち、被加工物との放電に用いられるワイヤ７は、加工液槽６内の加工液に接するように設けられ、ワイヤ１７は、加工液槽内の加工液に接しないように設けられている。

メインローラ９（第１のローラ）は、ローラを回転させる駆動モータ２３（駆動部）と接続され、駆動モータによる駆動により回転する。

この駆動モータ２３（駆動部）は、メインローラ９の回転方向を反転する（逆方向に回転する）反転手段を有している。

また、メインローラ８（第２のローラ）は、駆動モータ２３と接続されていないローラであって、駆動モータ２３による駆動によりメインローラ９が回転することで走行するワイヤ７、１７により回転する。

メインローラ８、及びメインローラ９は、被加工物との放電に用いられるワイヤ７と共に、被加工物との放電に用いられない、メインローラ８を回転させるためにのみ走行するワイヤ１７が、メインローラ８とメインローラ９との間で張られるために巻かれるローラである。

図３に示すように、メインローラ８、メインローラ９の両方のそれぞれに、駆動モータ２３を設けておらず、メインローラ９にのみ駆動モータ２３を設けているため、生産コストを低減できると共に、消費電力を低減させることができる。

また、メインローラをできるだけ交換しなくて済むようにするために、大きく重たいメインローラ８、９が取り付けられているため、各メインローラ８、９間の、放電で用いるワイヤ７（このワイヤは、小さな被加工物のスライス加工の場合に用いる本数のワイヤであり、少ない本数のワイヤである）のみにより、メインローラ８を連れ回しすることは困難である（ワイヤの本数が少ないため）が、放電で用いるワイヤ７と同じ一本でつながったワイヤ１７であり、メインローラ８を連れ回しするためのワイヤ１７（連れ回し用のワイヤ１７）を、複数のメインローラ８、９間で巻き、駆動モータ２３が回転することで、メインローラ８も、ワイヤの走行速度に応じた連れ回しを行うことが可能となる。

また、本実施形態では図示していない連れ回し用のベルト（ゴム等の材料）を、各メインローラ（８、９）間に巻きつけ、メインローラ（９）の回転に連動して、メインローラ（８）を連れ回しすることも考えられる。

しかしながら、メインローラを交換しないようにするために、小さな被加工物をスライス加工する場合でも、大きな被加工物のスライス加工で用いる大きさのメインローラ（８、９）が取り付けられている場合、高速でメインローラ９を回転させると、ベルトと重いメインローラとの間ですべりが生じてしまう。

その結果、ワイヤの走行と、ベルトの走行とが同期しなくなってしまい、メインローラの回転、及びワイヤの走行が進むにつれて、ワイヤの張力に変化が生じてしまう。そして、ワイヤの安定した走行が難しくなってしまい、適切な放電加工を行うことが出来なくなってしまうおそれがある。

ベルトだけでは、ワイヤの走行速度に適したメインローラ８の連れ回しが出来ない理由の１つとして、ベルト（ゴムなどの材料で構成されている）とメインローラ（メインローラの表面はウレタンなどで構成されている）との摩擦力と、ワイヤ（中心は鉄でその表面は真鍮で構成されている）のメインローラとの摩擦力との違い（ベルトとメインローラとの間の摩擦力が、複数の（多数の）ワイヤとメインローラとの間の摩擦力よりも小さい）が考えられる。

そこで、放電で用いるワイヤ７と同じ材料の一本のワイヤ１７であって、メインローラ８を連れ回しするために、駆動モータ２３（単にモータとも言う）が接続されていないメインローラ８を回転させるためのワイヤ１７（連れ回し用のワイヤ）を、その複数のメインローラ８、９間で巻き、駆動モータ２３が回転することで、メインローラ８も、ワイヤの走行速度に応じた連れ回しを行うことが可能となる。

次に、図１、図２に示す加工液槽６について説明する。

図４は、図１、図２に示す加工液槽６の斜視図の一例である。

図４に示す加工液槽６は、ワイヤ放電加工装置１に対して着脱可能に構成されており、後述する図７に示す加工液槽６もワイヤ放電加工装置１に対して着脱可能である。図４に示す加工液槽６は、小さな被加工物を放電加工する際に用いることが適しており、後述の図７に示す加工液槽６は、大きな被加工物を放電加工する際に用いることが適している。

加工液槽６は、被加工物とワイヤ７との間の放電により被加工物を加工するために用いられる加工液が貯留される加工液槽である。

図４に示す通り、被加工物との放電に用いられるワイヤ７は、加工液槽６内の加工液に接するように設けられており、被加工物との放電に用いられないワイヤ１７は、加工液槽６内の加工液に接しないように設けられている。

すなわち、図４に示すように、被加工物との放電に用いられるワイヤ７は、加工液槽６内の位置に設けられており、被加工物との放電に用いられないワイヤ１７は、加工液槽６外の位置に設けられている。

本マルチワイヤ放電加工装置１が、このような構成を備えていることにより、加工液槽内の加工液によるワイヤのブレを低減し、被加工物を適切に放電加工することができる。

すなわち、本マルチワイヤ放電加工装置１が、このような構成を備えていることにより、連れ回し用のワイヤ１７が加工液槽内を走行することにより、加工液槽内の加工液の水流が増加し、その結果、その加工液の水流により加工に用いるワイヤ７の間隔が変動して（ワイヤがぶれてしまい）、被加工物を適切に放電加工することができない可能性が増してしまうという課題を解消することができる。

すなわち、駆動モータ２３が接続されていないメインローラ８を回転させるためのワイヤ（連れ回し用のワイヤ）１７が加工液槽６内を走行することによる加工液槽６内の加工液の水流を無くして、被加工物を適切に放電加工することができる。

図４に示すように、加工液槽６は、囲い板１２を備えており、囲い板１２は、被加工物との放電に用いられるワイヤ７の加工液槽内からの出口であるワイヤ走行口４０１（第１のワイヤ走行口）よりも上部に、ワイヤ７の走行による、加工液槽６内に貯留される加工液の加工液槽６からの流出を抑制する第１の流出抑制板４０３を含んでいる。

また、第１のワイヤ走行口の上部に設けられた第１の流出抑制板４０３は、ワイヤの走行方向に傾斜している傾斜部を有している。

また、囲い板１２は、被加工物との放電に用いられるワイヤ７の加工液槽６内への入り口であるワイヤ走行口４０２（第２のワイヤ走行口）よりも上部に、ワイヤ７の走行による、加工液槽６内に貯留される加工液の加工液槽６からの流出を抑制する第２の流出抑制板４０４を含んでいる。

また、第２の流出抑制板４０４は、駆動モータ２３の反転手段により回転方向が反転したメインローラ９（第１のローラ）に巻かれるワイヤ７の走行方向に傾斜している傾斜部を有している。

図５は、図４に示す加工液槽６の正面図の一例である。

図５の通り、加工液槽６は、囲い板１２を有している。加工液槽６に囲い板１２を含むようにしてもよいし、加工液槽６とは別に囲い板１２を設けても良い。

図５に示すように、囲い板１２の第１の流出抑制板４０３、第２の流出抑制板４０４は、傾斜部を有しており、加工液槽６は、ワイヤ７が加工液槽６の内部を走行するためのワイヤ走行口４０２と、ワイヤ走行口４０１とを備えている。

図６は、図４に示す加工液槽６の側面図の一例である。

図６に示すように、加工液供給口２２から加工液が加工液槽６に供給され、加工液槽６の下側から加工液が溜まっていく仕組みになっている。

そして、加工液槽６のワイヤ走行口４０２にワイヤ７が入り走行する。加工液槽６の上部には、囲い板１２が備えられているため、ワイヤ７と被加工物との間に、十分な加工液を入れることが可能となる。

また、放電しないワイヤ１７は、加工液槽６の中に配置されないため、走行するワイヤ１７により加工液槽６内の加工液の水流を大きくしないため、適切な放電加工を行い易くなる。

加工液槽６は、被加工物との放電に用いられるワイヤ７の走行方向に対して垂直方向の、ワイヤ７が加工液に接し被加工物が入る加工液槽６の被加工物挿入部の幅が、ワイヤ７の走行方向に対して垂直方向の、メインローラ９（第１のローラ）の幅、及びメインローラ８（第２のローラ）の幅よりも短くなるように、設けられている。

図６に示す被加工物挿入部は、被加工物が上部から加工液槽６に移動してきて、切断された加工物が加工液槽６に入る部分である。そのため、被加工物が入る深さになっている。

図７は、ワイヤ７とワイヤ１７とが加工液槽６のワイヤ走行口４０２を走行可能に構成された加工液槽６の側面図の一例である。

図７は、被加工物との放電に用いられるワイヤ７だけではなく、被加工物との放電に用いられないワイヤ１７も加工液槽６内に入れている図である。

また、図８は、図７に示す加工液槽６と、メインローラ８、９の上面図の一例である。

図８に示すように、被加工物との放電に用いられるワイヤ７だけではなく、被加工物との放電に用いられないワイヤ１７も加工液槽６内に入っている。

図９は、図４、図６に示す加工液槽６、メインローラ８、９の上面図の一例である。

図９に示すように、被加工物との放電に用いられるワイヤ７だけは、加工液槽６内の加工液に接するように設けられ、被加工物との放電に用いられないワイヤ１７は、加工液槽６内の加工液に接しないように設けられている。

図１０は、図８に示す点線８０１、図９の点線８０２の拡大図であって、加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図８に示す点線８０１の拡大図は、被加工物との放電に用いられるワイヤ７だけではなく、被加工物との放電に用いられないワイヤ１７も加工液槽６内に入っているため、加工液槽６内の水流が、ワイヤが走行することで速くなり、乱れ易くなる。

そのため、多数のワイヤの走行による水流により、被加工物との放電に用いられるワイヤ７がぶれ易くなり、適切な放電加工を行い難くなる（例えば、フラットなウエハを得ることは難しくなる）。

一方、図９の点線８０２の拡大図は、被加工物との放電に用いられるワイヤ７だけは、加工液槽６内の加工液に接するように設けられ、被加工物との放電に用いられないワイヤ１７は、加工液槽６内の加工液に接しないように設けられているため、必要最低限のワイヤの走行による水流しか発生しないため、図８に示す点線８０１の拡大図に比べて、ワイヤ７がぶれ難くなり、適切な放電加工を行い易くなる（例えば、フラットなウエハを得やすくなる）。

図１１は、図１０に示す断面Ｂの断面図と、図１０に示す断面Ｃ（図４に示す断面Ｃと同じ断面）の断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図１１に示すように、断面Ｂは、ワイヤ７、１７が加工液槽６内で走行することで、加工液槽６内の加工液の水流が回転しやすくなり、水流が強くなり、ワイヤ７がぶれ易くなり、適切な放電加工を行い難くなることを示している。

また、断面Ｃは、ワイヤ７のみが加工液槽６内で走行するため、加工液槽６内の加工液の水流が、断面Ｂの場合よりも、回転せず、ワイヤ７がぶれ難くなり、適切な放電加工を行い易くなることを示している。

図１２は、図４に示す断面Ａの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図１３は、図４、図１２に示す断面Ｄの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図１４は、図４に示す断面Ｃの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図１２、図１３に示すように、給液管２０は、加工液槽６に導通し、加工液を供給する加工液供給装置１８から加工液槽６内に加工液を供給する口（給液口）が設けられた管である。

給液管２０の口（給液口）から加工液が加工液槽６内に供給される。

図１２、図１３、図１４に示すように、給液管２０、及び、給液管２０の口（給液口）は、加工液槽６の下部に設けられており、図１２、図１３、図１４に示す矢印の通りに加工液が加工液槽６の被加工物挿入部の上部へと上昇して、図１２、図１４に示すような液面となる。

図１２、１４に示すように、放電加工には大量の加工液が必要になるため、ワイヤ７のうち一部のワイヤに強い水流が当たることになる。そのため、一部のワイヤがぶれる可能性がある。

このような課題を改善するための仕組みについても、以下に説明する。

図１５は、図４に示す断面Ａの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図１６は、図４に示す断面Ｄの断面図一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図１７は、図４に示す断面Ｃの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図１５、図１６、図１７は、図１２、図１３、図１４の加工液槽６に、水流制御板１４０１、水流制御板１４０２を更に設けた図である。

水流制御板１４０１、水流制御板１４０２は、口（給液口）から加工液槽６内に供給される加工液の流束を分散させ、当該加工液の流速を減速させる水流抑制板である。

加工液槽６に、水流制御板１４０１、水流制御板１４０２を設けることで、加工液槽６内に供給される加工液が、水流制御板１４０１、水流制御板１４０２を迂回して、加工液槽６の上部に流れるため、加工液の流速を減速させることが可能となり、ワイヤ７がぶれ難くなり、適切な放電加工を行い易くなる。

図１７に示すように、図１７の液面は、加工液の流束を分散させ、当該加工液の流速が減速しているため、図１４の液面に比べて、安定している。

図１８は、図４に示す断面Ａの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図１９は、図４に示す断面Ｄの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図２０は、図４に示す断面Ｃの断面図の一例であって、加工液槽６内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

図１８、図１９、図２０は、図１５、図１６、図１７の加工液槽６に、多孔質素材としてスポンジ１７０１を更に設けた図である。

スポンジ１７０１は、口（給液口）から加工液槽６内に供給される加工液の流束を分散させ、当該加工液の流速を減速させる分散機構である。

スポンジ１７０１は、多孔質材料を含む材料で構成されている。また、多孔質材料は、ウレタンを含む材料により構成されている。

このように、加工液槽６に、スポンジ１７０１を設けることで、加工液槽６内に供給される加工液の流束がスポンジ１７０１で分散され、加工液の流速を減速することが可能となり、ワイヤ７がぶれ難くなり、適切な放電加工を行い易くなる。

加工水は、スポンジの気孔により、その水流が緩衝（緩和）され、スポンジから加工液槽６の被加工物挿入部に流れ出る。

図２０に示すように、図２０の液面は、加工液の流束を分散させ、当該加工液の流速が減速しているため、図１４、図１７の液面に比べて、安定している。

加工液槽６は、給液管に設けられた給液口から加工液槽６内に供給される加工液の、加工液槽内の加工液の水面方向への水流を抑えるように設置された水流制御機構を備えている。この水流制御機構は、ワイヤ７と給液口との間に設けており、スポンジ１７０１、水流制御板１４０１、水流制御板１４０２を含む。

図２１は、傾斜部を有する囲い板１２が設けられた加工液槽６の図４に示す断面Ｃの断面図と、傾斜部を有しない囲い板１２が設けられた加工液槽６の図４に示す断面Ｃの断面図の一例を示す図であって、囲い板１２内の加工液の流れ、及びその方向を示す図である。

傾斜部を有しない囲い板１２が設けられた加工液槽６の図４に示す断面Ｃの断面図は、図２１に示すように、ワイヤ７の上を矢印の方向に流れる加工液が、第１の流出抑制板４０３、又は第２の流出抑制板４０４に当たって跳ね返ってしまい、ワイヤ７に再度当たってしまい易く、その結果、ワイヤがぶれやすくなってしまう。

これを改善するために、傾斜部を有する囲い板１２が設けられた加工液槽６の図４に示す断面Ｃの断面図（図１２の左図）のように、第１の流出抑制板４０３、又は第２の流出抑制板４０４が、ワイヤの走行方向に傾斜しているため、第１の流出抑制板４０３、又は第２の流出抑制板４０４に当たって跳ね返ってしまうことを低減することが可能となる。その結果、第１の流出抑制板４０３、又は第２の流出抑制板４０４に当たって跳ね返ってワイヤ７に再度当たってしまうことを減り、ワイヤのブレを低減させることが可能となる。

図２２は、給液管２０から加工液槽６内に加工液を注入する給液口（穴）の大きさと、給液口（穴）が給液管２０に設けられている間隔を説明するための図である。

図２２は、給液管２０の給液口（穴）の径を、加工液供給口２１、２２の出口からの距離に応じて変えることにより、給液管２０から加工液槽６内に全面均一な流量の加工液を噴出させることを示している。

図２２の（Ａ）は、同径の給液口（穴）が等間隔に設けられた給液管２０の外観図と、同径の給液口（穴）が等間隔に設けられた給液管２０の断面図とを示す図である。

図２２の（Ａ）に示す給液管２０は、同じ穴径で均一の距離に給液口（穴）をあけられている。そのため、両端の加工液供給口２１、２２から共に加工液が給液管２０内に供給される場合には、給液管２０の中央、または中央付近の給液口（穴）から出てくる加工水の水圧が一番高くなり、中央から端方向（加工液供給口２１、２２の方向）にいくにつれて給液口（穴）から出てくる加工水の水圧は下がる。

その結果、給液管２０の中央の部分の加工水の噴出量が一番大きく、端に行くに従い、噴出量が少なくなってしまう。

そのため、給液管２０の中央の部分の給液口（穴）から出てくる加工水の噴出量が大きくなり、その噴流によりワイヤのブレが増大してしまうおそれがある。

そこで、本実施例では、図２２の（Ｂ）に示す給液管２０を用いる。

図２２の（Ｂ）は、中央付近に行くにつれて、給液管２０に設けられた給液口（穴）の径は小さくなり、給液口（穴）が設けられている間隔が狭い給液管２０の外観図と、そのチューブの断面図とを示す図である。

図２２の（Ｂ）に示す給液管２０は、図の通り、両端の加工液供給口２１、２２から、中央に付近に行くにつれて、径が小さくなるように給液口（穴）が設けられており、さらに、中央に付近に行くにつれて、給液口（穴）が設けられている間隔が狭くなるように給液口（穴）が設けられている。

すなわち、中央付近の給液口（穴）を小さくして、更に中央付近の給液口（穴）の数を多くし、端方向（加工液供給口２１、２２の方向）の給液口（穴）は、中央の給液口（穴）より大きくし、給液口（穴）の数も少なくする。

このように、図２２の（Ｂ）に示す給液管２０を用いることで、給液管２０のどの給液口（穴）から出てくる加工水の水流、水圧、噴出量は均一となる。

このように、中央付近に行くにつれて、給液管２０に設けられた給液口（穴）の径は小さくなり、給液口（穴）が設けられている間隔が狭い給液管２０を用いることにより、給液管２０から加工液槽に入る加工液の噴流が分散化され、給液管２０の中央の部分の給液口（穴）から出てくる加工水の噴出量を小さくし、噴流によりワイヤのブレが低減させることが可能となる。その結果、被加工物を適切に放電加工することができるようになる。

このように、給液管２０は、複数の加工液供給口２１、２２からの距離に従った間隔で設けられた給液口（穴）であって、複数の加工液供給口２１、２２からの距離に応じた大きさの給液口（穴）を有する。すなわち、給液管２０は、複数の加工液供給口２１、２２からの距離が遠くなる従って、給液管２０に設けられる給液口（穴）は小さく、かつ、給液管２０に設けられる給液口（穴）の数は多くなるよう構成されている。

給液管２０は、加工液槽６に設けられた複数の加工液供給口（２１、２２）から供給される加工水を通す同一の管である。

給液管２０に設けられた加工液を加工液槽内に供給する給液口（ａ、ｂ、ｃ）は、複数の加工液供給口（２１、２２）からの距離に従った間隔で設けられた口であって、複数の加工液供給口からの距離に応じた大きさの口である。

給液管２０（単に管とも言う）は、複数の加工液供給口（２１、２２）からの距離が遠くなる従って、給液管２０に設けられた給液口（単に口とも言う）は小さく、かつ、給液管２０に設けられる給液口の数は多い。

図２３は、加工液槽６と、メインローラ９と、整流板２４と、メインローラ９と整流板２４とに加工液を噴射する給水部１３とを示す側面図の一例である。

図２４は、整流板２４の上を走行するワイヤ７の上部、及び下部を流れる加工液の流れ方向を示す図である。

給水部１３から、メインローラ９、ワイヤ７に対して、メインローラ９、ワイヤ７を冷やすために、加工液を噴射して給水する。

そして、メインローラ９と、加工液槽６との間のワイヤ７の下部には、整流板２４を設けているため、給水部１３からワイヤ７に噴射された加工液は、図２４に示すように、ワイヤ７の上部、又は下部の整流板２４上を通り、加工液槽６のワイヤ走行口４０２に入り、加工液槽６内に入る。

このように、整流板２４が、給水部１３からワイヤ７に噴射された加工液が、加工液槽６のワイヤ走行口４０２に入るように設けられているため、メインローラ９、ワイヤ７を冷やすと共に、加工液槽６内に十分な加工液を流入させることができ、さらに、ワイヤ走行口４０２から、空気等の気体が加工液槽６内に入ることを減らすことができる。その結果、空中放電などを防止すると共に、被加工物を削り取った後の欠片を取り除き易くすることもでき、適切に放電加工を行い易くすることが可能となる。

以上、本発明によれば、加工液によるワイヤのブレを低減し、被加工物を適切に放電加工することができる。

また、本発明によれば、さらに、放電加工部（放電ギャップ）における、放電加工に必要な加工液の量を確保し、被加工物を適切に放電加工することができる。

また、本実施の形態で説明したワイヤ放電加工方法により、被加工物を放電加工されることにより加工された加工物も本発明の特徴である。

１ マルチワイヤ放電加工装置
２ ブロック２
３ ワーク送り装置
４ 接着部
５ シリコンインゴット（被加工物）
６ 加工液槽
７ ワイヤ
８ メインローラ
９ メインローラ
１０ 給電ユニット
１１ 給電子
１２ 囲い板
１３ 給水部
１４ ワイヤ
１５ 電源ユニット
１８ 加工液供給装置
１９ ブロック
２０ 給液管
２１ 加工液供給口
２２ 加工液供給口
２４ 整流板

Claims (17)

1. ワイヤと被加工物との間の放電により前記被加工物を加工するワイヤ放電加工装置であって、
   ローラを回転させる駆動部と接続され、前記駆動部による駆動により回転する第１のローラと、
   前記駆動部と接続されていない第２のローラであって、前記駆動部による駆動により前記第１のローラが回転することで走行するワイヤにより回転する第２のローラと、
   を備え、
   前記第１のローラ、及び前記第２のローラは、前記被加工物との放電に用いられるワイヤと共に、前記被加工物との放電に用いられない、前記第２のローラを回転させるために走行するワイヤが、前記第１のローラと前記第２のローラとの間で張られるために巻かれるローラであり、
   前記ワイヤ放電加工装置は、更に、前記被加工物と当該ワイヤとの間の放電により前記被加工物を加工するために用いられる加工液が貯留される加工液槽であって、前記被加工物との放電に用いられるワイヤが前記加工液槽内の加工液に接するように設けられ、かつ、前記被加工物との放電に用いられないワイヤが前記加工液槽内の加工液に接しないように設けられた加工液槽を備え、
   前記加工液槽は、
   前記被加工物との放電に用いられるワイヤの前記加工液槽内からの出口である第１のワイヤ走行口と、
   前記第１のワイヤ走行口よりも上部に、当該ワイヤの走行による、前記加工液槽内に貯留される加工液の当該加工液槽からの流出を抑制する第１の流出抑制板と、
   を更に備えることを特徴とするワイヤ放電加工装置。
2. 前記第１のローラ、及び前記第２のローラに巻かれたワイヤを更に備え、
   前記ワイヤは、前記被加工物との放電に用いられるワイヤと、前記被加工物との放電に用いられない、前記第２のローラを回転させるために走行するワイヤとを含み、
   前記被加工物との放電に用いられるワイヤは、前記加工液槽内の加工液に接するように設けられ、
   前記被加工物との放電に用いられないワイヤは、前記加工液槽内の加工液に接しないように設けられていることを特徴とする請求項１に記載のワイヤ放電加工装置。
3. 前記被加工物との放電に用いられるワイヤと、前記被加工物との放電に用いられない、前記第２のローラを回転させるために走行するワイヤとは、同じ１本のワイヤであることを特徴とする請求項２に記載のワイヤ放電加工装置。
4. 前記加工液槽は、前記被加工物との放電に用いられるワイヤの走行方向に対して垂直方向の、当該ワイヤが加工液に接し前記被加工物が入る前記加工液槽の被加工物挿入部の幅が、当該ワイヤの走行方向に対して垂直方向の、前記第１のローラの幅、及び前記第２のローラの幅よりも短くなるように、設けられていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載のワイヤ放電加工装置。
5. 前記第１のワイヤ走行口の上部に設けられた第１の流出抑制板は、ワイヤの走行方向に傾斜している傾斜部を備えることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のワイヤ放電加工装置。
6. 前記駆動部は、前記第１のローラの回転方向を反転する反転手段を更に備え、
   前記加工液槽は、
   前記被加工物との放電に用いられるワイヤの前記加工液槽内への入り口である第２のワイヤ走行口と、
   前記第２のワイヤ走行口よりも上部に、前記ワイヤの走行による、前記加工液槽内に貯留される加工液の当該加工液槽からの流出を抑制する第２の流出抑制板と、
   を更に備えることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のワイヤ放電加工装置。
7. 前記第２の流出抑制板は、前記反転手段により回転方向が反転した前記第１のローラに巻かれるワイヤの走行方向に傾斜している傾斜部を備えることを特徴とする請求項６に記載のワイヤ放電加工装置。
8. 前記加工液槽に導通し、前記加工液を供給する加工液供給装置から前記加工液槽内に前記加工液を供給する口が設けられた管を更に備えることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載のワイヤ放電加工装置。
9. 前記加工液槽は、前記管に設けられた口から前記加工液槽内に供給される前記加工液の、前記加工液槽内の前記加工液の水面方向への水流を抑えるように設置された水流制御機構を更に備え、
   前記水流制御機構は、前記ワイヤと前記口との間に設けることを特徴とする請求項８に記載のワイヤ放電加工装置。
10. 前記水流制御機構は、前記口から前記加工液槽内に供給される加工液の流束を分散させ、当該加工液の流速を減速させる水流抑制板を含むことを特徴とする請求項９に記載のワイヤ放電加工装置。
11. 前記水流制御機構は、前記口から前記加工液槽内に供給される加工液の流束を分散させ、当該加工液の流速を減速させる分散機構を含むことを特徴とする請求項９又は１０に記載のワイヤ放電加工装置。
12. 前記分散機構は、多孔質材料を含む材料で構成されていることを特徴とする請求項１１に記載のワイヤ放電加工装置。
13. 前記多孔質材料は、ウレタンを含む材料により構成されていることを特徴とする請求項１２に記載のワイヤ放電加工装置。
14. 前記分散機構は、スポンジであることを特徴とする請求項１１乃至１３の何れか１項に記載のワイヤ放電加工装置。
15. 前記加工液槽は、加工液を加工液槽内に供給する加工液供給口を複数設けられており、
    前記管は、前記加工液槽に設けられた複数の加工液供給口から供給される加工水を通す同一の管であり、
    前記管に設けられた前記加工液を前記加工液槽内に供給する口は、前記複数の加工液供給口からの距離に従った間隔で設けられた口であって、前記複数の加工液供給口からの距離に応じた大きさの口であることを特徴とする請求項８乃至１４の何れか１項に記載のワイヤ放電加工装置。
16. 前記管は、前記複数の加工液供給口からの距離が遠くなる従って、前記管に設けられた口は小さく、かつ、前記管に設けられる口の数は多いことを特徴とする請求項１５に記載のワイヤ放電加工装置。
17. ワイヤと被加工物との間の放電により前記被加工物を加工するワイヤ放電加工装置によるワイヤ放電加工方法であって、
    前記ワイヤ放電加工装置が備える第１のローラ、及び第２のローラは、前記被加工物との放電に用いられるワイヤと共に、前記被加工物との放電に用いられない、前記第２のローラを回転させるために走行するワイヤが、前記第１のローラと前記第２のローラとの間で張られるために巻かれるローラであり、
    前記ワイヤ放電加工装置が備える加工液槽は、前記被加工物との放電に用いられるワイヤとの間の放電により前記被加工物を加工するために用いられる加工液が貯留される加工液槽であって、前記被加工物との放電に用いられるワイヤが前記加工液槽内の加工液に接するように設けられ、かつ、前記被加工物との放電に用いられないワイヤが前記加工液槽内の加工液に接しないように設けられた加工液槽であり、
    前記加工液槽は、
    前記被加工物との放電に用いられるワイヤの前記加工液槽内からの出口である第１のワイヤ走行口と、
    前記第１のワイヤ走行口よりも上部に、当該ワイヤの走行による、前記加工液槽内に貯留される加工液の当該加工液槽からの流出を抑制する第１の流出抑制板と、
    を更に備え、
    前記第１のローラが、ローラを回転させる駆動部と接続され、前記駆動部による駆動により回転し、
    前記駆動部と接続されていない前記第２のローラが、前記駆動部による駆動により前記第１のローラが回転することで走行するワイヤにより回転することを特徴とするワイヤ放電加工方法。
    

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