JP5926128B2 - 光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法並びに静電容量型入力装置とその製造方法及びそれを備えた画像表示装置 - Google Patents
光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法並びに静電容量型入力装置とその製造方法及びそれを備えた画像表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5926128B2 JP5926128B2 JP2012137759A JP2012137759A JP5926128B2 JP 5926128 B2 JP5926128 B2 JP 5926128B2 JP 2012137759 A JP2012137759 A JP 2012137759A JP 2012137759 A JP2012137759 A JP 2012137759A JP 5926128 B2 JP5926128 B2 JP 5926128B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin layer
- photocurable resin
- transparent electrode
- layer
- electrode pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Position Input By Displaying (AREA)
Description
特許文献8には、従来のガラス基板の代わりにプラスチックフィルムを用い、液状の黒色レジストを用いて遮光層を形成したカラーフィルターが記載されているものの、この文献に記載の方法では硬化後にフィルム端部まで遮光層を形成することが困難であった。
また、特許文献9には、着色感光性樹脂組成物を含む感光性樹脂層を有する転写材料を、無アルカリガラス基板上にラミネートした後、パターン露光して硬化させたカラーフィルター用の着色樹脂パターンが記載されているものの、可撓性支持体上に感光性樹脂層を転写した例は記載されていなかった。さらに本発明者が検討したところ、特許文献9に記載の感光性フィルムを用いて可撓性支持体上に光硬化性樹脂層を形成すると、硬化後に可撓性支持体の端部まで遮光パターンなどの光硬化性樹脂層を形成することができるものの、パターニングした際に密着が不十分でハガレを生じることがあることがわかった。
[1] 可撓性支持体の少なくとも一方の表面をアルカリ処理する工程と、前記可撓性支持体のアルカリ処理した表面上に、仮支持体上に光硬化性樹脂層を具備する感光性フィルムの該光硬化性樹脂層を重ねて、圧着する工程と、を含むことを特徴とする光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法。
[2] [1]に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法は、前記感光性フィルムが少なくとも前記仮支持体と熱可塑性樹脂層と前記光硬化性樹脂層とをこの順で有することが好ましい。
[3] [1]または[2]に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法は、前記光硬化性樹脂層がカルボン酸基含有樹脂を含有することが好ましい。
[4] [1]〜[3]のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法は、前記可撓性支持体が、セルロース系支持体またはポリエステル系支持体であることが好ましい。
[5] [1]〜[4]のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法は、前記圧着工程を、加熱しながら行うことが好ましい。
[6] [1]〜[5]のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法は、前記光硬化性樹脂層が、黒色着色剤および白色着色剤のうち少なくとも一方を含むことが好ましい。
[7] [1]〜[6]のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を露光してなる硬化物積層体を含むことを特徴とする静電容量型入力装置。
[8] [7]に記載の静電容量型入力装置は、前記硬化物積層体が、パターニングされてなることが好ましい。
[9] [7]または[8]に記載の静電容量型入力装置は、マスク層を有し、前記硬化物積層体の少なくとも1層が前記マスク層であることが好ましい。
[10] [7]〜[9]のいずれか一項に記載の静電容量型入力装置は、下記(1)〜(5)の要素を有し、前記硬化物積層体の少なくとも1層が前記(1)マスク層であることが好ましい。
(1)マスク層
(2)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
(3)前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン
(4)前記第一の透明電極パターンと前記第二の透明電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
(5)前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
[11] [1]〜[6]のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を、露光する工程を含むことを特徴とする静電容量型入力装置の製造方法。
[12] [11]に記載の静電容量型入力装置の製造方法は、前記光硬化性樹脂層を有する積層体をパターニング露光することが好ましい。
[13] [11]または[12]に記載の静電容量型入力装置の製造方法は、マスク層を有する静電容量型入力装置の製造方法であり、前記光硬化性樹脂層を有する積層体を露光して前記マスク層を形成することが好ましい。
[14] [11]〜[13]のいずれか一項に記載の静電容量型入力装置の製造方法は、下記(1)〜(5)の要素を有する静電容量型入力装置の製造方法であり、前記光硬化性樹脂層を有する積層体を露光して前記(1)マスク層を形成することが好ましい。
(1)マスク層
(2)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
(3)前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン
(4)前記第一の透明電極パターンと前記第二の透明電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
(5)前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
[15] [7]〜[10]のいずれか一項に記載の静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置。
また、本発明の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法を含む本発明の静電容量型入力装置の製造方法によれば、薄層/軽量化が可能な静電容量型入力装置を、簡便な工程で高品位に製造可能にすることできる。
本発明の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法(以下、本発明の製造方法とも言う)は、可撓性支持体の少なくとも一方の表面をアルカリ処理する工程と、前記可撓性支持体のアルカリ処理した表面上に、仮支持体上に光硬化性樹脂層を具備する感光性フィルムの該光硬化性樹脂層を重ねて、圧着する工程と、を含むことを特徴とする。
このような構成により、本発明の製造方法によれば、可撓性支持体上に光硬化性樹脂層を有し、硬化後に可撓性支持体と光硬化性樹脂層の密着性に優れ、硬化後に可撓性支持体の端部まで欠陥が少ない光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法を提供することができる。
本発明の製造方法は、可撓性支持体の少なくとも一方の表面をアルカリ処理する工程を含む。
(可撓性支持体)
本発明の製造方法に用いられる可撓性支持体について説明する。
本発明における可撓性支持体は、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂フィルム等のセルロース系支持体、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)変性ポリエステル等のポリエステル系支持体、ポリエチレン(PE)樹脂フィルム、ポリプロピレン(PP)樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂フィルム、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂フィルム、ポリサルホン(PSF)樹脂フィルム、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂フィルム、ポリカーボネート(PC)樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、等を挙げることが出来る。
これらの中でも、透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、強度及びコストの点から、セルロース系支持体またはポリエステル系支持体であることが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂フィルムであることがより好ましい。
また前記可撓性支持体の厚さとしては、30μmから250μmであることが望ましく、30〜100μmであることがより好ましく、30〜90μmであることが特に好ましい。
また、前記可撓性支持体は、単層構造であっても、2層以上の積層構造であってもよい。2層以上の積層構造である場合、全層の合計厚みが上記範囲であることが好ましい。
本発明における可撓性支持体は、後述する可撓性支持体のアルカリ処理した表面上に、仮支持体上に光硬化性樹脂層を具備する感光性フィルムの該光硬化性樹脂層を重ねて、重ねて、圧着する工程の前に可撓性支持体の少なくとも一方の表面をアルカリ処理することを特徴とする。
アルカリ処理としては、アルカリ溶液中に可撓性支持体を浸漬する方法、又は可撓性支持体表面にアルカリ溶液を吹き付けもしくは塗布する方法等のいずれの方法も用いることができる。本発明においては、可撓性支持体の片面のみをムラなく均一に鹸化できる、塗布方式によるアルカリ鹸化を行うこと、すなわち可撓性支持体にアルカリ溶液を塗布する工程によって鹸化することがより好ましい。一方浸漬方法による鹸化は、特に有機溶媒を含むアルカリ鹸化では、有機溶媒を含まないものと比較し、格段に処理速度を早くすることが可能となる。
また、鹸化時間は、アルカリ溶液、鹸化の際の温度により適宜調整して決定するが、1秒から60秒の範囲で行われるのが好ましく、1〜20秒行うことがより好ましく、5〜15秒行うことが特に好ましい。
更に、本発明のアルカリ鹸化方法は、温度が室温(25℃)以上の可撓性支持体にアルカリ溶液を塗布する工程を有することが好ましい。さらにまた、これらの工程に加えて可撓性支持体の温度を少なくとも室温以上に維持する工程を有することが好ましい。鹸化の際の温度を前記の所望の温度とすることができ、好ましい。
ここで、可撓性支持体を室温以上の温度に加熱する手段としては、熱風の衝突(吹き付け)による直接加熱、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、あるいは赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等が好ましく利用できる。特に加熱ロールによる接触伝熱は、熱伝達効率が高く小さな設置面積で行える点、搬送開始時の可撓性支持体温度の立ち上がりが速い点で好ましい。一般の2重ジャケットロールや電磁誘導ロール(トクデン社製)が利用できる。加熱後のフィルム表面温度は、25〜120℃であることが好ましく、25〜100℃がさらに好ましい。
本発明においてアルカリ処理に用いられるアルカリ溶液は、pH11以上のアルカリ溶液が好ましい。より好ましくはpH12〜14である。アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤の例として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の無機アルカリ剤、また、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、DBU(1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン)、DBN(1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネン)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルブチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を組み合わせて使用することもでき、一部を例えばハロゲン化したような塩の形で添加してもよい。
また、本発明に用いられるアルカリ溶液には、ポリオール化合物、糖類等のヒドロキシル基及び/又はアミド基を有する繰り返し単位を含む水溶性重合体等の相溶化剤を含有させることも好ましい。
本発明の製造方法は、前記可撓性支持体のアルカリ処理した表面上に、仮支持体上に光硬化性樹脂層を具備する感光性フィルムの該光硬化性樹脂層を重ねて、圧着する工程を含む。
次に、本発明の製造方法に用いられる感光性フィルムについて説明する。
前記感光性フィルムは、仮支持体上に光硬化性樹脂層を具備する。
さらに、本発明における感光性フィルムは、仮支持体と光硬化性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。すなわち、本発明の製造方法は、前記感光性フィルムが少なくとも前記仮支持体と熱可塑性樹脂層と前記光硬化性樹脂層とをこの順で有することが好ましい。前記熱可塑性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、マスク層等を形成すると、光硬化性樹脂層を転写して形成した要素に気泡が発生し難くなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性を得ることができなる。
本発明に用いる感光性フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
前記仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じない材料を用いることができる。このような仮支持体の例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
また、本発明の製造方法に用いられる仮支持体には、特開2005−221726記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
本発明における感光性フィルムは、仮支持体と着色感光性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層が設けられることが好ましい。前記熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性であることが好ましい。熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸(既に形成されている画像などによる凹凸等も含む。)を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであり、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。
本発明における感光性フィルムは、光硬化性樹脂層を具備する。また、その用途に応じて光硬化性樹脂層に添加物を加えることができる。即ち、マスク層の形成に前記感光性フィルムを用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を含有させることができる。また、本発明における感光性フィルムが導電性光硬化性樹脂層を有する場合は、前記光硬化性樹脂層に導電性繊維等が含有させることができる。
前記重合性化合物としては、特許第4098550号の段落[0023]〜[0024]に記載の重合性化合物を用いることができる。
前記重合開始剤または重合開始系としては、特開2011−95716号公報に記載の[0031]〜[0042]に記載の重合性化合物を用いることができる。
前記導電性光硬化性樹脂層を積層した本発明における感光性フィルムを透明電極パターン、あるいは別の導電性要素の形成に用いる場合には、以下の導電性繊維などを光硬化性樹脂層に用いることができる。
ここで、中実構造の繊維を「ワイヤー」と称することがあり、中空構造の繊維を「チューブ」と称することがある。また、平均短軸長さが5nm〜1,000nmであって、平均長軸長さが1μm〜100μmの導電性繊維を「ナノワイヤー」と称することがある。
また、平均短軸長さが1nm〜1,000nm、平均長軸長さが0.1μm〜1,000μmであって、中空構造を持つ導電性繊維を「ナノチューブ」と称することがある。
前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属およびカーボンの少なくともいずれかが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、およびカーボンナノチューブの少なくともいずれかが特に好ましい。
−金属−
前記金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、例えば、長周期律表(IUPAC1991)の第4周期、第5周期、および第6周期からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属が好ましく、第2族〜第14族から選ばれる少なくとも1種の金属がより好ましく、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、および第14族から選ばれる少なくとも1種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
前記銀を主に含有するとは、金属ナノワイヤー中に銀を50質量%以上、好ましくは90質量%以上含有することを意味する。
前記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウムおよびイリジウムなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
前記金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状、断面の多角形の角が丸まっている断面形状が好ましい。
前記金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより調べることができる。
前記金属ナノワイヤーの断面の角とは、断面の各辺を延長し、隣り合う辺から降ろされた垂線と交わる点の周辺部を意味する。また、「断面の各辺」とはこれらの隣り合う角と角を結んだ直線とする。この場合、前記「断面の各辺」の合計長さに対する前記「断面の外周長さ」との割合を鋭利度とした。鋭利度は、例えば図9に示したような金属ナノワイヤー断面では、実線で示した断面の外周長さと点線で示した五角形の外周長さとの割合で表すことができる。この鋭利度が75%以下の断面形状を角の丸い断面形状と定義する。前記鋭利度は60%以下が好ましく、50%以下がより好ましい。前記鋭利度が75%を超えると、該角に電子が局在し、プラズモン吸収が増加するためか、黄色みが残るなどして透明性が悪化してしまうことがある。また、パターンのエッジ部の直線性が低下し、ガタツキが生じてしまうことがある。前記鋭利度の下限は、30%が好ましく、40%がより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さ(「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある)としては、150nm以下が好ましく、1nm〜40nmがより好ましく、10nm〜40nmが更に好ましく、15nm〜35nmが特に好ましい。
前記平均短軸長さが、1nm未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、150nmを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子(株)製、JEM−2000FX)を用い、300個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
前記平均長軸長さが、1μm未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、40μmを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子(株)製、JEM−2000FX)を用い、300個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、および曲率から算出される値を長軸長さとした。
また、本発明に用いる感光性フィルムの光硬化性樹脂層を、静電容量型入力装置のマスク層として用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を用いることができる。本発明に用いる着色剤としては、公知の着色剤(有機顔料、無機顔料、染料等)を好適に用いることができる。尚、本発明においては、黒色着色剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。
前記光硬化性樹脂層を黒色のマスク層として用いる場合には、光学濃度の観点から、黒色着色剤を含むことが好ましい。黒色着色剤としては、例えば、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。
前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、2000年、438項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献310頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
本明細書でいう全固形分とは着色感光性樹脂組成物から溶剤等を除いた不揮発成分
の総質量を意味する。
尚、前記感光性フィルムを用いて絶縁層を形成する場合、光硬化性樹脂層の層厚は、絶縁性の維持の観点から、0.1〜5μmが好ましく、0.3〜3μmが更に好ましく、0.5〜2μmが特に好ましい。
前記感光性フィルムを用いて透明保護層を形成する場合、光硬化性樹脂層の層厚は、十分な表面保護能を発揮させる観点から、0.5〜10μmが好ましく、0.8〜5μmが更に好ましく、1〜3μmが特に好ましい。
さらに、前記光硬化性樹脂層は、添加剤を用いてもよい。前記添加剤としては、例えば特許第4502784号公報の段落[0017]、特開2009−237362号公報の段落[0060]〜[0071]に記載の界面活性剤や、特許第4502784号公報の段落[0018]に記載の熱重合防止剤、さらに、特開2000−310706号公報の段落[0058]〜[0071]に記載のその他の添加剤が挙げられる。
また、本発明における感光性フィルムを塗布により製造する際の溶剤としては、特開2011−95716号公報の段落[0043]〜[0044]に記載の溶剤を用いることができる。
本発明における熱可塑性樹脂層の100℃で測定した粘度が1000〜10000Pa・secの領域にあり、光硬化性樹脂層の100℃で測定した粘度が2000〜50000Pa・secの領域にあり、さらに次式(A)を満たすことが好ましい。
式(A):熱可塑性樹脂層の粘度<光硬化性樹脂層の粘度
本発明で用いる感光性フィルムには、光硬化性樹脂層と熱可塑性樹脂層との間に中間層を設けたり、あるいは光硬化性樹脂層の表面に保護フィルムなどを更に設けたりして好適に構成することができる。
本発明における感光性フィルムは、特開2006−259138号公報の段落[0094]〜[0098]に記載の感光性転写材料の作製方法に準じて作製することができる。
具体的に中間層を有する本発明における感光性フィルムを形成する場合には、仮支持体上に、熱可塑性の有機高分子と共に添加剤を溶解した溶解液(熱可塑性樹脂層用塗布液)を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を設けた後、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂や添加剤を加えて調製した調製液(中間層用塗布液)を塗布し、乾燥させて中間層を積層し、この中間層上に更に、中間層を溶解しない溶剤を用いて調製した着色感光性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて着色感光性樹脂層を積層することによって、好適に作製することができる。
可撓性支持体のアルカリ処理した表面上に感光性フィルムの光硬化性樹脂層を重ねて、圧着する方法の前に、感光性フィルムがカバーフィルムを有する場合は前記カバーフィルムを除去するカバーフィルム除去工程を含むことが好ましい。
光硬化性樹脂層の可撓性支持体のアルカリ処理した表面上への圧着(貼り合わせ、または、転写とも言うことがある)は、光硬化性樹脂層を可撓性支持体のアルカリ処理した表面上に重ね、加圧することに行われる。
前記圧着工程での線圧は60〜200N/cmであることが好ましく、70〜160N/cmであることがより好ましく、80〜120N/cmであることが特に好ましい。
前記圧着工程での搬送速度は0.3〜10m/分であることが好ましく、0.4〜m/分であることがより好ましく、0.5〜3m/分であることが特に好ましい。
貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
また、本発明の製造方法は可撓性支持体のアルカリ処理した表面と、感光性フィルムの光硬化性樹脂層が隣接するように重ねあわせることが好ましい。すなわち、本発明の製造方法は可撓性支持体の表面をアルカリ処理するため、接着剤や粘着剤を介して重ね合せなくても、感光性フィルムの光硬化性樹脂層と可撓性支持体との密着性を向上させることができる。
前記圧着工程での加熱温度は50〜140℃であることが好ましく、60〜120℃であることがより好ましく、70〜100℃であることが特に好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を露光してなる硬化物積層体を含むことを特徴とする。
また、本発明の静電容量型入力装置の製造方法は、本発明の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を、露光する工程を含むことを特徴とする。
以下、本発明の静電容量型入力装置およびその製造方法について説明する。
(1)マスク層
(2)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
(3)前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン
(4)前記第一の透明電極パターンと前記第二の透明電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
(5)前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
まず、本発明の製造方法によって形成される本発明の静電容量型入力装置の構成について説明する。図1A〜図1Dは、本発明の静電容量型入力装置の構成を示す断面図である。
図1Aにおいて静電容量型入力装置10は、可撓性支持体1と、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、導電性要素6と、透明保護層7と、透明接着剤層14と、前面板(ガラス)1’と、マスク層2と、カバーガラス13から構成されている。
図1Bにおいて静電容量型入力装置10は、可撓性支持体1と、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、絶縁層5と、導電性要素6と、透明保護層7と、透明接着剤層14と、前面板(ガラス)1’と、マスク層2と、カバーガラス13から構成されている。
図1Cにおいて静電容量型入力装置10は、可撓性支持体1と、マスク層2と、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、絶縁層5と、導電性要素6と、透明保護層7と、透明接着剤層(不図示)と前面板(ガラス)1’から構成されている。
図1Dにおいて静電容量型入力装置10は、可撓性支持体1と、マスク層2と、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、絶縁層5と、導電性要素6と、透明保護層7から構成されている。
特に、本発明の静電容量型入力装置は、後述する前面板(ガラス)1’の代わりに可撓性支持体1を用いて構成することにより、大幅な薄層化/軽量化を達成することができる。このような構成の本発明の静電容量型入力装置10においては、可撓性支持体1が最外部に配置されている場合は、可撓性支持体1の接触面(前面層1の各要素が設けられている側(非接触面)の反対の面)に指などを接触などさせて入力が行われる。
但し、本発明の静電容量型入力装置は、可撓性支持体1に加えて、前面板(ガラス)1’も有していてもよく、その場合でも前面板(ガラス)1’のみを基板として用いる場合に比べると薄層化/軽量化を達成することができる。可撓性支持体上に黒色層を形成してガラス基板上に透明電極パターンを形成する場合、以下の理由によってガラス上に黒色層と透明電極パターンを両方形成する場合よりも、装置全体として薄層/軽量化が達成できる。黒色層を形成した可撓性支持体を前面板に貼り合せることにより、前面板の強度が増すために、前面板を薄層/軽量化することができる。
本発明の静電容量型入力装置10には、図2に示すように、一部の額縁部の領域(図2においては入力面以外の領域)を覆うようにマスク層2が設けられていることが好ましい。
前記マスク層2、絶縁層5および透明保護層7は、本発明における感光性フィルムを用いて光硬化性樹脂層を前面板1に転写することで形成することができる。例えば、黒色のマスク層2を形成する場合には、前記光硬化性樹脂層として黒色光硬化性樹脂層を有する本発明における感光性フィルムを用いて、前記前面板1の表面に前記黒色光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。絶縁層5を形成する場合には、前記光硬化性樹脂層として絶縁性の光硬化性樹脂層を有する本発明における感光性フィルムを用いて、第一の透明電極パターンが形成された前記前面板1の表面に前記光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。透明保護層7を形成する場合にも、前記光硬化性樹脂層として透明の光硬化性樹脂層を有する本発明における感光性フィルムを用いて、各要素が形成された前記可撓性支持体1および/または前面板1’の表面に前記光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
前記マスク層2等を、前記感光性フィルムを用いて形成すると、開口部を有する基板(前面板)でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、特に可撓性支持体1および/または前面板1’の境界ギリギリまで遮光パターンを形成する必要のあるマスク層でのガラス端からのレジスト成分のはみ出しがないため基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層/軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造を可能となる。
さらに、遮光性が必要なマスク層2の形成に、光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、光モレのない高品位なマスク層2等を形成することができる。
エッチング処理によって、前記第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4および別の導電要素6を形成する場合、可撓性支持体1および/または前面板1’の非接触面上にITO等の透明電極層をスパッタリングによって形成する。次いで、前記透明電極層上に前記光硬化性樹脂層としてエッチング用光硬化性樹脂層を有する本発明における感光性フィルムを用いて露光・現像によってエッチングパターンを形成する。その後、透明電極層をエッチングして透明電極をパターニングし、エッチングパターンを除去することで、第一の透明電極パターン3等を形成することができる。
前記第一の透明電極パターン3等を、前記導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて形成すると、開口部を有する基板(前面板)でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層/軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造を可能となる。
さらに、第一の透明電極パターン3等の形成に、導電性光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する本発明における感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、導電性に優れ抵抗の少ないに第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4および別の導電要素6を形成することができる。
−露光工程、現像工程、およびその他の工程−
前記露光工程、現像工程、およびその他の工程の例としては、特開2006−23696号公報の段落番号[0035]〜[0051]に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
具体的には、前記基材上に形成された光硬化性樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスク、熱可塑性樹脂層、および中間層を介してマスク上方から露光する方法が挙げられる。
ここで、前記露光の光源としては、光硬化性樹脂層を硬化しうる波長域の光(例えば、365nm、405nmなど)を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常5〜200mJ/cm2程度であり、好ましくは10〜100mJ/cm2程度である。
前記現像は、現像液を用いて行うことができる。前記現像液としては、特に制約はなく、特開平5−72724号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は光硬化性樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、pKa=7〜13の化合物を0.05〜5mol/Lの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は0.1質量%〜30質量%が好ましい。
また、前記現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は0.01質量%〜10質量%が好ましい。
前記パターニング露光に用いるマスクについては特に限定はないが、本発明の静電容量型入力装置の製造方法によれば、作成される細線パターンが10〜50μmとなるマスクであっても欠陥を少なくすることができ、10〜40μmとなるマスクであっても欠陥を少なくすることができ、10〜20μmとなるマスクであっても欠陥を少なくすることができる。
前記エッチング後、ライン汚染を防ぐために必要に応じて、洗浄工程・乾燥工程を行ってもよい。洗浄工程については、例えば常温で純水により10〜300秒間基材を洗浄して行い、乾燥工程については、エアブローを使用して、エアブロー圧(0.1〜5kg/cm2程度)を適宜調整し行えばよい。
本発明の製造方法によって得られる静電容量型入力装置、および当該静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』(2009年7月6日発行(株)テクノタイムズ)、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版(2004,12)、FPD International 2009 Forum T−11講演テキストブック、Cypress Semiconductor Corporation アプリケーションノートAN2292等に開示されている構成を適用することができる。
(セルロースアシレートフィルム(CAF−1)の作製)
特開2006−307056号公報の[0237]〜[0243]に記載の以下の方法で厚さ80μmの可撓性フィルム(セルロースアシレートフィルム)CAF−1を作製した。
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、30℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液(SA−1)(内層用ドープ及び外層用ドープ)を調製した。
外層用セルロースアシレート溶液のシリカ微粒子に関しては、下記シリカ微粒子を20質量部、メタノール80質量部を30分間良く攪拌し混合シリカ分子分散液としたものを使用した。
セルロースアシレート溶液組成物 内層用 外層用(単位:質量部)
アシル置換度2.87のセルロースアセテート 100 100
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8 7.8
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9 3.9
メチレンクロライド(第1溶媒) 293 314
メタノール(第2溶媒) 71 76
1−ブタノール(第3溶媒) 1.5 1.6
シリカ微粒子(AEROSIL R972、日本アエロジル(株)製)
0 0.8
下記レターデーション調整剤A 1.5 0
得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、−5℃に冷却したドラム上に流延した。
該ドラムの算術平均粗さ(Ra)は0.006μmで、最大高さ(Ry)は0.06μmであり、また十点平均粗さ(Rz)は0.009μmであった。算術平均粗さ(Ra)、最大高さ(Ry)、十点平均粗さ(Rz)の各測定は、JIS B 0601に規定によった。
残留溶媒量が70質量%のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて保持しながら搬送方向のドロー比を110%として搬送しながら80℃で乾燥させ、残留溶媒量が10%となったところで、110℃で乾燥させた。その後、140℃の温度で30分乾燥し、残留溶媒が0.3質量%のセルロースアシレートフィルム(CAF−1、外層:3μm、内層:74μm、外層:3μm)を作製した。得られたCAF−1の幅は1340mmであり、厚さは80μmであった。
続いて、上記フィルムCAF−1の片面に、特開2006−307056号公報の[0249]〜[0250]に記載の以下の方法でアルカリ鹸化処理を行い、アルカリ処理した可撓性支持体CFS−01を得た。
すなわち、フィルム(可撓性支持体CAF−1)を、温度60℃の誘電式加熱ロール上を通過させ、フィルム表面温度40℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液(S−1)を、ロッドコーターを用いて塗布量17mL/m2で塗布し、110℃に加熱した(株)ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に10秒滞留させた。続けて、同じくロッドコーターを用いて10%イソプロピルアルコール水溶液であるアルカリ希釈液および掻き取り後塗布量2.8mL/m2(コーター2次側の液量)で掻き取る工程を行い、表面鹸化フィルム試料(CFS−01)を作製した。フィルム温度は40℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗(水洗水温度40℃)とエアナイフによる水切りを4回繰り返した後に70℃の乾燥ゾーンに5秒間滞留させて乾燥した。
水酸化カリウム 8.6質量部
水 24.1質量部
イソプロパノール 56.3質量部
界面活性剤(K−1:C16H33O(CH2CH2O)10H) 1.0質量部
プロピレングリコール 10.0質量部
以下の方法で、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、黒色の光硬化性樹脂層および保護フィルムをこの順で具備する感光性フィルムK1を作製した。
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(仮支持体)の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方H1からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方P1からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前記黒色組成物K1を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が15.1μmの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が1.6μmの中間層と、光学濃度が4.0となるように乾燥膜厚が2.2μmの黒色の光硬化性樹脂層を設け、最後に保護フィルム(厚さ12μmポリプロピレンフィルム)を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層(酸素遮断膜)と黒色の光硬化性樹脂層とが一体となった感光性フィルム(転写材料)を作製し、サンプル名を黒色の感光性フィルムK1とした。
・メタノール:11.1質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:6.36質量部
・メチルエチルケトン:52.4質量部
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=55/11.7/4.5/28.8、分子量=10万、Tg≒70℃):5.83質量部
・スチレン/アクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=63/37、重量平均分子量=1万、Tg≒100℃):13.6質量部
・2,2−ビス[4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパン(新中村化学工業(株)製):9.1質量部
・フッ素系ポリマー:0.54質量部
(C6F13CH2CH2OCOCH=CH240部とH(OCH(CH3)CH2)7OCOCH=CH255部とH(OCHCH2)7OCOCH=CH25部との共重合体、重量平均分子量3万、メチルエチルケトン30質量%溶液、大日本インキ化学工業製、商品名:メガファックF780F)
・PVA205:32.2質量部
(ポリビニルアルコール、(株)クラレ製、鹸化度=88%、重合度550)
・ポリビニルピロリドン:14.9質量部
(アイエスピー・ジャパン社製、K−30)
・蒸留水:524質量部
・メタノール:429質量部
除去後に露出した黒色の光硬化性樹脂層の表面と、可撓性支持体CFS−01のアルカリ処理した表面とが接するように重ね合わせ、ラミネーター(株式会社日立インダストリイズ製(LamicII型))を用いて、ゴムローラー温度100℃、線圧100N/cm、搬送速度1.0m/分でラミネートした。得られた可撓性支持体、黒色の光硬化性樹脂層、中間層、熱可塑性樹脂層および仮支持体をこの順で有する積層体を、実施例1の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体とした。
実施例1の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を用いて以下の方法にしたがって黒色パターンAおよび黒色パターンBを製造し、以下の評価を行った。
(黒色パターンAの製造)
実施例1の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体から、ポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。
仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機(日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製)で、実施例1の光硬化性樹脂層を有する積層体から仮支持体を除去した基板と、図11に記載の構造であって、光透過パターン部24として図10に示すマスクパターンを有す石英露光マスクであるマスクAを垂直に立てた状態で、露光マスク面と該黒色の光硬化性樹脂層の間の距離を200μmに設定し、露光量70mJ/cm2でパターン露光した。マスクAはパターン欠落評価用である。図11の光透過パターン部24では遮光部は不図示であるが、図10に示すマスクパターンが形成されている。マスクAにおける光透過パターン部24は、具体的には大きさが縦横ともに1mm(1000μm)である遮光部23が、遮光部23どうしの隙間の大きさが50μmで配置されたものである。
得られた黒色パターンAについて以下の評価を行った。
透過濃度5.0を有する黒色板を、マスクAを用いて作成した図12に示した構造の黒色パターンA(以下、基板)のサイズにくり抜き、黒色板をくり抜いた部分に基板をはめ込んだ。次に作成した基板面内の図12におけるパターン非形成部分27を黒色紙で遮光した。この状態で、光学顕微鏡(オリンパス製;MX50)にて作成した基板の外周部分21’に沿って、透過光による観察を行い、黒色パターンAのパターン欠落(以下、パターン欠陥とも言う)を調べた。
パターン欠落数を、観察した基板の外周距離400mmで割って、1cm当りのパターン欠陥の頻度とした。値が少ないほど欠陥が発生しにくい。
実用レベルはC以上である。
(評価基準)
A;0個
B:1〜2個
C:3〜5個
D;6〜10個
E;11個以上
パターン欠落部分の大きさ(基板の外周部分21’からどれだけ基板内側まで欠落しているか)を計測した。値が少ないほど欠陥は小さく、欠陥部分が目視で視認しにくい。
実用レベルはC以上である。
(評価基準)
A;20μm以下
B:20μmより大きく、50μm以下
C:50μmより大きく、100μm以下
D;100μmより大きく、300μm以下
E;300μmを超える
透過濃度5.0を有する黒色板を、マスクAを用いて作成した図12に示した構造の黒色パターンA(基板)のサイズにくり抜き、黒色板をくり抜いた部分に基板をはめ込んだ。次に作成した基板面内のパターン非形成部分27を正確に計測し、黒色紙で黒色パターン26の内側の境界ぎりぎりを覆うように遮光した。この状態で、光学顕微鏡(オリンパス製;MX50)にて作成した面内の黒色パターン26の内側の端面に沿って、透過光による観察を行い、パターン欠落を調べた。
欠落数を、観察した基板面内の黒色パターン26の内周距離280mmで割って、1cm当りの欠陥頻度とした。値が少ないほど欠陥が発生しにくい。
実用レベルはC以上である。
(評価基準)
A;0個
B:1〜2個
C:3〜5個
D;6〜10個
E;11個以上
欠落部分の大きさ(基板面内の黒色パターン26の内周端からどれだけパターン内側まで欠落しているか)を計測した。値が少ないほど欠陥は小さく、欠陥部分が目視で視認しにくい。
実用レベルはC以上である。
(評価基準)
A;20μm以下
B:20μmより大きく、50μm以下
C:50μmより大きく、100μm以下
D;100μmより大きく、300μm以下
E;300μmを超える
(2)と同様の方法でマスクAを用いて作成した黒色パターン26の全体を光学顕微鏡(オリンパス製;MX50)にて観察し、ピンホール欠陥を調べた。
ピンホール欠落数を、観察したパターン面積51cm2で割って、1cm2当りの欠陥頻度とした。値が少ないほど欠陥が発生しにくい。
実用レベルはC以上である。
(評価基準)
A;0個
B:1〜2個
C:3〜5個
D;6〜10個
E;11個以上
ピンホール欠落部分の円近似直径を、画像解析装置をもちいて計算し、大きい順に10個(10個以下の場合は発生数)の円近似直径(単位:μm)の平均値を算出した。値が少ないほど欠陥は小さく、欠陥部分が目視で視認しにくい。
実用レベルはC以上である。
(評価基準)
A;20μm以下
B:20μmより大きく、50μm以下
C:50μmより大きく、100μm以下
D;100μmより大きく、300μm以下
E;300μmを超える
(黒色パターンBの製造)
マスクAの代わりに図13に記載の構造であって、光透過パターン部24として図10に示すマスクパターンを有す石英露光マスクであるマスクBを8種類使用した以外は上述のパターン欠落評価用の黒色パターンAの製造と同様にして、黒色パターンBを製造した。マスクBは密着性評価用である。図13の光透過パターン部24では遮光部は不図示であるが、図10に示すマスクパターンが形成されている。光透過パターン部24は、具体的には大きさが縦横ともに1mm(1000μm)である8種類のマスクBは、それぞれ遮光部23どうしの隙間が、10μm、20μm、30μm、40μm、50μm、60μm、70μmおよび80μmとなるように配置されたこと以外は、同じものである。
得られたパターン外周400mm、パターン面積100cm2の8種類の黒色パターンBの概略を図14に示した。
得られた8種類の黒色パターンBを用いて、以下の評価を行った。
(4−1)形成された黒色パターンの細線密着性
8種類のマスクBを用いて作成した図14に記載の構造の8種類の黒色パターン26の、B1〜B8の部分(それぞれ、縦横ともに10mmの範囲)を光学顕微鏡(オリンパス製;MX50)にて観察し、微細パターンの欠落を調べ、欠落がまったく発生していない微細パターンのサイズ(8種類のマスクBの遮光部23どうしの隙間の大きさ)を密着性の指標とした。値が小さいほど微細パターンの密着性は良好で、パターン内にロゴマーク等を作成するのに適している。
実用レベルはA〜Eであり、A〜Dであることが好ましく、AまたはBであることがより好ましい。
(評価基準)
A; 10μmの細線パターンが欠落しない
B: 20μmの細線パターンが欠落しない
C: 30μmの細線パターンが欠落しない
D; 40μmの細線パターンが欠落しない
E; 50μmの細線パターンが欠落しない
F; 60μmの細線パターンが欠落しない
G; 70μmの細線パターンが欠落しない
H; 80μmの細線パターンが欠落しない
8種類のマスクBのうち、遮光部23どうしの隙間の大きさが30μmのマスクBを用いて作成したパターンの、B11〜B15部分(それぞれ、縦横ともに20mmの範囲)にてJIS−K5400法に準拠したクロスカット試験を実施した。5箇所についてJIS−K5400に基づく評価点に換算し、その平均点を求めた。値が高いほうが密着は良好であり、パターン形成後の工程適性や、パターン作成基板の機械的強度に優れる。
実用レベルはC以上である。
(評価基準)
A;剥がれが見られない
B:剥がれが見られるものの、1%以下である
C:剥がれが、1%より多く、3%以下である
D;剥がれが、3%より多く、5%以下である
E;剥がれが、5%より多い
実施例1で行ったアルカリ処理で、110℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーターの下に10秒滞留させたのを、90℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーターの下に10秒滞留させた以外は実施例1と同様にして、実施例2の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を製造した。
続いて、実施例2の光硬化性樹脂層を有する積層体を用いた以外は実施例1と同様にして、黒色パターンAおよび黒色パターンBを得た。得られた黒色パターンAおよび黒色パターンBを用い、実施例1と同様の評価を行った。その結果を下記表1に示す。
実施例1で、厚さ80μmの可撓性フィルム(セルロースアシレートフィルム)CAF−1の代わりに、厚さ75μmの可撓性フィルム(二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム)PET−1を用いた以外は実施例1と同様にして、実施例3の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を製造した。
可撓性フィルムCAF−1をアルカリ処理せずに用いた以外は実施例1と同様にして、比較例1の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を製造した。
続いて、比較例1の光硬化性樹脂層を有する積層体を用いた以外は実施例1と同様にして、黒色パターンAおよび黒色パターンBを得た。得られた黒色パターンAおよび黒色パターンBを用い、実施例1と同様の評価を行った。その結果を下記表1に示す。
可撓性フィルムCAF−1に、シランカップリング液(N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン0.3質量%水溶液、商品名:KBM603、信越化学工業(株)製)をシャワーにより20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。これを予備加熱装置で加熱した以外は実施例1と同様にして、比較例2の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を製造した。
続いて、比較例2の光硬化性樹脂層を有する積層体を用いた以外は実施例1と同様にして、黒色パターンAおよび黒色パターンBを得た。得られた黒色パターンAおよび黒色パターンBを用い、実施例1と同様の評価を行った。その結果を下記表1に示す。
<静電容量型入力装置の製造と評価>
ガラス1’の両面にそれぞれ第一の透明電極パターン3であるXセンサーおよび第二の透明電極パターン4であるYセンサーのうち一方ずつを形成した図1Aに記載の構造の第一および第二の透明電極パターンを有する基板に、高透明性接着剤層14を用いて各実施例および比較例においてマスクAを用いて得られた黒色パターン(図1A中、可撓性支持体1および黒色パターンであるマスク層2の積層体に相当する)を貼りあわせ、さらにカバーガラス13を貼りあわせて、各実施例および比較例の静電容量型入力装置を作製した。また作製した各実施例および比較例の静電容量型入力装置をLCDモジュールに貼りあわせて、各実施例および比較例の画像表示装置とした。
本発明の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法により作製した黒色パターンを用いて作製した画像表示装置は欠陥がなく、表示特性に優れることがわかった。一方、比較例に示した作製した黒色パターンを用いて作製した画像表示装置は、額縁部の欠陥が多く、欠陥部が視認できるため、表示品質上劣るものであった。
1’ 前面板(ガラス)
2 マスク層
3 第一の透明電極パターン
3a パッド部分
3b 接続部分
4 第二の透明電極パターン
5 絶縁層
6 導電性要素
7 透明保護層
8 開口部
10 静電容量型入力装置
11 強化処理ガラス
12 別の導電性要素
13 カバーガラス
14 透明接着剤層
21 光硬化性樹脂層を有する積層体(ワーク)の配置位置
21’ 基板(光硬化性樹脂層を有する積層体中の可撓性支持体)の外周部分
22 マスク外周
23 マスク遮光部
24 光透過パターン部(黒色パターンが形成される領域)
25 マスク
26 黒色パターン(光硬化性樹脂層を有する積層体中の光硬化性樹脂層が硬化されてなる層)
27 パターン非形成部分
Claims (12)
- 可撓性支持体の少なくとも一方の表面をアルカリ処理する工程と、
前記可撓性支持体のアルカリ処理した表面上に、仮支持体上に光硬化性樹脂層を具備する感光性フィルムの該光硬化性樹脂層を重ねて、圧着する工程と、
を含み、
前記光硬化性樹脂層がカルボン酸基含有樹脂を含有し、
前記可撓性支持体がセルロース系支持体またはポリエステル系支持体であることを特徴とする光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法。 - 前記感光性フィルムが少なくとも前記仮支持体と熱可塑性樹脂層と前記光硬化性樹脂層とをこの順で有することを特徴とする請求項1に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法。
- 前記圧着工程を、加熱しながら行うことを特徴とする請求項1または2に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法。
- 前記光硬化性樹脂層が、黒色着色剤および白色着色剤のうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法。
- 可撓性支持体の少なくとも一方の表面上に光硬化性樹脂層を有する硬化物積層体を含み、
遮光部どうしの隙間の大きさが50μmで配置されたマスクパターンを用いて露光した場合に前記可撓性支持体のパターン端面における前記光硬化性樹脂層のパターン欠陥が1cm当り5個以下であり、
遮光部どうしの隙間の大きさが30μmで配置されたマスクパターンを用いて露光した場合にJIS−K5400法に準拠したクロスカット試験を実施した後の前記光硬化性樹脂層の剥がれが3%以下であり、
前記光硬化性樹脂層がカルボン酸基含有樹脂を含有し、
前記可撓性支持体がセルロース系支持体またはポリエステル系支持体であることを特徴とする静電容量型入力装置。 - マスク層を有し、前記硬化物積層体の少なくとも1層が前記マスク層であることを特徴とする請求項5に記載の静電容量型入力装置。
- 下記(1)〜(5)の要素を有し、前記硬化物積層体の少なくとも1層が前記(1)マスク層であることを特徴とする請求項5または6に記載の静電容量型入力装置。
(1)マスク層
(2)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
(3)前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン
(4)前記第一の透明電極パターンと前記第二の透明電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
(5)前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法で製造された光硬化性樹脂層を有する積層体を、露光する工程を含むことを特徴とする静電容量型入力装置の製造方法。
- 前記光硬化性樹脂層を有する積層体をパターニング露光することを特徴とする請求項8に記載の静電容量型入力装置の製造方法。
- マスク層を有する静電容量型入力装置の製造方法であり、前記光硬化性樹脂層を有する積層体を露光して前記マスク層を形成することを特徴とする請求項8または9に記載の静電容量型入力装置の製造方法。
- 下記(1)〜(5)の要素を有する静電容量型入力装置の製造方法であり、前記光硬化性樹脂層を有する積層体を露光して前記(1)マスク層を形成することを特徴とする請求項8〜10のいずれか一項に記載の静電容量型入力装置の製造方法。
(1)マスク層
(2)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
(3)前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン
(4)前記第一の透明電極パターンと前記第二の透明電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
(5)前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素 - 請求項5〜7のいずれか一項に記載の静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012137759A JP5926128B2 (ja) | 2012-06-19 | 2012-06-19 | 光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法並びに静電容量型入力装置とその製造方法及びそれを備えた画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012137759A JP5926128B2 (ja) | 2012-06-19 | 2012-06-19 | 光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法並びに静電容量型入力装置とその製造方法及びそれを備えた画像表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014000725A JP2014000725A (ja) | 2014-01-09 |
JP5926128B2 true JP5926128B2 (ja) | 2016-05-25 |
Family
ID=50034368
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012137759A Active JP5926128B2 (ja) | 2012-06-19 | 2012-06-19 | 光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法並びに静電容量型入力装置とその製造方法及びそれを備えた画像表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5926128B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020064160A (ja) | 2018-10-16 | 2020-04-23 | 日東電工株式会社 | 光学部材および画像表示装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2873889B2 (ja) * | 1991-01-29 | 1999-03-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性転写材料及び画像形成方法 |
JP5053583B2 (ja) * | 2005-07-15 | 2012-10-17 | 富士フイルム株式会社 | セルロースエステルフィルム積層体およびその製造方法、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム、並びに液晶表示装置 |
TWM348999U (en) * | 2008-02-18 | 2009-01-11 | Tpk Touch Solutions Inc | Capacitive touch panel |
JP5383288B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム、樹脂パターン及び樹脂パターンの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 |
JP2011186977A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Alps Electric Co Ltd | 入力装置の製造方法 |
-
2012
- 2012-06-19 JP JP2012137759A patent/JP5926128B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014000725A (ja) | 2014-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5901451B2 (ja) | 透明積層体、静電容量型入力装置および画像表示装置 | |
JP5922008B2 (ja) | 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置 | |
JP5914392B2 (ja) | 感光性フィルム、静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置 | |
JP6170288B2 (ja) | 転写材料、静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置 | |
TWI574109B (zh) | 黑色樹脂膜、靜電電容型輸入裝置及它們的製造方法、以及具備其的影像顯示裝置 | |
JP5763492B2 (ja) | 静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置 | |
JP6030966B2 (ja) | 透明積層体およびその製造方法 | |
JPWO2014175312A1 (ja) | 転写材料、転写層付き基材及びタッチパネル、それらの製造方法、並びに情報表示装置 | |
JP5986934B2 (ja) | 保護膜形成用組成物、転写材料、導電膜積層体、タッチパネルおよび画像表示装置 | |
KR101608291B1 (ko) | 광경화성 수지층이 형성된 기판과 그 형성 방법, 정전용량형 입력 장치 및 화상 표시 장치 | |
JP5926128B2 (ja) | 光硬化性樹脂層を有する積層体の製造方法並びに静電容量型入力装置とその製造方法及びそれを備えた画像表示装置 | |
JP6404255B2 (ja) | 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置 | |
JP6047298B2 (ja) | 静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置 | |
JP2016154016A (ja) | 透明積層体、静電容量型入力装置および画像表示装置 | |
JP6325019B2 (ja) | 転写材料、静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置 | |
JP2018196993A (ja) | 転写フィルムおよび透明積層体、それらの製造方法、静電容量型入力装置ならびに画像表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150825 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151021 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160329 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160421 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5926128 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |