JP5923823B2 - アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法 - Google Patents
アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5923823B2 JP5923823B2 JP2012031605A JP2012031605A JP5923823B2 JP 5923823 B2 JP5923823 B2 JP 5923823B2 JP 2012031605 A JP2012031605 A JP 2012031605A JP 2012031605 A JP2012031605 A JP 2012031605A JP 5923823 B2 JP5923823 B2 JP 5923823B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- compound
- boronic acid
- ascend
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229920003026 Acene Polymers 0.000 title claims description 5
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 5
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 title description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 92
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000005620 boronic acid group Chemical group 0.000 claims description 14
- -1 boronic acid ester Chemical class 0.000 claims description 13
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 13
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 12
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 239000012039 electrophile Substances 0.000 claims description 7
- LZPWAYBEOJRFAX-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2$l^{2}-dioxaborolane Chemical group CC1(C)O[B]OC1(C)C LZPWAYBEOJRFAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052711 selenium Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 5
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 66
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 66
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 31
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 23
- 238000002451 electron ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 19
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 18
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MOZTVOICZIVCFC-UHFFFAOYSA-N [1]benzothiolo[7,6-g][1]benzothiole Chemical compound C1=CC2=C(SC=C3)C3=CC=C2C2=C1C=CS2 MOZTVOICZIVCFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- SFHYNDMGZXWXBU-LIMNOBDPSA-N 6-amino-2-[[(e)-(3-formylphenyl)methylideneamino]carbamoylamino]-1,3-dioxobenzo[de]isoquinoline-5,8-disulfonic acid Chemical compound O=C1C(C2=3)=CC(S(O)(=O)=O)=CC=3C(N)=C(S(O)(=O)=O)C=C2C(=O)N1NC(=O)N\N=C\C1=CC=CC(C=O)=C1 SFHYNDMGZXWXBU-LIMNOBDPSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 7
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 4
- IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N bis(pinacolato)diboron Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- TXNLQUKVUJITMX-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-2-(4-tert-butylpyridin-2-yl)pyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=NC(C=2N=CC=C(C=2)C(C)(C)C)=C1 TXNLQUKVUJITMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XCHARIIIZLLEBL-UHFFFAOYSA-N Medicagenic acid 3-O-beta-D-glucoside Chemical compound C12CC(C)(C)CCC2(C(O)=O)CCC(C2(CCC3C4(C)C(O)=O)C)(C)C1=CCC2C3(C)CC(O)C4OC1OC(CO)C(O)C(O)C1O XCHARIIIZLLEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NSGDYZCDUPSTQT-UHFFFAOYSA-N N-[5-bromo-1-[(4-fluorophenyl)methyl]-4-methyl-2-oxopyridin-3-yl]cycloheptanecarboxamide Chemical compound Cc1c(Br)cn(Cc2ccc(F)cc2)c(=O)c1NC(=O)C1CCCCCC1 NSGDYZCDUPSTQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UNFNDEBRXYKADR-UHFFFAOYSA-N [1]benzothiolo[5,4-e][1]benzothiole Chemical compound C1=C2C(C=CS3)=C3C=CC2=C2C=CSC2=C1 UNFNDEBRXYKADR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YQEILISFULMNRR-UHFFFAOYSA-N [1]benzothiolo[6,5-f][1]benzothiole Chemical compound C1=C2C=C(SC=C3)C3=CC2=CC2=C1C=CS2 YQEILISFULMNRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- MCNFETJREUYKBJ-UHFFFAOYSA-N furo[2,3-f][1]benzofuran Chemical compound C1=C2OC=CC2=CC2=C1C=CO2 MCNFETJREUYKBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- URMVZUQDPPDABD-UHFFFAOYSA-N thieno[2,3-f][1]benzothiole Chemical compound C1=C2SC=CC2=CC2=C1C=CS2 URMVZUQDPPDABD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 0 *c1cc(-c2ccc3[s]c(*)cc3c2CC2)c2[s]1 Chemical compound *c1cc(-c2ccc3[s]c(*)cc3c2CC2)c2[s]1 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HOYYRPLVCYOARQ-UHFFFAOYSA-N [1]benzofuro[7,6-g][1]benzofuran Chemical compound C1=CC2=C(OC=C3)C3=CC=C2C2=C1C=CO2 HOYYRPLVCYOARQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUTJCNNFTOIOGT-UHFFFAOYSA-N anthracene-1,8,9-triol Chemical compound C1=CC(O)=C2C(O)=C3C(O)=CC=CC3=CC2=C1 YUTJCNNFTOIOGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KQIADDMXRMTWHZ-UHFFFAOYSA-N chloro-tri(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](Cl)(C(C)C)C(C)C KQIADDMXRMTWHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000001840 matrix-assisted laser desorption--ionisation time-of-flight mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene Chemical compound [Fe+2].C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWQCNEGEXAWAOM-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxan-2-ylmethanol;hydrate Chemical compound O.OCC1COCCO1 VWQCNEGEXAWAOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMKGKYQBASDDJB-UHFFFAOYSA-N 9$l^{2}-borabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound C1CCC2CCCC1[B]2 AMKGKYQBASDDJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEJUGLKDZJDVFY-UHFFFAOYSA-N 9-borabicyclo[3.3.1]nonane Substances C1CCC2CCCC1B2 FEJUGLKDZJDVFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAOOGROOKJEIBV-UHFFFAOYSA-N CC(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)C1=CC2=C(S1)C1=C(C=C2)C2=C(C=C(S2)[Si](C(C)C)(C(C)C)C(C)C)C=C1 Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)C1=CC2=C(S1)C1=C(C=C2)C2=C(C=C(S2)[Si](C(C)C)(C(C)C)C(C)C)C=C1 WAOOGROOKJEIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000707 boryl group Chemical group B* 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- UCIDYSLOTJMRAM-UHFFFAOYSA-N hexadec-1-yne Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC#C UCIDYSLOTJMRAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- CRUIOQJBPNKOJG-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-e][1]benzothiole Chemical compound C1=C2SC=CC2=C2C=CSC2=C1 CRUIOQJBPNKOJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
- C07F7/0812—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F11/00—Compounds containing elements of Groups 6 or 16 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
- C07F7/0812—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
- C07F7/0814—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring said ring is substituted at a C ring atom by Si
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/22—Tin compounds
- C07F7/2208—Compounds having tin linked only to carbon, hydrogen and/or halogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Description
本発明は、アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法に関する。
ナフトジチオフェン、ベンゾジチオフェン、アントラジチオフェン等のアセンジカルコゲノフェンを基本骨格とする化合物は、高い電子移動度、大きな電流オン／オフ比、保存安定性等に優れるとされ、特に有機半導体用の材料として注目されている（例えば、特許文献１、２）。
アセンジカルコゲノフェンを基本骨格とする有機半導体材料を得るには、アセンジカルコゲノフェン誘導体をいかに効率的に、且つ、選択的に得るかが重要である。しかしながら、アセンジカルコゲノフェン骨格を有する化合物は、合成が容易でないなどの理由から十分な研究開発が進んでいない。
本発明は上記事項に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、有機半導体材料などの合成に有用なアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法を提供することにある。
本発明の第１の観点に係るアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体は、
式１又は式２で表される、
（式１及び式２中、Ａｒ１は少なくとも一つの水素がボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換されたベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれか、Ｙは硫黄原子又はセレン原子、Ｚは式４２で表される置換基を表す。）
（式４２中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基を表す。）
ことを特徴とする。
式１又は式２で表される、
（式１及び式２中、Ａｒ１は少なくとも一つの水素がボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換されたベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれか、Ｙは硫黄原子又はセレン原子、Ｚは式４２で表される置換基を表す。）
（式４２中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基を表す。）
ことを特徴とする。
また、前記式１で表されるアセンジカルコゲノフェン誘導体が式１１、式２１、式２２又は式２３で表されることが好ましい。
（式１１、式２１、式２２及び式２３中、Ｂはボロン酸基或いはボロン酸エステル基を表し、Ｙ及びＺは式１の定義と同じである。）
（式１１、式２１、式２２及び式２３中、Ｂはボロン酸基或いはボロン酸エステル基を表し、Ｙ及びＺは式１の定義と同じである。）
また、前記ボロン酸エステル基がボロン酸ピナコールエステル基であることが好ましい。
本発明の第２の観点に係るアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成方法は、
式５１又は式５２で表される化合物のいずれかとボロン酸又はボロン酸エステルとを反応させ、
（式５１及び式５２中、Ａｒ２はベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれか、Ｙは硫黄原子又はセレン原子、Ｚは式４２で表される置換基を表し、式４２中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基を表す。）
ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環の少なくとも一つの水素をボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換し、式１又は式２で表されるアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体を合成する、
（式１及び式２中、Ａｒ１は少なくとも一つの水素がボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換されたベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれかを表し、Ｙ及びＺは前記式５１及び前記式５２の定義と同じである。）
ことを特徴とする。
式５１又は式５２で表される化合物のいずれかとボロン酸又はボロン酸エステルとを反応させ、
（式５１及び式５２中、Ａｒ２はベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれか、Ｙは硫黄原子又はセレン原子、Ｚは式４２で表される置換基を表し、式４２中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基を表す。）
ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環の少なくとも一つの水素をボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換し、式１又は式２で表されるアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体を合成する、
（式１及び式２中、Ａｒ１は少なくとも一つの水素がボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換されたベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれかを表し、Ｙ及びＺは前記式５１及び前記式５２の定義と同じである。）
ことを特徴とする。
また、触媒としてＣＨ活性化触媒を添加することが好ましい。
また、前記ボロン酸エステルとしてボロン酸ピナコールエステルを用いることが好ましい。
また、式６１又は式６２で表される化合物と求電子剤とを反応させ、α位に置換基を導入して前記式５１又は前記式５２で表される化合物を合成することが好ましい。
（式６１及び式６２中、Ａｒ２及びＹは前記式５１及び前記式５２の定義と同じである。）
また、有機金属試薬を添加することが好ましい。
また、前記求電子剤として、式７２を用いることが好ましい。
（式７２中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基、Ｘはハロゲンを表す。）
（式７２中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基、Ｘはハロゲンを表す。）
本発明に係るアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体は、アセンの部位にボロン酸基或いはボロン酸エステル基が結合している。アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体では、容易にボロン酸基或いはボロン酸エステル基を脱保護して、所望の官能基に置換することができ、所望のアセンジカルコゲノフェン誘導体の合成、そして、得られたアセンジカルコゲノフェン誘導体を用いて所望のオリゴマーやポリマーの合成が可能である。これにより、新たなアセンジカルコゲノフェン骨格を有する有機半導体材料などの研究、開発、実用化へとつなげることができる。
また、本発明に係るアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成方法では、アセンジカルコゲノフェンのボロン化で優先的に置換されるα位に置換基を導入しているので、アセンの所望の部位を選択的にボロン化でき、所望のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体を得ることが可能である。
本実施の形態に係るアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体は、式１又は式２で表される。
式１及び式２中、Ａｒ１は少なくとも一つの水素がボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換されたベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれかである。また、式１及び式２中、Ｙは酸素原子、硫黄原子又はセレン原子である。また、式１及び式２中、Ｚは置換基を表す。
式１及び式２について、カルコゲノフェン−Ａｒ１−カルコゲノフェンが直線状に縮合した構造に限られるものではなく、折れ線状に縮合した構造でもよい。
式１又は式２で表されるベンゾジカルコゲノフェン誘導体用中間体の一例として、式１１〜１５に示されるものが挙げられる。
また、ナフトジカルコゲノフェン誘導体用中間体の一例として、式２１〜２４に示されるものが挙げられる。
また、アントラジカルコゲノフェン誘導体用中間体の一例として、式３１〜３７に示されるものが挙げられる。
上記式１１〜１５、２１〜２４、３１〜３７中、Ｂはボロン酸基又はボロン酸エステル基である。ボロン酸基又はボロン酸エステル基は特に限定されるものではなく、例えば、ボロン酸ピナコールエステル基などが挙げられる。
また、置換基についても特に限定されるものではないが、例えば、式４１〜式４５に示される官能基が挙げられる。式４１〜４５中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基、Ｘはハロゲンを表す。
上記のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体では、種々の操作により容易に脱保護でき、置換基をハロゲンや水酸基、水素等に置換することが可能である。これにより、アセンジカルコゲノフェン骨格を基本骨格とするオリゴマーやポリマーを合成することが可能になる。
アセンジカルコゲノフェンを基本骨格として有する化合物は、良好な電子移動度を示す可能性を有しており、これらのアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体を基にして、種々の有機半導体材料等に有用なオリゴマーやポリマーの研究、開発、実用化を図ることが可能である。
例えば、上記のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体として、２，７−ジトリイソプロピルシリル−５，１０−ビス［（ピナコレート）ボリル］−ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンを用い、下記のスキームのようにして、高分子化合物１を合成することができる。
続いて、上述したアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成方法について説明する。
式５１又は式５２で表されるα位に置換基を有するアセンジカルコゲノフェンとボロン酸或いはボロン酸エステルとを反応させる。式５１及び式５２中、Ａｒ２はベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれかであり、カルコゲノフェン−Ａｒ１−カルコゲノフェンが直線状或いは折れ線状に縮合した構造である。また、Ｙは酸素原子、硫黄原子又はセレン原子、Ｚは置換基である。
これにより、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環の一部の水素がボロン酸基又はボロン酸エステル基に置換され、上述した式１又は式２で表されるアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体が得られる。
より具体的な合成方法の例としては、式５１又は式５２で表されるα位に置換基を有するナフトジカルコゲノフェンとボロン酸又はボロン酸エステルとＣＨ活性化触媒とを、４，４’−ジ−ｔ−ブチル−２，２’−ビピリジンの乾燥シクロヘキサン溶液などの溶媒に入れ、アルゴン雰囲気、遮光下、所定温度（例えば、８０℃程度）で所定時間（例えば、１０時間程度）攪拌する。反応混合物を冷却後、溶媒を留去し、残渣をクロロホルムなどに溶解し、カラムクロマトグラフィなどで精製することにより得られる。
優先的にホウ素化が生じるα位に置換基を導入したナフトジカルコゲノフェンをホウ素化しているので、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環の一部を選択的にホウ素化することができる。
用いるボロン酸、ボロン酸エステルとして特に制限はなく、例えば、ピナコールジボランなどのボロン酸ピナコールエステルが挙げられる。
また、ＣＨ活性化触媒を添加して行うとよい。用いるＣＨ活性化触媒としては、パラジウム、イリジウム、ルテニウム等の遷移金属、或いはこれらを含有する触媒が挙げられる。
また、α位に置換基を有する式５１又は式５２で表される化合物は、例えば、以下のようにして合成して用いることができる。
式６１又は式６２で表されるアセンジカルコゲノフェン無置換体と求電子剤とを反応させる。式６１及び式６２中、Ａｒ２及びＹは上述した式５１及び式５２の定義と同様である。
これにより、式６１又は式６２で表される化合物のα位に置換基を導入することができ、上述した式５１又は式５１で表される化合物が得られる。
より具体的な合成方法の一例としては、アセンジチオフェンの無置換体をＴＨＦ（テトラヒドロフラン）等の溶媒に入れ、これに有機金属試薬をヘキサン等に混合した溶液を加え、攪拌する。この反応混合物に求電子剤を加えて攪拌した後、水で希釈し、塩酸等を加える。そして、生成した沈殿を濾取等で分離し、沈殿物を水、メタノール、ヘキサンなどで洗浄することにより、目的とするホウ素官能基置換アセンジチオフェンを得ることができる。
用いる求電子剤として、カルコゲノフェンのα位を官能基化できるものであれば特に制限はなく、例えば、式７１〜７５で表されるハロゲン化物などが挙げられる。式７１〜７５中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基、Ｘはハロゲンである。
また、上記の反応を促進させるＢｕＬｉなどの有機金属試薬を用いて行うとよい。有機金属試薬は、官能基化を促進させ得るものであれば限定されるものではない。
以下、無置換アセンジカルコゲノフェンからアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成、更には、得られたアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の脱保護、官能基化の具体例を示す。
まず、種々の無置換ナフトジカルコゲノフェンを用いて、トリイソプロピルシリル基置換ナフトジカルコゲノフェンを合成した。
（合成例１）
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェン（１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液に、ｎ−ＢｕＬｉ（３ｍｍｏｌ）のヘキサン溶液を０℃で加え、１時間室温で攪拌した。
この反応混合物に塩化トリイソプロピルシリル（４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、１６時間室温でさらに攪拌した。
その後、水（５０ｍＬ）で希釈し、１Ｎ塩酸（５０ｍＬ）を加えた。
生成した沈殿を濾取し、水、メタノール、ヘキサンで洗浄することで、化合物Ａ１を白色の固体として得た。
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェン（１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液に、ｎ−ＢｕＬｉ（３ｍｍｏｌ）のヘキサン溶液を０℃で加え、１時間室温で攪拌した。
この反応混合物に塩化トリイソプロピルシリル（４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、１６時間室温でさらに攪拌した。
その後、水（５０ｍＬ）で希釈し、１Ｎ塩酸（５０ｍＬ）を加えた。
生成した沈殿を濾取し、水、メタノール、ヘキサンで洗浄することで、化合物Ａ１を白色の固体として得た。
得られた化合物Ａ１の測定データを以下に示す。
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.19 (d, 36H, CH3), 1.47 (sept, 6H, CH), 7.64 (s, 2H, ArH), 7.93 (d, 2H, ArH), 8.07 (d, 2H, ArH); EIMS (70 eV) m/z 552 (M+); Anal. Calcd for C32H48S2Si2: C, 69.50; H, 8.75. Found: C, 69.35; H, 9.05%.
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.19 (d, 36H, CH3), 1.47 (sept, 6H, CH), 7.64 (s, 2H, ArH), 7.93 (d, 2H, ArH), 8.07 (d, 2H, ArH); EIMS (70 eV) m/z 552 (M+); Anal. Calcd for C32H48S2Si2: C, 69.50; H, 8.75. Found: C, 69.35; H, 9.05%.
（合成例２）
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]difuran（以下、化合物Ｂ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジフランに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｂ１を得た。
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]difuran（以下、化合物Ｂ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジフランに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｂ１を得た。
得られた化合物Ｂ１の測定データを以下に示す。
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.20 (d, 36H, CH3), 1.46 (sept, 6H, CH), 7.19 (s, 2H, ArH), 7.75 (d, 2H, ArH), 8.15 (d, 2H, ArH), 13C NMR δ 11.3, 18.8, 115.7, 119.0, 119.3, 119.9, 123.1, 154.6, 159.7; EIMS (70 eV) m/z 520 (M+).
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.20 (d, 36H, CH3), 1.46 (sept, 6H, CH), 7.19 (s, 2H, ArH), 7.75 (d, 2H, ArH), 8.15 (d, 2H, ArH), 13C NMR δ 11.3, 18.8, 115.7, 119.0, 119.3, 119.9, 123.1, 154.6, 159.7; EIMS (70 eV) m/z 520 (M+).
（合成例３）
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]diselenophene（以下、化合物Ｃ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジセレノフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｃ１を得た。
得られた化合物Ｃ１の測定データを以下に示す。
89% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.19 (d, 36H, CH3), 1.43 (sept, 6H, CH), 7.89 (d, 2H, ArH), 7.92 (s, 2H, ArH), 7.92 (d, 2H, ArH); EIMS (70 eV) m/z 648 (M+).
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]diselenophene（以下、化合物Ｃ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジセレノフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｃ１を得た。
89% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.19 (d, 36H, CH3), 1.43 (sept, 6H, CH), 7.89 (d, 2H, ArH), 7.92 (s, 2H, ArH), 7.92 (d, 2H, ArH); EIMS (70 eV) m/z 648 (M+).
（合成例４）
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[2,1-b:6,5-b’]dithiophene（以下、化合物Ｄ１）の合成）
下記化学式に示すように、ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをナフト［２，１−ｂ：６，５−ｂ’］ジチオフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｄ１を得た。
得られた化合物Ｄ１の測定データを以下に示す。
67% yield; 1H NMR (400 MHz CDCl3) δ 1.19 (d, J=7.4 Hz, 36H), 1.49 (sept, J = 7.4 Hz, 6H), 8.03 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 8.17 (s, 2H), 8.32 (d, J = 8.8 Hz, 2H); 13C NMR (400 MHz CDCl3) δ 12.1, 18.8, 120.7, 120.7, 126.4, 130.5, 136.6, 138.0, 141.1; MS m/z = 552 (M+) Anal. Calcd for C32H48S2Si2: C,69.50; H, 8.75%. Found: C, 69.74; H, 8.56%.
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[2,1-b:6,5-b’]dithiophene（以下、化合物Ｄ１）の合成）
下記化学式に示すように、ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをナフト［２，１−ｂ：６，５−ｂ’］ジチオフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｄ１を得た。
67% yield; 1H NMR (400 MHz CDCl3) δ 1.19 (d, J=7.4 Hz, 36H), 1.49 (sept, J = 7.4 Hz, 6H), 8.03 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 8.17 (s, 2H), 8.32 (d, J = 8.8 Hz, 2H); 13C NMR (400 MHz CDCl3) δ 12.1, 18.8, 120.7, 120.7, 126.4, 130.5, 136.6, 138.0, 141.1; MS m/z = 552 (M+) Anal. Calcd for C32H48S2Si2: C,69.50; H, 8.75%. Found: C, 69.74; H, 8.56%.
（合成例５）
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[2,3-b:6,7-b’]dithiophene（以下、化合物Ｅ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをナフト［２，３−ｂ：６，７−ｂ’］ジチオフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｅ１を得た。
得られた化合物Ｅ１の測定データを以下に示す。
97% yield; 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.19 (d, J = 7.5 Hz, 36H, CH3), 1.45 (sept, J = 7.5 Hz, 6H, CH), 7.58 (s, 2H, ArH), 8.39 (s, 2H, ArH), 8.48 (s, 2H, ArH); EIMS (70 eV) m/z 552 (M+).
（2,7-Bis(triisopropylsilyl)naphtho[2,3-b:6,7-b’]dithiophene（以下、化合物Ｅ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをナフト［２，３−ｂ：６，７−ｂ’］ジチオフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｅ１を得た。
97% yield; 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.19 (d, J = 7.5 Hz, 36H, CH3), 1.45 (sept, J = 7.5 Hz, 6H, CH), 7.58 (s, 2H, ArH), 8.39 (s, 2H, ArH), 8.48 (s, 2H, ArH); EIMS (70 eV) m/z 552 (M+).
上記合成例１〜５で得られたそれぞれのトリイソプロピルシリル基置換ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジカルコゲノフェン（化合物Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１、Ｅ１）を直接ホウ素化し、対応するジカルコゲノフェン誘導体用中間体を合成した。
（合成例６）
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ２）の合成）
化合物Ａ１（１ｍｍｏｌ）、ピナコールジボラン（２ｍｍｍｏｌ）、［Ｉｒ（ＯＭｅ）（ＣＯＤ）］２（５ｍｏｌ％）、４，４’−ジ−ｔ−ブチル−２，２’−ビピリジン（１０ｍｏｌ％）の乾燥シクロヘキサン溶液を、アルゴン雰囲気下、遮光下、８０℃の条件で１０時間攪拌した。
反応混合物を冷却後、溶媒を留去した。残渣をクロロホルムに溶解し、カラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）により精製し、化合物Ａ２を白色の固体として得た。
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ２）の合成）
化合物Ａ１（１ｍｍｏｌ）、ピナコールジボラン（２ｍｍｍｏｌ）、［Ｉｒ（ＯＭｅ）（ＣＯＤ）］２（５ｍｏｌ％）、４，４’−ジ−ｔ−ブチル−２，２’−ビピリジン（１０ｍｏｌ％）の乾燥シクロヘキサン溶液を、アルゴン雰囲気下、遮光下、８０℃の条件で１０時間攪拌した。
反応混合物を冷却後、溶媒を留去した。残渣をクロロホルムに溶解し、カラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）により精製し、化合物Ａ２を白色の固体として得た。
得られた化合物Ａ２の測定データを以下に示す。
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.22 (d, 36H, CH3), 1.45 (s, 24H, CH3), 1.47 (sept, 6H, CH), 8.40 (s, 2H, ArH), 8.58 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.2, 18.9, 25.2, 84.1, 126.7, 130.5, 134.5, 136.2, 142.1, 143.0; EIMS (70 eV) m/z 804 (M+); Anal. Calcd for C44H70B2O4S2Si2: C, 65.65; H, 8.77. Found: C, 65.28; H, 9.16%.
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.22 (d, 36H, CH3), 1.45 (s, 24H, CH3), 1.47 (sept, 6H, CH), 8.40 (s, 2H, ArH), 8.58 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.2, 18.9, 25.2, 84.1, 126.7, 130.5, 134.5, 136.2, 142.1, 143.0; EIMS (70 eV) m/z 804 (M+); Anal. Calcd for C44H70B2O4S2Si2: C, 65.65; H, 8.77. Found: C, 65.28; H, 9.16%.
（合成例７）
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]difran（以下、化合物Ｂ２）の合成）
化合物Ａ１を化合物Ｂ１に代える以外、合成例６と同様にして、化合物Ｂ２を得た。
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]difran（以下、化合物Ｂ２）の合成）
化合物Ａ１を化合物Ｂ１に代える以外、合成例６と同様にして、化合物Ｂ２を得た。
得られた化合物Ｂ２の測定データを以下に示す。
86% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.22 (d, 36H, CH3), 1.45 (s, 24H, CH3), 1.51 (sept, 6H, CH), 7.60 (s, 2H, ArH), 8.61 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 11.4, 18.9, 25.2, 84.0, 120.1, 121.1, 124.0, 127.0, 154.2, 159.4; EIMS (70 eV) m/z 772 (M+).
86% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.22 (d, 36H, CH3), 1.45 (s, 24H, CH3), 1.51 (sept, 6H, CH), 7.60 (s, 2H, ArH), 8.61 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 11.4, 18.9, 25.2, 84.0, 120.1, 121.1, 124.0, 127.0, 154.2, 159.4; EIMS (70 eV) m/z 772 (M+).
（合成例８）
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]diselenophene（以下、化合物Ｃ２）の合成）
化合物Ａ１を化合物Ｃ１に代える以外、合成例６と同様にして、化合物Ｃ２を得た。
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]diselenophene（以下、化合物Ｃ２）の合成）
化合物Ａ１を化合物Ｃ１に代える以外、合成例６と同様にして、化合物Ｃ２を得た。
得られた化合物Ｃ２の測定データを以下に示す。
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.22 (d, 36H, CH3), 1.43 (s, 24H, CH3), 1.43 (sept, 6H, CH), 8.45 (s, 2H, ArH), 8.78 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.4, 18.9, 25.2, 84.1, 129.0, 133.2, 139.6, 140.0, 144.8, 146.8; EIMS (70 eV) m/z 900 (M+).
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.22 (d, 36H, CH3), 1.43 (s, 24H, CH3), 1.43 (sept, 6H, CH), 8.45 (s, 2H, ArH), 8.78 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.4, 18.9, 25.2, 84.1, 129.0, 133.2, 139.6, 140.0, 144.8, 146.8; EIMS (70 eV) m/z 900 (M+).
（合成例９）
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[2,1-b:6,5-b’]dithiophene（以下、化合物Ｄ２）の合成）
化合物Ａ１を化合物Ｄ１に代える以外、合成例６と同様にして、化合物Ｄ２を得た。
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[2,1-b:6,5-b’]dithiophene（以下、化合物Ｄ２）の合成）
化合物Ａ１を化合物Ｄ１に代える以外、合成例６と同様にして、化合物Ｄ２を得た。
得られた化合物Ｄ２の測定データを以下に示す。
99% yield; 1H NMR (400 MHz CDCl3) δ 1.22 (d, J = 7.4 Hz, 36H), 1.49 (s,24H), 1.56 (sept, J = 7.4 Hz, 6H), 8.27 (s, 2H), 8.78 (s, 2H); 13C NMR (400 MHz CDCl3) δ 12.1, 19.0, 25.2, 84.6, 127.5, 129.1, 130.3, 130.3, 137.3, 137.8, 145.9; MS m/z = 804 (M+).
99% yield; 1H NMR (400 MHz CDCl3) δ 1.22 (d, J = 7.4 Hz, 36H), 1.49 (s,24H), 1.56 (sept, J = 7.4 Hz, 6H), 8.27 (s, 2H), 8.78 (s, 2H); 13C NMR (400 MHz CDCl3) δ 12.1, 19.0, 25.2, 84.6, 127.5, 129.1, 130.3, 130.3, 137.3, 137.8, 145.9; MS m/z = 804 (M+).
（合成例１０）
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[2,3-b:6,7-b’]dithiophene（以下、化合物Ｅ２）の合成）
化合物Ａ１を化合物Ｅ１に代える以外、合成例６と同様にして、化合物Ｅ２を得た。
（5,10-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[2,3-b:6,7-b’]dithiophene（以下、化合物Ｅ２）の合成）
化合物Ａ１を化合物Ｅ１に代える以外、合成例６と同様にして、化合物Ｅ２を得た。
得られた化合物Ｅ２の測定データを以下に示す。
42% yield; 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.20 (d, J = 7.5 Hz, 36H, CH3), 1.46 (sept, J = 7.5 Hz, 6H, CH), 1.56 (s, 24H, CH3), 7.59 (s, 2H, ArH), 9.33 (s, 2H, ArH); EIMS (70 eV) m/z = 804 (M+).
42% yield; 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.20 (d, J = 7.5 Hz, 36H, CH3), 1.46 (sept, J = 7.5 Hz, 6H, CH), 1.56 (s, 24H, CH3), 7.59 (s, 2H, ArH), 9.33 (s, 2H, ArH); EIMS (70 eV) m/z = 804 (M+).
さらに、合成例４で得られた化合物Ａ２の置換基を脱保護し、種々の官能基化を行った。
（合成例１１）
（5,10-Dibromo-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ３ａ）の合成）
化合物Ａ２（１．６ｇ，２．０ｍｍｏｌ）とＣｕＢｒ２（２．７ｇ，１２ｍｍｏｌ）を２００ｍｌのＮＭＰ／ｍｅｔｈａｎｏｌ／ｗａｔｅｒ混合溶媒（体積比５／２／１）懸濁させ、１５時間還流した。
冷却後、反応混合物を１Ｎ塩酸（１００ｍＬ）に注ぎ、生成した沈殿を濾取した。
これをヘキサンで洗浄することで、目的の化合物Ａ３ａを白色固体（１．４ｇ，９６％）として得た。
（合成例１１）
（5,10-Dibromo-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ３ａ）の合成）
化合物Ａ２（１．６ｇ，２．０ｍｍｏｌ）とＣｕＢｒ２（２．７ｇ，１２ｍｍｏｌ）を２００ｍｌのＮＭＰ／ｍｅｔｈａｎｏｌ／ｗａｔｅｒ混合溶媒（体積比５／２／１）懸濁させ、１５時間還流した。
冷却後、反応混合物を１Ｎ塩酸（１００ｍＬ）に注ぎ、生成した沈殿を濾取した。
これをヘキサンで洗浄することで、目的の化合物Ａ３ａを白色固体（１．４ｇ，９６％）として得た。
得られた化合物Ａ３ａの測定データを以下に示す。
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ, 1.19 (d, 36H, CH3), 1.48 (sept, 6H, CH), 7.74 (s, 2H, ArH), 8.21 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.0, 18.8, 116.6, 123.9, 125.5, 133.9, 137.1, 138.6, 142.2; EIMS (70 eV) m/z 708 (M+); Anal. Calcd for C32H46Br2S2Si2: C, 54.07; H, 6.52. Found: C, 54.29; H, 6.31%.
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ, 1.19 (d, 36H, CH3), 1.48 (sept, 6H, CH), 7.74 (s, 2H, ArH), 8.21 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.0, 18.8, 116.6, 123.9, 125.5, 133.9, 137.1, 138.6, 142.2; EIMS (70 eV) m/z 708 (M+); Anal. Calcd for C32H46Br2S2Si2: C, 54.07; H, 6.52. Found: C, 54.29; H, 6.31%.
（合成例１２）
（5,10-Dichloro-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ３ｂ）の合成）
ＣｕＢｒ２に代えてＣｕＣｌ２を用いる以外、合成例１１と同様にして、化合物Ａ３ｂ（９４％の単離収率）を得た。
（5,10-Dichloro-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ３ｂ）の合成）
ＣｕＢｒ２に代えてＣｕＣｌ２を用いる以外、合成例１１と同様にして、化合物Ａ３ｂ（９４％の単離収率）を得た。
得られた化合物Ａ３ｂの測定データを以下に示す。
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ, 1.19 (d, 36H, CH3), 1.48 (sept, 6H, CH), 7.77 (s, 2H, ArH), 8.02 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.0, 18.8, 120.3, 124.9, 127.7, 131.9, 137.3, 137.3, 142.9; EIMS (70 eV) m/z 620 (M+).
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ, 1.19 (d, 36H, CH3), 1.48 (sept, 6H, CH), 7.77 (s, 2H, ArH), 8.02 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.0, 18.8, 120.3, 124.9, 127.7, 131.9, 137.3, 137.3, 142.9; EIMS (70 eV) m/z 620 (M+).
（合成例１３）
（5,10-Dicyano-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ３ｃ）の合成）
化合物Ａ２（４０２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ），ＣｓＦ（１５２ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ），Ｚｎ（ＣＮ）２（３５２ｍｇ，３．０ｍｍｏｌ）及びＣｕ（ＩＩ）ＮＯ３・３Ｈ２Ｏ（４８３ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を８０ｍｌのジオキサン―メタノール―水（体積比５／２／１）混合溶媒中で３日間還流した。
冷却後、反応混合物をクロロホルムで抽出し、濃縮した有機層をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）により精製し、化合物Ａ３ｃを黄色の固体として得た（６７ｍｇ，２２％）。
（5,10-Dicyano-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ３ｃ）の合成）
化合物Ａ２（４０２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ），ＣｓＦ（１５２ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ），Ｚｎ（ＣＮ）２（３５２ｍｇ，３．０ｍｍｏｌ）及びＣｕ（ＩＩ）ＮＯ３・３Ｈ２Ｏ（４８３ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を８０ｍｌのジオキサン―メタノール―水（体積比５／２／１）混合溶媒中で３日間還流した。
冷却後、反応混合物をクロロホルムで抽出し、濃縮した有機層をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）により精製し、化合物Ａ３ｃを黄色の固体として得た（６７ｍｇ，２２％）。
得られた化合物Ａ３ｃの測定データを以下に示す。
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ, 1.19 (d, 36H, CH3), 1.50 (sept, 6H, CH), 7.85 (s, 2H, ArH), 8.49 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 11.9, 18.7, 108.2, 117.6, 126.0, 127.5, 131.5, 137.6, 140.8, 143.7; EIMS (70 eV) m/z 602 (M+).
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ, 1.19 (d, 36H, CH3), 1.50 (sept, 6H, CH), 7.85 (s, 2H, ArH), 8.49 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 11.9, 18.7, 108.2, 117.6, 126.0, 127.5, 131.5, 137.6, 140.8, 143.7; EIMS (70 eV) m/z 602 (M+).
（合成例１４）
（5,10-Dihydroxy-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ３ｄ）の合成）
化合物Ａ２（１．６ｇ，２．０ｍｍｏｌ）とオキソン（６．９ｇ，１１ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下、ＴＨＦ（１２０ｍＬ）、アセトン（２４ｍＬ）、水（１２ｍＬ）の混合溶媒に加えた。
この混合物を遮光下、室温で１５時間攪拌したのち、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ４水溶液加え反応を停止した。
溶媒を留去後、残渣を酢酸エチルで抽出し、有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）により精製することで、化合物Ａ３ｄ（１．１ｇ，９１％）を得た。
（5,10-Dihydroxy-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ３ｄ）の合成）
化合物Ａ２（１．６ｇ，２．０ｍｍｏｌ）とオキソン（６．９ｇ，１１ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下、ＴＨＦ（１２０ｍＬ）、アセトン（２４ｍＬ）、水（１２ｍＬ）の混合溶媒に加えた。
この混合物を遮光下、室温で１５時間攪拌したのち、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ４水溶液加え反応を停止した。
溶媒を留去後、残渣を酢酸エチルで抽出し、有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）により精製することで、化合物Ａ３ｄ（１．１ｇ，９１％）を得た。
得られた化合物Ａ３ｄの測定データを以下に示す。
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ, 1.19 (d, 36H, CH3), 1.46 (sept, 6H, CH), 5.27 (s, 2H, OH), 7.26 (s, 2H, ArH), 7.74 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.0, 18.8, 102.9, 122.4, 129.8, 131.2, 135.0, 143.3, 147.9; EIMS (70 eV) m/z 584 (M+).
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ, 1.19 (d, 36H, CH3), 1.46 (sept, 6H, CH), 5.27 (s, 2H, OH), 7.26 (s, 2H, ArH), 7.74 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.0, 18.8, 102.9, 122.4, 129.8, 131.2, 135.0, 143.3, 147.9; EIMS (70 eV) m/z 584 (M+).
さらに、合成例１１、１４で得られた化合物Ａ３ａ、Ａ３ｄを用い、更なる官能基化を行った。
（合成例１５）
（5,10-Dihexadecyl-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ４ａａ）の合成
９−ＢＢＮ溶液（０．５Ｍ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｉｎ ＴＨＦ，３ｍＬ，１．５ｍｍｏｌ）と１−ｈｅｘａｄｅｃｙｎｅ（０．４ｍｌ，１．５ｍｍｏｌ）を室温で６時間攪拌することで調整した溶液に、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）（４１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ），化合物Ａ３ａ（３５５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加え、さらに溶媒として脱気したＴＨＦ（１０ｍＬ）を塩基としてＮａＯＨ水溶液（１ｍＬ ｏｆ １．５Ｍ ｓｏｌｕｔｉｏｎ）を加え、１５時間還流した。
冷却後、クロロホルムで混合物を希釈し、有機層を水洗した後に濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）で精製することで、化合物Ａ４ａａを白色の固体として得た（２４５ｍｇ，５１％）。
（合成例１５）
（5,10-Dihexadecyl-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ４ａａ）の合成
９−ＢＢＮ溶液（０．５Ｍ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｉｎ ＴＨＦ，３ｍＬ，１．５ｍｍｏｌ）と１−ｈｅｘａｄｅｃｙｎｅ（０．４ｍｌ，１．５ｍｍｏｌ）を室温で６時間攪拌することで調整した溶液に、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）（４１ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ），化合物Ａ３ａ（３５５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加え、さらに溶媒として脱気したＴＨＦ（１０ｍＬ）を塩基としてＮａＯＨ水溶液（１ｍＬ ｏｆ １．５Ｍ ｓｏｌｕｔｉｏｎ）を加え、１５時間還流した。
冷却後、クロロホルムで混合物を希釈し、有機層を水洗した後に濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）で精製することで、化合物Ａ４ａａを白色の固体として得た（２４５ｍｇ，５１％）。
得られた化合物Ａ４ａａの測定データを以下に示す。
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 6H, CH3) 1.20 (d, 36H, CH3), 1.25-1.37 (m, 52H, CH2), 1.48 (sept, 6H, CH), 1.82 (quint, 4H, CH2), 3.09 (t, 4H, CH2), 7.68 (s, 2H, ArH), 7.78 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.0, 14.3, 18.8, 22.8, 22.9, 29.5, 29.7, 29.8, 29.8, 29.8, 29.8, 29.9, 31.0, 31.7, 32.1, 34.5, 120.0, 124.8, 132.0, 134.2, 135.9, 138.6, 142.4; MS (MALDI-TOF, 1,8,9-trihydroxyanthracene matrix) m/z 100.76 (M+).
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 6H, CH3) 1.20 (d, 36H, CH3), 1.25-1.37 (m, 52H, CH2), 1.48 (sept, 6H, CH), 1.82 (quint, 4H, CH2), 3.09 (t, 4H, CH2), 7.68 (s, 2H, ArH), 7.78 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.0, 14.3, 18.8, 22.8, 22.9, 29.5, 29.7, 29.8, 29.8, 29.8, 29.8, 29.9, 31.0, 31.7, 32.1, 34.5, 120.0, 124.8, 132.0, 134.2, 135.9, 138.6, 142.4; MS (MALDI-TOF, 1,8,9-trihydroxyanthracene matrix) m/z 100.76 (M+).
（合成例１６）
（5,10-Bis(methoxycarbonyl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ４ａｂ）の合成）
化合物Ａ３ａ（２００ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液にｎ−ＢｕＬｉ（０．４ｍＬ，０．７ｍｍｏｌ，１．６５Ｍ）を０℃で加え、混合物を室温で３０分攪拌した後、塩化炭酸メチル（０．０６ｍＬ，０．７８ｍｍｏｌ）を加えた。
室温で１６時間攪拌後、水（５ｍＬ）と１Ｎ塩酸（５ｍＬ）を加え、混合物をクロロホルムで抽出した。
濃縮した抽出液をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム））で精製し、黄色固体として化合物Ａ４ａｂ（７６ｍｇ，４１％）を得た。
（5,10-Bis(methoxycarbonyl)-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ４ａｂ）の合成）
化合物Ａ３ａ（２００ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液にｎ−ＢｕＬｉ（０．４ｍＬ，０．７ｍｍｏｌ，１．６５Ｍ）を０℃で加え、混合物を室温で３０分攪拌した後、塩化炭酸メチル（０．０６ｍＬ，０．７８ｍｍｏｌ）を加えた。
室温で１６時間攪拌後、水（５ｍＬ）と１Ｎ塩酸（５ｍＬ）を加え、混合物をクロロホルムで抽出した。
濃縮した抽出液をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム））で精製し、黄色固体として化合物Ａ４ａｂ（７６ｍｇ，４１％）を得た。
得られた化合物Ａ４ａｂの測定データを以下に示す。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.21 (d, 36H, CH3), 1.51 (sept, 6H, CH), 4.09 (s, 2H, CH3), 8.55 (s, 2H, ArH), 8.89 (s, 2H, ArH), 13C NMR δ 12.1, 18.8, 125.3, 125.6, 126.8, 134.3, 136.9, 137.4, 145.4, 167.0; EIMS (70 eV) m/z 668 (M+).
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.21 (d, 36H, CH3), 1.51 (sept, 6H, CH), 4.09 (s, 2H, CH3), 8.55 (s, 2H, ArH), 8.89 (s, 2H, ArH), 13C NMR δ 12.1, 18.8, 125.3, 125.6, 126.8, 134.3, 136.9, 137.4, 145.4, 167.0; EIMS (70 eV) m/z 668 (M+).
（合成例１７）
（5,10-Didodecyloxy-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ４ｄ）の合成）
化合物Ａ３ｄ（２００ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（１００ｍｇ，０．７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１０ｍＬ）中、室温で２時間攪拌した後、１−ブロモドテカン（０．３ｍＬ，１．１ｍｍｏｌ）を加え８０℃で１５時間攪拌した。
冷却後、混合物に水（５ｍＬ）と１Ｎ塩酸（５ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。
濃縮後、カラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）にて精製し、化合物Ａ４ｄを白色固体として得た（２６２ｍｇ，８４％）。
（5,10-Didodecyloxy-2,7-bis(triisopropylsilyl)naphtho[1,2-b:5,6-b’]dithiophene（以下、化合物Ａ４ｄ）の合成）
化合物Ａ３ｄ（２００ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（１００ｍｇ，０．７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１０ｍＬ）中、室温で２時間攪拌した後、１−ブロモドテカン（０．３ｍＬ，１．１ｍｍｏｌ）を加え８０℃で１５時間攪拌した。
冷却後、混合物に水（５ｍＬ）と１Ｎ塩酸（５ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。
濃縮後、カラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）にて精製し、化合物Ａ４ｄを白色固体として得た（２６２ｍｇ，８４％）。
得られた化合物Ａ４ｄの測定データを以下に示す。
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 6H, CH3) 1.19 (d, 36H, CH3), 1.25-1.37 (m, 52H, CH2), 1.46 (sept, 6H, CH), 1.97 (quint, 4H, CH2), 4.26 (t, 4H, CH2), 7.15 (s, 2H, ArH), 7.70 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.1, 14.3, 18.8, 22.8, 26.4, 29.4, 29.5, 29.6, 29.8, 29.8, 29.9, 32.1, 68.5, 99.2, 122.3, 130.8, 132.4, 134.0, 143.2, 151.8; MS (MALDI-TOF, 1,8,9-trihydroxyanthracene matrix) m/z 920.64 (M+).
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 6H, CH3) 1.19 (d, 36H, CH3), 1.25-1.37 (m, 52H, CH2), 1.46 (sept, 6H, CH), 1.97 (quint, 4H, CH2), 4.26 (t, 4H, CH2), 7.15 (s, 2H, ArH), 7.70 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.1, 14.3, 18.8, 22.8, 26.4, 29.4, 29.5, 29.6, 29.8, 29.8, 29.9, 32.1, 68.5, 99.2, 122.3, 130.8, 132.4, 134.0, 143.2, 151.8; MS (MALDI-TOF, 1,8,9-trihydroxyanthracene matrix) m/z 920.64 (M+).
また、種々の無置換ベンゾジカルコゲノフェンを用いて、トリイソプロピルシリル基置換ベンゾジカルコゲノフェンを合成した。
（合成例１８）
（2,6-Bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]difuran（以下、化合物Ｆ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジフランに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｆ１を得た。
（合成例１８）
（2,6-Bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]difuran（以下、化合物Ｆ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジフランに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｆ１を得た。
得られた化合物Ｆ１の測定データを以下に示す。
88% yield. 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.14 (d, 36H, CH3), 1.41 (sept, 6H, CH), 7.06 (s, 2H, ArH), 7.60 (s, 2H, ArH); 13C NMR δ 161.9 155.1 126.3 118.4 101.1 18.7 11.2; EIMS (70 eV) m/z = 470 (M+).
88% yield. 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.14 (d, 36H, CH3), 1.41 (sept, 6H, CH), 7.06 (s, 2H, ArH), 7.60 (s, 2H, ArH); 13C NMR δ 161.9 155.1 126.3 118.4 101.1 18.7 11.2; EIMS (70 eV) m/z = 470 (M+).
（合成例１９）
（2,6-Bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]dithiophene（以下、化合物Ｇ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジチオフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｇ１を得た。
（2,6-Bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]dithiophene（以下、化合物Ｇ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジチオフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｇ１を得た。
得られた化合物Ｇ１の測定データを以下に示す。
88% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.16 (d, 36H, CH3), 1.43 (sept, 6H, CH), 7.51 (s, 2H, ArH), 7.30 (s, 2H, ArH), 13C NMR δ 12.0, 18.8, 115.7, 131.7, 138.4, 139.0, 140.7; EIMS (70 eV) m/z 502 (M+).
88% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.16 (d, 36H, CH3), 1.43 (sept, 6H, CH), 7.51 (s, 2H, ArH), 7.30 (s, 2H, ArH), 13C NMR δ 12.0, 18.8, 115.7, 131.7, 138.4, 139.0, 140.7; EIMS (70 eV) m/z 502 (M+).
（合成例２０）
（2,6-Bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]diselenophene（化合物Ｈ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジセレノフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｈ１を得た。
（2,6-Bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]diselenophene（化合物Ｈ１）の合成）
ナフト［１，２−ｂ：５，６−ｂ’］ジチオフェンをベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジセレノフェンに代える以外、合成例１と同様にして、化合物Ｈ１を得た。
得られた化合物Ｈ１の測定データを以下に示す。
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.16 (d, 36H, CH3), 1.39 (sept, 6H, CH), 7.77 (s, 2H, ArH), 8.36 (s, 2H, ArH), 13C NMR δ 12.2, 18.8, 121.2, 135.5, 140.9, 141.6, 142.3; EIMS (70 eV) m/z 598 (M+).
Quantitative yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.16 (d, 36H, CH3), 1.39 (sept, 6H, CH), 7.77 (s, 2H, ArH), 8.36 (s, 2H, ArH), 13C NMR δ 12.2, 18.8, 121.2, 135.5, 140.9, 141.6, 142.3; EIMS (70 eV) m/z 598 (M+).
合成例１８〜２０で得られたトリイソプロピルシリル基置換ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ’］ジカルコゲノフェン（化合物Ｆ１、Ｇ１、Ｈ１）をそれぞれ直接ホウ素化し、対応するベンゾジカルコゲノフェン誘導体用中間体を合成した。
（合成例２１）
（4,8-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,6-bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]difuran（以下、化合物Ｆ２）の合成）
化合物Ｆ１（１ｍｍｏｌ），ピナコールジボラン（２ｍｍｏｌ），［Ｉｒ（ＯＭｅ）（ＣＯＤ）］２（５ｍｏｌ％），４，４’−ジ−ｔ−ブチル−２，２’−ビピリジン（１０ｍｏｌ％）の乾燥シクロヘキサン溶液をアルゴン雰囲気、遮光下、８０℃で１０時間攪拌した。
その後、ピナコールジボラン（２ｍｍｏｌ），［Ｉｒ（ＯＭｅ）（ＣＯＤ）］２（５ｍｏｌ％）、４，４’−ジ−ｔ−ブチル−２，２’−ビピリジン（１０ｍｏｌ％）を５時間おきに５回添加することで、反応を促進させた。
反応混合物を冷却後、溶媒を留去し、残渣をクロロホルムに溶解し、カラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）により精製し、化合物Ｆ２を白色の固体として得た。
（4,8-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,6-bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]difuran（以下、化合物Ｆ２）の合成）
化合物Ｆ１（１ｍｍｏｌ），ピナコールジボラン（２ｍｍｏｌ），［Ｉｒ（ＯＭｅ）（ＣＯＤ）］２（５ｍｏｌ％），４，４’−ジ−ｔ−ブチル−２，２’−ビピリジン（１０ｍｏｌ％）の乾燥シクロヘキサン溶液をアルゴン雰囲気、遮光下、８０℃で１０時間攪拌した。
その後、ピナコールジボラン（２ｍｍｏｌ），［Ｉｒ（ＯＭｅ）（ＣＯＤ）］２（５ｍｏｌ％）、４，４’−ジ−ｔ−ブチル−２，２’−ビピリジン（１０ｍｏｌ％）を５時間おきに５回添加することで、反応を促進させた。
反応混合物を冷却後、溶媒を留去し、残渣をクロロホルムに溶解し、カラムクロマトグラフィ（シリカゲル，クロロホルム）により精製し、化合物Ｆ２を白色の固体として得た。
得られた化合物Ｆ２の測定データを以下に示す。
97% yield. 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.57 (m, 36H, CH3), 1.37 (s, 24H, CH3), 7.40 (s, 2H, ArH); 13C NMR δ 161.9 159.3 130.8 119.3 101.6 83.5 24.9 18.9 11.6; EIMS (70 eV) m/z = 723 (M+).
97% yield. 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.57 (m, 36H, CH3), 1.37 (s, 24H, CH3), 7.40 (s, 2H, ArH); 13C NMR δ 161.9 159.3 130.8 119.3 101.6 83.5 24.9 18.9 11.6; EIMS (70 eV) m/z = 723 (M+).
（合成例２２）
（4,8-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,6-bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]dithiophene（以下、化合物Ｇ２）の合成）
化合物Ｆ１を化合物Ｇ１にした以外、合成例２１と同様にして、化合物Ｇ２を合成した。
（4,8-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,6-bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]dithiophene（以下、化合物Ｇ２）の合成）
化合物Ｆ１を化合物Ｇ１にした以外、合成例２１と同様にして、化合物Ｇ２を合成した。
得られた化合物Ｇ２の測定データを以下に示す。
74% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.18 (d, 36H, CH3), 1.43(sept, 6H, CH), 1.46 (s, 24H, CH3), 8.30 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.2, 18.9, 25.2, 84.2, 134.0, 138.7, 143.5, 148.2; EIMS (70 eV) m/z 754 (M+).
74% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.18 (d, 36H, CH3), 1.43(sept, 6H, CH), 1.46 (s, 24H, CH3), 8.30 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.2, 18.9, 25.2, 84.2, 134.0, 138.7, 143.5, 148.2; EIMS (70 eV) m/z 754 (M+).
（合成例２３）
（4,8-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,6-bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]diselenophene（以下、化合物Ｈ２）の合成）
化合物Ｆ１を化合物Ｈ１にした以外、合成例２１と同様にして、化合物Ｈ２を合成した。
（4,8-Bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,6-bis(triisopropylsilyl)benzo[1,2-b:4,5-b’]diselenophene（以下、化合物Ｈ２）の合成）
化合物Ｆ１を化合物Ｈ１にした以外、合成例２１と同様にして、化合物Ｈ２を合成した。
得られた化合物Ｈ２の測定データを以下に示す。
28% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.19 (d, 36H, CH3), 1.40(sept, 6H, CH), 1.45 (s, 24H, CH3), 8.72 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.4, 19.0, 25.2, 84.4, 138.0, 142.2, 145.8, 150.1; EIMS (70 eV) m/z 850 (M+).
28% yield. 1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.19 (d, 36H, CH3), 1.40(sept, 6H, CH), 1.45 (s, 24H, CH3), 8.72 (s, 2H, ArH) 13C NMR δ 12.4, 19.0, 25.2, 84.4, 138.0, 142.2, 145.8, 150.1; EIMS (70 eV) m/z 850 (M+).
上述したアセンジカルコゲノフェン誘導体及びその合成方法により、新たなアセンジカルコゲノフェン骨格を有する有機半導体材料等の研究、開発、実用化が期待される。
Claims (9)
- 式１又は式２で表される、
（式１及び式２中、Ａｒ１は少なくとも一つの水素がボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換されたベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれか、Ｙは硫黄原子又はセレン原子、Ｚは式４２で表される置換基を表す。）
（式４２中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基を表す。）
ことを特徴とするアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体。 - 前記式１で表されるアセンジカルコゲノフェン誘導体が式１１、式２１、式２２又は式２３で表される、
（式１１、式２１、式２２及び式２３中、Ｂはボロン酸基或いはボロン酸エステル基を表し、Ｙ及びＺは式１の定義と同じである。）
ことを特徴とする請求項１に記載のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体。 - 前記ボロン酸エステル基がボロン酸ピナコールエステル基である、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体。 - 式５１又は式５２で表される化合物のいずれかとボロン酸又はボロン酸エステルとを反応させ、
（式５１及び式５２中、Ａｒ２はベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれか、Ｙは硫黄原子又はセレン原子、Ｚは式４２で表される置換基を表し、式４２中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基を表す。）
ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環の少なくとも一つの水素をボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換し、式１又は式２で表されるアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体を合成する、
（式１及び式２中、Ａｒ１は少なくとも一つの水素がボロン酸基或いはボロン酸エステル基に置換されたベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環のいずれかを表し、Ｙ及びＺは前記式５１及び前記式５２の定義と同じである。）
ことを特徴とするアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成方法。 - 触媒としてＣＨ活性化触媒を添加する、
ことを特徴とする請求項４に記載のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成方法。 - 前記ボロン酸エステルとしてボロン酸ピナコールエステルを用いる、
ことを特徴とする請求項４又は５に記載のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成方法。 - 式６１又は式６２で表される化合物と求電子剤とを反応させ、α位に置換基を導入して前記式５１又は前記式５２で表される化合物を合成する、
（式６１及び式６２中、Ａｒ２及びＹは前記式５１及び前記式５２の定義と同じである。）
ことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか一項に記載のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成方法。 - 有機金属試薬を添加する、
ことを特徴とする請求項７に記載のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成方法。 - 前記求電子剤として、式７２を用いる、
（式７２中、Ｒはアルキル基、アリール基又はフェニルメチル基、Ｘはハロゲンを表す。）
ことを特徴とする請求項７又は８に記載のアセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体の合成方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012031605A JP5923823B2 (ja) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法 |
| KR1020147022593A KR20140123070A (ko) | 2012-02-16 | 2012-12-12 | 아센디칼코게노펜 유도체용 중간체 및 이의 합성 방법 |
| US14/379,250 US9018398B2 (en) | 2012-02-16 | 2012-12-12 | Intermediate for acenedichalcogenophene derivative and method for synthesizing same |
| EP12868685.4A EP2816044A4 (en) | 2012-02-16 | 2012-12-12 | INTERMEDIATE FOR A DICHALCOGENOPHENE ACEN DERIVATIVE AND METHOD FOR SYNTHESIS |
| PCT/JP2012/082241 WO2013121664A1 (ja) | 2012-02-16 | 2012-12-12 | アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法 |
| CN201280069946.2A CN104114563B (zh) | 2012-02-16 | 2012-12-12 | 并苯二硫族元素杂环戊二烯衍生物用中间体及其合成方法 |
| TW102101919A TWI460180B (zh) | 2012-02-16 | 2013-01-18 | And intermediates of benzodimerine heterocyclic pentadiene derivatives and their synthesis methods |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012031605A JP5923823B2 (ja) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013166728A JP2013166728A (ja) | 2013-08-29 |
| JP5923823B2 true JP5923823B2 (ja) | 2016-05-25 |
Family
ID=48983806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012031605A Expired - Fee Related JP5923823B2 (ja) | 2012-02-16 | 2012-02-16 | アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9018398B2 (ja) |
| EP (1) | EP2816044A4 (ja) |
| JP (1) | JP5923823B2 (ja) |
| KR (1) | KR20140123070A (ja) |
| CN (1) | CN104114563B (ja) |
| TW (1) | TWI460180B (ja) |
| WO (1) | WO2013121664A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3496500B2 (ja) | 1998-01-29 | 2004-02-09 | 日産自動車株式会社 | 摩擦車式無段変速機 |
| CN104031245B (zh) * | 2014-06-24 | 2016-05-18 | 国家纳米科学中心 | 一种聚合物光伏材料、制备方法及其用途 |
| KR102378363B1 (ko) | 2014-12-31 | 2022-03-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 |
| US10418567B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-09-17 | Feng-wen Yen | Organic compound for organic EL device and using the same |
| KR102631401B1 (ko) | 2018-08-28 | 2024-01-29 | 삼성전자주식회사 | 화합물, 박막 트랜지스터 및 전자 소자 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6958420B2 (en) * | 2002-07-19 | 2005-10-25 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Synthesis of aminoarylboronic esters and substituted anilines from arenes via catalytic C-H activation/borylation/amination and uses thereof |
| US7834198B2 (en) * | 2005-01-19 | 2010-11-16 | National University Of Corporation Hiroshima University | Condensed polycyclic aromatic compound and use thereof |
| GEP20125566B (en) * | 2005-07-15 | 2012-07-10 | Amr Technology Inc | Aryl-and heteroaryl-substituded tetrahydro-benzazepines and use thereof to block reuptake of norepinephrine, dopamine and serotonin |
| KR20090033909A (ko) | 2006-07-26 | 2009-04-06 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 치환 벤조디티오펜 및 벤조디셀레노펜 |
| JP5284677B2 (ja) * | 2008-04-25 | 2013-09-11 | 山本化成株式会社 | 有機トランジスタ |
| JP5284678B2 (ja) | 2008-04-25 | 2013-09-11 | 山本化成株式会社 | 有機トランジスタ |
| JP2010018529A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ベンゾジフラン化合物及び有機半導体デバイス |
| JP5544650B2 (ja) * | 2008-11-21 | 2014-07-09 | 国立大学法人広島大学 | 新規化合物の製造方法 |
| US9365585B2 (en) | 2010-02-15 | 2016-06-14 | Merck Patent Gmbh | Semiconducting polymers |
| US8883782B2 (en) * | 2010-03-15 | 2014-11-11 | Amgen Inc. | Spiro-tetracyclic ring compounds as beta-secretase modulators and methods of use |
| US10050201B2 (en) | 2010-04-19 | 2018-08-14 | Merck Patent Gmbh | Polymers of benzodithiophene and their use as organic semiconductors |
| JP2012031605A (ja) | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Mitsubishi Electric Corp | 入退室管理装置 |
-
2012
- 2012-02-16 JP JP2012031605A patent/JP5923823B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-12 WO PCT/JP2012/082241 patent/WO2013121664A1/ja active Application Filing
- 2012-12-12 EP EP12868685.4A patent/EP2816044A4/en not_active Withdrawn
- 2012-12-12 CN CN201280069946.2A patent/CN104114563B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-12 US US14/379,250 patent/US9018398B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-12 KR KR1020147022593A patent/KR20140123070A/ko not_active Application Discontinuation
-
2013
- 2013-01-18 TW TW102101919A patent/TWI460180B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013166728A (ja) | 2013-08-29 |
| US9018398B2 (en) | 2015-04-28 |
| EP2816044A4 (en) | 2015-10-21 |
| EP2816044A1 (en) | 2014-12-24 |
| CN104114563A (zh) | 2014-10-22 |
| TWI460180B (zh) | 2014-11-11 |
| WO2013121664A1 (ja) | 2013-08-22 |
| TW201335162A (zh) | 2013-09-01 |
| CN104114563B (zh) | 2016-06-22 |
| US20150011780A1 (en) | 2015-01-08 |
| KR20140123070A (ko) | 2014-10-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5923823B2 (ja) | アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法 | |
| WO2008059771A1 (fr) | Procédé de production d'un dérivé du fullerène | |
| JP5969759B2 (ja) | 有機ホウ素化合物及びその製造方法 | |
| CN110183450B (zh) | 一种2-芳基吲唑并马来酰亚胺类稠合多环化合物的合成方法 | |
| Fiego et al. | Indium-mediated regioselective synthesis of ketones from arylstannanes under solvent-free ultrasound irradiation | |
| JP4699233B2 (ja) | フラーレン誘導体およびその製造方法 | |
| JP2010064976A (ja) | 新規シロール化合物及びその製造方法 | |
| JP5633873B2 (ja) | フラーレン二量体およびその製造方法 | |
| FR2961813A1 (fr) | Ligands supportes a haute densite locale d'atomes coordinants | |
| JP2004238362A (ja) | 光学活性四級アンモニウム塩、その製造方法、及びこれを相間移動触媒として用いた光学活性α−アミノ酸誘導体の製造方法 | |
| JP2009249355A (ja) | フッ素化されたフルオレン誘導体およびその製造方法 | |
| JP2011178709A (ja) | イミダゾリウム塩及びそれを用いた不斉合成触媒並びにイミダゾリウム塩の製造方法 | |
| JP6842696B2 (ja) | 化合物、化合物の合成方法及び有機半導体材料 | |
| JP6235932B2 (ja) | ２−シアノフェニルボロン酸誘導体の製造方法 | |
| TWI576349B (zh) | 次硼酸衍生物的製造方法及新穎次硼酸衍生物 | |
| JPWO2011111762A1 (ja) | ジアリール誘導体の製造方法、新規ビナフチル誘導体、アレーン誘導体の製造方法、及び新規アレーン誘導体 | |
| JP5142221B2 (ja) | フラーレン誘導体の製造方法 | |
| JP6589233B2 (ja) | トリアリールメタノールの製造方法 | |
| WO2014012371A1 (zh) | 手性芳香螺缩酮骨架双膦配体及其制备方法和应用 | |
| JP4480245B2 (ja) | 環状アニリン硫化物とその製造方法 | |
| JP2005082540A (ja) | 硫黄原子を有する新規アセチレン化合物とその重合体およびそれらの製造方法 | |
| JP2016074729A (ja) | イミダゾリウム塩及びそれを用いた不斉合成触媒並びにイミダゾリウム塩の製造方法 | |
| JP2003221372A (ja) | Ｎ，ｎ−ジ置換アミド類の新規製造法 | |
| JP2015061834A (ja) | イミダゾリウム塩及びそれを用いた不斉合成触媒並びにイミダゾリウム塩の製造方法 | |
| PL223108B1 (pl) | Sposób syntezy związków organicznych |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141009 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150901 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151029 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160322 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160401 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5923823 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |