JP5917346B2 - エッチング方法、およびエッチング装置 - Google Patents
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Description
前記薬液は、タンク内に溜められ、
前記タンク内の薬液中における前記タングステンの濃度を直接、もしくは間接的に計測し、
計測された前記タングステンの濃度の情報を基に、薬液中における前記タングステンの濃度が12ppm以上100,000ppm以下になるために必要なタングステン量と過酸化水素水量を計算し、
計算された前記必要なタングステン量と過酸化水素水量の情報を基に、前記タンク内の薬液中における前記タングステンの濃度が12ppm以上100,000ppm以下になるように、前記タンク内に必要なタングステンと過酸化水素水との混合液若しくは必要な過酸化水素水を供給することを特徴とする。
第1の実施形態について、以下、図面を用いて説明する。
ここでは、タングステン膜を浸漬させてエッチング処理を行った。タングステン膜を薬液内に浸漬し、エッチング時間として所定の時間が経過した時点で取り出して、エッチングされたことにより減少したタングステン量を測定し、減少したタングステン量とエッチング時間からエッチングレートを求めた。図2において、タングステンを含まない過酸化水素水によるタングステンのエッチングレートに対する、タングステン含有過酸化水素水のエッチングレートの比は、過酸化水素水の温度や濃度によらず、含有するタングステン濃度に依存していることがわかった。図2(b)において、タングステン濃度が10ppmより少ないと、タングステンを含まない時のエッチングレートに対して、実質的には殆ど変化が無いが、10ppmを超えて12ppmになるとエッチングレートが上昇し始め、15ppm以上では明らかにエッチングレートが上昇する結果となった。20ppm、25ppmとタングステン濃度が上昇すると、エッチングレートも上昇した。さらにタングステン濃度を増加させたところ、100ppm付近以上ではエッチングレートの上昇がさらに急激になった(図2(a))。
(1) H2O2+2H++2e−⇔2H2O
(2) W+4H2O⇔WO4 2−+8H++3H2O
(3) W+3H2O2⇔WO4 2−+2H++3H2O
(4) WO3+H2O⇔WO4 2−+2H+
第1の実施形態では、図1に示したように基板表面のベベル部のW膜をエッチングする例を示したがこれに限るものではない。
Claims (4)
- 12ppm以上100,000ppm以下のタングステン(W)を含有する過酸化水素水を主成分とする薬液をエッチング液として用いて、タングステンを主成分とする材料をエッチングし、
前記エッチングに使用済の前記薬液を循環して再度エッチングに用い、
エッチング対象となる前記材料は、半導体基板のべベル部に形成され、
前記薬液は、前記ベベル部に供給され、
前記薬液は、タンク内に溜められ、
前記タンク内の薬液中における前記タングステンの濃度を直接、もしくは間接的に計測し、
計測された前記タングステンの濃度の情報を基に、薬液中における前記タングステンの濃度が12ppm以上100,000ppm以下になるために必要なタングステン量と過酸化水素水量を計算し、
計算された前記必要なタングステン量と過酸化水素水量の情報を基に、前記タンク内の薬液中における前記タングステンの濃度が12ppm以上100,000ppm以下になるように、前記タンク内に必要なタングステンと過酸化水素水との混合液若しくは必要な過酸化水素水を供給することを特徴とするエッチング方法。 - 12ppm以上100,000ppm以下のタングステン(W)を含有する過酸化水素水を主成分とする薬液をエッチング液として用いて、タングステンを主成分とする材料をエッチングし、
前記薬液は、タンク内に溜められ、
前記タンク内の薬液中における前記タングステンの濃度を直接、もしくは間接的に計測し、
計測された前記タングステンの濃度の情報を基に、薬液中における前記タングステンの濃度が12ppm以上100,000ppm以下になるために必要なタングステン量と過酸化水素水量を計算し、
計算された前記必要なタングステン量と過酸化水素水量の情報を基に、前記タンク内の薬液中における前記タングステンの濃度が12ppm以上100,000ppm以下になるように、前記タンク内に必要なタングステンと過酸化水素水との混合液若しくは必要な過酸化水素水を供給することを特徴とするエッチング方法。 - 前記エッチングに使用済の前記薬液を循環して再度エッチングに用いることを特徴とする請求項2記載のエッチング方法。
- タングステン(W)を含有する過酸化水素水を主成分とする薬液を溜めるタンクと、
前記タンク内の薬液中における前記タングステンの濃度を直接、もしくは間接的に計測する計測部と、
計測された前記タングステンの濃度の情報を基に、薬液中における前記タングステンの濃度が12ppm以上100,000ppm以下になるために必要なタングステン量と過酸化水素水量を計算するコントローラと、
計算された前記必要なタングステン量と過酸化水素水量の情報を基に、前記タンク内の薬液中における前記タングステンの濃度が12ppm以上100,000ppm以下になるように、前記タンク内に必要なタングステンと過酸化水素水との混合液若しくは必要な過酸化水素水を供給する供給部と、
前記タングステンの濃度が12ppm以上100,000ppm以下に調整された前記タンク内の薬液をエッチング液として用いて、タングステンを主成分とする材料に対し、エッチング処理を行う処理槽と、
を備えたことを特徴とするエッチング装置。
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