JP5900855B2 - 赤外線反射積層体及びその製造方法 - Google Patents
赤外線反射積層体及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5900855B2 JP5900855B2 JP2012120426A JP2012120426A JP5900855B2 JP 5900855 B2 JP5900855 B2 JP 5900855B2 JP 2012120426 A JP2012120426 A JP 2012120426A JP 2012120426 A JP2012120426 A JP 2012120426A JP 5900855 B2 JP5900855 B2 JP 5900855B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- thin film
- silver
- dlc thin
- based metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Description
図1の装置を用いた。対向電極1、2の放電部面積は500cm2(幅(図の奥行きに相当)500mm×長さ100mm)である。電極間の隙間は1.0mmとした。基体4には190×300mm、厚さ125μmのPETフィルム(東レ“ルミラー”T60)を用い、速度3.6m/minで電極1の上を通した。雰囲気ガスとして、アセチレン4体積%を含む窒素との混合ガスを雰囲気ガス供給配管5より供給して排気配管8より吸入した。電極1と2の間に電圧 15kV、幅3μsの矩形パルスを周波数30kHzで印加してプラズマ7を発生させてアセチレンを分解し、膜厚40nmのDLC薄膜を得た。膜厚は、エポキシ樹脂中に埋め込んで補強したサンプルを、ライカマイクロシステムズ社製ウルトラミクロトームUC−7により切断して露出させた断面を、走査式電子顕微鏡((株)日立ハイテクノロジーズS−4800)にて加速電圧を5kVとして測定した。電極の長さを送り速度で割って算出した成膜時間は約2秒であった。
分光光度計により測定した波長400nmでの光線透過率T、光線反射率R、基体の光線透過率TF、同光線反射率RF、DLC薄膜の厚さdより下記の近似的な式1、2により吸収係数aを求めた。
測定条件 波長範囲 380nm〜2500nm、サンプリングピッチ 1nm、スキャン速度 中速、絶対反射モード
条件1において、アセチレンの濃度を35体積%(条件2)、45体積%(条件3)とし、膜厚を合わせる様に送り速度を調整した以外はすべて実施例1と同じ条件とした。
波長400nmでの吸収係数はそれぞれ2.6/μmと3.4/μmとなった。成膜時間は実施例1と同様に短い。
DLC薄膜を作成する方法を以下のように変更した。
マグネトロンスパッタ装置のチャンバー中に基材フィルムをセットして1.5×10−4Paまで70分かけて真空引きした後、アルゴンガスに水素を4体積%導入したスパッタガスを流し0.3Paの圧力として、グラファイトターゲット(56mm×212mm×5mmt)を装着したカソードに直流電力200Wを印加して搬送速度0.1m/minにてDLC薄膜を成膜した。波長400nmでの吸収係数は4.3/μmと大きくなった上に、成膜時間が長く生産性を低くする条件である。
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製“タフトップ”C0T0(100μm厚)をスパッタ装置にセットして、到達圧力8×10−3Paまで真空引きした後、アルゴンガスを流し圧力0.5Paとした。Ag合金ターゲット(56mm×212mm×5mmt:1質量%Au含有)に直流電力210Wを印加して、搬送速度0.3m/minにて、非ハードコート面に厚さ14nmの銀系金属膜を形成した。
次に条件1の方法にて膜厚40nmのDLC薄膜を積層した。
続いて、アクリル系ハードコート剤としてJSR(株)製“オプスター”Z7535を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度7.5質量%に希釈し、バーコーター(番手No.10)を用いて塗布し、80℃で3分乾燥した後、UV硬化(水銀ランプ使用、670mJ/cm2)させた。ハードコート層の膜厚は0.6μmであった。
このように作成した赤外線反射積層体の分光光度計により測定した波長400nmでの光線透過率と2.5μmでの光線反射率を表1にまとめた。波長400nmでの光線透過率は59%とこの種の用途としては高い値となった。また2.5μmにおける光線反射率は80%と高い値となった。
実施例1と同様の方法で銀系金属膜を形成した上に、条件2によるDLC薄膜を形成した以外は、実施例1と同様の方法にて赤外線反射積層体を作成した。
アクリル系ハードコートを有するフィルムとして東レフィルム加工(株)製“タフトップ”C0T0(100μm厚)の非ハードコート面に、条件1の方法にて膜厚40nmのDLC薄膜を得た。次に、スパッタ装置にセットして、到達圧力8×10−3Paまで真空引きした後、アルゴンガスを流し圧力0.5Paとした。Ag合金ターゲット(56mm×212mm×5mmt:1質量%Au含有)に直流電力210Wを印加して、搬送速度0.3m/minにて銀系金属膜を厚さ14nm形成した。
さらに条件1の方法にて膜厚40nmのDLC膜を得た。
続いて、アクリル系ハードコート剤としてJSR(株)製“オプスター”Z7535を希釈溶媒にメチルエチルケトンを用いて固形分濃度7.5質量%に希釈し、バーコーター(番手No.10)を用いて塗布し、80℃で3分乾燥した後、UV硬化(水銀ランプ使用、670mJ/cm2)させた。ハードコート層の膜厚は0.6μmであった。
分光光度計により測定した波長400nmでの光線透過率と2.5μmでの光線反射率を表1にまとめた。波長400nmでの光線透過率は55%とこの種の用途としては高い値となった。
実施例1と同様の方法で銀系金属膜を形成した上に、条件1によるDLC薄膜の2回の成膜を続けて行い、DLC薄膜を80nm形成した以外は、実施例1と同様の方法にて赤外線反射積層体を作成した。
実施例1と同様の方法で銀系金属膜を形成した上に、条件4によりスパッタリングでDLC薄膜を形成した以外は、実施例1と同様の方法にて赤外線反射積層体を作成した。
DLC薄膜の黄色みが強く、波長400nmでの光線透過率は31%と、低いものとなった。
実施例1と同様の方法で銀系金属膜を形成した上に、条件3によりスパッタリングでDLC薄膜を形成した以外は、実施例1と同様の方法にて赤外線反射積層体を作成した。
DLC薄膜の黄色みが強く、波長400nmでの光線透過率は43%と、不十分なものであった。
実施例1と同様の方法で銀系金属膜を形成した上に、条件1により、15m/minの基材搬送速度でDLC薄膜の成膜を行い、DLC薄膜を10nm形成した以外は、実施例1と同様の方法にて赤外線反射積層体を作成した。
波長400nmでの光線透過率は45%と、不十分なものであった。
実施例1と同様の方法で銀系金属膜を形成した上に、条件1によるDLC薄膜の4回の成膜を続けて行い、DLC薄膜を160nm形成した以外は、実施例1と同様の方法にて赤外線反射積層体を作成した。
3 誘電体
4 基体
5 雰囲気ガス供給配管
6 雰囲気ガス
7 プラズマ化雰囲気ガス
8 排気配管
9 窒素供給配管
10 高周波電源
11 雰囲気ガス供給装置
12 窒素供給装置
13 ガス吸気装置
14 透明基体
15 DLC薄膜
16 銀系金属膜
Claims (1)
- 透明基体上に、銀系金属膜および波長400nmにおける光の吸収係数が3/μm以下であり、厚さが20〜100nmの範囲にあるダイヤモンド状炭素膜がこの順に積層された赤外線反射積層体、または、透明基体上に、ダイヤモンド状炭素薄膜、銀系金属膜およびダイヤモンド状炭素薄膜がこの順に積層され、それぞれのダイヤモンド状炭素薄膜の波長400nmにおける光の吸収係数が3/μm以下であり、厚さが20〜100nmの範囲にある赤外線反射積層体の製造方法であって、常圧の雰囲気下において、対向する電極間に電圧を印加して低温プラズマを発生させ、窒素により1〜40体積%の濃度に希釈されたアセチレンを分解することで反応生成物を堆積させる方法によりダイヤモンド状炭素膜を積層することを特徴とする赤外線反射積層体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012120426A JP5900855B2 (ja) | 2012-05-28 | 2012-05-28 | 赤外線反射積層体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012120426A JP5900855B2 (ja) | 2012-05-28 | 2012-05-28 | 赤外線反射積層体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013244672A JP2013244672A (ja) | 2013-12-09 |
JP5900855B2 true JP5900855B2 (ja) | 2016-04-06 |
Family
ID=49844829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012120426A Expired - Fee Related JP5900855B2 (ja) | 2012-05-28 | 2012-05-28 | 赤外線反射積層体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5900855B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113549887B (zh) * | 2021-07-26 | 2022-11-01 | 吉林大学 | 一种红外反射复合涂层及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05301743A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-16 | Asahi Glass Co Ltd | 硬質カーボン膜付きガラスおよび熱線反射ガラス |
JPH06278244A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-10-04 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 積層体 |
JP4404350B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2010-01-27 | 潔 千葉 | 積層体 |
JP2008050670A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Okuma Engineering:Kk | 炭素系膜の形成装置および形成方法 |
JP5585983B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2014-09-10 | 国立大学法人名古屋大学 | ダイヤモンドライクカーボン膜付基材の製造方法 |
-
2012
- 2012-05-28 JP JP2012120426A patent/JP5900855B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013244672A (ja) | 2013-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Yun | Ultrathin metal films for transparent electrodes of flexible optoelectronic devices | |
TW294630B (ja) | ||
JP3821844B2 (ja) | 両面反射フィルム | |
JP5895687B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP4269261B2 (ja) | 透明ガスバリアフィルムの製造方法 | |
WO2015012404A1 (ja) | 電子デバイスおよびその製造方法 | |
JP2010241638A (ja) | 金属ナノ粒子層を挟んだ薄膜積層体 | |
JP2012533514A (ja) | 低放射ガラス及びその製造方法 | |
JP2011173764A (ja) | 低放射膜 | |
JP5900855B2 (ja) | 赤外線反射積層体及びその製造方法 | |
US20120052244A1 (en) | Layer system having barrier properties and a structured conductive layer, method for producing the same, and use of such a layer system | |
JP2011037255A (ja) | 積層体 | |
JP2009226918A (ja) | 積層体 | |
TWI604751B (zh) | Electronic device and electronic device sealing method | |
WO2016183691A1 (en) | Transparent metallo-dielectric coatings, structures, and devices, and methods of fabrication thereof | |
JP2014174459A (ja) | リフレクター、および、その製造方法 | |
JP2008221732A (ja) | 積層体 | |
JP2011240538A (ja) | ガスバリア性シート及びその製造方法 | |
JP5110723B1 (ja) | 透明断熱シート | |
JP2012083686A (ja) | 透明断熱シート及びその製造方法 | |
JP5376307B2 (ja) | イオンプレーティング方法及び装置、及びイオンプレーティングによるガスバリア膜形成方法 | |
KR101719520B1 (ko) | 탄화불소 박막을 포함하는 다층 배리어 필름 및 이의 제조방법 | |
JP2011161892A (ja) | 透明導電膜付ガスバリアフィルム | |
JP4404350B2 (ja) | 積層体 | |
JP5506275B2 (ja) | 熱線遮蔽フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150116 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151016 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151027 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151214 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20151214 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20151214 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160209 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160229 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5900855 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |