JP5893516B2 - 被処理体の処理装置及び被処理体の載置台 - Google Patents
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Description
前記被覆部材と前記設置部との間には、平面視において前記フォーカスリングの庇部と前記被覆部材との境界から前記設置部が視野に入らないように覆う遮蔽部材が設けられていてもよい。
2 載置台
10 フォーカスリング
11 静電チャック
12 押圧部材
13 サセプタ
15a 冷媒流路
30 第1の高周波電源
40 第2の高周波電源
50 支持部材
51 円筒部材
60 円弧部材
61 遮蔽部材
70 被覆部材
80 伝熱部材
W ウェハ
Claims (6)
- 被処理体の処理装置であって、
処理空間を画成する処理容器と、
前記処理空間内に配置された載置台と、を備え、
前記載置台は、被処理体を載置する静電チャックと、当該静電チャックの外周部に設けられたフォーカスリングを備え、
前記フォーカスリングを前記静電チャックに対して押圧する円環状の押圧部材と、
前記押圧部材を前記静電チャックに固定する固定部材と、を備え、
前記フォーカスリングには、外側面の全周にわたって当該フォーカスリングの中心方向に向かって凹に窪む係止部が形成され、
前記押圧部材は、複数の円弧部材を環状に組み合わせて形成され、前記フォーカスリングの係止部に係止して前記フォーカスリングを前記静電チャックに対して押圧する接触部と、当該接触部から下方に延伸し、前記固定部材により前記静電チャックに固定される設置部とを備え、
前記フォーカスリングの外周端部の上面には、平面視において前記押圧部材の接触部が視野に入らないように覆う庇部が形成されていることを特徴とする、被処理体の処理装置。 - 前記押圧部材の設置部は、石英からなる被覆部材により覆われていることを特徴とする、請求項1に記載の被処理体の処理装置。
- 前記被覆部材は、前記フォーカスリングの庇部の外周端部と当接して設けられ、
前記被覆部材と前記設置部との間には、平面視において前記フォーカスリングの庇部と前記被覆部材との境界から前記設置部が視野に入らないように覆う遮蔽部材が設けられていることを特徴とする、請求項2に記載の被処理体の処理装置。 - 前記静電チャックと前記フォーカスリングの間には、伝熱部材が介在していることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の被処理体の処理装置。
- 前記押圧部材は、セラミックスにより形成されていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の被処理体の処理装置。
- 被処理体を載置する静電チャックと、当該静電チャックの外周部に設けられたフォーカスリングを備える、プラズマ処理容器内に配置される被処理体の載置台であって、
前記フォーカスリングを前記静電チャックに対して押圧する円環状の押圧部材と、
前記押圧部材を前記静電チャックに固定する固定部材と、を備え、
前記フォーカスリングには、外側面の全周にわたって当該フォーカスリングの中心方向に向かって凹に窪む係止部が形成され、
前記押圧部材は、複数の円弧部材を環状に組み合わせて形成され、前記フォーカスリングの係止部に係止して前記フォーカスリングを前記静電チャックに対して押圧する接触部と、当該接触部から下方に延伸し、前記固定部材により前記静電チャックに固定される設置部とを備え、
前記フォーカスリングの外周端部の上面には、平面視において前記押圧部材の接触部が視野に入らないように覆う庇部が形成されていることを特徴とする、被処理体の載置台。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012140550A JP5893516B2 (ja) | 2012-06-22 | 2012-06-22 | 被処理体の処理装置及び被処理体の載置台 |
KR1020130071639A KR102069773B1 (ko) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 피처리체의 처리 장치 및 피처리체의 재치대 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012140550A JP5893516B2 (ja) | 2012-06-22 | 2012-06-22 | 被処理体の処理装置及び被処理体の載置台 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014007215A JP2014007215A (ja) | 2014-01-16 |
JP5893516B2 true JP5893516B2 (ja) | 2016-03-23 |
Family
ID=50104706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012140550A Expired - Fee Related JP5893516B2 (ja) | 2012-06-22 | 2012-06-22 | 被処理体の処理装置及び被処理体の載置台 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5893516B2 (ja) |
KR (1) | KR102069773B1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6540022B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2019-07-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台及びプラズマ処理装置 |
CN105990085B (zh) * | 2015-03-03 | 2018-03-30 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 等离子体刻蚀设备、聚焦环及其制作方法 |
JP6308165B2 (ja) * | 2015-04-13 | 2018-04-11 | トヨタ自動車株式会社 | プラズマ処理装置 |
DE102017111509B4 (de) * | 2016-06-01 | 2023-07-06 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Herstellungsverfahren für eine Vollfestkörperbatterie, Herstellungsvorrichtung für eine Vollfestkörperbatterie, und Vollfestkörperbatterie |
JP6146839B1 (ja) * | 2016-08-04 | 2017-06-14 | 日本新工芯技株式会社 | 電極用リング |
US11195704B2 (en) | 2017-03-31 | 2021-12-07 | Beijing E-town Semiconductor Technology Co., Ltd. | Pedestal assembly for plasma processing apparatus |
CN108735620B (zh) * | 2017-04-19 | 2021-01-08 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种反应腔室 |
CN111466009B (zh) | 2017-12-15 | 2023-07-07 | 朗姆研究公司 | 等离子体室中使用的环形结构和*** |
JP7055040B2 (ja) * | 2018-03-07 | 2022-04-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の載置装置及び処理装置 |
JP7101055B2 (ja) * | 2018-06-12 | 2022-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 静電チャック、フォーカスリング、支持台、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法 |
KR102096985B1 (ko) * | 2018-08-23 | 2020-04-03 | 세메스 주식회사 | 기판 처리장치 |
JP6681522B1 (ja) * | 2018-09-13 | 2020-04-15 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置装置 |
JP7145041B2 (ja) * | 2018-11-08 | 2022-09-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板支持器、プラズマ処理装置、及びフォーカスリング |
CN109767968B (zh) * | 2018-12-17 | 2021-06-08 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 下电极结构及反应腔室 |
KR102562892B1 (ko) * | 2022-12-29 | 2023-08-03 | 주식회사 기가레인 | 정전척 유닛 및 그를 구비한 플라즈마 식각 장치 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4592916B2 (ja) * | 2000-04-25 | 2010-12-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の載置装置 |
US7582186B2 (en) * | 2002-12-20 | 2009-09-01 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for an improved focus ring in a plasma processing system |
JP4782733B2 (ja) * | 2007-06-12 | 2011-09-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台およびそれを用いたプラズマ処理装置 |
-
2012
- 2012-06-22 JP JP2012140550A patent/JP5893516B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-06-21 KR KR1020130071639A patent/KR102069773B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102069773B1 (ko) | 2020-01-23 |
JP2014007215A (ja) | 2014-01-16 |
KR20140000169A (ko) | 2014-01-02 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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R250 | Receipt of annual fees |
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