JP5884915B2 - タッチパネル付き表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、表示パネル上に偏光板を介してタッチパネルを装着したタッチパネル付き表示装置に関するものである。

近年、携帯電話機、携帯端末機またはパーソナルコンピュータなどの各種電子機器が高機能化され、多様化されるに伴い、それらの電子機器への入力手段の１つとして、タッチパネルが使用されている。タッチパネルは、光透過性を有しており、表示パネル上に偏光板を積層した表示装置の上記偏光板側に、反射防止層や粘着剤を介して装着される。このようなタッチパネルとしては、静電容量型のタッチパネルをはじめ、種々の方式のものが提案されている。

代表的な静電容量型のタッチパネルとして、透明な基板上に、Ｘ方向に延びるＸ電極パターン（透明導電膜）が形成され、これと絶縁膜を介して、Ｙ方向に延びるＹ電極パターン（透明導電膜）が形成されたものがある。タッチパネルの上記基板の表面を指で押圧すると、Ｘ電極パターンとＹ電極パターンとが接触し、その位置での静電容量が変化するため、その静電容量の変化をＸ電極パターンおよびＹ電極パターンを介して検出することで、押圧位置を特定することができる。このような静電容量型のタッチパネルは、例えば特許文献１に開示されている。

特開２０１２−８２５５号公報（段落〔０１０６〕〜〔０１０８〕、図４、図５等参照）

近年では、表示装置の薄型化、軽量化が進められており、表示パネルのみならず、表示パネルに積層される偏光板の薄型化も進められている。このような偏光板の薄型化により、表示装置自体の透過光量がアップするため、省エネルギー化（消費電力の低減）を図ったり、表示輝度の向上を図ることができる。

しかし、その反面、表示装置の薄型化により、タッチパネルの押圧による耐衝撃性が劣化しやすくなる。つまり、タッチパネルの押圧時の負荷が、タッチパネルと表示装置（特に偏光板）との接合部分にかかりやすくなり、上記接合部分の反射防止層や粘着剤層の接着性を良好に保つことができなくなる。その結果、反射防止層や粘着剤層が表示装置から剥がれてしまう。また、そのような反射防止層や粘着剤層の剥がれは、表示装置の透過光量のアップにより、表示ムラとしてさらに顕著に確認されるようになるため、表示装置の視認性が低下する。

なお、耐衝撃性を向上させるべく、偏光板を厚く構成することは、表示装置の薄型化、軽量化を阻害するのみならず、加熱による耐久試験を行ったときに、偏光板の反りが増大して反射防止層や粘着剤層がさらに剥がれやすくなるため、妥当ではない。

本発明の目的は、前記の事情に鑑み、偏光板の薄型の構成で、反射防止層や粘着剤層の剥がれを抑えて、表示装置の視認性の低下を回避することができるタッチパネル付き表示装置を提供することにある。

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。

１．表示パネル上に偏光板を積層した表示装置の前記偏光板側に、反射防止層または粘着剤層を介してタッチパネルを装着したタッチパネル付き表示装置であって、
前記偏光板は、偏光子と、前記偏光子の前記タッチパネル側に積層される、膜厚３５μｍ以下のフィルムとを有しており、
前記フィルムにおける前記タッチパネル側の表面の接触角が、６０°未満であることを特徴とするタッチパネル付き表示装置。

２．前記フィルムの膜厚が３３μｍ以下であり、前記フィルムにおける前記接触角が５５°以下であることを特徴とする前記１に記載のタッチパネル付き表示装置。

３．前記フィルムの膜厚が２８μｍ以下であり、前記フィルムにおける前記接触角が５５°以下であることを特徴とする前記１または２に記載のタッチパネル付き表示装置。

４．前記フィルムにおける前記タッチパネル側の表層は、アクリル樹脂層であり、
前記アクリル樹脂層が、多官能アクリル、ウレタンプレポリマーおよび反応性シリカ微粒子を含む塗布組成物を用いて形成されることを特徴とする前記１から３のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。

５．前記フィルムは、セルロースを含んでいることを特徴とする前記１から４のいずれかに記載のタッチパネル表示装置。

６．前記フィルムは、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸および少なくとも一種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物と、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５であって数平均分子量１２５０００以上１５５０００未満のセルローストリアセテートとを含んでいることを特徴とする前記１から５のいずれかに記載のタッチパネル表示装置。

７．前記フィルムは、フィルム基材の上にハードコート層を積層したハードコートフィルムであることを特徴とする前記１から６のいずれかに記載のタッチパネル表示装置。

上記の構成によれば、偏光板の薄型の構成で、反射防止層や粘着剤層の剥がれを抑えて、表示装置の視認性の低下を回避することができる。

本発明の実施の形態に係るタッチパネル付き表示装置の概略の構成を示す断面図である。 上記タッチパネル付き表示装置の他の構成を示す断面図である。

〔タッチパネル付き表示装置〕
図１は、本実施形態のタッチパネル付き表示装置の概略の構成を示す断面図であり、図２は、タッチパネル付き表示装置の他の構成を示す断面図である。これらの図に示すように、タッチパネル付き表示装置は、表示パネル１上に偏光板２を積層した表示装置１０の偏光板２側に、反射防止層３１または粘着剤層３２を介してタッチパネル２０を装着したものである。

表示装置１０の表示パネル１は、液晶表示パネルや有機ＥＬテレビ（ＯＬＥＤ（Organic light-Emitting Diode）−ＴＶ）で構成することができる。液晶表示パネルは、ＩＰＳ（In Plane Switching）方式、ＴＮ（Twisted Nematic）方式など、様々な駆動方式のものを用いることができる。

偏光板２は、所定の直線偏光を透過する偏光子３と、偏光子３のタッチパネル２０側に順に積層されるフィルム４と、偏光子３の表示装置１０側に積層されるフィルム５とで構成されている。フィルム４は、フィルム基材４ａの上にハードコート層４ｂを積層したハードコートフィルムで構成されている。なお、フィルム４は、フィルム基材４ａ単独で（ハードコート層を積層せずに）構成されてもよい。ハードコート層４ｂは、偏光板２の表面の保護のために設けられている。

フィルム４におけるタッチパネル２０側の表面（ハードコート層４ｂの表面）の接触角は、６０°未満に設定されている。このような接触角は、フィルム４（特にハードコート層４ｂ）の構成材料を適切に選択することによって実現可能である。また、フィルム４の厚さ（フィルム基材４ａとハードコート層４ｂの厚さの合計）は、３５μｍ以下である。上記接触角の好ましい範囲は５５°以下であり、フィルム４の厚さの好ましい範囲は、３３μｍ以下であり、より好ましい範囲は２８μｍ以下である。

なお、表示パネル１がＯＬＥＤで構成される場合、偏光板２は、外光反射防止のための円偏光板で構成される。このような円偏光板は、偏光子３の光学軸とフィルム４（フィルム基材４ａ）の遅相軸とが４５°の角度で交差するように、偏光子３とフィルム４とを貼り合わせることで構成される。

タッチパネル２０は、静電容量型のタッチパネルであり、ガラス基板２１上に、透明導電膜からなる第１電極パターン２２と、層間絶縁層２３と、透明導電膜からなる第２電極パターン２４とをこの順で積層して構成されている。なお、ガラス基板２１の表面がタッチパネル２０のタッチ面である。なお、第２電極パターン２４をさらに覆うように絶縁膜を設けてもよい。

第１電極パターン２２は、ガラス基板２１上で一方向（例えばＸ方向）に延びるように形成されている。層間絶縁層２３は、第１電極パターン２２を覆うようにガラス基板２１上に形成されている。第２電極パターン２４は、第１電極パターン２２の延びる方向とは直交する方向（例えばＹ方向）に延びるように形成されている。タッチパネル２０の表面を指で押圧すると、第１電極パターン２２と第２電極パターン２４とが接触し、第１電極パターン２２と第２電極パターン２４との間の静電容量が変化する。その静電容量の変化を第１電極パターン２２および第２電極パターン２４を介して検出することにより、押圧位置（座標）を特定することができる。

反射防止層３１は、表面での反射を防止するための層であり、例えば低屈折率層で構成されている。タッチパネル２０が表示装置１０の縁部にて光学粘着テープ３３で接着される場合、その接着部分以外の部位では、タッチパネル２０は空隙層３４を介して反射防止層３１と対向する。

粘着剤層３２は、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive tape）やＵＶ硬化樹脂（ＯＣＲ）などの接着層で構成されている。粘着剤層３２は、表示装置１０の偏光板２の表面全体に形成されて、タッチパネル２０と表示装置１０とを接合する。

表示装置１０（偏光板２）の表面にタッチパネル２０を装着しない構成では、偏光板２の表面に水分などが付着するのを極力避けるため、偏光板２の表面の接触角は６０°以上に設定される場合が多かった。

しかし、本実施形態では、上述したように、偏光板２において、フィルム４におけるタッチパネル２０側の表面の接触角は６０°未満となっている。このようにフィルム４の表面の接触角を低く抑えることにより、フィルム４に対して反射防止層３１や粘着剤層３２が引っ付きやすくなり、それらの接着性を向上させることができる。これにより、反射防止層３１や粘着剤層３２の剥がれを抑えることができる。しかも、フィルム４は、膜厚３５μｍ以下の薄膜であるので、加熱による耐久試験後のフィルム４の反りを低減でき、このフィルム４の反りに起因する反射防止層３１や粘着剤層３２の剥がれも抑制できる。

したがって、表示装置１０が薄型化することで透過光量がアップしても、上記剥がれに起因する表示ムラを低減することができ、表示装置１０の視認性の低下を回避することができる。また、フィルム４は、膜厚３５μｍ以下の薄膜であるので、偏光板２を十分薄く構成でき、これによって表示装置１０の薄型化、軽量化にも十分貢献することができる。

つまり、本実施形態の構成によれば、偏光板２の薄型の構成で、反射防止層３１や粘着剤層３２の剥がれを抑えて、表示装置１０の視認性の低下を回避することができる。このような効果は、フィルム４の上記接触角が５５°以下で、かつ、フィルム４の厚さが３３μｍ以下（より好ましくは２８μｍ以下）であれば、確実に得ることができる。

ここで、フィルム４におけるタッチパネル２０側の表層、つまり、ハードコート層４ｂは、アクリル樹脂層で構成されており、上記アクリル樹脂層が、多官能アクリル、ウレタンプレポリマーおよび反応性シリカ微粒子を含む塗布組成物を用いて形成されることが好ましい。

このようにフィルム４の表層を構成することで、表面の接触角が６０°未満（より好ましくは５５°以下）のフィルム４を確実に実現することができる。

また、フィルム４（フィルム基材４ａ）は、セルロースを含んでいてもよい。より詳しくは、フィルム４は、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸および少なくとも一種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物と、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５であって数平均分子量１２５０００以上１５５０００未満のセルローストリアセテートとを含んでいてもよい。

このようなフィルム４（フィルム基材４ａ）を用いた構成において、上述した本実施形態の効果を得ることができる。

〔偏光板ついて〕
以下、上記した偏光板２を構成する各層の詳細について説明する。

[フィルム基材]
偏光板２のフィルム基材４ａおよびフィルム５（以下、これらをまとめて単にフィルム基材と称する）としては、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂を用いることができる。

（熱可塑性樹脂）
熱可塑性樹脂とは、ガラス転移温度または融点まで加熱することによって軟らかくなり、目的の形に成形できる樹脂のことをいう。

熱可塑性樹脂としては、一般的汎用樹脂としては、セルロースエステル、ポリエチレン（ＰＥ）、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、テフロン（登録商標）（ポリテトラフルオロエチレン、ＰＴＦＥ）、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂）、ＡＳ樹脂、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）等を用いることができる。

特に、強度や壊れにくさが要求される場合、ポリアミド（ＰＡ）、ナイロン、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、変性ポリフェニレンエーテル（ｍ−ＰＰＥ、変性ＰＰＥ、ＰＰＯ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、グラスファイバー強化ポリエチレンテレフタレート（ＧＦ−ＰＥＴ）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）等を用いることができる。

さらに、高い熱変形温度と長期使用できる特性が要求される場合は、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、ポリテトラフロロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリスルホン、ポリエーテルサルフォン、非晶ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）等を用いることができる。

本実施形態においては、本実施形態の効果発現の観点から、熱可塑性樹脂が、セルロースエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポレオレフィン樹脂から選ばれる樹脂であることが好ましい。

当該樹脂フィルム基材の厚さは、２０μｍ以上であることが好ましく、３０μｍ以上であることがより好ましいが、ハードコート層の厚さとの和が３５μｍ以下とすることが、薄型化の観点で好ましい。

以下、本実施形態において、特に好適な樹脂について詳細な説明をする。

〈セルロースエステル樹脂〉
本実施形態で用いることができるセルロースエステル樹脂は、セルロース（ジ、トリ）アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等のセルロースの低級脂肪酸エステル、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート等のセルロースの混合脂肪酸エステル、及びセルロースフタレート等から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

これらの中で特に好ましいセルロースエステルは、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートが挙げられる。

混合脂肪酸エステルの置換度として、更に好ましいセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートの低級脂肪酸エステルは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂であることが好ましい。
式（Ｉ） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II） １．０≦Ｘ≦２．５

このうち、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。

更に、本実施形態で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは２．０〜５．０であり、更に好ましくは２．５〜５．０であり、更に好ましくは３．０〜５．０のセルロースエステルが好ましく用いられる。

セルロースの低級脂肪酸エステルとしては、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５であって、数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上１５５０００未満であるセルローストリアセテートＡを含有することが好ましい。また、セルローストリアセテートＡとしては、重量平均分子量（Ｍｗ）が２６５０００以上３１００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．９〜２．１であるものが好ましい。

また、鉛筆硬度が向上する点から、アセチル基置換度が２．７５〜２．９０であって、数平均分子量（Ｍｎ）が１５５０００以上１８００００未満、Ｍｗが２９００００以上３６００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．８〜２．０であるセルローストリアセテートＢをセルローストリアセテートＡに併用することが好ましい。セルローストリアセテートＡとセルローストリアセテートＢを併用する場合には、質量比でセルローストリアセテートＡ：セルローストリアセテートＢ＝１００：０〜２０：８０の範囲であることが好ましい。

〈エステル化合物〉
セルロースエステル系フィルムは、耐透湿性に優れる点から、エステル化合物を含有することが好ましい。エステル化合物としては、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸および少なくとも一種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物が好ましい。

ベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、ｐ−トルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。安息香酸であることが最も好ましい。

炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に１，２−プロピレングリコールが好ましい。

本実施形態で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよい。木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは、綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは、適宜混合して、或いは単独で使用することができる。

例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０のものを用いることができる。

本実施形態において、セルロースエステル樹脂は、２０ｍｌの純水（電気伝導度０．１μＳ／ｃｍ以下、ｐＨ６．８）に１ｇ投入し、２５℃、１ｈｒ、窒素雰囲気下にて攪拌した時のｐＨが６〜７、電気伝導度が１〜１００μＳ／ｃｍであることが好ましい。

〔フィルム作製方法〕
次に、本実施形態におけるフィルム基材の好ましい製膜方法について説明する。

＜溶液流延製膜法による基材の製造方法＞
１）溶解工程
溶解工程は、熱可塑性樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で熱可塑性樹脂、熱収縮材料、その他の添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程である。なお、良溶媒とは、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法において、熱可塑性樹脂に対して良好な溶解性を有する有機溶媒をいい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主（有機）溶媒または主たる（有機）溶媒という。

熱可塑性樹脂の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、または特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。

返材も再使用される。返材とは、フィルムを細かく粉砕した物で、フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでスペックアウトしたフィルム原反のことをいう。

２）流延工程
流延工程は、ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。

ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。

３）溶媒蒸発工程
溶媒蒸発工程は、ウェブ（流延用支持体上にドープを流延して形成されたドープ膜）を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法および／または支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法の乾燥効率が良く好ましい。又、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを４０〜１００℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。４０〜１００℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか、赤外線等の手段により加熱することが好ましい。

面品質、透湿性、剥離性の観点から、３０〜１２０秒以内で該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。

４）剥離工程
剥離工程は、金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。

金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは１０〜４０℃であり、さらに好ましくは１１〜３０℃である。

なお、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により５０〜１２０質量％の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。

ウェブの残留溶媒量は下記式で定義される。
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。

金属支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍである。剥離の際に皺が入り易い場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましく、さらには、剥離できる最低張力〜１６６．６Ｎ／ｍ、次いで、最低張力〜１３７．２Ｎ／ｍで剥離することが好ましいが、特に好ましくは最低張力〜１００Ｎ／ｍで剥離することである。

本実施形態においては、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−５０〜４０℃とするのが好ましく、１０〜４０℃がより好ましく、１５〜３０℃とするのが最も好ましい。

５）乾燥および延伸工程
乾燥および延伸工程は、剥離後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置、および／またはクリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター延伸装置を用いて、ウェブを乾燥する工程である。

乾燥手段はウェブの両面に熱風を吹かせるものが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥は、でき上がるフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥は残留溶媒が８質量％以下くらいから行うのがよい。全体を通し、乾燥は概ね４０〜２５０℃で行われる。特に４０〜１６０℃で乾燥させることが好ましい。

テンター延伸装置を用いる場合は、テンターの左右把持手段によってフィルムの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を左右で独立に制御できる装置を用いることが好ましい。また、テンター工程において、平面性を改善するため意図的に異なる温度を持つ区画を作ることも好ましい。

また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。

なお、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することも好ましい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。

この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。即ち、例えば、次のような延伸ステップも可能である。

ａ）流延方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
ｂ）幅手方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸

また、同時２軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時２軸延伸の好ましい延伸倍率は、幅手方向、長手方向ともに×１．０１倍〜×１．５倍の範囲とすることができる。

延伸を行う場合のウェブの残留溶媒量は、延伸開始時に２０〜１００質量％であるのが好ましく、かつウェブの残留溶媒量が１０質量％以下になるまで延伸を掛けながら乾燥を行うことが好ましく、さらに好ましくは５質量％以下である。

延伸を行う場合の乾燥温度は、３０〜１６０℃が好ましく、５０〜１５０℃がさらに好ましく、７０〜１４０℃が最も好ましい。

延伸工程において、雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが、フィルムの均一性を高める観点から好ましく、延伸工程での幅手方向の温度分布は、±５℃以内が好ましく、±２℃以内がより好ましく、±１℃以内が最も好ましい。

６）巻き取り工程
巻き取り工程は、ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってからフィルムとして巻き取り機により巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。特に０．００〜０．１０質量％で巻き取ることが好ましい。

巻き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使いわければよい。

本実施形態に係るフィルム基材は、長尺フィルムであることが好ましく、具体的には、１００ｍ〜５０００ｍ程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。また、フィルムの幅は１．３〜４ｍであることが好ましく、１．４〜２ｍであることがより好ましい。

＜溶融流延製膜法による基材の製造方法＞
次に、本実施形態のフィルム基材を溶融流延製膜法により製造する場合の方法について説明する。

〈溶融ペレット製造工程〉
溶融押出に用いる、樹脂を含む組成物は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。

ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥した熱可塑性樹脂と熱収縮材料等からなる添加剤をフィーダーで押出機に供給し、１軸や２軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることで、ペレット化できる。

原材料は、押出する前に乾燥しておくことが原材料の分解を防止する上で重要である。特にセルロースエステルは吸湿しやすいので、除湿熱風乾燥機や真空乾燥機で７０〜１４０℃で３時間以上乾燥し、水分率を２００ｐｐｍ以下、さらに１００ｐｐｍ以下にしておくことが好ましい。

添加剤は、押出機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。また、粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。

酸化防止剤の混合は、固体同士で混合してもよいし、必要により、酸化防止剤を溶剤に溶解しておき、熱可塑性樹脂に含浸させて混合してもよく、あるいは噴霧して混合してもよい。

乾燥と混合を同時にできる点から、真空ナウターミキサーなどを用いることが好ましい。また、フィーダー部やダイからの出口など空気と触れる場合は、除湿空気や除湿したＮ₂ガスなどの雰囲気下にすることが好ましい。

押出機は、せん断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。ペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。

〈溶融混合物をダイから冷却ロールへ押し出す工程〉
まず、作製したペレットを１軸や２軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度Ｔｍを２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどでろ過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に共押出し、冷却ロール上で固化し、弾性タッチロールと押圧しながら流延する。なお、Ｔｍは、押出機のダイ出口部分の温度である。

供給ホッパーから押出機へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。

ダイに傷や可塑剤の凝結物等の異物が付着するとスジ状の欠陥が発生する場合がある。このような欠陥のことをダイラインとも呼ぶが、ダイライン等の表面の欠陥を小さくするためには、押出機からダイまでの配管には樹脂の滞留部が極力少なくなるような構造にすることが好ましい。ダイの内部やリップにキズ等が極力無いものを用いることが好ましい。

押出機やダイなどの溶融樹脂と接触する内面は、表面粗さを小さくしたり、表面エネルギーの低い材質を用いるなどして、溶融樹脂が付着し難い表面加工が施されていることが好ましい。具体的には、ハードクロムメッキやセラミック溶射したものを表面粗さ０．２Ｓ以下となるように研磨したものが挙げられる。

冷却ロールには特に制限はないが、高剛性の金属ロールで内部に温度制御可能な熱媒体または冷媒体が流れるような構造を備えたロールであればよい。冷却ロールの大きさは限定されないが、溶融押し出されたフィルムを冷却するのに十分な大きさであればよく、通常冷却ロールの直径は１００ｍｍから１ｍ程度である。

冷却ロールの表面材質は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどが挙げられる。さらに表面の硬度を上げたり、樹脂との剥離性を改良するため、ハードクロムメッキや、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキなどや、セラミック溶射等の表面処理を施すことが好ましい。

冷却ロール表面の表面粗さは、Ｒａで０．１μｍ以下とすることが好ましく、さらに０．０５μｍ以下とすることが好ましい。ロール表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表面も平滑にできるのである。もちろん表面加工した表面はさらに研磨し上述した表面粗さとすることが好ましい。

弾性タッチロールとしては、特開平０３−１２４４２５号、特開平０８−２２４７７２号、特開平０７−１００９６０号、特開平１０−２７２６７６号、ＷＯ９７／０２８９５０号、特開平１１−２３５７４７号、特開２００２−３６３３２号、特開２００５−１７２９４０号や特開２００５−２８０２１７号の各公報に記載されているような、表面が薄膜金属で被覆されたシリコンゴムロールを使用することができる。

冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。

〔複合樹脂フィルムの製造方法〕
本実施形態のフィルム基材は、複合樹脂フィルムで構成することができる。複合樹脂フィルムを製造する方法としては、共流涎法による製膜工程を有する態様の製造方法、共押し出し法による製膜工程を有する態様の製造方法によって製造することができる。

〈共流涎法：ダブルキャスト法〉
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。

流延工程の金属支持体の表面温度は、−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度、に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては、０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃がさらに好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。

金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

本実施形態では、アセチル化セルロースの溶液を２回以上に分割してキャストすることも好ましい。

調製されたドープＡをダイによりステンレススティールベルトに流延し、流延されたウェブ上に、更に調製されたドープＢを、ダイを通して積層流延する。積層されたウェブは、剥離点において剥離され、その後乾燥ゾーンにて乾燥され巻き取られる。

ドープＡ、ドープＢの組成物としての構成に特に制限はなく、アセチル化セルロース、セルロースナノファイバー、及びその他添加剤や溶媒の組成比率はどのようにも採り得る。また、ドープＡ、ドープＢの流延膜厚も特に制限はない。３回以上の分割キャストも可能である。

本実施形態では、このようにキャストを分割することで、セルロースナノファイバーのフィルム膜内の分布状態を容易に制御することが可能となり、フィルムの引裂き強度、弾性率や、フィルム寸法変化の度合いを要求に従って制御することができる。

なお、好ましくは、セルロースファイバーを流涎後、乾燥工程でファイバーがフィルム面内に配列しやすくする乾燥工程を用いることができる。

〈共押し出し法〉
本実施形態においては、共押し出し法により、積層構造のフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び／または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。スキン層とコア層のガラス転移温度が異なっていてもよく、スキン層のガラス転移温度よりコア層のガラス転移温度が低いことが好ましい。このとき、スキンとコアの両者のガラス転移温度を測定し、これらの体積分率より算出した平均値を上記ガラス転移温度Ｔｇと定義して同様に扱うこともできる。また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度＞コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。

なお、上記の共押し出し法とは、複数の押出機を用いて、それぞれから積層する樹脂を加熱溶融し、それぞれの樹脂を合流させた後にＴダイのスリット状の吐出口から共押出し、チルドロールで冷却固化させてキャストシート（未延伸状態）を形成する方法である。溶融樹脂を合流させて、Ｔダイよりシートを押出する方法としては、溶融樹脂を合流させてからマニュホールドを広げるフィードブロック法と、溶融樹脂をそれぞれマニュホールドで広げてから合流させるマルチマニュホールド法があるが、そのどちらを用いてもよい。

なお、好ましくは、コア層とスキン層をチルドロールで冷却固化する際に、圧力を加えることで、ファイバーがフィルム面内に配列しやすくなり、フィルム面内の線膨張係数を低下させることができる。

〔添加剤〕

（酸化防止剤）
フィルム基材は、添加剤として酸化防止剤を含むことが好ましい。好ましい酸化防止剤は、リン系またはフェノール系であり、リン系とフェノール系を同時に組み合わせるとより好ましい。以下、本実施形態において好適に用いることができる酸化防止剤について説明する。

〈フェノール系酸化防止剤〉
本実施形態においては、フェノール系の酸化防止剤が好ましく用いられ、特にヒンダードフェノール化合物が好ましく用いられる。

ヒンダードフェノール化合物の具体例には、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミド−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノ−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリトリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのヒンダードフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン（株）から、”Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”及び”Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”という商品名で市販されている。

〈リン系酸化防止剤〉
リン系酸化防止剤としては、ホスファイト（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスホナイト（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｔｅ）、ホスフィナイト（ｐｈｏｓｐｈｉｎｉｔｅ）、または第３級ホスファン（ｐｈｏｓｐｈａｎｅ）等のリン系化合物を使用することができる。リン系化合物としては、従来既知の化合物を用いることができる。例えば、特開２００２−１３８１８８号、特開２００５−３４４０４４号段落番号００２２〜００２７、特開２００４−１８２９７９号段落番号００２３〜００３９、特開平１０−３０６１７５号、特開平１−２５４７４４号、特開平２−２７０８９２号、特開平５−２０２０７８号、特開平５−１７８８７０号、特表２００４−５０４４３５号、特表２００４−５３０７５９号、および特願２００５−３５３２２９号の各公報の明細書中に記載されているものが好ましい。

リン系化合物の添加量は、樹脂１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部、好ましくは０．０５〜５質量部、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。

リン系化合物としては、上記一般式で表される化合物のほかに、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物；トリフェニルホスフィナイト、２，６−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン系化合物；等が挙げられる。

上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−２４Ｇ”、“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６”及び“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ３０１０”、チバ・ジャパン株式会社から“ＩＲＧＡＦＯＳ Ｐ−ＥＰＱ”、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ−Ｐ１０１”という商品名で市販されている。

（その他の酸化防止剤）
また、ジラウリル−３，３′−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３′−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）等のイオウ系酸化防止剤、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート等の耐熱加工安定剤、特公平０８−２７５０８号記載の３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１−ベンゾピラン系化合物、３，３′−スピロジクロマン系化合物、１，１−スピロインダン系化合物、モルホリン、チオモルホリン、チオモルホリンオキシド、チオモルホリンジオキシド、ピペラジン骨格を部分構造に有する化合物、特開平０３−１７４１５０記載のジアルコキシベンゼン系化合物等の酸素スカベンジャー等が挙げられる。これら酸化防止剤の部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸捕捉剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。

（その他の添加剤）
本実施形態に係るフィルム基材には、上記の化合物等の他に、目的に応じて種々の化合物等を添加剤として含有させることができる。

〈酸捕捉剤〉
酸捕捉剤としては、米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されている酸捕捉剤としてのエポキシ化合物を含んでなるのが好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は、当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２この炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）など）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど（例えば、エポキシ化大豆油などの組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらは時としてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している））が含まれる。

〈光安定剤〉
光安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５〜１１欄及び米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３〜５欄に記載されているように、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。さらに、特開２００７−６３３１１号公報に記載されている光安定剤を用いることができる。

〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収剤としては、紫外線による劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。

ベンゾトリアゾール系化合物の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（１−メチル−１−フェニルエチル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。

また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバ・ジャパン社製）、ＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０（住友化学社製）、ＲＵＶＡ−１００（大塚化学製）が挙げられる。

ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

本実施形態においては、紫外線吸収剤は０．１〜２０質量％添加することが好ましく、さらに０．５〜１０質量％添加することが好ましく、さらに１〜５質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。

〈マット剤〉
本実施形態のフィルム基材には、マット剤等の微粒子を添加することができ、微粒子としては、無機化合物の微粒子又は有機化合物の微粒子が挙げられる。微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。中でも、二酸化ケイ素が樹脂基板のヘイズを低くできるので好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものは樹脂基板のヘイズを低下できるため好ましい。

表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。

また、微粒子の二次粒子の平均粒径は、０．０５〜１．０μｍの範囲である。好ましい微粒子の二次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、７〜１４ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、セルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させるために好ましく用いられる。微粒子のセルロースエステル中の含有量は、セルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。

二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル（株）製のアエロジル（ＡＥＲＯＳＩＬ）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることができ、好ましくはアエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用できる。

上記マット剤として用いられる基材中の微粒子の存在は、別の目的として基材の強度向上のために用いることもできる。

〔ハードコート層〕
次に、偏光板のハードコート層の詳細について説明する。本実施形態では、ハードコート層は、例えば、活性エネルギー線硬化型樹脂で構成されることが好ましい。

（活性エネルギー線硬化型樹脂）
活性エネルギー線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいい、具体的にはエチレン性不飽和基を有する樹脂である。さらに具体的には、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。

紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、およびジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。

多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。これら多官能アクリレートとしては市販品を用いてもよく、ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌなど）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄社化学製、ＰＥ−３Ａ）等を入手できる。なお、これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。

活性エネルギー線硬化型樹脂のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。

このようなイソシアヌル酸トリアクリレート化合物としては市販品を用いることもでき、例えば新中村化学工業株式会社製Ａ−９３００などが挙げられる。イソシアヌル酸ジアクリレート化合物の市販品としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ−２１５などが挙げられる。イソシアヌル酸トリアクリレート化合物及びイソシアヌル酸ジアクリレート化合物の混合物としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ−３１５、アロニックスＭ−３１３などが挙げられる。ε-カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、ε-カプロラクトン変性トリス-(アクリロキシエチル)イソシアヌレートである新中村化学工業株式会社製Ａ−９３００−１ＣＬ、東亞合成株式会社製アロニックスＭ−３２７などを挙げることができるが、これらに限定されない。

また、活性エネルギー線硬化型樹脂としては、単官能アクリレートを用いてもよい。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。単官能アクリレートとしては、新中村化学工業株式会社や大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。

さらに、活性エネルギー線硬化型樹脂としては、ウレタンアクリレートを用いてもよい。ウレタンアクリレートとしては、例えば、荒川化学工業（株）製のビームセット５７５ＣＢ、共栄社化学製のＵＡ−３０６Ｈなどの市販品を用いることができる。

上述したような多官能アクリレートの粘度は、２５℃における粘度が３０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、１５００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましい。特に好ましくは、１０００ｍＰａ・ｓ以下である。このような低粘度樹脂としては、グリセリントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどを挙げることができる。なお、上記粘度はＥ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。

ハードコート層組成物中における、上記活性エネルギー線硬化型樹脂の配合量は、組成物全体を１００質量部とすると、通常、１０〜９９質量部、好ましくは３５〜９９質量部である。活性エネルギー線硬化型樹脂の配合量が少ないと、ハードコート層の膜強度が十分に得られにくい。また、配合量が多いと、後述する公知の塗布方法で塗布した際の膜厚均一性や塗布筋などの故障が発生するため好ましくない。

（カチオン重合性化合物）
ハードコート層は、さらにカチオン重合性化合物を含有してもよい。カチオン重合性化合物とは、エネルギー活性線照射や熱によってカチオン重合を起こして樹脂化するものである。具体的には、エポキシ基、環状エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル化合物、ビニルオキソ基等が挙げられる。中でもエポキシ基やビニルエーテル基などの官能基を有する化合物が、本実施形態において好適に用いられる。

エポキシ基またはビニルエーテル基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、リモネンジオキサイド、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ化合物としては、ポリマー化合物も使用することができる。

ハードコート層組成物に上記カチオン重合性化合物が含まれる場合、ハードコート層組成物中における、カチオン重合性化合物の配合量は、組成物全体を１００質量部とすると、通常、１〜９０質量部、好ましくは１〜５０質量部である。

（微粒子）
ハードコート層は、微粒子を含有してもよい。微粒子としては無機微粒子と有機微粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙げることができる。これら微粒子の平均粒径は、ハードコート層塗布組成物の安定性やクリア性から、３０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。また、ハードコート層には粒径が異なる２種以上の微粒子を含有させてもよい。所望の鉛筆硬度を達成しやすい点から、ハードコート層にはシリカ微粒子を含有させることが好ましい。

また、本実施形態の作用効果をより良く発揮する点から、ハードコート層には重合性不飽和基を有する有機化合物によって表面処理された反応性シリカ微粒子（Ｘａ）を含有させることが好ましい。以下、重合性不飽和基を有する有機化合物によって表面処理された反応性シリカ微粒子（Ｘａ）について説明する。

《反応性シリカ微粒子（Ｘａ）》
シリカ微粒子としては、公知のものを使用することができる。また、その形状は、球状でも不定形のものでもよく、通常のコロイダルシリカに限らず中空粒子、多孔質粒子、コア／シェル型粒子等であっても構わないが、ｐＨが２．０〜６．５のコロイダルシリカが好ましい。

シリカ微粒子の分散媒は、水あるいは有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ブタノール、エチレングリコールモノプロピルエーテル等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエ−テル類等の有機溶剤を挙げることができ、これらの中で、アルコール類及びケトン類が好ましい。これら有機溶剤は、単独又は２種以上混合して分散媒として使用することもできる。市販品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業（株）製ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、ＭＥＫ−ＳＴ−ＭＳ，ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ等を挙げることができる。

反応性シリカ微粒子（Ｘａ）は、上述したようなコロイダルシリカを、重合性不飽和基を有する有機化合物（以下、「有機化合物（Ｘ）」という）で表面処理することによって得られる。有機化合物（Ｘ）は、重合性不飽和基、好ましくはエチレン性不飽和基を有し、更に下記一般式（ａ）に示す基及び分子内にシラノール基を有する化合物又は加水分解によってシラノール基を生成する化合物であることが好ましい。

［−Ｕ−Ｃ（＝Ｖ）−ＮＨ−］は、具体的には、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−］、［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］、［−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］、［−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−］、及び［−Ｓ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−］の６種である。これらの基は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、熱安定性の観点から、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基と、［−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−］基または［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−］基の少なくともいずれか１つとを併用することが好ましい。

有機化合物（Ｘ）に含まれるエチレン性不飽和基としては特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基を好適例として挙げることができる。このエチレン性不飽和基は、活性ラジカル種により付加重合をする構成単位である。

シラノール基を生成する化合物としては、ケイ素原子にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が結合した化合物を挙げることができるが、ケイ素原子にアルコキシ基又はアリールオキシ基が結合した化合物、即ち、アルコキシシリル基含有化合物又はアリールオキシシリル基含有化合物が好ましい。具体例としては、例えば、下記一般式（ｂ）に示す化合物を挙げることができる。

一般式（ｂ）中、Ｒ²¹、Ｒ²²は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基若しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を挙げることができる。ここで、ｊは、１〜３の整数である。

［（Ｒ²¹Ｏ）_jＲ²² _3-jＳｉ−］で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。

Ｒ²³は、炭素数１〜１２の脂肪族又は芳香族構造を有する２価の有機基であり、鎖状、分岐状又は環状の構造を含んでいてもよい。具体例として、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。

Ｒ²⁴は、２価の有機基であり、通常、分子量１４から１万、好ましくは、分子量７６から５００の２価の有機基の中から選ばれる。具体例として、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリアルキレン基；シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の脂環式又は多環式の２価の有機基；フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の２価の芳香族基；及びこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体を挙げることができる。また、これら２価の有機基は炭素及び水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいてもよく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミド結合、ポリカーボネート結合を含むこともできる。

Ｒ²⁵は、（ｋ＋１）価の有機基であり、好ましくは、鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。

Ｚは、活性ラジカル種の存在下、分子間架橋反応をする重合性不飽和基を分子中に有する１価の有機基を示す。また、ｋは、好ましくは、１〜２０の整数であり、さらに好ましくは、１〜１０の整数、特に好ましくは、１〜５の整数である。

有機化合物（Ｘ）は、例えば、加水分解性シランと、ポリイソシアネ−ト化合物、ポリチオイソシアネ−ト化合物およびイソシアネ−ト基とチオイソシアネ−ト基を共に有する化合物から選ばれた１つ以上の化合物と、イソシアネ−ト基もしくはチオイソシアネ−ト基と付加反応を起こす活性水素原子を有する活性水素含有重合性不飽和化合物とを直接付加反応せしめることにより行うことができる。

好ましくは、メルカプトプロピルトリメトキシシランとイソホロンジイソシアネートをジブチルスズジラウレート存在下で混合し、６０〜７０℃で数時間程度反応させた後に、ペンタエリスリトールトリアクリレートを添加して、さらに６０〜７０℃で数時間程度反応させる。

次いで、得られた有機化合物（Ｘ）をシリカ微粒子と混合し、加水分解させ、両者を結合させることで反応性シリカ微粒子（Ｘａ）を製造できる。

シリカ微粒子への有機化合物（Ｘ）の結合量は、シリカ微粒子を１００質量％として、好ましくは０．０１質量％以上であり、さらに好ましくは０．１質量％以上、特に好ましくは１質量％以上である。

上記範囲であれば、組成物中における反応性シリカ微粒子（Ｘａ）の分散性が良好である。また、反応性シリカ微粒子（Ｘａ）製造時の原料中のシリカ微粒子の配合割合は、好ましくは５〜９９質量％であり、さらに好ましくは１０〜９８質量％である。ハードコート層用塗布組成物中の、反応性シリカ微粒子（Ｘａ）の含有量は、組成物中の固形分全量を１００質量％としたときに、５〜８０質量％が好ましく、１０〜８０質量％がより好ましい。このような範囲で用いることで、ハードコート塗布組成物中で反応性シリカ微粒子（Ｘａ）が安定して存在する。

また、ハードコート層は、前述した活性エネルギー線硬化型樹脂と微粒子とを含有し、含有質量比で、活性エネルギー線硬化型樹脂：微粒子＝９０：１０〜２０：８０であることが好ましい。

（その他の添加剤、ハードコート層の製造方法）
ハードコート層には、前記活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化促進のため、さらに光重合開始剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤の配合量としては、質量比で、光重合開始剤：活性エネルギー線硬化型樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００であることが好ましい。

光重合開始剤としては、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。これらは市販のものを使用してもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１などが好ましい例示として挙げられる。

また、ハードコート層は、上述の紫外線吸収剤と同様の紫外線吸収剤を含有していてもよい。

さらには、ハードコート層が２層以上で構成され、かつフィルム基材と接するハードコート層に紫外線吸収剤を含有することが、本実施形態の目的効果が良好に発揮され、かつハードコート層の膜強度（耐擦傷性）や鉛筆硬度が良好に得られる点から好ましい。紫外線吸収剤の含有量としては、質量比で、紫外線吸収剤：ハードコート層組成物＝０．０１：１００〜１０：１００であることが好ましい。

ハードコート層を２層以上設ける場合、フィルム基材と接するハードコート層の膜厚は、０．０５〜２μｍの範囲であることが好ましい。２層以上の積層は同時重層で形成してもよい。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に２層以上のハードコート層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで塗布して、ハードコート層を形成することである。第１ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第２ハードコート層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。

また、ハードコート層の作製方法としては、セルロースアセテートフィルムを膨潤または一部溶解をする溶剤で希釈したハードコート層塗布組成物を、以下の方法でセルロースアセテートフィルム上に塗布、乾燥、硬化して設ける方法が、ハードコート層とセルロースアセテートフィルムとの層間密着が得られやすい点から好ましい。

セルロースアセテートフィルムを膨潤または一部溶解する溶剤としては、ケトンおよび／または酢酸エステルを含む溶剤が好ましい。具体的には、ケトンとしてはメチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノンなどを挙げることができる。また、酢酸エステルとしては酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチルなどを挙げることができる。ハードコート層塗布組成物は、その他の溶剤として、アルコール系溶剤を含んでもよい。

ハードコート層塗布組成物の塗布量は、ウェット膜厚として０．１〜４０μｍが好適で、さらに好ましくは、０．５〜３０μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚５〜２０μｍ程度、好ましくは７〜１２μｍが好ましいが、本実施形態では、フィルム基材とハードコート層の膜厚の総和で３５μｍ以下となるように、塗布量を設定することが好ましい。

ハードコート層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイ（押し出し）コーター、インクジェット法等公知の塗布方法を用いて、ハードコート層を形成するハードコート塗布組成物を塗布し、塗布後、乾燥し、活性線を照射（ＵＶ硬化処理とも言う）し、更に必要に応じて、ＵＶ硬化後に加熱処理することで形成できる。ＵＶ硬化後の加熱処理温度としては８０℃以上が好ましく、更に好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１２０℃以上である。このような高温でＵＶ硬化後の加熱処理を行うことで、ハードコート層の機械的強度（耐擦性、鉛筆硬度）がより良好となる。

乾燥は、減率乾燥区間の温度を８０℃以上の高温として行うことが好ましい。更に好ましくは減率乾燥区間の温度は９５℃以上、１３０℃以下である。減率乾燥区間の温度を高温として乾燥処理とすることで、ハードコート層の形成時に塗膜樹脂中で対流が生じるため、ハードコート層表面に微細な表面粗れが発現しやすく、後述する算術平均粗さＲａも得られやすくなる。

一般に、乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られており、乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。恒率乾燥区間においては流入する熱量はすべて塗膜表面の溶媒蒸発に費やされており、塗膜表面の溶媒が少なくなると蒸発面が表面から内部に移動して減率乾燥区間に入る。これ以降は塗膜表面の温度が上昇し熱風温度に近づいていくため、紫外線硬化型樹脂組成物の温度が上昇し、樹脂粘度が低下して流動性が増すと考えられる。

ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。

照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ²、好ましくは５０〜３００ｍＪ／ｃｍ²である。

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は、通常３０〜５００Ｎ／ｍ、好ましくは３０〜３００Ｎ／ｍである。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。

ハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤を含有させてもよく、好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。

また、ハードコート層には、フッ素−シロキサングラフトポリマーやシリコーン系界面活性剤を含有させてもよい。

フッ素−シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／またはオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。

シリコーン系界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した界面活性剤である。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、４級塩等がある。シリコーン界面活性剤の具体的商品として、例えば、ＳＨ２００、ＢＹ１６−８７３、ＰＲＸ４１３（ジメチルシリコーンオイル；東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製）、ＳＨ２０３、ＳＨ２３０、ＳＦ８４１６（アルキル変性シリコーンオイル；東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製）、ＳＦ８４１７、ＢＹ１６−２０８、ＢＹ１６−２０９、ＢＹ１６−８４９、ＢＹ１６−８７２、ＦＺ−２２２２、ＦＺ−２２０７（ジメチルポリシロキサン・ポリエチレンオキサイド直鎖状ブロックコポリマー；日本ユニカー（株）製のＦＺシリーズ）、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２，ＫＦ―１０５（エポキシ変性シリコーンオイル；信越化学工業社製）、ＢＹＫ−ＵＶ３５００，ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３７（ポリエーテル変性シリコーンオイル、ビックケミ−ジャパン社製）等が挙げられるがこれらに限定されない。

また、これら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１〜５質量％の範囲で添加することが好ましい。

（ハードコート層の表面形状）
本実施形態におけるハードコート層の表面の算術平均粗さＲａは、長尺フィルムで巻き取った際のブロッキング防止効果やセルロースアセテートフィルムとの密着性に優れる点から、４〜２０ｎｍであることが好ましい。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の規定に基づいて、光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）で測定した値である。

また、ハードコート層表面の凹凸平均間隔Ｓｍは３〜４０μｍが好ましい。また、ハードコート層の表面の算術平均粗さＲａと、セルロースエステルフィルム（フィルム基材）のハードコート層塗設面の凹凸平均間隔Ｓｍとの比率（Ｒａ／Ｓｍ）が、２×１０^-4〜６×１０^-3であることが好ましい。Ｓｍについては、算術平均粗さＲａと同様に、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４の規定に基づいて、光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）で測定できる。

ハードコート層の表面の算術平均粗さＲａを上記範囲とするために、鋳型を押し当てて表面に突起を形成させる方法や、ＳＰ値（溶解度パラメーター）が異なる樹脂を混ぜて、表面凹凸を形成させる方法、スピノーダル分解や核生成などで突起形成させる方法を用いることができる。

なお、突起形成に用いられる鋳型ロールとしては、凹凸が細かいものから粗いものまで、適宜選択して適用でき、マット状、レンチキュラーレンズ状、球状の凹凸が規則正しく、もしくはランダムに配列されたものを使用できる。

また、本実施形態のハードコートフィルムのヘイズ値は、１％以下であることが、十分な輝度や高いコントラストが得られる点で好ましい。

＜機能性層＞
（バックコート層）
本実施形態のフィルム基材におけるハードコート層を設けた側とは反対側の面に、カールやブロッキング防止のためにバックコート層を設けてもよい。

カールやブロッキング防止の点から、バックコート層には、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウム等の粒子を添加することができる。

バックコート層に含まれる粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％が好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は０．５％以下であることが好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。バインダーとしては、セルロースエステル樹脂が好ましい。また、バックコート層を形成するための塗布組成物には、アルコール類、ケトン類および／または酢酸エステル類糖の溶媒を含有することが好ましい。

（反射防止層）
本実施形態のハードコートの上層には、外光反射防止機能を有する反射防止層を塗設してもよい。なお、上記の反射防止層は、図１における反射防止層３１に対応する。

反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体であるフィルム基材よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層とを組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。

反射防止層を有するフィルムの層構成としては、下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。

セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／低屈折率層
セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／中屈折率層／低屈折率層
セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／防眩性層／低屈折率層

（低屈折率層）
低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。

低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。

低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。

なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ−１）で表される有機ケイ素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させてもよい。

一般式（ＯＳｉ−１）：Ｓｉ（ＯＲ）₄
前記一般式で表される有機ケイ素化合物は、式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。

他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。また、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性および／または光硬化性を有する化合物を含有してもよい。具体的には含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。

（高屈折率層）
高屈折率層の屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、屈折率を１．４〜２．２の範囲に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは５ｎｍ〜１μｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率の調整は、金属酸化物微粒子等を添加することで行うことができる。用いる金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であるものが好ましく、１．８５〜２．５０であるものが更に好ましい。

金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができる。これらの金属酸化物微粒子には、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子をドープしてもよい。また、これらの混合物でもよい。本実施形態においては、中でも、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であり、１０〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して０．１質量％〜５質量％、より好ましくは０．５質量％〜３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。

また、高屈折率層は、π共役系導電性ポリマーを含有してもよい。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性の点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。

π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。

また、高屈折率層は、イオン性化合物を含有してもよい。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとＢＦ₄−、ＰＦ₆−等の無機イオン系、ＣＦ₃ＳＯ₂−、（ＣＦ₃ＳＯ₂）₂Ｎ−、ＣＦ₃ＣＯ₂−等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。該ポリマーとバインダーの比率は、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１０〜４００質量部が好ましく、特に好ましくは、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１００〜２００質量部である。

（防眩性層）
ハードコート層上には、機能性層として防眩層を設けることもできる。防眩性層は、フィルム表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置等の使用時に、反射像の映り込みが気にならないようにする層のことである。防眩層は、具体的には、前記したハードコート層に微粒子等の添加や前記鋳型を押し当てて表面に突起を形成する方法などによって、層表面の算術平均粗さＲａを０．１〜１μｍに調整した層であることが好ましい。

また、前記防眩層の積分反射率に占める散乱反射率の割合（散乱反射比率）は２〜６０％であることが好ましい。前記範囲に散乱反射比率を微粒子等を用いて制御することで、上述したような透湿性の高い酢化度を有するセルロースアセテートフィルムと防眩層との層間密着性を向上させることができる。さらに好ましくは、前記散乱反射比率の割合が２０〜５０％の範囲であればより密着性を良好にすることができる。

なお、散乱反射比率は、コニカミノルタ（株）製、分光測色計ＣＭ−２５００ｄを用いて、測定径φ８ｍｍ、観察視野２°の条件で、ＳＣＩ（積分反射率）及びＳＣＥ（散乱反射率）を測定することによって求めることができる。

〔粘着剤層〕
タッチパネルを表示装置に接着する際に用いる粘着剤層（図２の粘着剤層３２に相当）を構成する粘着剤としては、特に制限なく、公知の粘着剤を使用でき、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ポリエステル系粘着剤などが使用できるが、粘着力や貯蔵弾性率の制御が比較的容易なアクリル系粘着剤が特に好ましい。

アクリル系粘着剤としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸デシル等の炭素数１〜２０アクリル酸アルキルエステルの一種または二種以上と、前記アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル等の官能基モノマーとの共重合体に、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等の架橋剤を反応させたものが挙げられる。

粘着剤層の厚さは、１μｍ〜１３μｍであることが好ましい。粘着剤層の厚さが１μｍ以上の場合、十分な粘着力が得られ、１３μｍ以下の場合、抜き加工時や裁断加工時に糊のはみ出しを抑制することができ、かつ高い鉛筆硬度が維持される。好ましい粘着剤層の厚さは、３〜１２μｍである。

粘着剤層の貯蔵弾性率としては、０℃における貯蔵弾性率が１．０×１０⁶〜１．０×１０⁸Ｐａであることが好ましい。粘着剤層の貯蔵弾性率が１．０×１０⁶Ｐａ以上の場合、十分な抜き加工適性、裁断加工適性及び高い鉛筆硬度が得られ、１．０×１０⁸Ｐａ以下の場合、十分な粘着力が得られる。好ましい粘着剤層の貯蔵弾性率は、１．５×１０⁶〜１．０×１０⁷Ｐａである。

ハードコート層上に粘着剤層を設ける方法としては、別途、剥離シートに粘着剤含有組成物を塗布し、乾燥させて作製した粘着剤層に、ハードコートフィルム（フィルム基材＋ハードコート層）を積層する方法が挙げられる。上記粘着剤含有組成物の塗布方法は、例えば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法、カーテンコート法などの従来公知の方法が挙げられる。また、上記粘着剤含有組成物をハードコートフィルムの表面に直接塗布し、乾燥させることで、粘着剤層を積層するようにしてもよい。

上記の剥離シートは、種々の剥離シートを使用できるが、代表的には剥離性を表面に有する基材シートから構成される。基材シートとしては、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂などのフィルムや、これらのフィルムに填料などの充填剤を配合したフィルムや合成紙などが挙げられる。また、グラシン紙、クレーコート紙、上質紙などの紙基材が挙げられる。

基材シートの表面に剥離性を持たせるには、その表面に熱硬化性シリコーン樹脂や、紫外線硬化型シリコーン樹脂等の剥離剤を塗布等により付着させればよい。剥離剤の塗布量は、０．０３〜３．０ｇ／ｍ²が好ましい。剥離シートは、剥離剤を有する表面を粘着剤層に接して積層される。

〔実施例〕
以下、本発明の具体例を実施例として説明する。また、本発明との比較のため、比較例についても併せて説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。

＜光学フィルムＡ１の作製＞
〈微粒子分散液１〉
・シリカ微粒子（アエロジル Ｒ９７２Ｖ 日本アエロジル（株）製）
１１質量部
・エタノール ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、微粒子分散液１を作製した。

〈微粒子添加液１〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液１をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。
・メチレンクロライド ９９質量部
・微粒子分散液１ ５質量部

〈主ドープ液〉
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。次に溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
・メチレンクロライド ４３８質量部
・エタノール ３２質量部
・アセチル基置換度２．８８、Ｍｎ＝１４００００のセルロースアセテート
９０質量部
・エステル系化合物１ １０質量部
・チヌビン９２８（チバ・ジャパン（株）製） ６質量部
・微粒子添加液１ ４質量部

以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ液を調製した。

次に、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースエステルフィルムのウェブを３５℃で溶剤を蒸発させ、１．５ｍ幅にスリットし、テンターで幅保持し１６０℃の乾燥温度（熱処理温度、延伸温度ともいう）で乾燥させた。乾燥を始めたときの残留溶剤量は２０％であった。

その後、１２０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１５分間乾燥させた後、フィルム両端に幅１５ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、光学フィルムＡ１を得た。光学フィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は２５μｍ、巻数は３９００ｍであった。

＜光学フィルムＡ２の作製＞
光学フィルムＡ２として、ＫＣ４ＵＡ（コニカミノルタアドバンスドレイヤー社製、商品名：ＫＣ４ＵＡ、厚み４０μｍ）を使用した。

＜光学フィルムＡ３の作製＞
光学フィルムＡ３として、厚み３０μｍのラクトン化ポリメチルメタクリレートフィルムを用いた。当該アクリル系フィルムは、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂（共重合モノマーの質量比；メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％）９０質量部と、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂（トーヨーＡＳ ＡＳ２０、東洋スチレン（株）製）１０質量部の混合物を、溶融押出し機を用いて混錬し、透明なペレットを得た。このペレットをメチルエチルケトンに溶解させ、溶液キャスト法にて厚み３０μｍのラクトン化ポリメチルメタクリレートフィルムを得た。得られたフィルムの両面に、下記に示す易接着剤組成物をバーコーターにて乾燥後の厚みが０．３μｍになるように塗布した後、１４０℃で乾燥させて特定の樹脂層を形成し、光学フィルムＡ３を得た。

（易接着剤組成物）
ポリエステルウレタン（第一工業製薬社製、商品名：スーパーフレックス２１０、固形分３３％）１６．８ｇ、架橋剤（オキサゾリン含有ポリマー、日本触媒社製、商品名：エポクロスＷＳ−７００、固形分２５％）４．２ｇ、１重量％のアンモニア水２．０ｇ、コロイダルシリカ（扶桑化学工業社製、商品名：クォートロンＰＬ−３、固形分２０重量％）０．４２ｇおよび純水７６．６ｇを混合し、易接着剤組成物を得た。

＜光学フィルムＡ４の作製＞
光学フィルムＡ４として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製、厚み２５μｍ）を用いた。

＜ハードコートフィルムＢ１の作製＞
下記のハードコート層組成物を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、押し出しコーターを用いて光学フィルムＡ１上に塗布した。そして、温度８０℃で乾燥の後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用いて紫外線を照射し、塗布層を硬化させた。このときの紫外線の照射部の照度は１００ｍＷ／ｃｍ²であり、照射量は０．２５Ｊ／ｃｍ²であった。そして、ドライ膜厚３μｍのハードコート層を形成して巻き取り、ロール状のハードコートフィルムＢ１を作製した。

《ハードコート層組成物》
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布組成物とした。
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３０質量部
（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製）
・ウレタンアクリレート ７０質量部
（ＵＡ−３０６Ｈ、共栄社化学（株）製）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン １質量部
（ＢＹＫ−ＵＶ３５１０、ビックケミー・ジャパン（株）製）
・イルガキュア１８４（チバジャパン（株）製） ４質量部
・イソプロピルアルコール １１１質量部
・メチルエチルケトン ７４質量部

＜ハードコートフィルムＢ２〜Ｂ５の作製＞
光学フィルムＡ１の代わりに光学フィルムＡ２〜Ａ４を用い、ハードコートフィルムＢ１と同様の作製方法で、ハードコートフィルムＢ２〜Ｂ４を得た。また、ハードコートフィルムＢ３を純水に６０秒間浸してから、６０℃のオーブンにて６０秒間乾燥させ、ハードコートフィルムＢ５を得た。

ハードコートフィルムＢ１〜Ｂ５と、用いた光学フィルムＡ１〜Ａ４およびその材料と、ハードコートフィルムＢ１〜Ｂ５の膜厚（光学フィルムＡ１〜Ａ４の厚さを含む）との関係を表１に示す。

[偏光板の作製]
上記作製したハードコートフィルムＢ１を、４０℃の２．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で９０秒間アルカリ処理し、４５秒間間水洗し、１０質量％ＨＣｌにて３０℃４５秒間中和し、次いで３０℃４５秒間水洗して鹸化処理し、アルカリ処理フィルムを得た。

続いて、厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。このフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬させた後、ヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬させた。浸漬後のフィルムを、５５℃、延伸倍率５倍で一軸延伸した。得られたフィルムを水洗した後、乾燥させて厚さ３５μｍの偏光子を得た。

次に、上記アルカリ処理フィルムに完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として、偏光子の片面にハードコート層が表層となるように貼合し、もう片面には上記光学フィルムＡ１を同様にアルカリ処理したフィルムを貼り合わせ、偏光板Ｃ１を作製した。

上記同様の方法で、表２に示す組み合わせにて偏光板Ｃ２、Ｃ６を作製した。偏光板Ｃ３〜Ｃ５、Ｃ７については、貼合方法を下記に示す方法を用いて作製した。

光学フィルムＡ１、ハードコートフィルムＢ１、Ｂ３〜Ｂ５に、それぞれ下記に示す接着層用組成物をマイクログラビアコーター（グラビアロール：＃３００、回転速度１４０％／ライン速）にて、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布して、接着剤付き保護フィルムを得た。

前述の偏光子の両面に、それぞれ接着剤付き保護フィルムを表２に示す組み合わせにて、ロール機にて貼り合わせた。その後、両側から紫外線を照射して接着剤を硬化させた。ライン速度は２０ｍ／ｍｉｎとし、保護フィルムに照射する紫外線の積算光量はそれぞれ２００ｍＪ／ｃｍ²とした。これにより、偏光板Ｃ３〜Ｃ５、Ｃ７を得た。

[タッチパネル付き表示装置（空隙なし）の作製]
市販のタッチパネル付き液晶表示装置（GALAXY S III、サムスン（株）製）から、タッチパネルモジュールと、タッチパネルモジュール側の液晶セル（液晶パネル）に貼合されている偏光板を注意深く剥離した。

次いで、上記作製した偏光板Ｃ１にアクリル系粘着剤を介して液晶セルを貼合し、液晶表示装置を作製した。

上記作製した液晶表示装置のハードコートフィルムＢ１の表面に、ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス社製のＳＶＲ１２４０を塗布し、粘着剤層を形成した。

次に、塗布したＳＶＲ１２４０を介して、上記作製した液晶表示装置とタッチパネルとを貼り合わせて、一部分に紫外線を照射して仮固定した。界面に気泡が生じていないか検査した後、全体に紫外線を照射して完全に硬化させ、液晶表示装置とタッチパネルとを本固定し、タッチパネル付きの表示装置Ｄ１を得た。

また、上記と同様の方法で、液晶表示装置の偏光板Ｃ２〜Ｃ７上に粘着剤層を形成し、粘着剤層を介してタッチパネルと液晶表示装置とを貼り合わせることで、タッチパネル付きの表示装置Ｄ２〜Ｄ７を得た。

[タッチパネル付き表示装置（空隙あり）の作製]
《低屈折率層組成物》
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子８０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）：ｔ−ＢｕＯＨ（ｔ−ブチルアルコール）：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層組成物を作製した。

（反射防止フィルムの作製）
前記ハードコートフィルムＢ１〜Ｂ５上に、上記作製した低屈折率層組成物を塗布し、８０℃・４０秒オーブンで乾燥し、膜厚が１００ｎｍとなるようにした。乾燥後、窒素パージ下で紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用い、照射線量３８０ｍＪ／ｍ²で紫外線照射を行って低屈折率層組成物を硬化させ、低屈折率層を形成し、反射防止フィルム（ＬＲ（Low Reflection）フィルム）Ｅ１〜Ｅ５を作製した。

反射防止フィルムＥ１〜Ｅ５と、用いたハードコートフィルムＢ１〜Ｂ５およびその膜厚との関係を表３に示す。

（偏光板の作製）
前記偏光板Ｃ１〜Ｃ７と同様に、前記同条件で作製した厚さ３５μｍの偏光子を用いて、表４に示す組み合わせで反射防止フィルムＥ１〜Ｅ５を偏光子に貼り合わせ、偏光板Ｃ８〜Ｃ１３を作製した。

（貼り合わせ）
市販のタッチパネル付き液晶表示装置（iPad II、アップル（株）製））から、タッチパネルモジュールと、液晶セルに貼合されている偏光板を注意深く剥離した。

次いで、上記作製した偏光板Ｃ８〜Ｃ１３にアクリル系粘着剤を介して液晶セルを貼合し、液晶表示装置を作製した。

続いて、上記液晶表示装置の縁部に光学粘着テープ（厚さ０．０２５ｍｍ、日東電工（株）製）を貼合し、液晶表示装置とタッチパネルとを貼り合わせて、タッチパネル付きの表示装置Ｄ８〜Ｄ１３を得た。

[接触角の測定]
上記で作製した各ハードコートフィルムを温度２３℃、５５％ＲＨ（相対湿度）において２４時間湿熱処理した試料について、各フィルムの表面（タッチパネル側の面）における接触角を、接触角計ＣＡ−Ａ（協和界面化学（株）製）を用いて測定した。接触角の測定には純水を用い、前記温湿度下にて液滴径を１．０ｍｍとして接触角を測定した。

なお、作製した各フィルムより、無作為に３０ｍｍ×４０ｍｍの大きさの試料を２０枚サンプリングし、各試料の表面について前述の方法により接触角を測定し、各フィルムそれぞれ２０枚についての測定値の平均値を採用した。

[表示ムラの測定]
上記で作製した各表示装置Ｄ１〜Ｄ１３を２３℃５５％ＲＨ環境下で２４時間湿熱処理した。その後、バックライトを２時間点灯させた後、黒表示させたときの最大輝度と最小輝度を、輝度分布測定装置（コニカミノルタ社製、商品名「ＣＡ−１５００」）を用いて測定した。

最大輝度と最小輝度の測定は、以下のようにして行った。即ち、液晶表示装置の表示画面を横３区画×縦３区画の合計９区画に分割した。そして、中央区画の輝度を最小輝度とし、全区画（９区画）のうち最も大きい輝度を最大輝度とした。得られた最大輝度を、最小輝度で除して、黒輝度比を算出した（黒輝度比＝最大輝度／最小輝度）。そして、表示ムラの評価を以下の基準に基づいて行った。
○：黒輝度比が１．５０未満である。
△：黒輝度比が１．５０以上２．００未満である。
×：黒輝度比が２．００以上である。

また、得られた各表示装置Ｄ１〜Ｄ１３を、５０℃９０％ＲＨ環境下で２４時間湿熱処理した。その後、前述と同様にして黒輝度比を測定し、表示ムラを評価した。

なお、各表示装置Ｄ１〜Ｄ１３と実施例（または比較例）との対応関係は、表２および表４に示す通りである。

[評価結果]
表示装置Ｄ１、Ｄ６〜Ｄ８、Ｄ１３については、ハードコートフィルムの表面の接触角が６０°未満であり、フィルム面に対する反射防止フィルムまたは粘着剤層の接着性が向上するため、２３℃５５％ＲＨ環境下での湿熱処理後の表示ムラの評価が全て○となっている。また、これらの表示装置においては、５０℃９０％ＲＨ環境下での湿熱処理後の表示ムラの評価が○または△であることから、ハードコートフィルムの膜厚が３５μｍ以下と薄いために、加熱後のフィルムの反りが低減され、これによって、反射防止フィルムや粘着剤層の剥がれがさらに抑制されていることが推認される。

これに対して、他の表示装置Ｄ２〜Ｄ５、Ｄ９〜Ｄ１２については、「ハードコートフィルムの膜厚が３５μｍ以下」、「ハードコートフィルムの表面の接触角が６０°未満」、の少なくとも一方の条件を満足しないため、表示ムラの評価に×が含まれている。

以上より、ハードコートフィルムの膜厚が３５μｍ以下で、かつ、表面の接触角が６０°未満であることにより、ハードコートフィルムに対する反射防止フィルムまたは粘着剤層の接着性を向上させて、これらの剥がれに起因する表示ムラを抑えることができ、表示装置の視認性の低下を回避できると言える。特に、ハードコートフィルムの膜厚が３５μｍ以下であることで、偏光板を十分に薄くすることができ、表示装置の薄型化、軽量化にも十分貢献することができる。

なお、５０℃９０％ＲＨ環境下での湿熱処理後の表示ムラの評価が、ハードコートフィルムの膜厚が３３μｍで、かつ、表面の接触角が５５°のときに○または△であり、ハードコートフィルムの膜厚が４３μｍで、かつ、表面の接触角が８０°のときに×であることから、ハードコートフィルムの膜厚の上限としては、３３μｍと４３μｍとの間で３３μｍ寄りの値である３５μｍを考えることができ、接触角の上限としては、５５°と８０°との間で５５°寄りの値である６０°を考えることができる。また、表２および表４より、表示ムラを抑えるにあたって、ハードコートフィルムの膜厚は、３３μｍ以下であることが望ましく、２８μｍ以下であることがより望ましく、ハードコートフィルムの表面の接触角は、５５°以下であることが望ましいと言える。

本発明は、液晶表示装置や有機ＥＬテレビの前面に、反射防止層や粘着剤層を介してタッチパネルを装着する場合に利用可能である。

１ 表示パネル
２ 偏光板
３ 偏光子
４ フィルム
１０ 表示装置
２０ タッチパネル
３１ 反射防止層
３２ 粘着剤層

Claims (7)

1. 表示パネル上に偏光板を積層した表示装置の前記偏光板側に、反射防止層または粘着剤層を介してタッチパネルを装着したタッチパネル付き表示装置であって、
   前記偏光板は、偏光子と、前記偏光子の前記タッチパネル側に積層される、膜厚３５μｍ以下のフィルムとを有しており、
   前記フィルムにおける前記タッチパネル側の表面の、純水を用いた場合の接触角が、６０°未満であることを特徴とするタッチパネル付き表示装置。
2. 前記フィルムの膜厚が３３μｍ以下であり、前記フィルムにおける前記接触角が５５°以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル付き表示装置。
3. 前記フィルムの膜厚が２８μｍ以下であり、前記フィルムにおける前記接触角が５５°以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のタッチパネル付き表示装置。
4. 前記フィルムにおける前記タッチパネル側の表層は、アクリル樹脂層であり、
   前記アクリル樹脂層が、多官能アクリル、ウレタンプレポリマーおよび反応性シリカ微粒子を含む塗布組成物を用いて形成されることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。
5. 前記フィルムは、セルロースを含んでいることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。
6. 前記フィルムは、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸および少なくとも一種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールを反応させた構造を有するエステル化合物と、アセチル基置換度が２．８０〜２．９５であって数平均分子量１２５０００以上１５５０００未満のセルローストリアセテートとを含んでいることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。
7. 前記フィルムは、フィルム基材の上にハードコート層を積層したハードコートフィルムであることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。

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