JP5872322B2 - 磁気ディスク用基板の製造方法、磁気ディスク用基板、磁気ディスク、磁気ディスク基板用洗浄剤 - Google Patents
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また、上記とあわせて表面の凹凸を観察し表面状態を「表面荒れ」の項目として評価した。純水への浸漬時の表面を基準とし、これと差がない場合を◎、わずかに劣る場合を○、やや劣る場合を△、劣る場合を×とした。これら結果を表1に示す。
2・・・カソードピット
3・・・アルミニウム合金サブストレート表面
Claims (2)
- 脱脂、エッチング、ジンケート処理、Ni−Pめっき、乾燥・焼鈍・研磨工程を含む磁気ディスク用基板の製造方法であって、脱脂、エッチング、ダブルジンケート処理のうち少なくとも一工程の前に硫酸、硫酸銅、硫酸鉄の少なくとも一種を含み、硫酸イオン濃度が1〜100ppmである洗浄剤で磁気ディスク用基板を洗浄することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
- 脱脂、エッチング、ダブルジンケート処理のうち少なくとも一工程の前に用いる洗浄剤であって、硫酸、硫酸銅、硫酸鉄の少なくとも一種を含み、硫酸イオン濃度が1〜100ppmであることを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。
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