JP5871904B2 - アブレシブエッチングおよびカッティングのためのフォトレジスト膜および方法 - Google Patents
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Description
本発明に係るフォトレジスト膜は、典型的には、エチレン−ビニルアセテートコポリマー(「EVA」)とポリビニルアセテート(「PVAc」)とフォトポリマーとを含む。好適なフォトポリマーとしては、ポリビニルアルコール系フォトポリマーが挙げられる。フォトレジスト性を最適化するために必要に応じて他の選択肢の樹脂および添加剤を組み込んでもよい。
本発明に係るフォトレジスト膜は、典型的には、優れたアブレシブブラスティング結果を生じる多工程プロセスで使用され、工程としては、基材表面への適用、基材表面への初期接着、フォトツールによるマスキング、UV線の照射、フォトレジスト材料の一部を除去するための水による現像、乾燥、アブレシブブラスティング、および残留フォトレジスト材料の除去が挙げられる。これらの工程について以下でより詳細に説明する。
以下の実施例および比較例を提供する。組成は、コーティング流体の全量を基準にした湿潤重量パーセントにより提供され、以下の実施例1および7は、コーティングされた膜中に対応する乾燥重量の各成分を含む。
この実施例は、最も一般的な成分がエチレン−ビニルアセテートコポリマー(EVA)であり、EVAの約1/10のレベル(重量パーセントで測定)でポリビニルアセテート(polyvinyl acetated)(PVAc)が組み合わされた、好ましい配合物を示す。PVAフォトポリマーは、有意量で、この場合はEVAの約半分のレベル(重量パーセント単位)で、提供される。青色顔料およびイソプロパノールが組み合わされて、界面活性剤が含まれる。この配合物を用いて作製される膜は、可塑剤を添加しないでも適切な可撓性を有するので、さらなる可塑剤は必要でない。この配合物は、接着性、解像度、可撓性、および耐ブラスト性の良好なバランスを有する。
この実施例は、最も一般的な材料がエチレン−ビニルアセテートコポリマー(EVA)であり、EVAの約1/10のレベル(重量パーセントで測定)でポリビニルアセテート(polyvinyl acetated)(PVAc)が組み合わされた、好ましい配合物を示す。PVAフォトポリマー(photopolmer)は、有意量で、この場合はEVAの約半分のレベル(重量パーセント単位)で、含まれる。赤色顔料およびイソプロパノールが組み合わされて、界面活性剤が提供される。この実施例は、実施例1とは異なる顔料およびそれよりも多量の顔料を有すること以外は実施例1と同一である。この組成物を用いて作製される膜は、可塑剤を添加しないでも適切な可撓性を有するので、さらなる可塑剤は必要でない。この配合物は、接着性、解像度、可撓性、および耐ブラスト性の良好なバランスを有する。
この実施例は、実質的に等レベルのEVAおよびPVAcを有し、類似のレベルのPVAフォトポリマーが組み合わされている。追加の接着剤も可塑剤も添加されていない。この組成物は、実施例1および2と対比してより低い耐ブラスト性および接着性を有するが、以下に提供される比較例よりも改良された可撓性を有する、膜を生成する。
この実施例は、実施例3に類似しているが、実施例1および2と対比して好ましいレベルの接着性、耐ブラスト性、および可撓性が欠如している。
この実施例は、良好な可撓性を示すが、実施例1および2と比較して所望の耐ブラスト性および接着性を下回る。主な差異は、実施例1および2中とは異なるPVAcの使用である。
この配合物は、実施例1および2の処方よりも低い接着性、可撓性、および耐ブラスト性を有し、これらのパラメーターでは好ましい性能レベルを下回る。
この配合物は、実施例1および2と対比して劣った耐ブラスト性および接着性を有するが、以下に提供される比較例よりも改良された可撓性を有する、膜を生成する。
この比較例は、EVAを用いないが高レベルのPVAcを用いる配合物を示す。また、それは、比較的低レベルのPVAフォトポリマーを有する。その結果、脆く、低い耐ブラスト性を有し、かつより低い温度で亀裂を生じる傾向を有する、膜を形成する材料となる。それに加えて、EVAも接着剤も用いずに、この配合物から作製される膜は、ホットラミネーションを用いたときでさえも、基材に対するごくわずかな接着性を有するにすぎない。この配合物は、低い接着性、耐ブラスト性、および可撓性を有する。
この比較例は、EVAを用いないが高レベルのPVAcを用いる配合物を示す。また、それは、比較的低レベルのPVAフォトポリマーを有する。接着性は、接着剤の存在に起因して、比較例1よりも改良される。しかしながら、材料は、脆く、低い耐ブラスト性を有し、かつより低い温度で亀裂を生じる傾向を有する、膜を形成する。この配合物は、低い接着性、耐ブラスト性、および可撓性を有する。
この配合物は、比較例2に類似しているが、有意に多量の接着剤を含有する。その結果、接着性は改良されるが、材料は、比較的脆く、劣った耐ブラスト性を有し、かつより低い温度で亀裂を生じる傾向を有する、膜を形成する。
この比較例は、EVAを含有しない組成物よりも改良された可撓性を示す。しかしながら、接着性および耐ブラスト性は、依然として好ましいレベルを下回り、可撓性もまた、所望のものよりも低い。
この比較例は、EVAを用いないが高レベルのPVAcを用いる配合物を示す。また、それは、比較的低レベルのPVAフォトポリマーを有する。接着性は、接着剤の存在に起因して、比較例1よりも改良される。しかしながら、材料は、脆く、低い耐ブラスト性を有し、かつより低い温度で亀裂を生じる傾向を有する、膜を形成する。この配合物は、低い接着性、耐ブラスト性、および可撓性を有する。
本明細書の開示は、以下の態様を含み得る。
[態様1]
a)i)20〜80重量パーセントのエチレン−ビニルアセテートコポリマーと
ii)20パーセント未満のポリビニルアセテートと
iii)40パーセント未満のフォトポリマーと
を含む感光性層と、
b)キャリヤーシートと、
を含む、フォトレジストシート。
[態様2]
エチレン−ビニルアセテートコポリマーとポリビニルアセテートとフォトポリマーとを含む感光性層と、
キャリヤーシートと、
を含む、フォトレジストシート。
[態様3]
前記エチレン−ビニルアセテートコポリマーが、前記感光性層の膜の乾燥重量を基準にしてその40〜70パーセントを占める、態様1、2、および4〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様4]
前記ポリビニルアセテートが、前記感光性層の膜の乾燥重量を基準にしてその50パーセント未満を占める、態様1〜3および5〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様5]
前記フォトポリマーが、前記感光性層の膜の乾燥重量を基準にしてその30乾燥重量パーセント未満を占める、態様1〜4および6〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様6]
前記フォトポリマーが、前記感光性層の膜の乾燥重量を基準にしてその20乾燥重量パーセント未満を占める、態様1〜5および7〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様7]
前記フォトポリマーがポリビニルアルコールフォトポリマーを含む、態様1〜6および8〜18のいずれか一項に記載のフォトレジスト。
[態様8]
前記シートが、アブレシブブラスティングされる基材に固定すべく構成および配置された表面を有し、かつ前記表面が、接着剤材料を実質的に含まない、態様1〜7および9〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様9]
前記シートが、アブレシブブラスティングされる基材に固定すべく構成および配置された表面を有し、かつ前記表面が、感圧接着剤材料を実質的に含まない、態様1〜8および10〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様10]
前記フォトレジストシートが水現像可能である、態様1〜9および11〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様11]
前記フォトレジストシートが100μm未満の厚さである、態様1〜10および12〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様12]
前記フォトレジストシートがメンブレン層を含有しない、態様1〜11および13〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様13]
前記フォトレジストシートが100μmのオープンホール解像度を有する、態様1〜12および14〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様14]
前記フォトレジストシートが75μm未満のオープンホール解像度を有する、態様1〜13および15〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様15]
前記フォトレジストシートが100μmの実効オープンホール解像度を有する、態様1〜14および16〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様16]
前記フォトレジストシートが75μm未満の実効オープンホール解像度を有する、態様1〜15および17〜18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様17]
前記フォトレジストシートが100μm未満の厚さで100μm未満の実効オープンホール解像度を有する、態様1〜16および18のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様18]
前記フォトレジストシートが75μm未満の厚さで75μm未満の実効オープンホール解像度を有する、態様1〜17のいずれか一項に記載のフォトレジストシート。
[態様19]
基材の一部の除去方法であって、
a)基材を提供することと、
b)感光性膜を提供することと、ただし、前記感光性膜は、エチレン−ビニルアセテートコポリマーとポリビニルアセテートとフォトポリマーとを含むものとすることと、
c)前記感光性膜が前記基材に有意に接着されないように、前記感光性膜を前記基材に適用することと、
d)前記感光性膜が前記基材に有意に接着されるように、少なくとも30℃の温度で前記感光性膜および前記基材を加圧することと、
e)前記感光性膜の少なくとも一部に紫外光を照射することと、
f)感光性材料および接着剤材料を含まない基材表面が露出されるように、水または水性溶液を用いて前記感光性膜の一部を除去することと、
g)加熱および加圧の前の剥離強度の少なくとも5倍、かつ加熱および加圧の後ただし水または水性溶液を用いて前記感光性膜の一部を除去する前の剥離強度の少なくとも2倍の剥離強度で、前記感光性膜が前記基材に接着されるように、前記感光性膜を乾燥させることと、
g)露出された前記基材表面のアブレシブブラスティングを行うことと、
を含む、方法。
Claims (6)
- a)i)20〜80重量パーセントのエチレン−ビニルアセテートコポリマーと
ii)20パーセント未満のポリビニルアセテートと
iii)40パーセント未満のフォトポリマーと
を含む感光性層と、
b)キャリヤーシートと、
を含む、フォトレジストシート。 - 前記フォトポリマーがポリビニルアルコールフォトポリマーを含む、請求項1に記載のフォトレジストシート。
- 前記シートが、アブレシブブラスティングされる基材に固定すべく構成および配置された表面を有し、かつ前記表面が、接着剤材料を実質的に含まない、請求項1または2に記載のフォトレジストシート。
- 基材の一部の除去方法であって、
a)基材を提供することと、
b)感光性膜を提供することと、ただし、前記感光性膜は、i)20〜80重量パーセントのエチレン−ビニルアセテートコポリマーと、ii)20パーセント未満のポリビニルアセテートと、iii)40パーセント未満のフォトポリマーとを含むものとすることと、
c)前記感光性膜が前記基材に有意に接着されないように、前記感光性膜を前記基材に適用することと、
d)前記感光性膜が前記基材に有意に接着されるように、少なくとも30℃の温度で前記感光性膜および前記基材を加圧することと、
e)前記感光性膜の少なくとも一部に紫外光を照射することと、
f)感光性材料および接着剤材料を含まない基材表面が露出されるように、水または水性溶液を用いて前記感光性膜の一部を除去することと、
g)加熱および加圧の前の剥離強度の少なくとも5倍、かつ加熱および加圧の後ただし水または水性溶液を用いて前記感光性膜の一部を除去する前の剥離強度の少なくとも2倍の剥離強度で、前記感光性膜が前記基材に接着されるように、前記感光性膜を乾燥させることと、
g)露出された前記基材表面のアブレシブブラスティングを行うことと、
を含む、方法。 - 前記フォトポリマーが、ポリビニルアルコールフォトポリマーを含む、請求項4に記載の方法。
- 前記膜が、アブレシブブラスティングされる基材に固定すべく構成および配置された表面を有し、かつ前記表面が、接着剤材料を実質的に含まない、請求項4または5に記載の方法。
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