JP5861319B2 - Conveying apparatus and substrate processing apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、搬送装置及び基板処理装置に関する。 The present invention relates to a transfer apparatus and a substrate processing apparatus.
ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子、電子ペーパに用いられる電気泳動素子などが知られている。現在、これらの表示素子として、基板表面に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）と呼ばれるスイッチング素子や増幅素子を形成した後、その上にそれぞれの表示デバイスを形成する能動的表示素子（アクティブディプレーデバイス）が主流となってきている。 As display elements constituting display devices such as display devices, for example, liquid crystal display elements, organic electroluminescence (organic EL) elements, electrophoretic elements used for electronic paper, and the like are known. At present, as these display elements, active display elements (active display devices) in which a switching element or an amplifying element called a thin film transistor (TFT) is formed on a substrate surface, and then each display device is formed thereon. ) Has become mainstream.
近年では、シート状の基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた１枚のシート状の基板（例えば、帯状のフィルム部材）を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら基板を搬送する。 In recent years, a technique for forming a display element on a sheet-like substrate (for example, a film member) has been proposed. As such a technique, for example, a technique called a roll-to-roll system (hereinafter simply referred to as “roll system”) is known (see, for example, Patent Document 1). In the roll method, a single sheet-like substrate (for example, a belt-like film member) wound around a substrate supply-side supply roller is sent out, and the sent-out substrate is wound up with a recovery roller on the substrate recovery side. Transport.
そして、基板が送り出されてから巻き取られるまでの間に、例えば複数の搬送ローラー等を用いて基板が搬送され、複数の処理装置（ユニット）を用いてＴＦＴを構成するゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等を形成し、基板の被処理面上に表示素子の構成要素を順次形成する。例えば、有機ＥＬの素子を形成する場合には、発光層、陽極、陰極、電気回路等を基板上に順次形成する。 Then, during the period from when the substrate is sent out to when it is wound up, for example, the substrate is transported using a plurality of transport rollers, etc., and the gate electrode and gate insulating film constituting the TFT using a plurality of processing devices (units) Then, a semiconductor film, source / drain electrodes, and the like are formed, and components of the display element are sequentially formed on the surface to be processed of the substrate. For example, in the case of forming an organic EL element, a light emitting layer, an anode, a cathode, an electric circuit, and the like are sequentially formed on a substrate.
しかしながら、上記構成においては、基板の搬送時に、基板と搬送ローラーとの間に摩擦が発生する場合がある。例えば、基板の搬送方向に対する直交方向（基板の幅方向（短尺方向））において基板と搬送ローラーとの間の摩擦の大きさが異なったりすると、基板に歪みが発生する場合がある。このような基板の歪みは、例えば、基板の被処理面に形成する表示素子の各構成要素の位置合わせ精度の低下などの原因となることがある。 However, in the above configuration, friction may occur between the substrate and the transport roller during transport of the substrate. For example, if the magnitude of friction between the substrate and the transport roller is different in a direction orthogonal to the substrate transport direction (the width direction of the substrate (short direction)), the substrate may be distorted. Such distortion of the substrate may cause, for example, a decrease in alignment accuracy of each component of the display element formed on the surface to be processed of the substrate.
以上のような事情に鑑み、本発明は、歪みの発生を抑えつつ基板を搬送することができる搬送装置及び基板処理装置を提供することを目的とする。 In view of the circumstances as described above, an object of the present invention is to provide a transport apparatus and a substrate processing apparatus that can transport a substrate while suppressing the occurrence of distortion.
本発明の第一の態様に従えば、帯状のシート基板を搬送する搬送装置であって、シート基板を案内する表面を有し、表面とシート基板との間に液状媒体を介してシート基板を案内するローラー部材を備える搬送装置が提供される。 According to the first aspect of the present invention, there is provided a transport device for transporting a belt-shaped sheet substrate having a surface for guiding the sheet substrate, and the sheet substrate is interposed between the surface and the sheet substrate via a liquid medium. A conveying device including a roller member for guiding is provided.
本発明の第二の態様に従えば、帯状のシート基板を搬送する搬送装置と、シート基板に対して所定の処理を行う処理装置とを備え、当該搬送装置として、本発明の第一の態様に従う搬送装置が用いられる基板処理装置が提供される。 According to the second aspect of the present invention, the transport apparatus includes a transport device that transports the belt-shaped sheet substrate and a processing device that performs a predetermined process on the sheet substrate, and the transport device includes the first aspect of the present invention. There is provided a substrate processing apparatus in which a transfer device according to the above is used.
本発明の態様によれば、歪みの発生を抑えつつ基板を搬送することができる。 According to the aspect of the present invention, the substrate can be transported while suppressing the occurrence of distortion.
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の第一実施形態に係る基板処理装置ＦＰＡの構成を示す図である。
図１に示すように、基板処理装置ＦＰＡは、シート基板（例えば、帯状のフィルム部材）ＦＢを供給する基板供給部ＳＵ、基板ＦＢの表面（被処理面）に対して処理を行う基板処理部ＰＲ、基板ＦＢを回収する基板回収部ＣＬ、及び、これらの各部を制御する制御部ＣＯＮＴを有している。基板処理装置ＦＰＡは、例えば製造工場の床部などに設置される。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a substrate processing apparatus FPA according to the first embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the substrate processing apparatus FPA includes a substrate supply unit SU that supplies a sheet substrate (for example, a strip-shaped film member) FB, and a substrate processing unit that performs processing on the surface (surface to be processed) of the substrate FB. It has PR, substrate collection part CL which collect | recovers board | substrate FB, and control part CONT which controls each of these parts. The substrate processing apparatus FPA is installed, for example, on the floor of a manufacturing factory.
なお、本実施形態では、図１に示すようにＸＹＺ座標系を設定し、以下では適宜このＸＹＺ座標系を用いて説明を行う。ＸＹＺ座標系は、例えば、水平面に沿ってＸ軸及びＹ軸が設定され、鉛直方向に沿ってＺ軸が設定される。また、基板処理装置ＦＰＡは、全体としてＸ軸に沿って、そのマイナス側（−側）からプラス側（＋側）へ基板ＦＢを搬送する。その際、帯状の基板ＦＢの幅方向（短尺方向）は、Ｙ軸方向に設定される。 In this embodiment, an XYZ coordinate system is set as shown in FIG. 1, and the following description will be given using this XYZ coordinate system as appropriate. In the XYZ coordinate system, for example, the X axis and the Y axis are set along the horizontal plane, and the Z axis is set along the vertical direction. The substrate processing apparatus FPA transports the substrate FB from the minus side (− side) to the plus side (+ side) along the X axis as a whole. At that time, the width direction (short direction) of the belt-like substrate FB is set to the Y-axis direction.
基板処理装置ＦＰＡは、基板供給部ＳＵから基板ＦＢが送り出されてから、基板回収部ＣＬによって基板ＦＢが回収されるまでの間に、基板ＦＢの表面に各種処理を実行する装置である。基板処理装置ＦＰＡは、基板ＦＢ上に例えば有機ＥＬ素子、液晶表示素子等の表示素子（電子デバイス）を形成する場合に用いることができる。 The substrate processing apparatus FPA is an apparatus that executes various processes on the surface of the substrate FB after the substrate FB is sent out from the substrate supply unit SU until the substrate FB is recovered by the substrate recovery unit CL. The substrate processing apparatus FPA can be used when a display element (electronic device) such as an organic EL element or a liquid crystal display element is formed on the substrate FB.
基板処理装置ＦＰＡにおいて処理対象となる基板ＦＢとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。 As the substrate FB to be processed in the substrate processing apparatus FPA, for example, a foil (foil) such as a resin film or stainless steel can be used. For example, the resin film is made of polyethylene resin, polypropylene resin, polyester resin, ethylene vinyl copolymer resin, polyvinyl chloride resin, cellulose resin, polyamide resin, polyimide resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, vinyl acetate resin, etc. Can be used.
基板ＦＢは、例えば２００℃程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。 The substrate FB preferably has a smaller coefficient of thermal expansion so that, for example, the size does not change even when the substrate FB receives heat of about 200 ° C. For example, an inorganic filler can be mixed with a resin film to reduce the thermal expansion coefficient. Examples of the inorganic filler include titanium oxide, zinc oxide, alumina, silicon oxide and the like.
基板ＦＢのＹ方向（短尺方向）の寸法は例えば５０ｃｍ〜２ｍ程度に形成されており、Ｘ方向（長尺方向）の寸法は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば基板ＦＢのＹ方向の寸法が５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。本実施形態においては、Ｙ方向の寸法が２ｍを超える基板ＦＢであっても好適に用いられる。また、基板ＦＢのＸ方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。 The dimension in the Y direction (short direction) of the substrate FB is, for example, about 50 cm to 2 m, and the dimension in the X direction (long direction) is, for example, 10 m or more. Of course, this dimension is only an example and is not limited thereto. For example, the dimension in the Y direction of the substrate FB may be 50 cm or less, or 2 m or more. In the present embodiment, the substrate FB having a dimension in the Y direction exceeding 2 m is preferably used. Moreover, the dimension of the X direction of the board | substrate FB may be 10 m or less.
基板ＦＢは、例えば１ｍｍ以下の厚みを有し、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、基板に自重程度の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、自重程度の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板ＦＢとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。 The substrate FB has a thickness of 1 mm or less, for example, and is formed to have flexibility. Here, the term “flexibility” refers to the property that the substrate can be bent without being broken or broken even if a force of its own weight is applied to the substrate. In addition, flexibility includes a property of bending by a force of about its own weight. The flexibility varies depending on the material, size, thickness, environment such as temperature, etc. of the substrate. As the substrate FB, a single strip-shaped substrate may be used, but a plurality of unit substrates may be connected to be formed in a strip shape.
基板供給部ＳＵは、例えばロール状に巻かれた基板ＦＢを基板処理部ＰＲへ送り出して供給する。この場合、基板供給部ＳＵには、基板ＦＢを巻きつける軸部や当該軸部を回転させる回転駆動装置などが設けられる。この他、例えばロール状に巻かれた状態の基板ＦＢを覆うカバー部などが設けられた構成であっても構わない。なお、基板供給部ＳＵは、ロール状に巻かれた基板ＦＢを送り出す機構に限定されず、帯状の基板ＦＢをその長さ方向に順次送り出す機構を含むものであればよい。 The substrate supply unit SU sends out and supplies the substrate FB wound in a roll shape to the substrate processing unit PR, for example. In this case, the substrate supply unit SU is provided with a shaft around which the substrate FB is wound, a rotation drive device that rotates the shaft, and the like. In addition, for example, a configuration in which a cover portion that covers the substrate FB wound in a roll shape or the like may be provided. Note that the substrate supply unit SU is not limited to a mechanism that sends out the substrate FB wound in a roll shape, and may be any device that includes a mechanism that sequentially sends the belt-like substrate FB in the length direction thereof.
基板回収部ＣＬは、基板処理部ＰＲからの基板ＦＢを例えばロール状に巻きとって回収する。基板回収部ＣＬには、基板供給部ＳＵと同様に、基板ＦＢを巻きつけるための軸部や当該軸部を回転させる回転駆動装置、回収した基板ＦＢを覆うカバー部などが設けられている。なお、基板処理部ＰＲにおいて基板ＦＢがパネル状に切断される場合などには例えば基板ＦＢを重ねた状態に回収するなど、ロール状に巻いた状態とは異なる状態で基板ＦＢを回収する構成であっても構わない。 The substrate collection unit CL collects the substrate FB from the substrate processing unit PR in a roll shape, for example. Similar to the substrate supply unit SU, the substrate recovery unit CL is provided with a shaft for winding the substrate FB, a rotation drive device that rotates the shaft, a cover that covers the recovered substrate FB, and the like. When the substrate FB is cut into a panel shape in the substrate processing unit PR, the substrate FB is recovered in a state different from the state wound in a roll shape, for example, the substrate FB is recovered in an overlapped state. It does not matter.
基板処理部ＰＲは、基板供給部ＳＵから供給される基板ＦＢを基板回収部ＣＬへ搬送すると共に、搬送の過程で基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して処理を行う。基板処理部ＰＲは、例えば処理装置１０、搬送装置３０及びアライメント装置５０を有している。
The substrate processing unit PR transports the substrate FB supplied from the substrate supply unit SU to the substrate recovery unit CL, and performs processing on the processing surface Fp of the substrate FB in the course of transport. The substrate processing unit PR includes, for example, a
処理装置１０は、基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して例えば有機ＥＬ素子を形成するための各種装置を有している。このような装置としては、例えば被処理面Ｆｐ上に隔壁を形成するための隔壁形成装置、電極を形成するための電極形成装置、発光層を形成するための発光層形成装置などが挙げられる。より具体的には、液滴塗布装置（例えばインクジェット型塗布装置、スクリーン印刷型塗布装置など）、成膜装置（例えば蒸着装置、スパッタリング装置など）、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。これらの各装置は、基板ＦＢの搬送経路に沿って適宜設けられる。
The
搬送装置３０は、基板処理部ＰＲ内において基板ＦＢを基板回収部ＣＬ側へ搬送するローラー部材Ｒを有している。ローラー部材Ｒは、基板ＦＢの搬送経路に沿って複数設けられている。複数のローラー部材Ｒのうち少なくとも一部のローラー部材Ｒには、駆動機構（不図示）が取り付けられている。このようなローラー部材Ｒが回転することにより、基板ＦＢがＸ軸方向に搬送されるようになっている。複数のローラー部材Ｒのうち一部のローラー部材Ｒが基板ＦＢの表面と交差する方向に移動可能に設けられた構成であっても構わない。
The
アライメント装置５０は、基板ＦＢに対してアライメント動作を行う。アライメント装置５０は、基板ＦＢの位置を検出するアライメントカメラ５１と、当該アライメントカメラ５１の検出結果に基づいて基板ＦＢの位置及び姿勢の少なくとも一方を調整する調整装置５２とを有している。
The
アライメントカメラ５１は、例えば基板ＦＢに形成されたアライメントマークを検出し、検出結果を制御部ＣＯＮＴに送信する。制御部ＣＯＮＴは、当該検出結果に基づいて基板ＦＢの位置情報を求め、当該位置情報に基づいて調整装置５２による調整量を制御する。
For example, the
図２は、本実施形態に係る搬送装置３０の構成を示す図である。
図２に示すように、搬送装置３０は、ローラー部材Ｒの他、液状媒体供給装置ＬＳ及び液状媒体回収装置ＬＣを有している。ローラー部材Ｒは、例えば円筒状に形成されており、ローラー部材Ｒは、例えば図中時計回りに回転可能に設けられている。基板ＦＢの裏面とローラー部材Ｒの外周面（表面）Ｒａとの間には、液状媒体ＬＱが介在している。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of the
As shown in FIG. 2, the
液状媒体ＬＱは、ローラー部材Ｒの回転軸方向に関して、外周面Ｒａのほぼ全面に亘っ供給されており、液状媒体ＬＱの厚みは、例えばローラー部材Ｒの回転軸方向においてほぼ均一となっている。液状媒体ＬＱとしては、例えば、水やシリコンオイル、磁性流体などが挙げられる。ローラー部材Ｒは、外周面Ｒａ上のうち支持領域Ｒｂで基板ＦＢの裏面を支持した状態で、基板ＦＢを案内する。この場合、基板ＦＢとローラー部材Ｒの外周面Ｒａとの間に液状媒体ＬＱが介在しているため、液状媒体ＬＱの表面が基板ＦＢを案内する案内面となる。基板ＦＢが液状媒体ＬＱを介して案内されるため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制される。
なお、本実施形態において、基板ＦＢの液状媒体ＬＱに接する面、すなわち、基板ＦＢの裏面に、当該液状媒体ＬＱに対するバリア層を形成してもよい。
The liquid medium LQ is supplied over substantially the entire outer circumferential surface Ra with respect to the rotation axis direction of the roller member R, and the thickness of the liquid medium LQ is substantially uniform in the rotation axis direction of the roller member R, for example. Examples of the liquid medium LQ include water, silicon oil, and magnetic fluid. The roller member R guides the substrate FB in a state where the back surface of the substrate FB is supported by the support region Rb on the outer peripheral surface Ra. In this case, since the liquid medium LQ is interposed between the substrate FB and the outer peripheral surface Ra of the roller member R, the surface of the liquid medium LQ serves as a guide surface for guiding the substrate FB. Since the substrate FB is guided through the liquid medium LQ, generation of frictional force between the substrate FB and the roller member R is suppressed.
In the present embodiment, a barrier layer for the liquid medium LQ may be formed on the surface of the substrate FB that contacts the liquid medium LQ, that is, the back surface of the substrate FB.
液状媒体供給装置ＬＳは、吐出ノズルＮＺ１を有している。吐出ノズルＮＺ１は、ローラー部材Ｒのうち支持領域Ｒｂよりも回転方向の上流側に配置されている。吐出ノズルＮＺ１の先端には、開口部ＯＰ１が形成されている。開口部ＯＰ１は、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに向けられている。吐出ノズルＮＺ１は、不図示の液状媒体供給源に接続されている。開口部ＯＰ１からは、当該液状媒体供給源から供給される液状媒体が外周面Ｒａに向けて吐出される。
なお、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａには、吐出ノズルＮＺ１から供給される液状媒体ＬＱを外周面Ｒａで保持するために、液状媒体ＬＱに対して親水性（親液性）を有する膜をコーティングしてもよい。
The liquid medium supply device LS has a discharge nozzle NZ1. The discharge nozzle NZ1 is disposed on the upstream side in the rotation direction of the roller member R with respect to the support region Rb. An opening OP1 is formed at the tip of the discharge nozzle NZ1. The opening OP1 is directed to the outer peripheral surface Ra of the roller member R. The discharge nozzle NZ1 is connected to a liquid medium supply source (not shown). From the opening OP1, the liquid medium supplied from the liquid medium supply source is discharged toward the outer peripheral surface Ra.
The outer peripheral surface Ra of the roller member R is coated with a film having hydrophilicity (lyophilicity) with respect to the liquid medium LQ in order to hold the liquid medium LQ supplied from the discharge nozzle NZ1 on the outer peripheral surface Ra. May be.
開口部ＯＰ１は、例えばローラー部材Ｒの回転軸方向（例えば図１に示すローラー部材Ｒの場合はＹ方向）に平行な方向が長手方向となるようにスリット状に形成されている。なお、本実施形態においては、当該回転軸方向は、基板ＦＢの搬送方向に直交する方向（基板ＦＢの幅方向）と一致する。 The opening OP1 is formed in a slit shape so that the direction parallel to the rotation axis direction of the roller member R (for example, the Y direction in the case of the roller member R shown in FIG. 1) is the longitudinal direction. In the present embodiment, the rotation axis direction coincides with a direction (width direction of the substrate FB) orthogonal to the transport direction of the substrate FB.
開口部ＯＰ１は、ローラー部材Ｒの回転軸方向の全体をカバーする寸法に形成されている。このため、開口部ＯＰ１から吐出された液状媒体は、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａ上に満遍なく塗布される。勿論、この構成に限られることは無く、例えば吐出ノズルＮＺ１の先端にローラー部材Ｒの回転軸方向に沿って複数の開口部ＯＰ１が配置された構成であっても構わない。 The opening OP1 is formed to have a size that covers the entire rotation axis direction of the roller member R. For this reason, the liquid medium discharged from the opening OP1 is uniformly applied on the outer peripheral surface Ra of the roller member R. Of course, the present invention is not limited to this configuration. For example, a configuration in which a plurality of openings OP1 are arranged along the rotation axis direction of the roller member R at the tip of the discharge nozzle NZ1 may be used.
液状媒体回収装置ＬＣは、吸引ノズルＮＺ２を有している。吸引ノズルＮＺ２は、ローラー部材Ｒのうち支持領域Ｒｂよりも回転方向の下流側に配置されている。吸引ノズルＮＺ２の先端には、開口部ＯＰ２が形成されている。開口部ＯＰ２は、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに向けられている。吸引ノズルＮＺ２には、不図示の吸引機構に接続されている。吸引ノズルＮＺ２は、当該吸引機構による吸引力を用いて、外周面Ｒａ上の液状媒体を開口部ＯＰ２から吸引して回収する。 The liquid medium recovery device LC has a suction nozzle NZ2. The suction nozzle NZ2 is arranged on the downstream side in the rotation direction of the roller member R with respect to the support region Rb. An opening OP2 is formed at the tip of the suction nozzle NZ2. The opening OP2 is directed to the outer peripheral surface Ra of the roller member R. The suction nozzle NZ2 is connected to a suction mechanism (not shown). The suction nozzle NZ2 sucks and collects the liquid medium on the outer peripheral surface Ra from the opening OP2 using the suction force by the suction mechanism.
開口部ＯＰ２は、例えば開口部ＯＰ１と同様にローラー部材Ｒの回転軸方向に平行な方向が長手方向となるようにスリット状に形成されている。開口部ＯＰ２は、外周面Ｒａのうちローラー部材Ｒの回転軸方向の全体をカバーする寸法に形成されている。このため、開口部ＯＰ２においては、外周面Ｒａのほぼ全面に配置された液状媒体が満遍なく吸引される。勿論、この構成に限られることは無く、例えばローラー部材Ｒの回転軸方向に沿って複数の開口部ＯＰ２が配置された構成であっても構わない。 The opening OP2 is formed in a slit shape so that the direction parallel to the rotation axis direction of the roller member R is the longitudinal direction, for example, like the opening OP1. The opening OP2 is formed to have a dimension that covers the entire rotation surface of the roller member R in the outer peripheral surface Ra. For this reason, in the opening OP2, the liquid medium disposed on almost the entire outer peripheral surface Ra is uniformly sucked. Of course, it is not restricted to this structure, For example, the structure by which several opening part OP2 is arrange | positioned along the rotating shaft direction of the roller member R may be sufficient.
上記のように構成された基板処理装置ＦＰＡは、制御部ＣＯＮＴの制御により、ロール方式によって有機ＥＬ素子、液晶表示素子などの表示素子（電子デバイス）を製造する。以下、上記構成の基板処理装置ＦＰＡを用いて表示素子を製造する工程を説明する。 The substrate processing apparatus FPA configured as described above produces display elements (electronic devices) such as an organic EL element and a liquid crystal display element by a roll method under the control of the control unit CONT. Hereinafter, a process of manufacturing a display element using the substrate processing apparatus FPA having the above configuration will be described.
まず、不図示のローラーに巻き付けられた帯状の基板ＦＢを基板供給部ＳＵに取り付ける。制御部ＣＯＮＴは、この状態から基板供給部ＳＵから当該基板ＦＢが送り出されるように、不図示のローラーを回転させる。そして、基板処理部ＰＲを通過した当該基板ＦＢを基板回収部ＣＬに設けられた不図示のローラーで巻き取らせる。この基板供給部ＳＵ及び基板回収部ＣＬを制御することによって、基板ＦＢの被処理面Ｆｐを基板処理部ＰＲに対して連続的に搬送することができる。 First, a belt-like substrate FB wound around a roller (not shown) is attached to the substrate supply unit SU. The controller CONT rotates a roller (not shown) so that the substrate FB is sent out from the substrate supply unit SU from this state. And the said board | substrate FB which passed the board | substrate process part PR is wound up with the roller not shown provided in the board | substrate collection | recovery part CL. By controlling the substrate supply unit SU and the substrate recovery unit CL, the processing surface Fp of the substrate FB can be continuously transferred to the substrate processing unit PR.
制御部ＣＯＮＴは、基板ＦＢが基板供給部ＳＵから送り出されてから基板回収部ＣＬで巻き取られるまでの間に、基板処理部ＰＲの搬送装置３０によって基板ＦＢを当該基板処理部ＰＲ内で適宜搬送させつつ、処理装置１０によって表示素子の構成要素を基板ＦＢ上に順次形成させる。
The control unit CONT appropriately transfers the substrate FB within the substrate processing unit PR by the
搬送装置３０のローラー部材Ｒで基板ＦＢを搬送する場合、搬送装置３０のローラー部材Ｒの外周面Ｒと、基板ＦＢの裏面との間に、液状媒体供給装置ＬＳを用いて液状媒体ＬＱを供給する。例えば図３に示すように、制御部ＣＯＮＴは、ローラー部材Ｒを回転させつつ、吐出ノズルＮＺ１の開口部ＯＰ１から外周面Ｒａに向けて液状媒体ＬＱを吐出させる。ローラー部材Ｒが一回転以上回転すると、図４に示すように、吐出ノズルＮＺ１と吸引ノズルＮＺ２との間におけるローラー部材Ｒの外周面Ｒａには液状媒体ＬＱの層が形成される。
When the substrate FB is transported by the roller member R of the
液状媒体ＬＱの層が形成された後、制御部ＣＯＮＴによって当該ローラー部材Ｒを用いた基板ＦＢの搬送が行われる。図５に示すように、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａのうち所定の支持領域Ｒｂに基板ＦＢが掛けられた状態で案内される。基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間には液状媒体ＬＱが介在しているため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制される。このため、歪みなどの変形の発生が抑えられた状態で基板ＦＢが搬送される。また、液状媒体ＬＱの層は、ローラー部材Ｒの回転軸方向においてほぼ均一な厚さとなっているため、ローラー部材Ｒ及び液状媒体ＬＱによる搬送速度はローラー部材Ｒの回転軸方向においてほぼ均一となる。このため、基板ＦＢに対して歪みなどの変形が生じにくくなる。また、ローラー部材Ｒによって基板ＦＢが安定して支持されるため、当該基板ＦＢに対して処理を行う場合などにおいて、基板ＦＢの面精度が高精度に維持されることになる。 After the layer of the liquid medium LQ is formed, the substrate FB using the roller member R is transported by the control unit CONT. As shown in FIG. 5, guidance is performed in a state where the substrate FB is hung on a predetermined support region Rb in the outer peripheral surface Ra of the roller member R. Since the liquid medium LQ is interposed between the substrate FB and the roller member R, generation of frictional force between the substrate FB and the roller member R is suppressed. For this reason, the substrate FB is transported in a state where the occurrence of deformation such as distortion is suppressed. Further, since the layer of the liquid medium LQ has a substantially uniform thickness in the rotation axis direction of the roller member R, the conveyance speed by the roller member R and the liquid medium LQ is substantially uniform in the rotation axis direction of the roller member R. . For this reason, deformation such as distortion is less likely to occur with respect to the substrate FB. In addition, since the substrate FB is stably supported by the roller member R, the surface accuracy of the substrate FB is maintained with high accuracy when processing is performed on the substrate FB.
なお、本実施形態においては、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに対して、吐出ノズルＮＺ１から供給された液状媒体ＬＱを吸引ノズルＮＺ２で常時、回収する構成を説明したが、この構成に限定されるものではない。例えば、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに保持されている液状媒体ＬＱが、所定の厚さで外周面Ｒａに保持されている場合には、吐出ノズルＮＺ１による液状液体ＬＱの供給及び吸引ノズルＮＺ２による液状液体ＬＱの回収を一時停止してもよい。この場合、基板ＦＢの搬送が終了した場合やローラー部材Ｒのメンテナンスを行う時にのみ、制御部ＣＯＮＴは、ローラー部材Ｒ上に配置された液状媒体ＬＱを吸引ノズルＮＺ２によって回収させてもよい。図６に示すように、制御部ＣＯＮＴは、ローラー部材Ｒを回転させつつ、吸引ノズルＮＺ２に接続された不図示の吸引機構を作動させる。この動作により、外周面Ｒａ上に配置された液状媒体ＬＱは、ローラー部材Ｒの回転と共にノズルＮＺの開口部ＯＰ２から吸引されていく。なお、吐出ノズルＮＺ１及び吸引ノズルＮＺ２がローラー部材Ｒの近傍に設けられているため、液状媒体ＬＱの供給時及び回収時には、ローラー部材Ｒの周囲に液状媒体ＬＱが飛散したりするなどの事態が発生しにくくなる。 In the present embodiment, the configuration in which the liquid medium LQ supplied from the discharge nozzle NZ1 is always collected by the suction nozzle NZ2 with respect to the outer peripheral surface Ra of the roller member R has been described, but the configuration is limited to this configuration. It is not a thing. For example, when the liquid medium LQ held on the outer peripheral surface Ra of the roller member R is held on the outer peripheral surface Ra with a predetermined thickness, the supply of the liquid liquid LQ by the discharge nozzle NZ1 and the suction nozzle NZ2 The recovery of the liquid liquid LQ may be temporarily stopped. In this case, the controller CONT may collect the liquid medium LQ disposed on the roller member R by the suction nozzle NZ2 only when the conveyance of the substrate FB is completed or when the roller member R is maintained. As shown in FIG. 6, the control part CONT operates a suction mechanism (not shown) connected to the suction nozzle NZ2 while rotating the roller member R. By this operation, the liquid medium LQ arranged on the outer peripheral surface Ra is sucked from the opening OP2 of the nozzle NZ as the roller member R rotates. In addition, since the discharge nozzle NZ1 and the suction nozzle NZ2 are provided in the vicinity of the roller member R, the liquid medium LQ may scatter around the roller member R when the liquid medium LQ is supplied and recovered. Less likely to occur.
以上のように、本実施形態によれば、基板ＦＢを搬送する搬送装置３０が、外周面Ｒａと基板ＦＢとの間に液状媒体ＬＱを介して基板ＦＢを案内するローラー部材Ｒを備えることとしたので、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制される。これにより、歪みなどの変形の発生を抑えつつ基板ＦＢを搬送することができる。また、本実施形態によれば、ローラー部材Ｒにより基板ＦＢを安定して支持することができるため、基板ＦＢの面精度を高めることができる。これにより、高精細な処理を行うことができる。
As described above, according to the present embodiment, the
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態においては、液状媒体供給装置ＬＳの吐出ノズルＮＺ１の開口部ＯＰ１をローラー部材Ｒの外周面Ｒａに向けた構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、開口部ＯＰ１が外周面Ｒａとは異なる方向に向けられた構成であっても構わない。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, in the above-described embodiment, the configuration in which the opening OP1 of the discharge nozzle NZ1 of the liquid medium supply device LS is directed to the outer peripheral surface Ra of the roller member R has been described as an example, but the present invention is not limited thereto. The opening OP1 may be configured in a direction different from the outer peripheral surface Ra.
例えば、基板ＦＢの裏面が液状媒体ＬＱを保持することが可能（例えば、液状媒体ＬＱに対して親水性（親液性）を有する膜をコーティングしてもよい）であれば、図７に示すように、液状媒体供給装置ＬＳの吐出ノズルＮＺ１の開口部ＯＰ１を基板ＦＢに向けて配置してもよい。開口部ＯＰ１からは、基板ＦＢのうちローラー部材Ｒに案内される面に対して液状媒体ＬＱが吐出され、基板ＦＢがローラー部材Ｒに到達すると、当該基板ＦＢの裏面のうち液状媒体ＬＱが付着した面が液状媒体ＬＱを介してローラー部材Ｒに掛けられることになる。この場合、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａと基板ＦＢとの間に液状媒体ＬＱが配置されることになるため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制され、歪みなどの変形が抑えられた状態で基板ＦＢが搬送されることになる。 For example, if the back surface of the substrate FB can hold the liquid medium LQ (for example, a film having hydrophilicity (lyophilicity) with respect to the liquid medium LQ may be coated), it is shown in FIG. As described above, the opening OP1 of the discharge nozzle NZ1 of the liquid medium supply device LS may be arranged facing the substrate FB. From the opening OP1, the liquid medium LQ is discharged to the surface of the substrate FB that is guided by the roller member R. When the substrate FB reaches the roller member R, the liquid medium LQ of the back surface of the substrate FB adheres. The finished surface is hung on the roller member R through the liquid medium LQ. In this case, since the liquid medium LQ is disposed between the outer peripheral surface Ra of the roller member R and the substrate FB, generation of frictional force between the substrate FB and the roller member R is suppressed, and distortion and the like are suppressed. The substrate FB is transported in a state where deformation is suppressed.
また、図７に示す構成の他に、例えば基板ＦＢと外周面Ｒａ上の支持領域Ｒｂとの間の部分に開口部ＯＰ１が向けられた構成とすることができる。この構成によれば、基板ＦＢと支持領域Ｒｂとの間に直接的に液状媒体ＬＱを供給することができる。 In addition to the configuration illustrated in FIG. 7, for example, the opening OP <b> 1 may be directed to a portion between the substrate FB and the support region Rb on the outer peripheral surface Ra. According to this configuration, the liquid medium LQ can be directly supplied between the substrate FB and the support region Rb.
また、上記実施形態においては、液状媒体供給装置ＬＳの吐出ノズルＮＺ１の開口部ＯＰ１及び液状媒体回収装置ＬＣの吸引ノズルＮＺ２の開口部ＯＰ２がローラー部材Ｒとは別個に独立して設けられた構成（ローラー部材Ｒに向けられた構成）を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば図８に示すように、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに開口部ＯＰ１及び開口部ＯＰ２を配置した構成としても構わない。 In the above embodiment, the opening OP1 of the discharge nozzle NZ1 of the liquid medium supply device LS and the opening OP2 of the suction nozzle NZ2 of the liquid medium recovery device LC are provided separately from the roller member R. Although the description has been made by taking the (configuration directed to the roller member R) as an example, it is not limited thereto. For example, as shown in FIG. 8, the opening OP <b> 1 and the opening OP <b> 2 may be arranged on the outer peripheral surface Ra of the roller member R.
この構成によれば、吐出ノズルＮＺ１及び吸引ノズルＮＺ２を設けなくても済むため、部品点数の削減及び省スペース化が可能となる。なお、開口部ＯＰ１に接続される不図示の液状媒体供給源や、開口部ＯＰ２に接続される吸引機構などを、例えばローラー部材Ｒの円筒内部に配置させることができる。また、これらの液状媒体供給源や吸引機構をローラー部材Ｒの外部に別途配置させた構成であっても構わない。また、図８には、開口部ＯＰ１及び開口部ＯＰ２の両方が外周面Ｒａに設けられた構成を示したが、これに限られることは無く、例えば開口部ＯＰ１及び開口部ＯＰ２のうちいずれか一方のみがローラー部材Ｒの外周面Ｒａに設けられた構成であっても構わない。 According to this configuration, since it is not necessary to provide the discharge nozzle NZ1 and the suction nozzle NZ2, the number of parts can be reduced and the space can be saved. Note that a liquid medium supply source (not shown) connected to the opening OP1, a suction mechanism connected to the opening OP2, and the like can be disposed inside the cylinder of the roller member R, for example. Further, the liquid medium supply source and the suction mechanism may be separately arranged outside the roller member R. FIG. 8 shows a configuration in which both the opening OP1 and the opening OP2 are provided on the outer peripheral surface Ra. However, the present invention is not limited to this. For example, one of the opening OP1 and the opening OP2 is used. Only one side may be configured to be provided on the outer circumferential surface Ra of the roller member R.
また、上記実施形態においては、液状媒体回収装置ＬＣが不図示の吸引機構を有し、当該吸引機構の吸引力を用いてローラー部材Ｒ上の液状媒体ＬＱを回収する構成としたが、これに加えて基板ＦＢに付着した液状媒体ＬＱを回収する構成を有していても構わない。例えば図９に示す構成では、液状媒体回収装置ＬＣは、吸引ノズルＮＺ２とは別個に配置されたスキージ部材ＳＱを有している。スキージ部材ＳＱは、ローラー部材Ｒに対して基板ＦＢの搬送方向下流側に配置されている。スキージ部材ＳＱの先端は、基板ＦＢのうち液状媒体ＬＱに接していた面に近接して配置されている。この構成により、基板ＦＢに付着した液状媒体ＬＱがスキージ部材ＳＱの先端によって掻き取られることになる。これにより、基板ＦＢの状態を清浄に保持することができる。 In the above embodiment, the liquid medium recovery device LC has a suction mechanism (not shown), and the liquid medium LQ on the roller member R is recovered using the suction force of the suction mechanism. In addition, the liquid medium LQ attached to the substrate FB may be collected. For example, in the configuration shown in FIG. 9, the liquid medium recovery apparatus LC includes a squeegee member SQ that is arranged separately from the suction nozzle NZ2. The squeegee member SQ is disposed downstream of the roller member R in the transport direction of the substrate FB. The tip of the squeegee member SQ is disposed close to the surface of the substrate FB that is in contact with the liquid medium LQ. With this configuration, the liquid medium LQ attached to the substrate FB is scraped off by the tip of the squeegee member SQ. Thereby, the state of the substrate FB can be kept clean.
上記実施形態においては、ローラー部材Ｒの円筒面を用いて基板ＦＢを案内する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば平面を用いて基板ＦＢを案内する構成であっても構わない。また、円筒面以外の曲面を用いて基板ＦＢを案内する構成であっても構わない。 In the above-described embodiment, the configuration in which the substrate FB is guided using the cylindrical surface of the roller member R has been described as an example. However, the configuration is not limited thereto, and the configuration in which the substrate FB is guided using a plane, for example. It does not matter. Further, the substrate FB may be guided using a curved surface other than the cylindrical surface.
また、上記実施形態においては、ローラー部材Ｒが周方向に回転可能である構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば回転せずに固定された構成であっても構わない。この構成によれば、基板ＦＢは、ローラー部材Ｒ上に形成された液状媒体ＬＱ上を滑るように案内される。このため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦の発生を抑えた状態で基板ＦＢを搬送することができる。 Moreover, in the said embodiment, although the roller member R demonstrated as an example the structure which can rotate in the circumferential direction, it is not restricted to this, For example, even if it is the structure fixed without rotating I do not care. According to this configuration, the substrate FB is guided so as to slide on the liquid medium LQ formed on the roller member R. For this reason, the board | substrate FB can be conveyed in the state which suppressed generation | occurrence | production of the friction between the board | substrate FB and the roller member R. FIG.
また、上記実施形態の構成において、例えばローラー部材Ｒの外周面Ｒａ、基板ＦＢの裏面が液状媒体に対して親水性（親液性）にすることによって、液状媒体の保持力を向上させることができる。 In the configuration of the above embodiment, for example, the outer peripheral surface Ra of the roller member R and the back surface of the substrate FB are made hydrophilic (lyophilic) with respect to the liquid medium, thereby improving the holding power of the liquid medium. it can.
また、上記実施形態の搬送装置３０において、例えば液状媒体回収装置ＬＣを設けない構成であっても構わない。これにより、搬送装置３０の部品点数を削減することができ、省スペース化を図ることができる。なお、この構成においては、例えばメンテナンス時などに外部から液状媒体回収装置ＬＣをアクセスさせることで液状媒体ＬＱを回収することができる。
Moreover, in the conveying
また、上記実施形態の搬送装置３０において、例えば図１０に示すように、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに円筒状の多孔質層Ｒｐを配置させる構成であっても構わない。この場合、液状媒体供給装置ＬＳは、多孔質層Ｒｐの内周側から外周側に液状媒体を供給するように構成されている。液状媒体供給装置ＬＳは、液状媒体の供給量を調整する調整部ＬＳａを有している。
Moreover, in the conveying
図１０に示す構成では、多孔質層Ｒｐの円筒内に液状媒体供給部材Ｒｓが設けられている。液状媒体供給部材Ｒｓは、多孔質層Ｒｐの内周面に接するように円筒状に形成されている。液状媒体供給部材Ｒｓの内部には、液状媒体を流通させる流路Ｒｆが形成されている。各流路Ｒｆは、円筒の軸方向に延びている。流路Ｒｆの一部は、円筒の外周面に開口部を有している。液状媒体は、当該開口部から多孔質層Ｒｐに供給される。流路Ｒｆは、例えば液状媒体供給部材Ｒｓの周方向に複数並んで形成されている。複数の流路Ｒｆは、当該流路Ｒｆの一部（不図示）で接続されている。 In the configuration shown in FIG. 10, the liquid medium supply member Rs is provided in the cylinder of the porous layer Rp. The liquid medium supply member Rs is formed in a cylindrical shape so as to be in contact with the inner peripheral surface of the porous layer Rp. Inside the liquid medium supply member Rs, a flow path Rf for circulating the liquid medium is formed. Each flow path Rf extends in the axial direction of the cylinder. A part of the flow path Rf has an opening on the outer peripheral surface of the cylinder. The liquid medium is supplied to the porous layer Rp from the opening. For example, a plurality of the flow paths Rf are formed side by side in the circumferential direction of the liquid medium supply member Rs. The plurality of flow paths Rf are connected by a part (not shown) of the flow path Rf.
この構成においては、液状媒体供給装置Ｌｓから供給された液状媒体は、液状媒体供給部材Ｒｓの複数の流路Ｒｆに分岐して流れる。各流路Ｒｆを流れる液状媒体は、当該流路Ｒｆに設けられた開口部から多孔質層Ｒｐ内に滲み込み、多孔質層Ｒｐの内周側から外周面Ｒａに滲み出す。このため、多孔質層Ｒｐの外周面Ｒａの全面に均一に液状媒体が供給されることになる。 In this configuration, the liquid medium supplied from the liquid medium supply device Ls branches and flows into the plurality of flow paths Rf of the liquid medium supply member Rs. The liquid medium flowing through each flow path Rf oozes into the porous layer Rp from the opening provided in the flow path Rf, and oozes from the inner peripheral side of the porous layer Rp to the outer peripheral surface Ra. For this reason, the liquid medium is uniformly supplied to the entire outer peripheral surface Ra of the porous layer Rp.
また、液状媒体の供給動作を行う際に、液状媒体供給装置ＬＳに設けられる調整部ＬＳａによって液状媒体の供給量を調整しても構わない。これにより、多孔質層Ｒｐから外周面Ｒａに供給される液状媒体の供給量を調整することができる。このため、液状媒体ＬＱの層厚を調整しやすい構成となる。なお、図１０に示すような液状媒体供給部材Ｒｓが配置された構成に限られず、例えば多孔質層Ｒｐに直接液状媒体を供給する構成であっても構わない。 Further, when the liquid medium supply operation is performed, the supply amount of the liquid medium may be adjusted by the adjusting unit LSa provided in the liquid medium supply device LS. Thereby, the supply amount of the liquid medium supplied from the porous layer Rp to the outer peripheral surface Ra can be adjusted. For this reason, it becomes the structure which is easy to adjust the layer thickness of the liquid medium LQ. Note that the configuration is not limited to the configuration in which the liquid medium supply member Rs as illustrated in FIG. 10 is disposed. For example, a configuration in which the liquid medium is directly supplied to the porous layer Rp may be used.
また、上記各実施形態では、基板ＦＢの搬送方向が床部に平行な方向（ＸＹ平面に平行な方向）である例を挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、基板ＦＢの搬送方向が床部（ＸＹ平面）に交差する方向である場合にも、基板ＦＢの裏面とローラー部材Ｒとの間に液状媒体ＬＱを介在させることが可能である。例えば、図１１は、基板ＦＢを鉛直方向に平行な方向に搬送する場合の例を示す図である。 In each of the above embodiments, an example in which the transport direction of the substrate FB is a direction parallel to the floor (a direction parallel to the XY plane) has been described, but the present invention is not limited to this. For example, the liquid medium LQ can be interposed between the back surface of the substrate FB and the roller member R even when the transport direction of the substrate FB is a direction that intersects the floor (XY plane). For example, FIG. 11 is a diagram illustrating an example in which the substrate FB is transported in a direction parallel to the vertical direction.
図１１に示すように、基板ＦＢは、鉛直方向において、上方から下方に向かって搬送される当該基板ＦＢの搬送経路には、ローラー部材Ｒが設けられている。ローラー部材Ｒは、鉛直方向に直交する方向（水平方向）において、液状媒体ＬＱを介して支持部Ｒｎが当該基板ＦＢを支持する。 As shown in FIG. 11, a roller member R is provided on the transport path of the substrate FB that is transported from the top to the bottom in the vertical direction. In the roller member R, the support portion Rn supports the substrate FB via the liquid medium LQ in a direction (horizontal direction) orthogonal to the vertical direction.
当該ローラー部材Ｒの支持部Ｒｎには、液状媒体供給装置ＬＳの吐出ノズルＮＺ１が向けられている。吐出ノズルＮＺ１から吐出される液状媒体ＬＱは、支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間に供給される。また、支持部Ｒｎには、液状媒体回収装置ＬＣの吸引ノズルＮＺ２が向けられている。支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間に供給された液状媒体ＬＱは、吸引ノズルＮＺ２によって吸引されて除去される。吐出ノズルＮＺ１からの吐出量と、吸引ノズルＮＺ２による吸引量とを調整することにより、支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間に、例えば薄膜状の液状媒体ＬＱの層を形成することができる。 The discharge nozzle NZ1 of the liquid medium supply device LS is directed to the support portion Rn of the roller member R. The liquid medium LQ discharged from the discharge nozzle NZ1 is supplied between the support portion Rn and the substrate FB. Further, the suction nozzle NZ2 of the liquid medium recovery device LC is directed to the support portion Rn. The liquid medium LQ supplied between the support part Rn and the substrate FB is sucked and removed by the suction nozzle NZ2. By adjusting the discharge amount from the discharge nozzle NZ1 and the suction amount by the suction nozzle NZ2, for example, a thin film-like liquid medium LQ layer can be formed between the support portion Rn and the substrate FB.
基板ＦＢに処理装置１０による処理を行う場合、ローラー部材Ｒの支持部Ｒｎに基板ＦＢを近接させ、上記の吐出量と吸引量との調整により支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間に薄膜状の液状媒体ＬＱを配置させる。この動作により、基板ＦＢが支持部Ｒｎ上の液状媒体ＬＱに密着し、支持部Ｒｎの形状に沿って湾曲するため、基板ＦＢの面精度が保たれる。また、基板ＦＢが液状媒体ＬＱを介して支持部Ｒｎに支持されるため、支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間の摩擦が低減された状態となる。
When processing the substrate FB by the
なお、図１１では、基板ＦＢが鉛直方向において、上方から下方に向かって搬送される例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、下方から上方に向かって搬送してもよい。また、基板ＦＢが鉛直方向に対して傾いた方向に沿って、基板ＦＢを搬送してもよい。 In FIG. 11, the substrate FB is described as an example in which the substrate FB is transported from the top to the bottom in the vertical direction. However, the present invention is not limited to this, and the substrate FB may be transported from the bottom to the top. Further, the substrate FB may be transported along a direction in which the substrate FB is inclined with respect to the vertical direction.
また、上記の各構成において、液状媒体ＬＱとして磁性体を含んだ磁性流体が用いられると共に、ローラー部材Ｒとして電磁石が用いられる構成であっても構わない。この場合、ローラー部材Ｒにおける磁力を調整することで、ローラー部材Ｒと基板ＦＢとの間の液状媒体ＬＱの層厚を調整することが可能となる。液状媒体ＬＱの層厚を変化させることにより、基板ＦＢの摩擦力分布を変化させることができ、当該基板ＦＢの搬送特性を調整することができる。また、磁性流体が用いられる場合、回収が不要となるため、回収時に液状媒体が周囲に飛散するといった事態を回避することができる。このため、周囲の環境の変化を防ぐことができる。 In each of the above configurations, a magnetic fluid containing a magnetic material may be used as the liquid medium LQ, and an electromagnet may be used as the roller member R. In this case, by adjusting the magnetic force in the roller member R, the layer thickness of the liquid medium LQ between the roller member R and the substrate FB can be adjusted. By changing the layer thickness of the liquid medium LQ, the frictional force distribution of the substrate FB can be changed, and the conveyance characteristics of the substrate FB can be adjusted. Further, when a magnetic fluid is used, recovery is not necessary, so that it is possible to avoid a situation in which the liquid medium is scattered around during recovery. For this reason, changes in the surrounding environment can be prevented.
また、吐出ノズルＮＺ１の吐出量及び吸引ノズルＮＺ２の吸引量を調整することで、ローラー部材Ｒと基板ＦＢとの間の液状媒体ＬＱの量を調整することができ、これによって液状媒体ＬＱの層厚を調整することもできる。この場合、液状媒体ＬＱとして磁性流体とは異なる他の流体が用いられる構成であっても、液状媒体ＬＱの層厚を調整可能である。また、この場合、基板ＦＢの搬送速度に対してローラー部材Ｒの回転速度を速くしたり遅くしたりすることで、基板ＦＢの摩擦力分布を調整することができる。 Further, by adjusting the discharge amount of the discharge nozzle NZ1 and the suction amount of the suction nozzle NZ2, the amount of the liquid medium LQ between the roller member R and the substrate FB can be adjusted, and thereby the layer of the liquid medium LQ The thickness can also be adjusted. In this case, the layer thickness of the liquid medium LQ can be adjusted even when another fluid different from the magnetic fluid is used as the liquid medium LQ. In this case, the frictional force distribution of the substrate FB can be adjusted by increasing or decreasing the rotation speed of the roller member R with respect to the conveyance speed of the substrate FB.
さらに、液状媒体ＬＱとして、基板ＦＢの裏面を洗浄するための洗浄液を用いてもよい。洗浄液としては、例えば、純水、酸性溶液、アルカリ性溶液などが挙げられる。酸性溶液としては、例えば過酸化水素などを含む溶液（過酸化水素水など）が挙げられる。アルカリ性溶液としては、例えばアンモニアを含む溶液（アンモニア水など）が挙げられる。また、洗浄液として、例えばアルコールを含む溶液などを用いても良い。また、この場合、液体媒体ＬＱは、基板ＦＢの裏面だけでなく、ローラー部材Ｒの表面も洗浄することが可能である。 Further, as the liquid medium LQ, a cleaning liquid for cleaning the back surface of the substrate FB may be used. Examples of the cleaning liquid include pure water, acidic solution, and alkaline solution. Examples of the acidic solution include a solution containing hydrogen peroxide and the like (hydrogen peroxide solution and the like). Examples of the alkaline solution include a solution containing ammonia (such as aqueous ammonia). Further, for example, a solution containing alcohol may be used as the cleaning liquid. In this case, the liquid medium LQ can clean not only the back surface of the substrate FB but also the surface of the roller member R.
ＦＢ…基板 ＦＰＡ…基板処理装置 ＰＲ…基板処理部 ＣＯＮＴ…制御部 Ｆｐ…被処理面 Ｒ…ローラー部材 Ｒａ…外周面 Ｒｂ…支持領域 ＬＳ…液状媒体供給装置 ＬＣ…液状媒体回収装置 ＬＱ…液状媒体 ＮＺ…ノズル ＳＱ…スキージ部材 ＮＺ１…吐出ノズル ＮＺ２…吸引ノズル ＯＰ１、ＯＰ２…開口部 ３０…搬送装置
FB ... Substrate FPA ... Substrate processing device PR ... Substrate processing unit CONT ... Control unit Fp ... Surface to be processed R ... Roller member Ra ... Outer peripheral surface Rb ... Support region LS ... Liquid medium supply device LC ... Liquid medium recovery device LQ ... Liquid medium NZ ... Nozzle SQ ... Squeegee member NZ1 ... Discharge nozzle NZ2 ... Suction nozzle OP1, OP2 ...
Claims (17)
前記シート基板を湾曲させて案内する表面を有するローラー部材と、
前記ローラー部材の表面と前記シート基板との間に液状媒体による層が形成されるように、前記液状媒体を供給する供給系と回収する回収系と、
を備え、
前記ローラー部材の表面と前記シート基板との間の摩擦を低減した状態で前記シート基板を案内する、搬送装置。 A transport device for transporting a belt-shaped sheet substrate,
A roller member which have a surface for guiding by bending the sheet substrate,
A supply system for supplying the liquid medium and a recovery system for recovering the liquid medium so that a layer of the liquid medium is formed between the surface of the roller member and the sheet substrate;
With
A conveying device that guides the sheet substrate in a state where friction between the surface of the roller member and the sheet substrate is reduced .
請求項１に記載の搬送装置。 The transport apparatus according to claim 1 , wherein the supply system includes a supply port that discharges the liquid medium.
請求項２に記載の搬送装置。 The transport apparatus according to claim 2 , wherein the supply port is disposed to face the sheet substrate and discharges the liquid medium toward the sheet substrate.
請求項２に記載の搬送装置。 The transport device according to claim 2 , wherein the supply port is disposed to face the surface of the roller member and discharges the liquid medium toward the surface of the roller member.
請求項２に記載の搬送装置。 The transport apparatus according to claim 2 , wherein the supply port is provided on a surface of the roller member.
前記供給系は、前記多孔質層を介して前記ローラー部材の表面に前記液状媒体を供給する液状媒体供給部を有する
請求項１に記載の搬送装置。 The roller member has a porous layer on the surface,
The transport apparatus according to claim 1 , wherein the supply system includes a liquid medium supply unit that supplies the liquid medium to the surface of the roller member via the porous layer.
請求項６に記載の搬送装置。 The transport apparatus according to claim 6 , wherein the supply system includes an adjustment unit that adjusts an amount of the liquid medium supplied to a surface of the roller member.
請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の搬送装置。 The transport device according to any one of claims 1 to 7, wherein the recovery system includes a recovery port directed to the roller member.
請求項８に記載の搬送装置。 The transport apparatus according to claim 8 , wherein the collection system includes a squeegee member disposed downstream of the roller member in the transport direction of the sheet substrate.
請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載の搬送装置。 The roller member, the conveying device as claimed in any one of claims 1 to 9 which is rotatably provided.
請求項１から請求項１０のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。The conveyance apparatus as described in any one of Claims 1-10.
前記シート基板に対して所定の処理を行う処理装置と
を備え、
前記搬送装置として、請求項１から請求項１１のうちいずれか一項に記載の搬送装置が用いられる
基板処理装置。 A transport device for transporting a belt-shaped sheet substrate;
A processing apparatus for performing a predetermined process on the sheet substrate,
The substrate processing apparatus in which the transfer device according to any one of claims 1 to 11 is used as the transfer device.
前記シート基板の被処理面の裏面の一部を円筒面、平面又は円筒面以外の曲面によって支持する案内部材を含み、前記シート基板を長尺方向に送る搬送装置と、
前記シート基板の裏面を支持する前記案内部材の支持領域と前記シート基板の裏面との間に液状媒体を供給する供給系と、
前記シート基板の搬送の方向に関して前記支持領域の下流側の位置で、前記案内部材の表面上、又は前記シート基板の裏面に付着した前記液状媒体を回収する回収系と、
前記案内部材の前記支持領域で前記液状媒体を介して支持される前記シート基板の被処理面に所定の処理を行う処理装置と、
を備える基板処理装置。 A substrate processing apparatus that conveys a belt-like sheet substrate having flexibility in a longitudinal direction and forms an electronic device on a surface to be processed of the sheet substrate,
A conveyance device that includes a guide member that supports a part of the back surface of the processing surface of the sheet substrate by a cylindrical surface, a flat surface, or a curved surface other than the cylindrical surface, and sends the sheet substrate in a longitudinal direction;
A supply system for supplying the liquid medium between the back of the sheet substrate and the supporting region of the guide member for supporting the rear surface of the front Symbol sheet substrate,
A recovery system for recovering the liquid medium attached to the front surface of the guide member or the back surface of the sheet substrate at a position downstream of the support region with respect to the transport direction of the sheet substrate;
A processing unit for performing a predetermined process on a target surface of the sheet substrate which is supported through the liquid medium in the supporting region of the guide member,
A substrate processing apparatus comprising:
請求項１３に記載の基板処理装置。 The guide member is a roller member that has a rotation axis extending in a width direction orthogonal to the longitudinal direction of the sheet substrate and is rotatable around the rotation axis.
The substrate processing apparatus according to claim 13 .
請求項１３に記載の基板処理装置。 The processing device is any one of a partition wall forming device, an electrode forming device, a light emitting layer forming device, a droplet coating device, a film forming device, an exposure device, a developing device, a surface modifying device, and a cleaning device.
The substrate processing apparatus according to claim 13 .
前記供給系は、前記多孔質層を介して前記案内部材の支持領域と前記シート基板の裏面との間に前記液状媒体を供給する液状媒体供給部を有する、The supply system includes a liquid medium supply unit that supplies the liquid medium between a support region of the guide member and a back surface of the sheet substrate through the porous layer.
請求項１３に記載の基板処理装置。The substrate processing apparatus according to claim 13.
請求項１３から請求項１６のうちのいずれか一項に記載の基板処理装置。The substrate processing apparatus as described in any one of Claims 13-16.
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