JP5849606B2 - スクライブ装置 - Google Patents
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Description
本発明の第1実施形態について図1から図4、及び図7を参照して説明する。なお、図面中、「FF」は、前方向、「FR」は、後方向、「L」は、左方向、「R」は、右方向をそれぞれ指してある。
本発明の第2実施形態について図5及び図6を参照して説明する。なお、図面中、「FF」は、前方向を、「FR」は、後方向を、「L」は、左方向を、「R」は、右方向をそれぞれ指してある。
M 冷媒
CL 亀裂線
Ca 初期亀裂
PL 割断予定線
EA レーザ光照射ユニットの照射エリア
1 スクライブ装置
3 支持フレーム
5 支持台
9 門型フレーム
11 支柱
13 連結ビーム
15 テーブル
17 初期亀裂形成ユニット
25 レーザ光照射ユニット
33 冷媒噴射ユニット
41 チャンバー
43 供給ファン
45 浮上ユニット
47 ノズル
49 支持ローラユニット
51 ローラユニットケース
53 支持ローラ
55 回転モータ
57 吸引ファン
59 搬送ローラユニット
61 ローラユニットケース
63 搬送ローラ
65 回転モータ
69 スクライブ装置
71 第1ローラ支持部材
73 第1搬送ローラ
75 第1回転モータ
77 第2ローラ支持部材
79 第2搬送ローラ
81 第2回転モータ
Claims (5)
- 脆性材料からなる基板を割断する前に、基板の表面における長さ方向の一端側から他端側にかけて予め設定された割断予定線に沿って亀裂線を形成するスクライブ装置において、
基板を支持するテーブルと、
前記テーブルの上方位置に設けられ、基板の表面に前記割断予定線に沿ってレーザ光を照射するレーザ光照射ユニットと、
前記テーブルの上方位置に設けられ、基板の表面にレーザ光を照射した直後に冷媒を噴射する冷媒噴射ユニットと、
基板を前記テーブルの長手方向へ搬送する搬送機構と、を具備し、
前記テーブルは、支持フレームに配設され、内部が浮上ガスを供給する浮上ガス供給源に接続され、上面に浮上ガスを噴出するノズルが外縁に沿って形成され、基板との間に浮上ガス溜まり層生成可能であって、浮上ガスの圧力を利用して基板を浮上させる複数の浮上ユニットを備え、平面視したときに、いずれかの前記浮上ユニットの上面における前記ノズルに囲まれた部位が前記レーザ光照射ユニットの照射エリアに位置し、
更に、前記支持フレームにおける前記レーザ光照射ユニットの照射エリアの前記長手方向に直交する方向の両側にそれぞれ配設され、前記支持フレームに設けられたローラユニットケース、前記ローラユニットケース内に前記直交する方向に平行な軸心周りに回転可能に設けられかつ基板の裏面を支持する支持ローラ、及び前記支持ローラの周辺に負圧を発生させる負圧発生器を備えた支持ローラユニットを具備したスクライブ装置。 - 各浮上ユニットの前記ノズルが鉛直方向に対して各浮上ユニットの中心側へ傾斜するように構成されている請求項1に記載のスクライブ装置。
- 前記テーブルの上方位置に設けられ、基板の表面における前記割断予定線の始端に初期亀裂を形成する初期亀裂形成ユニットを具備した請求項1又は請求項2に記載のスクライブ装置。
- 前記搬送機構は、
前記支持フレームに配設されかつ配設状態が前記直交する方向に複数列になっている複数の搬送ローラユニットであって、
各搬送ローラユニットは、前記直交する方向に平行な軸心周りに回転可能であってかつ基板の裏面を支持する搬送ローラ、及び前記搬送ローラを回転させる回転モータを備えている請求項1から請求項3のうちのいずれか1項に記載のスクライブ装置。 - 前記搬送機構は、
前記支持フレームにおける前記直交する方向の一端側に前記長手方向に間隔を置いて設けられ、鉛直な軸心周り回転可能であってかつ基板の幅方向の一端面を支持する複数の第1搬送ローラと、
前記支持フレームにおける前記直交する方向の他端側に前記長手方向に間隔を置いて設けられ、鉛直な軸心周りに回転可能であってかつ基板の幅方向の他端面を支持する複数の第2搬送ローラと、
前記第1搬送ローラ又は前記第2搬送ローラのうちすくなくともいずれかを回転させる回転モータとを備えた請求項1から請求項3のうちのいずれか1項に記載のスクライブ装置。
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JP2013086167A JP2013086167A (ja) | 2013-05-13 |
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