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Description
表示装置101は、図77に示すように、表示パネル110と、空気層120を介して表示パネル110の前方に配置された前面板130と、前面板130の背面上に貼付された低反射フィルム140とを備える。低反射フィルム140が設けられることによって、前面板130の背面での光の反射が抑制される。そのため、表示装置101の正面から画面を観察した際は、干渉縞の発生が抑制される。低反射フィルム140として、モスアイ構造を有するフィルム(以下、モスアイフィルムとも言う。)を利用すると、低反射フィルム140及び空気層120間の界面での光の反射が極めて小さくなるため、その効果は大きい。しかしながら、モスアイフィルムを利用した場合でも、斜め方向から画面を観察すると、図78に示すように、干渉縞が発生してしまう。
本実施形態の表示装置1は、図1に示すように、表示パネル10と、透光性の前面板30と、モスアイ構造(ナノ構造)41を有するフィルム(モスアイフィルム)40とを備える。前面板30は、空気層20を介して表示パネル10の前方に配置され、表示パネル10と、表示パネル10の映像を見る観察者との間に位置する。空気層20の厚みは、50μm以下(好適には10μm以下)に設定されている。モスアイフィルム40は、前面板30の背面上に設けられ、前面板30に貼り付けられる。モスアイ構造41は、モスアイフィルム40の背面、すなわち空気層20に接する面に形成され、多数の突起(凸部)43を含む。モスアイフィルム40は、突起43を支える基材42を更に有する。前面板30及びモスアイフィルム40は、表示パネル10の表示領域の全域上に配置される。
基材としてガラス板を用い、上述の方法にて、下記表1に示すように、14種類のモスアイフィルム(フィルム1〜14)を実際に作製した。フィルム1〜14では多孔質アルミナ型の製造条件が互いに異なり、具体的には、陽極酸化処理時の陽極及び陰極間の電圧(以下、単に電圧とも言う。)と、陽極酸化処理の時間(AO時間)と、エッチング時間とが異なる。基材フィルムとしては、80μm厚のTACフィルムを使用し、紫外線硬化性樹脂の塗布時の厚みは、8μmに設定した。
・モスアイ構造の高さが高くなるほど、スペクトル全体が右にシフトしていく。
・計測角度が大きくなるほど、スペクトル全体が左上にシフトしていく。
この変化は、スペクトルの極小点に注目すると分かりやすい。
・モスアイ構造の高さが高くなるほど、スペクトル全体が右にシフトしていく。
・計測角度が大きくなるほど、スペクトル全体が左上にシフトしていく。
サブミクロンオーダーの構造物を粗視化し、構造物を含む空間の媒質(構造物を構成する媒質、空気等)の屈折率の平均屈折率をもつ媒体とみなし、計算する手法。モスアイ構造の場合は、屈折率が徐々に変化する多数の膜からなる多層膜とみなして計算する。
サブミクロンオーダーの回折格子への入射光と回折光との関係式(結合方程式)を解いていく手法。
マクスウエルの方程式を逐次解いていく手法。
モスアイ構造を厚み方向に細かく分割して多層化する(図56(a)参照。)。
各層を構成する媒質の体積比率による屈折率の平均値を各層の屈折率とする(図56(b)参照。)。屈折率と厚み方向の位置とをグラフ化すると階段状になる(図56(c)参照。)。
多層化膜へ入射した光の反射光を計算する。この計算の規模は、一般的な表計算アプリケーションで計算可能な程度の規模である。以下、計算に用いるパラメータを示す。
ヘイズ=散乱光/(直進光+透過光)=(全光線透過光−直進光)/全光線透過光
モスアイフィルムのヘイズを議論する際にポイントとなるのは、入射光をサンプルに対して垂直に入射している点と、透過光のみを測定して後方散乱光を測定していない点にある。
以下の点を除いて、上述のフィルム1〜14と同様の方法により2種類のモスアイフィルム(フィルム15、16)を実際に作製した。フィルム1〜14と、フィルム15、16とでは、多孔質アルミナ型の製造条件が互いに異なり、具体的には、陽極酸化処理時の電圧と、陽極酸化処理の時間(AO時間)と、エッチング時間とが異なる。フィルム15用の型の製造工程では、電圧を55Vに設定し、AO時間を120秒間とし、エッチング時間を8分間とした。フィルム16用の型の製造工程では、電圧を65Vに設定し、AO時間を90秒間とし、エッチング時間を10分間とした。また、フィルム3、フィルム7、フィルム15、フィルム16及びフィルム13の各々を名刺大のガラス板に貼付し、5種類のサンプルを作製した。フィルム3、7、15、16及び13用の多孔質アルミナ型の製造工程における陽極酸化処理時の電圧は、それぞれ、35V、45V、55V、65V及び80Vであり、フィルム3、7、15、16及び13のモスアイ構造のピッチは、それぞれ、85nm、115nm、135nm、160nm及び190nmであった。
フォトレジストを干渉露光して作製した型を用いてモスアイフィルム(フィルム17)を実際に作製した。フィルム17のモスアイ構造のピッチは、200nmであった。多孔質アルミナ型を用いて作製されたフィルム1〜16では、モスアイ構造の突起はランダムに配置されていたが、フィルム17では、モスアイ構造の突起は格子状に規則正しく配置されていた。また、フィルム13(ピッチ=190nm)及びフィルム17(ピッチ=200nm)の各々を名刺大のガラス板に貼付し、2種類のサンプルを作製した。そして、図60で示したように、蛍光灯の前に2種類のサンプルを吊るして偏光ヘイズを目視により観察した。
複数のガラス板の表面上に、スパッタリングにより、厚み1μmのアルミニウム膜を成膜した。そして、成膜後の各基板を1回だけ陽極酸化し、表面に多数の細孔が形成された陽極酸化層(レイヤー1〜5)を作製した。レイヤー1〜5の作製条件では、以下に示す陽極酸化の条件が互いに異なる。レイヤー1〜4の製造工程では、5℃のシュウ酸溶液中にて陽極酸化を行い、レイヤー5の製造工程では、室温(22℃)の酒石酸溶液中にて陽極酸化を行った。また、レイヤー1の製造工程では、シュウ酸溶液の濃度を0.03wt%とし、電圧を45Vとし、AO時間を200秒間とした。レイヤー2の製造工程では、シュウ酸溶液の濃度を0.03wt%とし、電圧を80Vとし、AO時間を35秒間とした。レイヤー3の製造工程では、シュウ酸溶液の濃度を0.6wt%とし、電圧を200Vとし、AO時間を16秒間とした。レイヤー4の製造工程では、シュウ酸溶液の濃度を0.6wt%とし、電圧を300Vとし、AO時間を5秒間とした。レイヤー5の製造工程では、酒石酸溶液の濃度を2wt%とし、電圧を200Vとし、AO時間を10分間とした。
10:表示パネル
11、12:基板
20:空気層
30:前面板
40、50、60、81:フィルム(モスアイフィルム)
41:モスアイ構造(ナノ構造)
42、44、70:基材
43:突起(凸部)
61:粘着剤
62、71:ガラス板
63:サンプル
64:積分球
65:光源
66:受光器
67:正反射目隠し
72:アルミパイプ
73:電着スリーブ
74:フィルムロール
75:基材フィルム
76:ダイコーター
77:カッター
78、79:型押し具
82:黒色アクリル板
83:投光部
84:受光部
RS(5°):5度正反射の反射スペクトル
RS(45°):45度正反射の反射スペクトル
Claims (7)
- 表示パネルと、
空気層を介して前記表示パネルの前方に配置された前面板と、
前記表示パネルの前面又は前記前面板の背面に配置されたフィルムとを備え、
前記空気層の厚みは、50μm以下であり、
前記表示パネル及び/又は前記前面板は、撓み得るものであり、
前記表示パネル及び/又は前記前面板が撓んだ状態で、前記空気層の厚みは、0μm〜50μmの範囲で変化し、
前記フィルムは、前記空気層に接する面にモスアイ構造を有し、
前記モスアイ構造の5度正反射の反射スペクトルにおいて、600nm以上、780nm以下の範囲内の少なくとも1点の波長の反射率は、550nmの反射率よりも小さく、
前記モスアイ構造は、5度正反射及び45度正反射の反射スペクトルに基づく5度方向及び45度方向における視感反射率がいずれも0.25%以下である表示装置。 - 前記前面板は、ヤング率が70GPa未満であり、前記フィルムが変形したときに前記フィルムと一緒に変形する部材を含む請求項1記載の表示装置。
- 前記モスアイ構造の高さは、200nm以上、350nm以下である請求項1又は2記載の表示装置。
- 前記モスアイ構造のアスペクト比の値は、3以下である請求項1〜3のいずれかに記載の表示装置。
- 前記モスアイ構造のピッチは、150nm以下である請求項1〜4のいずれかに記載の表示装置。
- 前記モスアイ構造のピッチランダムネスは、25%以上、35%以下である請求項5記載の表示装置。
- 前記前面及び前記背面のうちの前記フィルムが配置されていない面に配置された第二のフィルムを更に備え、
前記第二のフィルムは、前記空気層に接する面にモスアイ構造を有する請求項1〜6のいずれかに記載の表示装置。
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