JP5839670B2 - Coating device and landing state inspection method - Google Patents

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Description

本発明は、インクジェット方式により基板に塗布を行う塗布装置および着弾状態の検査方法に関するものである。   The present invention relates to a coating apparatus that coats a substrate by an ink jet method and a landing state inspection method.

カラー液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、色形成の中核を成す部材としてカラーフィルタが用いられている。カラーフィルタは、ガラス基板上に微細なR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の3色の画素が多数並べられて形成されている。   In a flat panel display such as a color liquid crystal display, a color filter is used as a member forming the core of color formation. The color filter is formed by arranging a large number of fine R (red), G (green), and B (blue) pixels on a glass substrate.

このカラーフィルタを製造する装置として、ガラス基板上に形成された多数の微細な画素部に、R、G、Bの各インクをインクジェットヘッドから吐出して塗布し、R、G、Bの色画素を形成するインクジェット装置が近年用いられるようになってきている。   As an apparatus for producing this color filter, R, G, and B inks are ejected from an inkjet head and applied to a large number of fine pixel portions formed on a glass substrate, and R, G, and B color pixels are applied. Ink-jet devices that form the surface have been used in recent years.

インクジェットヘッドにはインクを吐出するノズルが多数配列されており、これらの吐出ノズルから複数の画素部へ同時にインクを吐出することにより複数の色画素を同時に形成することができるが、これらノズルからインクが正常に吐出されていなかったり、ノズル近傍に異物が存在したりすると、色抜けや混色のある不良のカラーフィルタとなってしまう。そこで、このような塗布に異常をきたす塗布不良要因は事前に検知し、検知結果に基づいて基板へのインクの塗布前にメンテナンスを行うことが必要である。   An inkjet head has a large number of nozzles that eject ink, and a plurality of color pixels can be simultaneously formed by simultaneously ejecting ink from these ejection nozzles to a plurality of pixel portions. Is not ejected normally, or if there is a foreign object near the nozzle, a defective color filter with color loss or color mixture will result. Therefore, it is necessary to detect in advance such an application failure factor that causes an abnormality in application, and to perform maintenance before applying ink to the substrate based on the detection result.

ここで、下記特許文献1では、図9に示すように透明体に液滴を各ノズルから吐出して着弾パターン91を形成し、この着弾パターンの画像とあらかじめ記憶していた正常時の着弾パターンとの比較を行って、ノズルが正常か異常かを検査している。具体的には、図9のAのように液滴が所定位置にないときはノズル詰まりによる異常と判断し、図9のBのように着弾位置が所定位置よりずれているときは飛行曲がりによる異常と判断し、また、図9のCのように着弾パターンの大きさが異常であるときはノズルの吐出量の異常と判断している。そうすることで、塗布不良の要因となる吐出異常のノズルを検出し、そのノズルは塗布には使用しないようにすることが可能である。   Here, in the following Patent Document 1, as shown in FIG. 9, droplets are ejected from each nozzle onto a transparent body to form a landing pattern 91, and an image of this landing pattern and a normal landing pattern stored in advance are stored. To check whether the nozzle is normal or abnormal. Specifically, when the droplet is not in a predetermined position as shown in FIG. 9A, it is determined that the nozzle is clogged, and when the landing position is deviated from the predetermined position as shown in FIG. When the size of the landing pattern is abnormal as shown in FIG. 9C, it is determined that the nozzle discharge amount is abnormal. By doing so, it is possible to detect a nozzle with abnormal ejection that causes a coating failure and not to use the nozzle for coating.

特許第4159525号公報Japanese Patent No. 4159525

しかし、上記特許文献1に記載された着弾状態検査方法では、完全に塗布不良要因を検出することができないという問題があった。具体的には、先述の通り、ノズルの吐出異常だけでなく、ノズル近傍に付着した異物によっても塗布不良は引き起こされることがあり、基板への塗布中に、基板に塗布されたインクに異物が接触した場合、その異物がインクを引きずることによって、基板上に形成されていた色画素の形状を崩し、塗布不良が発生する。しかし、このような異物の有無は、特許文献1に示された検査方法のように単に吐出された液滴の状態を確認するだけでは検知できない場合があり、塗布不良を起こしうる異物の存在を見逃してしまうという問題があった。   However, the landing state inspection method described in Patent Document 1 has a problem in that it is not possible to completely detect the cause of application failure. Specifically, as described above, defective coating may be caused not only by nozzle ejection abnormalities but also by foreign matter adhering to the vicinity of the nozzle, and foreign matter may be present in the ink applied to the substrate during application to the substrate. In the case of contact, the foreign substance drags the ink, thereby destroying the shape of the color pixel formed on the substrate and causing poor coating. However, the presence or absence of such foreign matter may not be detected by simply confirming the state of the ejected liquid droplets as in the inspection method disclosed in Patent Document 1, and the presence of foreign matter that may cause poor coating may be detected. There was a problem of overlooking.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ノズル近傍の塗布不良を起こしうる異物を検知する着弾状態検査モードを有する塗布装置および着弾状態検査方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a coating apparatus and a landing state inspection method having a landing state inspection mode for detecting a foreign matter that may cause a coating failure near the nozzle.

上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、液滴を吐出する複数の吐出ノズルを有し、各吐出ノズルが吐出面に配置されている吐出ユニットと、液滴を着弾させる検査面と、前記検査面に対して平行な方向に、前記吐出ユニットと前記検査面とを相対的に移動させる移動機構と、を備え、前記移動機構によって前記吐出ユニットを走査方向へ移動させながら、各吐出ノズルから基板へ液滴を吐出することにより、基板に塗布膜を形成する塗布モードと、各吐出ノズルから前記検査面へ液滴を吐出し、液滴の着弾状態を検査する着弾状態検査モードと、を有する塗布装置であって、前記着弾状態検査モードは、前記検査面へ液滴を吐出して着弾パターンを形成した後、前記着弾パターンの上を前記吐出面が通過するように前記吐出ユニットを前記走査方向へ移動させ、次に、前記着弾パターンの上を前記吐出面が再度通過するように、先に移動した方向と反対の方向に前記吐出ユニットを移動させ、前記吐出ユニットが両方向に移動した後の前記着弾パターンの各液滴の形状から検査を行い、前記着弾状態検査モードにおいて、前記着弾パターンの検査を行う前に前記吐出ユニットの前記両方向への移動を複数回行っており、その際、前記両方向への移動が完了して次の前記両方向への移動を実施する前に前記走査方向と直交する方向への移動を行うことを特徴としている。
In order to solve the above problems, a coating apparatus of the present invention has a plurality of discharge nozzles for discharging droplets, each discharge nozzle being disposed on a discharge surface, and an inspection surface for landing droplets. A moving mechanism that relatively moves the discharge unit and the inspection surface in a direction parallel to the inspection surface, and moves each discharge unit while moving the discharge unit in the scanning direction by the moving mechanism. A coating mode in which a coating film is formed on the substrate by discharging droplets from the nozzle to the substrate, and a landing state inspection mode in which droplets are discharged from each discharge nozzle onto the inspection surface and the landing state of the droplets is inspected. In the landing state inspection mode, after the droplets are discharged onto the inspection surface to form a landing pattern, the discharge unit is configured so that the discharge surface passes over the landing pattern. Move in the scanning direction, and then move the discharge unit in a direction opposite to the previously moved direction so that the discharge surface again passes over the landing pattern, and the discharge unit moves in both directions After the inspection, the inspection is performed from the shape of each droplet of the landing pattern, and in the landing state inspection mode, the discharge unit is moved a plurality of times before the landing pattern is inspected. In this case, the movement in the direction perpendicular to the scanning direction is performed before the movement in both directions is completed and the next movement in both directions is performed .

上記塗布装置によれば、検査面へ液滴を吐出して着弾パターンを形成した後、着弾パターンの上を吐出面が通過するように吐出ユニットを走査方向へ移動させ、次に、着弾パターンの上を吐出面が再度通過するように、先に移動した方向と反対の方向に吐出ユニットを移動させることにより、塗布モード時の液滴の塗布に悪影響を及ぼすような異物が吐出面に付着していた場合に、その異物が確実に液滴に接触して液滴を引きずるため、両方向に吐出ユニットが移動した後の着弾パターンの各液滴の形状を評価することで、この異物の有無を検査することが可能である。また、両方向への移動が完了して次の両方向への移動を実施する前に走査方向と直交する方向への移動を行うことで、走査方向と直交する方向に関する吐出ユニットと液滴との位置関係を少しずつ変えながら走査方向の両方向への移動を繰り返すため、隣り合う吐出ノズル同士の中間位置や隣り合う吐出ユニット同士の中間位置などに異物が付着して吐出ユニットの走査方向の移動だけでは異物が液滴と接触しないおそれがある場合でも、より確実に異物と液滴とを接触させ、異物を検出することができる。
According to the coating apparatus, after forming a landing pattern by discharging droplets onto the inspection surface, the discharge unit is moved in the scanning direction so that the discharge surface passes over the landing pattern. By moving the discharge unit in the direction opposite to the previously moved direction so that the discharge surface passes again, foreign matter that adversely affects the application of droplets in the application mode adheres to the discharge surface. In this case, the foreign object surely contacts the droplet and drags the droplet.Therefore, by evaluating the shape of each droplet in the landing pattern after the ejection unit has moved in both directions, It is possible to inspect. In addition, by moving in the direction orthogonal to the scanning direction before the movement in both directions is completed after the movement in both directions is completed, the position of the discharge unit and the droplet in the direction orthogonal to the scanning direction is determined. Since the movement in both directions of the scanning direction is repeated while changing the relationship little by little, foreign matter adheres to the intermediate position between adjacent discharge nozzles or the intermediate position between adjacent discharge units, and so on. Even when there is a possibility that the foreign matter does not come into contact with the droplet, the foreign matter can be detected more reliably by bringing the foreign matter into contact with the droplet.

また、前記着弾状態検査モードにおいて前記吐出ユニットを移動させる際の前記吐出面と前記検査面との距離は、前記塗布モードにおいて前記吐出ユニットを走査させる際の前記吐出面と基板との距離以下であるようにしても良い。
Further, the distance between the ejection surface and the inspection surface when moving the ejection unit in the landing state inspection mode is equal to or less than the distance between the ejection surface and the substrate when scanning the ejection unit in the coating mode. There may be.

こうすることにより、吐出検査モードにおいて吐出ユニットを移動させる際の吐出面と検査面との距離は、塗布モードにおいて吐出ユニットを走査させる際の吐出面と基板との距離以下であることによって、吐出面に付着して塗布に影響を及ぼす異物を検出することに加え、さらに、基板に塗布した液滴とは接触しないような小さな異物をも検出することも可能となり、その異物が塗布モード中に基板上に落下して塗布不良を生じさせることを未然に防ぐことも可能となる。   By doing so, the distance between the ejection surface and the inspection surface when moving the ejection unit in the ejection inspection mode is equal to or less than the distance between the ejection surface and the substrate when scanning the ejection unit in the coating mode. In addition to detecting foreign substances that adhere to the surface and affect the coating, it is also possible to detect small foreign objects that do not come into contact with the droplets applied to the substrate. It is also possible to prevent the occurrence of poor coating due to falling on the substrate.

また、前記着弾状態検査モードにおいて、前記着弾パターンを形成する際、前記吐出ユニットは、前記検査面上の同等の箇所へ液滴の吐出を複数回行っても良い。   In the landing state inspection mode, when the landing pattern is formed, the discharge unit may discharge a plurality of droplets to the same location on the inspection surface.

このように検査面上の同等の箇所へ液滴の吐出を複数回行い、液滴の高さを高くすることにより、異物が吐出面に付着していた場合に、この異物がより確実に液滴に接触するため、より精度良く吐出面に付着した異物を検出することができる。   In this way, by discharging a droplet several times to the same location on the inspection surface and increasing the height of the droplet, if the foreign material adheres to the discharge surface, the foreign material is more reliably Since it contacts the droplet, it is possible to detect the foreign matter adhering to the ejection surface with higher accuracy.

また、上記課題を解決するために本発明の着弾状態検査方法は、液滴を吐出する複数の吐出ノズルを有し、各吐出ノズルが吐出面に配置されている吐出ユニットと、液滴を着弾させる検査面と、前記検査面に対して平行な方向に、前記吐出ユニットと前記検査面とを相対的に移動させる移動機構と、を備える塗布装置の着弾状態検査方法であって、前記吐出ユニットが前記検査面へ液滴を吐出して着弾パターンを形成する、パターン形成工程と、パターン形成工程の後、前記着弾パターンの上を前記吐出面が通過するように前記吐出ユニットを移動させ、次に、前記着弾パターンの上を前記吐出面が再度通過するように、先の移動方向と反対の方向に前記吐出ユニットを移動させ、前記吐出ユニットが両方向に移動した後の前記着弾パターンの各液滴の形状から検査を行う検査工程と、を有し、前記検査工程において、前記着弾パターンの検査を行う前に前記吐出ユニットの前記両方向への移動を複数回行っており、その際、前記両方向への移動が完了して次の前記両方向への移動を実施する前に前記走査方向と直交する方向への移動を行うことを特徴としている。
In order to solve the above problems, the landing state inspection method of the present invention includes a discharge unit having a plurality of discharge nozzles for discharging droplets, each discharge nozzle being disposed on a discharge surface, and a droplet landing A landing state inspection method for a coating apparatus, comprising: an inspection surface to be moved; and a moving mechanism that relatively moves the discharge unit and the inspection surface in a direction parallel to the inspection surface. Forming a landing pattern by discharging droplets onto the inspection surface, and after the pattern formation step, the discharge unit is moved so that the discharge surface passes over the landing pattern, Further, the landing pattern after the discharge unit has moved in both directions by moving the discharge unit in a direction opposite to the previous movement direction so that the discharge surface again passes over the landing pattern. It possesses an inspection step of inspecting the shape of the droplet, and in the inspection process, and carried out several times to move to the both directions of one discharge unit before performing inspection of the landing pattern, in which, The movement in the direction orthogonal to the scanning direction is performed before the movement in both directions is completed and the next movement in both directions is performed .

上記着弾状態検査方法によれば、パターン形成工程の後、前記着弾パターンの上を前記吐出面が通過するように前記吐出ユニットを移動させ、次に、前記着弾パターンの上を前記吐出面が再度通過するように、先の移動方向と反対の方向に前記吐出ユニットを移動させることにより、塗布モード時の液滴の塗布に悪影響を及ぼすような異物が吐出面に付着していた場合に、その異物が確実に液滴に接触して液滴を引きずるため、両方向に吐出ユニットが移動した後の着弾パターンの各液滴の形状を評価することで、この異物の有無を検査することが可能である。また、両方向への移動が完了して次の両方向への移動を実施する前に走査方向と直交する方向への移動を行うことで、走査方向と直交する方向に関する吐出ユニットと液滴との位置関係を少しずつ変えながら走査方向の両方向への移動を繰り返すため、隣り合う吐出ノズル同士の中間位置や隣り合う吐出ユニット同士の中間位置などに異物が付着して吐出ユニットの走査方向の移動だけでは異物が液滴と接触しないおそれがある場合でも、より確実に異物と液滴とを接触させ、異物を検出することができる。 According to the landing state inspection method, after the pattern formation step, the discharge unit is moved so that the discharge surface passes over the landing pattern, and then the discharge surface again moves over the landing pattern. By moving the discharge unit in the direction opposite to the previous movement direction so that it passes, if foreign matter that adversely affects the application of droplets in the application mode is attached to the discharge surface, Since foreign matter reliably contacts and drags the droplet, it is possible to inspect the presence or absence of this foreign matter by evaluating the shape of each droplet in the landing pattern after the discharge unit has moved in both directions. is there. In addition, by moving in the direction orthogonal to the scanning direction before the movement in both directions is completed after the movement in both directions is completed, the position of the discharge unit and the droplet in the direction orthogonal to the scanning direction is determined. Since the movement in both directions of the scanning direction is repeated while changing the relationship little by little, foreign matter adheres to the intermediate position between adjacent discharge nozzles or the intermediate position between adjacent discharge units, and so on. Even when there is a possibility that the foreign matter does not come into contact with the droplet, the foreign matter can be detected more reliably by bringing the foreign matter into contact with the droplet.

上記の塗布装置および着弾状態検査方法によれば、吐出面に付着した塗布不良を起こしうる異物を検知することができ、検知直後早急にその異物を除去することで品質の安定した塗布を行うことが可能である。   According to the coating apparatus and the landing state inspection method described above, it is possible to detect foreign matter that may cause poor coating attached to the ejection surface, and to perform stable coating by removing the foreign matter immediately after detection. Is possible.

本発明の一実施形態を示す模式図であり、側面図である。It is a mimetic diagram showing one embodiment of the present invention, and is a side view. 検査面および画像取得部の概略図であり、斜視図である。It is the schematic of a test | inspection surface and an image acquisition part, and is a perspective view. 検査面に着弾した検査液体の着弾パターンを示す模式図である。It is a schematic diagram showing a landing pattern of the inspection liquid that has landed on the inspection surface. 異物の接触により塗布不良が生じる過程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the process in which a coating defect arises by the contact of a foreign material. 塗布ヘッドを一方向に移動させて着弾状態検査を行う過程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the process of moving a coating head to one direction and performing a landing state test | inspection. 塗布ヘッドを反対方向にも移動させて着弾状態検査を行う過程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the process of moving an application | coating head to a reverse direction and performing a landing state test | inspection. 塗布ヘッドを移動させた後の着弾パターンを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the landing pattern after moving a coating head. 本実施形態における着弾状態検査モードの動作フローである。It is an operation | movement flow of the landing state test | inspection mode in this embodiment. 従来の着弾状態検査を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the conventional landing state test | inspection.

図1は、本発明の一実施形態を示す模式図である。塗布装置1は、塗布部2、塗布ステージ3、測定装置4、および制御部5を備えており、塗布部2が塗布ステージ3上の基板Wの上方を移動しながら塗布部2内の吐出ノズルから塗布液の液滴を吐出することにより、基板Wへの塗布動作が行われる。また、塗布部2が測定装置4へ液滴を吐出し、その測定装置4によって取得された液滴の着弾状態を制御部5が検査し、その結果にもとづいて、着弾異常の検出および使用可能な吐出ノズルの選別が行われる。   FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of the present invention. The coating apparatus 1 includes a coating unit 2, a coating stage 3, a measuring device 4, and a control unit 5, and a discharge nozzle in the coating unit 2 while the coating unit 2 moves above the substrate W on the coating stage 3. A coating operation on the substrate W is performed by discharging droplets of the coating liquid from the substrate. In addition, the application unit 2 ejects droplets to the measuring device 4, and the control unit 5 inspects the landing state of the droplets acquired by the measuring device 4, and based on the result, abnormal landing can be detected and used. Selection of the proper discharge nozzle is performed.

なお、以下の説明では、基板Wへの液滴吐出時に塗布部2が移動する方向をX軸方向(もしくは走査方向)、X軸方向と水平面上で直交する方向をY軸方向、X軸およびY軸方向の双方に直交する方向をZ軸方向として説明を進めることとする。   In the following description, the direction in which the coating unit 2 moves when droplets are discharged onto the substrate W is the X-axis direction (or scanning direction), and the direction orthogonal to the X-axis direction on the horizontal plane is the Y-axis direction, X-axis, and The description proceeds with the direction orthogonal to both the Y-axis directions as the Z-axis direction.

塗布部2は、塗布ヘッド10、および塗布ヘッド移動装置12を有している。塗布ヘッド10は塗布ヘッド移動装置12によって塗布ステージ3上の基板Wおよび後述する測定装置4の検査面31といった吐出対象までの移動が可能であり、各吐出対象まで移動した後、塗布ヘッド10は吐出ノズル11から各吐出対象に対して液滴の吐出を行う。   The coating unit 2 includes a coating head 10 and a coating head moving device 12. The coating head 10 can be moved to a discharge target such as a substrate W on the coating stage 3 and an inspection surface 31 of the measuring device 4 described later by the coating head moving device 12. After moving to each discharge target, the coating head 10 is A droplet is discharged from the discharge nozzle 11 to each discharge target.

塗布ヘッド10は、Y軸方向を長手方向とする略直方体の形状を有し、複数の吐出ユニット13が組み込まれている。吐出ユニット13は、複数の吐出ノズル11が設けられており、また、下面にノズルプレート14(吐出面)を有し、このノズルプレート14に各吐出ノズル11が配置されている。この吐出ユニット13が塗布ヘッド10に組み込まれることにより、吐出ノズル11が塗布ヘッド10の下面に配列される形態をとる。また、塗布ヘッド10は配管を通じてサブタンク15とつながっている。サブタンク15は、塗布ヘッド10の近傍に設けられており、離間して設けられたメインタンク16から配管を通じて供給された塗布液を一旦貯蔵し、その塗布液を塗布ヘッド10へ高精度で供給する役割を有する。サブタンク15から塗布ヘッド10へ供給された塗布液は、塗布ヘッド10内で分岐され、各吐出ユニット13の全ての吐出ノズル11へ供給される。   The coating head 10 has a substantially rectangular parallelepiped shape with the Y-axis direction as the longitudinal direction, and a plurality of discharge units 13 are incorporated therein. The discharge unit 13 is provided with a plurality of discharge nozzles 11, and has a nozzle plate 14 (discharge surface) on the lower surface, and each discharge nozzle 11 is arranged on the nozzle plate 14. By incorporating the discharge unit 13 into the coating head 10, the discharge nozzles 11 are arranged on the lower surface of the coating head 10. The coating head 10 is connected to the sub tank 15 through a pipe. The sub-tank 15 is provided in the vicinity of the coating head 10, temporarily stores the coating solution supplied from the main tank 16 provided at a distance through the pipe, and supplies the coating solution to the coating head 10 with high accuracy. Have a role. The coating liquid supplied from the sub tank 15 to the coating head 10 is branched in the coating head 10 and supplied to all the discharge nozzles 11 of each discharge unit 13.

ここで、各吐出ノズル11からの液滴の吐出を安定させるために、塗布待機時には塗布液が各吐出ノズル11内で所定の形状の界面(メニスカス)を維持してとどまる必要があり、そのため、サブタンク15内には真空源17によって所定の大きさの負圧が付与されている。なお、この負圧は、サブタンク16と真空源17との間に設けられた真空調圧弁18によって調圧されている。   Here, in order to stabilize the discharge of the liquid droplets from each discharge nozzle 11, the coating liquid needs to maintain a predetermined shape interface (meniscus) in each discharge nozzle 11 during application standby, A predetermined negative pressure is applied to the sub tank 15 by a vacuum source 17. This negative pressure is regulated by a vacuum pressure regulating valve 18 provided between the sub tank 16 and the vacuum source 17.

そして、これらの吐出ノズル11から塗布液の液滴が吐出されることで、塗布ヘッド10から基板Wおよび検査面31への液滴の吐出が行われる。また、各吐出ノズル11はそれぞれ図示しない吐出駆動部を有し、制御部5から各吐出ノズル11において吐出のオン、オフの制御を行うことにより、任意の吐出ノズル11の吐出駆動部が動作し、液滴を吐出する。なお、本実施形態では、吐出駆動部としてピエゾアクチュエータを用いている。   Then, droplets of the coating liquid are ejected from these ejection nozzles 11, whereby droplets are ejected from the coating head 10 to the substrate W and the inspection surface 31. In addition, each discharge nozzle 11 has a discharge drive unit (not shown), and the discharge drive unit of any discharge nozzle 11 operates by controlling the discharge on / off in each discharge nozzle 11 from the control unit 5. , Eject droplets. In the present embodiment, a piezo actuator is used as the ejection drive unit.

移動装置12はリニアステージなどで構成される直動機構であり、これに組み付けられている塗布ヘッド10をX軸方向に移動させることが可能である。制御部5にて塗布ヘッド移動装置12の駆動を制御することにより、塗布ヘッド10は基板Wおよび後述する検査面31に対して相対的に移動することができ、基板Wの上方および検査面31の上方へ移動することが可能である。また、塗布ヘッド移動装置12を駆動させることで、塗布モードにおいて基板Wの上で塗布ヘッド10を走査させながら、各吐出ノズル11から連続的に液滴を吐出することにより、基板Wへの塗布液の塗布を行うことが可能である。   The moving device 12 is a linear motion mechanism composed of a linear stage or the like, and can move the coating head 10 assembled thereto in the X-axis direction. By controlling the driving of the coating head moving device 12 by the control unit 5, the coating head 10 can move relative to the substrate W and an inspection surface 31 described later, and above the substrate W and the inspection surface 31. It is possible to move upward. Further, by driving the coating head moving device 12, the coating head 10 is scanned on the substrate W in the coating mode, and the droplets are continuously ejected from each ejection nozzle 11, thereby coating the substrate W. It is possible to apply a liquid.

また、本実施形態では、塗布ヘッド10はX軸方向だけでなく、図示しない移動装置によりY軸方向にも移動可能としている。これにより、塗布ヘッド10内で吐出ユニット13同士が間隔を設けて設置されている場合に、一度塗布を行った後に塗布ヘッド10をY軸方向にずらし、その間隔を補完するように塗布することで、基板Wの全面へ塗布を行うことができる。また、基板WのY軸方向の幅が塗布ヘッド10の長さよりも長い場合であっても、1回の塗布動作が完了するごとに塗布ヘッド10をY軸方向にずらし、複数回に分けて塗布を行うことにより、基板Wの全面へ塗布を行うことが可能となっている。   In the present embodiment, the coating head 10 can be moved not only in the X-axis direction but also in the Y-axis direction by a moving device (not shown). As a result, when the discharge units 13 are installed at intervals in the application head 10, the application head 10 is shifted in the Y-axis direction after application once, and the application is performed so as to complement the interval. Thus, coating can be performed on the entire surface of the substrate W. Even when the width of the substrate W in the Y-axis direction is longer than the length of the coating head 10, the coating head 10 is shifted in the Y-axis direction every time a coating operation is completed, and divided into multiple times. By applying, it is possible to apply to the entire surface of the substrate W.

塗布ステージ3は、基板Wを固定する機構を有し、基板Wへの塗布動作はこの塗布ステージ3の上に基板Wを載置し、固定した状態で行われる。本実施形態では、塗布ステージ3は吸着機構を有しており、図示しない真空ポンプなどを動作させることにより、基板Wと当接する面に吸引力を発生させ、基板Wを吸着固定している。   The application stage 3 has a mechanism for fixing the substrate W, and the application operation to the substrate W is performed with the substrate W placed on the application stage 3 and fixed. In the present embodiment, the coating stage 3 has a suction mechanism, and operates a vacuum pump (not shown) to generate a suction force on the surface in contact with the substrate W, thereby fixing the substrate W by suction.

測定装置4は、検査面31、および画像取得部40を有している。測定装置4による着弾状態の測定は、先述の塗布動作を開始する前、もしくは塗布動作中に行われ、まず塗布ヘッド10が検査面31の上方へ移動した後、吐出ノズル11から検査面31へ向けて液滴を吐出し、その液滴が検査面31に着弾して着弾パターン21を形成する。この着弾パターン21が形成された検査面31の画像データを画像取得部40が取得する。取得した画像データは、後述の解析装置51に転送され、そのデータをもとに各吐出ノズル11から吐出された液滴の着弾面積、着弾位置、着弾形状といった着弾状態の解析が行われる。   The measuring device 4 includes an inspection surface 31 and an image acquisition unit 40. The measurement of the landing state by the measuring device 4 is performed before the above-described coating operation is started or during the coating operation. First, after the coating head 10 moves above the inspection surface 31, the ejection nozzle 11 moves to the inspection surface 31. The droplets are discharged toward the surface, and the droplets land on the inspection surface 31 to form a landing pattern 21. The image acquisition unit 40 acquires image data of the inspection surface 31 on which the landing pattern 21 is formed. The acquired image data is transferred to an analysis device 51 to be described later, and the landing state such as the landing area, landing position, and landing shape of the droplets discharged from each discharge nozzle 11 is analyzed based on the data.

検査面31および画像取得部40の構成の詳細を図2に示す。本実施形態では、検査面31は帯状フィルム32であり、その両端は図示しない巻きだしローラおよび巻き取りローラにつながっている。ここで制御部5からの制御により巻き取りローラが回転することで、帯状フィルム32が巻き取られ、同時に供給ローラから帯状フィルムが巻き出される。帯状フィルム32の巻き取りおよび巻きだし動作を着弾状態測定を行う前に行うことにより、液滴や異物の無い箇所に着弾パターン21を形成し、着弾状態測定を行うことができる。   Details of the configuration of the inspection surface 31 and the image acquisition unit 40 are shown in FIG. In the present embodiment, the inspection surface 31 is a belt-like film 32, and both ends thereof are connected to a winding roller and a winding roller (not shown). Here, when the take-up roller rotates under the control of the control unit 5, the belt-like film 32 is taken up, and at the same time, the belt-like film is unwound from the supply roller. By performing the winding and unwinding operations of the belt-shaped film 32 before the landing state measurement, the landing pattern 21 can be formed in a place where there is no droplet or foreign matter, and the landing state measurement can be performed.

また、この巻き取りおよび巻きだし動作は、着弾状態測定を行う度に行う必要はなく、前回の着弾状態測定を行った後、まだ帯状フィルム32上に着弾状態測定を行うことができる程度の(液滴や異物の無い)領域が残存するならば、次回の着弾状態測定では塗布ヘッド10の位置を変えてその領域を用いても良い。この場合、複数回の着弾状態測定を行った結果、帯状フィルム32上に着弾状態測定を行うことができる程度の領域が無くなったときに、巻き取りおよび巻きだし動作が実施され、液滴や異物の無い面が準備される。本実施形態では、X軸方向に100mmの幅を有する帯状フィルム32に対し、X軸方向に吐出位置をずらしながら8回程度の着弾状態測定を行った後、巻き取りおよび巻きだし動作を行っている。こうすることにより、帯状フィルム32を効率的に使用し、かつ、他の着弾状態測定で形成された着弾パターン21の影響を受けることの無い着弾状態測定を行っている。   Further, it is not necessary to perform the winding and unwinding operations every time the landing state measurement is performed. After the previous landing state measurement, the landing state measurement can still be performed on the strip film 32 ( If an area (with no droplets or foreign matter) remains, the area may be used by changing the position of the coating head 10 in the next landing state measurement. In this case, as a result of performing the landing state measurement a plurality of times, when there is no area on the belt-like film 32 where the landing state measurement can be performed, the winding and unwinding operations are performed, and droplets and foreign matter The surface without is prepared. In this embodiment, the landing state measurement is performed about eight times while shifting the discharge position in the X-axis direction with respect to the strip film 32 having a width of 100 mm in the X-axis direction, and then the winding and unwinding operations are performed. Yes. By doing so, the landing state measurement is performed using the strip film 32 efficiently and without being affected by the landing pattern 21 formed by other landing state measurement.

また、巻きだしローラと巻き取りローラの間には複数のガイドローラ33が帯状フィルム32に当接しており、図上に鎖線で示す帯状フィルム32上の液滴が着弾する着弾領域34が水平になるよう、帯状フィルム32はガイドローラ33によりガイドされている。また、着弾領域34の下方には、帯状フィルム32を吸着するための吸着テーブル35が備えられている。吸着テーブル35は、帯状フィルム32と当接する面がほぼ平坦である。また、帯状フィルム32と当接する面は吸引口を有し、図示しない真空ポンプなどを駆動させることにより吸引力を持つことが可能である。着弾状態測定中はこの吸着テーブル35が着弾領域34を含む領域分の帯状フィルム32を吸着固定することにより、着弾状態測定中に着弾領域34にかかる部分で着弾パターン21の位置がずれてしまうことを防いでいる。   A plurality of guide rollers 33 are in contact with the belt-like film 32 between the winding roller and the take-up roller, and the landing area 34 where the droplets on the belt-like film 32 indicated by the chain line in the figure land horizontally. Thus, the belt-like film 32 is guided by a guide roller 33. A suction table 35 for sucking the belt-like film 32 is provided below the landing area 34. The suction table 35 has a substantially flat surface in contact with the belt-like film 32. Further, the surface in contact with the belt-like film 32 has a suction port, and can have a suction force by driving a vacuum pump (not shown). During the landing state measurement, the suction table 35 sucks and fixes the belt-like film 32 corresponding to the region including the landing region 34, so that the position of the landing pattern 21 is shifted in the portion covering the landing region 34 during the landing state measurement. Is preventing.

画像取得部40は、画像認識カメラ41、第1カメラ移動装置42および第2カメラ移動装置43を有している。画像認識カメラ41は第1カメラ移動装置42および第2カメラ移動装置43に組み付けられており、これらの移動装置を駆動させることにより、画像認識カメラ41はX軸方向およびY軸方向に移動することが可能である。   The image acquisition unit 40 includes an image recognition camera 41, a first camera moving device 42, and a second camera moving device 43. The image recognition camera 41 is assembled to the first camera moving device 42 and the second camera moving device 43, and by driving these moving devices, the image recognition camera 41 moves in the X-axis direction and the Y-axis direction. Is possible.

画像認識カメラ41は、本実施形態ではモノクロのCCDカメラであり、画像取得のタイミングについて外部からの制御が可能である。制御部5により指示を与えることで、この画像認識カメラ41は連続して画像データを取得し、この取得した画像データはケーブルを介して後述の解析装置51へ転送される。   In this embodiment, the image recognition camera 41 is a monochrome CCD camera, and the image acquisition timing can be controlled from the outside. By giving an instruction from the control unit 5, the image recognition camera 41 continuously acquires image data, and the acquired image data is transferred to an analysis device 51 described later via a cable.

第1カメラ移動装置42は、リニアステージなどで構成される直動機構であり、画像認識カメラ41を塗布ヘッド10の長手方向(Y軸方向)に移動させることが可能である。また、第2カメラ移動装置43は、リニアステージなどで構成される直動機構であり、画像認識カメラ41および第1カメラ移動装置42を塗布ヘッド10が塗布時に走査する方向(X軸方向)に移動させることが可能である。   The first camera moving device 42 is a linear motion mechanism constituted by a linear stage or the like, and can move the image recognition camera 41 in the longitudinal direction (Y-axis direction) of the coating head 10. Further, the second camera moving device 43 is a linear motion mechanism constituted by a linear stage or the like, and the image recognition camera 41 and the first camera moving device 42 are scanned in the direction in which the coating head 10 scans during coating (X-axis direction). It is possible to move.

ここで、制御部5により第1カメラ移動装置42および第2カメラ移動装置43の駆動を制御することにより、画像認識カメラ41は検査面31に対してX軸方向およびY軸方向に相対的に移動することが可能である。着弾状態測定中にこれらの移動機構を駆動させて画像認識カメラ41が移動しながら検査面31の画像データを連続して取得することにより、着弾領域34に形成された全ての着弾パターン21を撮像し、測定を行うことが可能である。   Here, by controlling the driving of the first camera moving device 42 and the second camera moving device 43 by the control unit 5, the image recognition camera 41 is relatively relative to the inspection surface 31 in the X-axis direction and the Y-axis direction. It is possible to move. All the landing patterns 21 formed in the landing area 34 are imaged by driving these moving mechanisms during the landing state measurement and continuously acquiring the image data of the inspection surface 31 while the image recognition camera 41 moves. And can be measured.

また、液滴を検査面31に着弾させる時には塗布ヘッド10が検査面31の真上に位置する必要があるため、第2カメラ移動装置43を駆動させることにより、塗布ヘッド10が検査面31の真上に位置する間、画像認識カメラ41をX軸方向に移動させて退避させることも可能である。   In addition, when the droplets are landed on the inspection surface 31, the coating head 10 needs to be positioned directly above the inspection surface 31, so that the application head 10 is moved to the inspection surface 31 by driving the second camera moving device 43. While positioned directly above, the image recognition camera 41 can be moved in the X-axis direction and retracted.

また、画像取得部40のその他の構成として、複数台の画像認識カメラ41がY軸方向に並べて設けられ、画像取得時に画像認識カメラ41は移動せずに全ての着弾パターン21の画像を取得する構成であっても良い。   As another configuration of the image acquisition unit 40, a plurality of image recognition cameras 41 are provided side by side in the Y-axis direction, and the image recognition camera 41 acquires all the images of the landing patterns 21 without moving during image acquisition. It may be a configuration.

制御部5は、コンピュータ、シーケンサなどを有し、塗布ヘッド10への送液、吐出ノズル11からの液滴の吐出および吐出量の調節、画像認識カメラ41による画像取得、各移動機構の駆動などの動作の制御を行う。さらに、本実施形態では、塗布装置1は塗布モードおよび着弾状態検査モードとを有しており、塗布モードでは塗布ヘッド10が基板Wの上方を走査方向(X軸方向)に移動しながら吐出ノズル11から液滴を吐出するように、制御部5が制御を行う。また、着弾状態検査モードはさらにパターン形成工程および検査工程を有しており、パターン形成工程では検査面31上に吐出ノズル11から液滴を吐出して着弾パターン21を形成し、検査工程ではパターン形成工程で形成された着弾パターン21に対して良否を判定し、そこから異物の検出を行うように、制御部5が制御を行う。   The control unit 5 includes a computer, a sequencer, and the like. Liquid feeding to the coating head 10, ejection of droplets from the ejection nozzle 11 and adjustment of the ejection amount, image acquisition by the image recognition camera 41, driving of each moving mechanism, etc. Control the operation of. Furthermore, in the present embodiment, the coating apparatus 1 has a coating mode and a landing state inspection mode, and in the coating mode, the ejection head 10 moves in the scanning direction (X-axis direction) above the substrate W while ejecting nozzles. The control unit 5 performs control so that the droplets are discharged from 11. The landing state inspection mode further includes a pattern formation process and an inspection process. In the pattern formation process, droplets are ejected from the discharge nozzle 11 on the inspection surface 31 to form the landing pattern 21, and in the inspection process, a pattern is formed. The control unit 5 performs control so as to determine whether the landing pattern 21 formed in the forming process is good or bad and detect foreign matter therefrom.

また、制御部5は、解析装置51を有し、画像認識カメラ41によって得られた着弾パターン21の画像をもとに各着弾パターン21の着弾状態の良否を判定する。   In addition, the control unit 5 includes an analysis device 51, and determines whether the landing state of each landing pattern 21 is good or not based on the image of the landing pattern 21 obtained by the image recognition camera 41.

解析装置51は、CPUおよびRAMやROMを有するコンピュータであり、画像認識カメラ41によって得られた画像より各着弾パターン21の着弾状態を確認する。解析装置51には、画像データの各構成画素の輝度情報をもとに画像データから着弾パターン21の外形データを抽出する画像処理部、画像処理部により抽出した各着弾パターン21の外形データから重心位置、形状、面積などの着弾状態のデータを算出し、これらのデータから各着弾パターン21を形成した吐出ノズル11の吐出状態の良否を判定する解析部など、各機能を実行するためのプログラムが記憶されている。また、解析装置51は、ハードディスクや、RAMまたはROMなどのメモリからなる、各種情報を記憶する記憶装置を有しており、画像データや、解析部により算出された各着弾パターン21の着弾状態のデータ、良否判定時の基準データ(各吐出ノズル11において正常に液滴が吐出された場合の着弾状態のデータ)およびしきい値データ、使用可能な吐出ノズル11の情報などがこの記憶装置に記憶される。   The analysis device 51 is a computer having a CPU, a RAM, and a ROM, and confirms the landing state of each landing pattern 21 from an image obtained by the image recognition camera 41. The analysis device 51 includes an image processing unit that extracts the outer shape data of the landing pattern 21 from the image data based on the luminance information of each constituent pixel of the image data, and the center of gravity from the outer shape data of each landing pattern 21 extracted by the image processing unit. A program for executing each function such as an analysis unit that calculates landing state data such as position, shape, and area, and determines the quality of the discharge state of the discharge nozzle 11 that forms each landing pattern 21 from these data. It is remembered. The analysis device 51 includes a storage device that stores various information including a hard disk, a memory such as a RAM or a ROM, and the landing state of each landing pattern 21 calculated by the image data and the analysis unit. Data, reference data at the time of pass / fail judgment (data of landing state when droplets are normally ejected from each ejection nozzle 11), threshold data, information on usable ejection nozzles 11 and the like are stored in this storage device. Is done.

また、解析装置51は、画像認識カメラ41とケーブルを介して連結されており、画像認識カメラ41で取得された画像データを自身に取り込み、記憶装置に記憶することができる。   The analysis device 51 is connected to the image recognition camera 41 via a cable, and can capture the image data acquired by the image recognition camera 41 and store it in the storage device.

ここで、着弾状態検査モードの検査工程は、良否判定工程を有し、着弾パターン21の良否を判定している。この良否判定工程について、以下に説明する。   Here, the inspection process in the landing state inspection mode includes a pass / fail determination process, and determines the pass / fail of the landing pattern 21. This pass / fail determination step will be described below.

まず、解析装置51自身に取り込んだ各着弾パターン21の画像データに対して、画像処理部がその画像データの各構成画素ごとの輝度値を計測する。そして、輝度値の計測により得られた、隣接画素間の輝度値の変化の度合いの情報をもとに、画像処理部が画像データから各着弾パターン21の外形データを抽出する。ここで、本実施形態では、着弾パターン21の外形データを抽出するにあたって、着弾パターン21の外形をより明確に確認し、抽出を容易とするために、画像処理部は、まず画像データを構成する各画素の輝度に対して所定の輝度値をしきい値として二値化し、例えば液滴部分が黒く、その他の部分が白くなるような白黒データに置き換え、この白黒データに対して着弾パターン21の外形データの抽出を行っている。   First, for the image data of each landing pattern 21 captured in the analysis device 51 itself, the image processing unit measures the luminance value for each constituent pixel of the image data. Then, based on information on the degree of change in luminance value between adjacent pixels obtained by measuring the luminance value, the image processing unit extracts outline data of each landing pattern 21 from the image data. Here, in the present embodiment, when extracting the outer shape data of the landing pattern 21, in order to more clearly confirm the outer shape of the landing pattern 21 and facilitate the extraction, the image processing unit first constructs the image data. A predetermined luminance value is binarized as a threshold value with respect to the luminance of each pixel, and is replaced with, for example, black and white data in which a droplet portion is black and other portions are white. Extracting outline data.

そして、解析部が各外形データに対し、それぞれの重心位置、着弾形状、および着弾面積といった着弾状態データを解析部が算出する。   Then, the analysis unit calculates landing state data such as the position of the center of gravity, the landing shape, and the landing area for each external shape data.

各着弾パターン21の外形データの重心位置を算出する方法としては、各着弾パターン21の外形データに対して、個々に外接する矩形を求め、その矩形の重心を算出する方法などが用いられる。また、各着弾パターン21の着弾形状は、外形データの円形度を求める方法などを用いて求められる。また、各着弾パターン21の着弾面積は、画像データ上で外形データを形成する画素数を計算する方法などを用いて求められる。   As a method of calculating the center of gravity position of the outer shape data of each landing pattern 21, for example, a method of obtaining rectangles that circumscribe each of the outer shape data of each landing pattern 21 and calculating the center of gravity of the rectangle is used. In addition, the landing shape of each landing pattern 21 is obtained using a method for obtaining the circularity of the outer shape data. Further, the landing area of each landing pattern 21 is obtained by using a method for calculating the number of pixels forming the outer shape data on the image data.

次に、解析装置51の解析部が、各着弾パターン21の着弾状態の良否を判定する。このときの着弾NGの検出例について、図3に示す。まず、図3(a)のような、全ての吐出ノズル11からの吐出が正常であった場合の各着弾パターン21の重心位置、円形度、面積のデータが計算され、基準データとしてあらかじめ解析装置51の記憶装置に計算され、記憶されている。また、この基準データに対して実際に吐出された着弾パターン21が許容される着弾状態の差異の範囲(しきい値)のデータも、あらかじめ検査条件として設定され、解析装置51の記憶装置に記憶されている。   Next, the analysis unit of the analysis device 51 determines whether the landing state of each landing pattern 21 is good or bad. An example of detection of landing NG at this time is shown in FIG. First, as shown in FIG. 3A, the data of the center of gravity, the circularity, and the area of each landing pattern 21 when the ejection from all the ejection nozzles 11 is normal are calculated, and the analysis device is used as reference data in advance. Calculated and stored in 51 storage devices. Further, data on the range (threshold value) of the difference in landing state in which the actually ejected landing pattern 21 is allowed with respect to the reference data is also set in advance as an inspection condition and stored in the storage device of the analysis device 51. Has been.

ここで、実際に塗布ヘッド10から液滴が吐出され、検査面31に着弾して図3(b)の着弾パターン21が描かれたとする。この着弾パターン21の画像データは、画像認識カメラ41によって取得され、解析装置51へ転送される。そして、解析装置51の解析部が取得された画像データより各着弾パターン21の重心位置、円形度、面積を計算し、それらと基準データとの差異を評価する。   Here, it is assumed that droplets are actually ejected from the coating head 10 and land on the inspection surface 31 to draw the landing pattern 21 of FIG. The image data of the landing pattern 21 is acquired by the image recognition camera 41 and transferred to the analysis device 51. Then, the center of gravity position, circularity, and area of each landing pattern 21 are calculated from the acquired image data by the analysis unit of the analysis device 51, and the difference between them and the reference data is evaluated.

図3(b)を確認すると、まず、図3(b)のAで示した箇所が基準データに対して重心位置がずれている点で異なっている。重心位置のずれの検出において、解析部は、図3(b)の着弾パターン21の重心位置を算出して基準データとの差異を算出し、まず、図3(b)のAで示した箇所ではdの差異があることを認識する。ここで、解析装置51には、重心位置の差異の許容範囲として、しきい値d’があらかじめ設定、記憶されており、解析部はdとd’の大小を確認することにより、着弾位置の良否を判定する。もし、dがd’以下であると、この重心位置の差異は許容範囲内であると解析部は判定し、この着弾は正常であると判定する。逆に、dがd’より大きいと、この重心位置の差異は許容範囲を外れていると解析部は判定し、この着弾は異常であると判定する。   When FIG. 3 (b) is confirmed, the point indicated by A in FIG. 3 (b) is different in that the position of the center of gravity is deviated from the reference data. In detecting the shift of the center of gravity position, the analysis unit calculates the center of gravity position of the landing pattern 21 in FIG. 3B and calculates the difference from the reference data. First, the location indicated by A in FIG. Then, it is recognized that there is a difference of d. Here, in the analysis device 51, a threshold value d ′ is set and stored in advance as an allowable range of the center of gravity position difference, and the analysis unit confirms the magnitude of the landing position by checking the magnitude of d and d ′. Judge the quality. If d is equal to or less than d ', the analysis unit determines that the difference in the center of gravity is within an allowable range, and determines that the landing is normal. On the contrary, if d is larger than d ', the analysis unit determines that the difference in the center of gravity is outside the allowable range, and determines that the landing is abnormal.

また、着弾異常の現象は、図3(b)のAような重心位置に異常があるもののほかに、図3(b)のBのように、着弾パターン21の形状が円でなく涙目状や楕円状となり、形状に異常があるもの、および図3(b)のCのように、着弾パターン21の面積に異常があるものなどがある。ここで、先述の通り、各着弾パターン21に対して重心位置、円形度、面積を算出し、それらと基準データとの差異が所定のしきい値内に収まっているかどうかの評価を行うことで、図3(b)のA、B、およびCのような着弾異常を検出することが可能である。   In addition to the abnormal gravity at the center of gravity as shown in A of FIG. 3B, the abnormal landing phenomenon has a teardrop-like shape instead of a circle as shown in B of FIG. 3B. Or an elliptical shape having an abnormality in shape, and an abnormality in the area of the landing pattern 21 as indicated by C in FIG. Here, as described above, the center of gravity position, the circularity, and the area are calculated for each landing pattern 21, and it is evaluated whether the difference between them and the reference data is within a predetermined threshold value. It is possible to detect landing abnormalities such as A, B, and C in FIG.

そして、これらの着弾異常が単独で、もしくは複合して、着弾パターン21に現れた場合、この着弾パターン21はNGとして解析部は判定する。また、このような吐出ノズル11の吐出異常による着弾異常が検出された場合、この着弾異常の液滴を吐出した吐出ノズル11はNGであるとの情報が解析装置51から制御部などへ出力される。   When these landing abnormalities appear alone or in combination in the landing pattern 21, the analysis unit determines that the landing pattern 21 is NG. In addition, when an abnormal landing due to such abnormal discharge of the discharge nozzle 11 is detected, information indicating that the discharge nozzle 11 that discharged the abnormal landing droplet is NG is output from the analysis device 51 to the control unit or the like. The

以上の方法によって各着弾パターン21の良否が判定される。そして、この判定によりNGとなった吐出ノズル11は、使用NGとなり、その情報にもとづいて、解析装置51の記憶装置に記憶されている、使用可能な吐出ノズル11の情報が更新され、以降の基板Wへの塗布や検査面31への吐出には、その使用NGと判定された吐出ノズル11は使用されなくなる。   The quality of each landing pattern 21 is determined by the above method. And the discharge nozzle 11 which became NG by this determination becomes use NG, and based on the information, the information of the usable discharge nozzle 11 memorize | stored in the memory | storage device of the analyzer 51 is updated, and after that. For the application to the substrate W and the discharge to the inspection surface 31, the discharge nozzle 11 determined to be NG is not used.

また、着弾状態検査モードの検査工程は、さらに異物検出工程を有している。この異物検出工程について、以下に説明する。   The inspection process in the landing state inspection mode further includes a foreign matter detection process. This foreign matter detection step will be described below.

まず、異物の存在により塗布不良が生じる過程を模式的に図4に示す。   First, FIG. 4 schematically shows a process in which defective coating occurs due to the presence of foreign matter.

塗布装置1の使用を続けていると、吐出ノズル11が配置されているノズルプレート14に異物が付着する場合がある。この異物とは、例えば、塗布装置1の内部や基板Wなどに付着していたパーティクル、ノズルプレート14を清掃する清掃部材の一部(繊維くずなど)、清掃で拭き取りきれなかったノズルプレート14上の液滴などである。   If the use of the coating apparatus 1 is continued, foreign matter may adhere to the nozzle plate 14 on which the discharge nozzles 11 are arranged. This foreign matter is, for example, particles adhered to the inside of the coating apparatus 1 or the substrate W, a part of a cleaning member (fiber waste etc.) for cleaning the nozzle plate 14, or the nozzle plate 14 that cannot be wiped off by cleaning. Such as a droplet.

ここで、先述の通り、本実施形態では、塗布ヘッド移動装置12を駆動させることで基板Wの上で塗布ヘッド10をX軸方向に走査させながら、吐出ノズル11から連続的に液滴を吐出することにより、基板Wへの塗布液の塗布を行っている。このとき、図4(a)に示すようにノズルプレート14に異物22が付着していた場合、基板Wに形成された着弾パターン21の上をノズルプレート14が通過する際に異物22が着弾パターン21に接触し、そのまま着弾パターンを引きずってしまう。その結果、図4(b)に示すように着弾パターン21は形状が崩れてしまって塗布不良となり、基板W全体が不良品となる。   Here, as described above, in this embodiment, droplets are continuously discharged from the discharge nozzle 11 while driving the coating head moving device 12 to scan the coating head 10 in the X-axis direction on the substrate W. By doing so, the coating liquid is applied to the substrate W. At this time, as shown in FIG. 4A, when the foreign matter 22 is attached to the nozzle plate 14, the foreign matter 22 is landed when the nozzle plate 14 passes over the landing pattern 21 formed on the substrate W. 21 is touched and the landing pattern is dragged as it is. As a result, as shown in FIG. 4B, the landing pattern 21 is deformed, resulting in poor coating, and the entire substrate W becomes a defective product.

このような異物22の付着によって塗布不良が生じることを防ぐためには、迅速に異物22をノズルプレート14から除去する必要がある。そのために、異物検出工程によって異物22の存在を迅速に検出している。   In order to prevent application failure due to the adhesion of the foreign matter 22, it is necessary to quickly remove the foreign matter 22 from the nozzle plate 14. For this reason, the presence of the foreign matter 22 is quickly detected by the foreign matter detection step.

そのために、本発明では、着弾状態検査モードにおいて、パターン形成工程で検査面31へ着弾パターン21を形成した後、移動装置12によって塗布ヘッド10を走査方向(X軸方向)に移動させ、その後の着弾パターン21に対して異物検出工程を行っている。この動作について、以下、図5および図6をもとに説明を行う。   Therefore, in the present invention, in the landing state inspection mode, after the landing pattern 21 is formed on the inspection surface 31 in the pattern formation step, the coating head 10 is moved in the scanning direction (X-axis direction) by the moving device 12, and thereafter A foreign matter detection process is performed on the landing pattern 21. This operation will be described below with reference to FIGS.

図5は、塗布ヘッド10を一方向に移動させ、着弾状態検査を行った場合の例である。図5(a)に示すように、まず、塗布ヘッド10の各吐出ノズル11より検査面31に液滴を吐出し、着弾パターン21を形成する。その後、塗布ヘッド10をX軸方向に移動させる。こうすることで、図5(a)に示すように異物22が塗布ヘッド10の移動方向に対して液滴パターン21よりも後方にある場合、着弾パターン21の上をノズルプレート14が通過する際に異物22が着弾パターン21に接触するため、塗布ヘッド10の移動中は異物22が着弾パターンを引きずり、移動が完了すると、図5(b)で示すように着弾パターン21は形状が崩された状態となる。この痕跡の有無を確認することにより、異物22の有無が確認できる。なお、この塗布ヘッド10の移動にあたり、着弾パターン21の形成も塗布ヘッド10を移動させながら実施し、着弾パターン21の形成後、引き続き所定距離だけ塗布ヘッド10を移動させるようにしても良い。   FIG. 5 shows an example in which the application head 10 is moved in one direction and a landing state inspection is performed. As shown in FIG. 5A, first, droplets are discharged from the discharge nozzles 11 of the coating head 10 onto the inspection surface 31 to form the landing pattern 21. Thereafter, the coating head 10 is moved in the X-axis direction. In this way, when the foreign material 22 is behind the droplet pattern 21 in the moving direction of the coating head 10 as shown in FIG. 5A, the nozzle plate 14 passes over the landing pattern 21. Since the foreign matter 22 contacts the landing pattern 21, the foreign matter 22 drags the landing pattern during the movement of the coating head 10. When the movement is completed, the landing pattern 21 is deformed as shown in FIG. It becomes a state. By confirming the presence or absence of this trace, the presence or absence of the foreign matter 22 can be confirmed. In addition, when the coating head 10 is moved, the landing pattern 21 may be formed while the coating head 10 is moved. After the landing pattern 21 is formed, the coating head 10 may be continuously moved by a predetermined distance.

ここで、塗布ヘッド10が移動する距離は、液滴1個分の距離でも構わないが、例えば、図5(b)に示すようにノズルプレート14全体が着弾パターン21の存在する領域を通過するように、長く設定することが望ましい。こうすることにより、異物22が複数の液滴パターン21を引きずるため、異物22の検出が容易となる。   Here, the moving distance of the coating head 10 may be a distance corresponding to one droplet, but for example, as shown in FIG. 5B, the entire nozzle plate 14 passes through a region where the landing pattern 21 exists. Thus, it is desirable to set it long. By doing so, the foreign matter 22 drags the plurality of droplet patterns 21, so that the foreign matter 22 can be easily detected.

一方、図6(a)に示すように異物22が塗布ヘッド10の移動方向に対して液滴パターン21よりも前方にある場合、着弾パターン21の形成後、塗布ヘッド10を移動させて、図6(b)の状態としても、異物22は着弾パターン21に接触しないため、着弾パターン21の形状は崩れず、着弾パターン21の形状を確認しても異物22を検出することができない。そこで、本発明では、図6(b)の状態となった後、そのときに移動した方向の反対方向にも塗布ヘッド10を移動させ、図6(c)の状態とすることによって、ノズルプレート14のどの位置に異物22が付着していても確実に異物22と着弾パターン21とが接触するようにしている。このようにして塗布ヘッド10を両方向に移動させた後、着弾パターン21の状態を画像認識カメラ41で画像取得し、解析装置51によってその画像を評価し、形状の崩れた着弾パターン21の有無を確認することにより、異物22の有無の検査を行うことが可能である。   On the other hand, as shown in FIG. 6A, when the foreign material 22 is ahead of the droplet pattern 21 with respect to the moving direction of the coating head 10, the coating head 10 is moved after the landing pattern 21 is formed. Even in the state 6 (b), since the foreign matter 22 does not contact the landing pattern 21, the shape of the landing pattern 21 does not collapse, and the foreign matter 22 cannot be detected even if the shape of the landing pattern 21 is confirmed. Therefore, in the present invention, after the state of FIG. 6B is reached, the coating head 10 is also moved in the direction opposite to the direction of movement at that time, and the state shown in FIG. 14, the foreign matter 22 and the landing pattern 21 are surely in contact with each other regardless of where the foreign matter 22 is attached. After moving the coating head 10 in both directions as described above, the state of the landing pattern 21 is acquired by the image recognition camera 41, the image is evaluated by the analysis device 51, and the presence / absence of the landing pattern 21 having a deformed shape is determined. By checking, it is possible to inspect for the presence or absence of the foreign matter 22.

ここで、Y軸方向に隣り合う吐出ノズル11同士の間隔が広い場合、両者の吐出ノズル11の中間位置に異物22が付着していても、塗布ヘッド10がX軸方向の両方向に移動するだけでは異物22が着弾パターン21に接触せず、検出ができないおそれがある。また、隣り合う吐出ユニット13同士の間隔が広い場合も、両者の吐出ユニット13の中間位置に異物22が付着していると、同様に異物22が検出できないおそれがある。   Here, when the interval between the discharge nozzles 11 adjacent to each other in the Y-axis direction is wide, the coating head 10 only moves in both directions in the X-axis direction even if the foreign matter 22 is attached to an intermediate position between the two discharge nozzles 11. Then, there is a possibility that the foreign object 22 does not contact the landing pattern 21 and cannot be detected. In addition, even when the interval between the adjacent discharge units 13 is wide, if the foreign matter 22 adheres to an intermediate position between the two discharge units 13, the foreign matter 22 may not be detected in the same manner.

そのような場合は、一度塗布ヘッド10がX軸方向の両方向へ移動を行った後、これらの異物22が着弾パターン21と接触しうるように塗布ヘッド10がY軸方向に移動し、そして、もう一度X軸方向の両方向の移動を行うと良い。例えば、X軸方向の両方向への移動と次の両方向への移動との間に、吐出ノズル11同士の間隔の半分の距離のY軸方向の移動や、吐出ユニット13同士の間隔分のY軸方向の移動を行うと良い。このように、Y軸方向の移動を間にはさんでX軸方向の両方向への移動を複数回行うことにより、より確実に異物22と着弾パターン21とを接触させ、異物22を検出することが可能である。また、X軸方向の両方向への移動は1回または2回に限らず、塗布ヘッド10のY軸方向の位置を少しずつ変えながら、3回以上実施しても良い。X軸方向の両方向への移動の回数が多いほど、より確実に異物22を検出することができる。   In such a case, once the coating head 10 has moved in both directions in the X-axis direction, the coating head 10 has moved in the Y-axis direction so that these foreign matters 22 can come into contact with the landing pattern 21, and It is better to move in both directions in the X-axis direction again. For example, between the movement in both directions in the X-axis direction and the movement in the next two directions, movement in the Y-axis direction that is half the distance between the discharge nozzles 11, or Y axis corresponding to the distance between the discharge units 13 It is better to move in the direction. In this way, the foreign object 22 and the landing pattern 21 are more reliably brought into contact with each other and the foreign object 22 is detected by performing the movement in both directions in the X-axis direction a plurality of times with the movement in the Y-axis direction interposed therebetween. Is possible. Further, the movement in both directions in the X-axis direction is not limited to once or twice, and may be performed three or more times while gradually changing the position of the coating head 10 in the Y-axis direction. As the number of times of movement in both directions in the X-axis direction increases, the foreign object 22 can be detected more reliably.

また、図6(a)に示した、塗布ヘッド10を移動させる際のノズルプレート14と検査面31との距離d2は、図4(a)に示した、ノズルプレート14と基板Wとの距離d1以下であることが望ましい。こうすることにより、ノズルプレート14に付着して塗布に影響を及ぼす異物22を検出することに加え、さらに、基板Wに塗布した液滴とは接触しないような小さな異物22をも検出することも可能となり、その異物22が塗布モード中に基板W上に落下して塗布不良を生じさせることを未然に防ぐことも可能となる。なお、このように距離d2をd1以下にするにあたり、液滴を吐出するときからノズルプレート14と検査面31との距離をd2にしても良く、また、液滴を吐出した後にノズルプレート14と検査面31との距離を縮めてd2にしても良い。   Further, the distance d2 between the nozzle plate 14 and the inspection surface 31 when moving the coating head 10 shown in FIG. 6A is the distance between the nozzle plate 14 and the substrate W shown in FIG. It is desirable that it is d1 or less. In this way, in addition to detecting the foreign material 22 that adheres to the nozzle plate 14 and affects the coating, it is also possible to detect a small foreign material 22 that does not come into contact with the droplets applied to the substrate W. It becomes possible to prevent the foreign matter 22 from dropping on the substrate W during the coating mode and causing defective coating. In this way, when the distance d2 is set to be equal to or less than d1, the distance between the nozzle plate 14 and the inspection surface 31 may be set to d2 from when the droplet is ejected. The distance from the inspection surface 31 may be reduced to d2.

また、着弾パターン21を形成する際、吐出ユニットは、検査面31上の同等の箇所へ液滴の吐出を複数回行っても良い。こうすることによって液滴の高さを高くすることにより、異物22がノズルプレート14に付着していた場合に、この異物22がより確実に液滴に接触するため、より精度良く異物22を検出することができる。   Further, when the landing pattern 21 is formed, the discharge unit may discharge the liquid droplets to the same location on the inspection surface 31 a plurality of times. In this way, by increasing the height of the liquid droplet, when the foreign material 22 adheres to the nozzle plate 14, the foreign material 22 more reliably contacts the liquid droplet, so that the foreign material 22 can be detected with higher accuracy. can do.

次に、塗布ヘッド10を移動させた後の着弾パターン21の状態を図7に示す。   Next, the state of the landing pattern 21 after the application head 10 is moved is shown in FIG.

図7に二点鎖線で示した位置(a)にノズルプレート14が位置していたときに吐出ノズル11から液滴を吐出して着弾パターン21を形成し、その後、塗布ヘッド10とともにノズルプレート14も移動して、位置(b)までノズルプレート14が移動したとする。そのとき、図示したような位置に異物22が存在していた場合、異物22が接触した着弾パターン21を全て引きずった状態でノズルプレート14は移動する。そのため、図示の通り、異物22によって形状を崩された着弾パターン21は、異物22の移動方向、ずなわちX軸方向に並んだ状態となる。したがって、解析装置51により着弾パターン21の画像の評価を行った際に、形状が崩れた着弾パターン21がX軸方向に複数個並んだ状態で確認された場合、これはノズルプレート14に付着した異物22によるものであると判断することが可能である。   When the nozzle plate 14 is located at the position (a) indicated by a two-dot chain line in FIG. 7, droplets are ejected from the ejection nozzle 11 to form the landing pattern 21, and then the nozzle plate 14 together with the coating head 10. And the nozzle plate 14 is moved to the position (b). At that time, when the foreign material 22 is present at the position shown in the drawing, the nozzle plate 14 moves in a state where all the landing patterns 21 with which the foreign material 22 has contacted are dragged. Therefore, as shown in the drawing, the landing pattern 21 whose shape has been destroyed by the foreign matter 22 is in a state of being aligned in the moving direction of the foreign matter 22, that is, the X-axis direction. Therefore, when the image of the landing pattern 21 is evaluated by the analysis device 51, when it is confirmed that a plurality of landing patterns 21 whose shapes are collapsed are arranged in the X-axis direction, this adheres to the nozzle plate 14. It can be determined that it is due to the foreign matter 22.

次に、塗布装置1による着弾状態検査モードの動作フローを図8に示す。なお、下記ステップS4乃至ステップS6がパターン形成工程に相当し、ステップS7乃至ステップS20が検査工程に相当する。   Next, an operation flow of the landing state inspection mode by the coating apparatus 1 is shown in FIG. The following steps S4 to S6 correspond to the pattern formation process, and steps S7 to S20 correspond to the inspection process.

まず、検査面31において、着弾状態測定を行うことができる程度の(液滴や異物の無い)領域を確保する。具体的には、吸着テーブル35の吸着固定が解除され(ステップS1)、巻き取りローラが回転することで検査面31が所定の長さだけ巻き取られ(ステップS2)、あらためて吸着テーブル35の吸着固定が行われる(ステップS3)。ここで、このステップを行う前に、検査面31に着弾状態測定を行うことができる程度の領域が残存しているならば、このステップはスキップしても良い。   First, on the inspection surface 31, an area (with no droplets or foreign matter) that can perform landing state measurement is secured. Specifically, the suction fixing of the suction table 35 is released (step S1), the inspection surface 31 is wound up by a predetermined length by rotating the take-up roller (step S2), and the suction of the suction table 35 is renewed. Fixing is performed (step S3). Here, before performing this step, this step may be skipped if there is a remaining area on the inspection surface 31 where the landing state measurement can be performed.

次に、検査面31上で塗布ヘッド10と干渉することが無いよう、第2カメラ移動装置43が駆動することによって画像認識カメラ41が退避する(ステップS4)。画像認識カメラ41の退避が完了すると、塗布ヘッド移動装置12が駆動することによって塗布ヘッド10が検査面31へ移動する(ステップS5)。   Next, the image recognition camera 41 is retracted by driving the second camera moving device 43 so as not to interfere with the coating head 10 on the inspection surface 31 (step S4). When the retreat of the image recognition camera 41 is completed, the coating head moving device 12 is driven to move the coating head 10 to the inspection surface 31 (step S5).

次に、各吐出ノズル11から液滴が検査面31へ吐出され、着弾パターン21が形成される(ステップS6)。なお、本実施形態では、塗布ヘッド10の走査方向(X軸方向)の移動を伴って、液滴の吐出を行っている。   Next, droplets are discharged from the discharge nozzles 11 to the inspection surface 31, and the landing pattern 21 is formed (step S6). In the present embodiment, droplets are ejected with the movement of the coating head 10 in the scanning direction (X-axis direction).

吐出ノズル11からの液滴の吐出が完了したら、塗布ヘッド10はX軸方向に移動し(ステップS7)、次にその移動方向と反対の方向に塗布ヘッド10が移動する(ステップS8)。この往復動作により、ノズルプレート14に異物22が存在していた場合に異物22が液滴パターン21を引きずる状態が発生する。なお、ステップS7において、塗布ヘッド10がX軸方向のどちら向きから移動するかに関しては、どちらでも構わない。また、本実施形態では、ステップS6の塗布ヘッド10の移動動作に引き続き、同じ方向へのステップS7の移動を実施している。   When the discharge of droplets from the discharge nozzle 11 is completed, the coating head 10 moves in the X-axis direction (step S7), and then the coating head 10 moves in the direction opposite to the moving direction (step S8). By this reciprocating operation, a state in which the foreign matter 22 drags the droplet pattern 21 occurs when the foreign matter 22 exists on the nozzle plate 14. In step S7, it does not matter which direction the coating head 10 moves from in the X-axis direction. Further, in this embodiment, following the movement operation of the coating head 10 in step S6, the movement in step S7 in the same direction is performed.

検査面31上での塗布ヘッド10の往復動作が完了したら、次に、着弾パターン21の画像取得が行えるように、塗布ヘッド移動装置12が駆動することによって塗布ヘッド10が退避し(ステップS9)、退避が完了した後、第1カメラ移動装置42および第2カメラ移動装置43が駆動することによって画像認識カメラ41が検査面31の真上まで移動する(ステップS10)。そして、第1カメラ移動装置42および第2カメラ移動装置43によって画像認識カメラ41が移動しながら連続して画像を取得することにより、全ての着弾パターン21の着弾状態の画像データが取得される(ステップS11)。そしてその画像データが解析装置51へ転送され、記憶装置へ記憶される(ステップS12)。   When the reciprocating operation of the coating head 10 on the inspection surface 31 is completed, the coating head moving device 12 is driven to retract the coating head 10 so that an image of the landing pattern 21 can be acquired (step S9). After the evacuation is completed, the first camera moving device 42 and the second camera moving device 43 are driven to move the image recognition camera 41 to a position directly above the inspection surface 31 (step S10). Then, the image recognition camera 41 is continuously moved while the image recognition camera 41 is moved by the first camera moving device 42 and the second camera moving device 43, whereby the image data of the landing states of all the landing patterns 21 is acquired ( Step S11). The image data is transferred to the analysis device 51 and stored in the storage device (step S12).

次に、解析装置42の画像処理部によって、解析装置51に記憶された画像データから着弾パターン21の外形データが抽出され(ステップS13)、そして、解析装置51の解析部によって、着弾パターン21の外形データから各着弾パターン21の着弾状態データが算出される(ステップS14)。   Next, the outer shape data of the landing pattern 21 is extracted from the image data stored in the analysis device 51 by the image processing unit of the analysis device 42 (step S13), and the analysis unit of the analysis device 51 then extracts the landing pattern 21. Landing state data of each landing pattern 21 is calculated from the outer shape data (step S14).

次に、得られた各着弾パターン21の着弾状態データをもとに、各着弾パターン21の良否の判定が行われ(ステップS15)、着弾不良である着弾パターン21が検出された場合、その着弾パターン21の液滴を吐出した吐出ノズル11が検出される(ステップS16)。   Next, whether each landing pattern 21 is good or bad is determined based on the landing status data of each landing pattern 21 obtained (step S15). The ejection nozzle 11 that ejects the droplets of the pattern 21 is detected (step S16).

次に、着弾状態の判定結果より、ノズルプレート14に付着した異物22による着弾異常の有無の判断が行われる。具体的には、異物22に引きずられてX軸方向に複数並んでNGとなった着弾パターン21があったかどうかの判断が行われる(ステップS17)。   Next, based on the determination result of the landing state, the presence / absence of landing abnormality due to the foreign matter 22 attached to the nozzle plate 14 is determined. Specifically, it is determined whether or not there is a landing pattern 21 that is dragged by the foreign material 22 and becomes NG in a plurality in the X-axis direction (step S17).

ステップS17の判断において、異物22による着弾異常が無かったと判断された場合、この着弾状態検査でNGとなった着弾パターン21は、その着弾パターン21を形成した吐出ノズル11によるものと考えられ、この吐出ノズル11を使用しないように塗布条件を設定すれば、逐一ノズル清掃などを行わなくても以降の塗布動作は可能である。そこで、この検査結果が反映され、NGとなった吐出ノズル11は以降の塗布動作に使用しないよう、解析装置51の記憶装置に保存されている使用可能ノズル情報が更新され(ステップS18)、一連の着弾状態検査動作が完了する。   If it is determined in step S17 that there is no landing abnormality due to the foreign matter 22, the landing pattern 21 that is NG in this landing state inspection is considered to be due to the discharge nozzle 11 that formed the landing pattern 21, and this If the application conditions are set so as not to use the discharge nozzle 11, the subsequent application operation can be performed without performing nozzle cleaning or the like. Therefore, the usable nozzle information stored in the storage device of the analysis device 51 is updated so that the discharge nozzle 11 which is reflected as a result of this inspection and becomes NG is not used for the subsequent coating operation (step S18), and a series of steps. The landing state inspection operation is completed.

これに対し、ステップS17の判断において、異物22による着弾異常が有ったと判断された場合、この異物22を除去しないまま塗布動作を続けると、異物22が基板Wに塗布された液滴を引きずって塗布不良を発生させる可能性が非常に大きいため、塗布動作を中止させる必要がある。そこで、まずは異物22による着弾異常以外の着弾異常を発生させた吐出ノズル11に対して、以降の塗布動作に使用しないよう、解析装置51の記憶装置に保存されている使用可能ノズル情報が更新され(ステップS19)、次に、アラームなどをともなって動作が停止し、異物22が除去されたとの何らかの確認がされるまで塗布動作は中止される(ステップS20)。   On the other hand, if it is determined in step S17 that there is an abnormal landing due to the foreign material 22, if the coating operation is continued without removing the foreign material 22, the foreign material 22 drags the droplet applied to the substrate W. Therefore, it is necessary to stop the application operation. Therefore, firstly, the usable nozzle information stored in the storage device of the analysis device 51 is updated so that the ejection nozzle 11 in which the landing abnormality other than the landing abnormality due to the foreign matter 22 has occurred is not used for the subsequent coating operation. (Step S19) Next, the operation is stopped with an alarm or the like, and the application operation is stopped until it is confirmed that the foreign matter 22 has been removed (Step S20).

以上説明した通りの着弾状態検査動作を有する塗布装置および着弾状態検査方法により、ノズルプレート14に付着した塗布不良を起こしうる異物22を検知することができ、検知直後早急にその異物22を除去することで品質の安定した塗布を行うことが可能である。   By the coating apparatus and the landing state inspection method having the landing state inspection operation as described above, the foreign matter 22 that may cause a coating failure adhered to the nozzle plate 14 can be detected, and the foreign matter 22 is removed immediately after detection. Thus, it is possible to perform application with stable quality.

また、ここまでの説明では、ノズルプレート14に付着した異物を検出するために、ノズルプレート14全体が着弾パターン21を通過するように移動させて着弾状態検査を行っているが、例えば、塗布ヘッド10全体が着弾パターン21を通過するように移動させて検査を実施し、塗布ヘッド10に付着した異物を検出できるようにしても良い。   In the above description, in order to detect the foreign matter attached to the nozzle plate 14, the entire nozzle plate 14 is moved so as to pass the landing pattern 21, and the landing state inspection is performed. The inspection may be performed by moving the entire 10 so as to pass through the landing pattern 21 so that the foreign matter attached to the coating head 10 can be detected.

また、塗布ヘッド10および画像認識カメラ41が塗布ステージ3および検査面31に対して相対移動する構成について、本実施形態では、第2カメラ移動装置43および塗布ヘッド移動装置12を備え、塗布ヘッド10および画像認識カメラ41がそれぞれ独立してX軸方向に移動しているが、塗布ヘッド10と画像認識カメラ41を一つの架台にまとめて固定し、それをX軸方向に移動させるようにすることにより、上記の二つの移動機構を一つにまとめた構成としても良い。   In addition, the configuration in which the coating head 10 and the image recognition camera 41 move relative to the coating stage 3 and the inspection surface 31 includes the second camera moving device 43 and the coating head moving device 12 in the present embodiment. The image recognition camera 41 is independently moved in the X-axis direction, but the application head 10 and the image recognition camera 41 are fixed together on one frame and moved in the X-axis direction. Thus, the above two moving mechanisms may be combined into one.

また、塗布ヘッド10および画像認識カメラ41に移動機構を設けるのではなく、検査面31および塗布ステージ3に移動機構を設け、塗布ヘッド10および画像認識カメラ41に対して検査面31および塗布ステージ3が相対移動する構成としても良い。   In addition, a moving mechanism is not provided in the coating head 10 and the image recognition camera 41, but a moving mechanism is provided in the inspection surface 31 and the coating stage 3, and the inspection surface 31 and the coating stage 3 with respect to the coating head 10 and the image recognition camera 41 are provided. May be configured to move relative to each other.

また、画像認識カメラ41および解析装置51を設けず、検査面31に吐出した液滴の着弾パターン21を目視で確認し、着弾異常の有無の検査を行っても良い。   In addition, the image recognition camera 41 and the analysis device 51 may not be provided, and the landing pattern 21 of the droplets discharged onto the inspection surface 31 may be visually confirmed to inspect for the presence or absence of landing abnormality.

また、検査面31は、本実施形態のようなフィルム状だけでなく、ガラス板など板状であっても良い。ただし、この場合は、液滴を吐出させる領域が無くなる毎に検査面31を交換する必要がある。また、検査面31を基板Wに対して別個に設けず、基板Wに液滴を吐出して着弾パターン21を形成し、この着弾パターン21に対して吐出状態検査を実施しても良い。   The inspection surface 31 may be not only a film shape as in the present embodiment but also a plate shape such as a glass plate. However, in this case, it is necessary to replace the inspection surface 31 every time there is no area for ejecting droplets. Further, instead of providing the inspection surface 31 separately for the substrate W, droplets may be ejected onto the substrate W to form the landing pattern 21, and the ejection state inspection may be performed on the landing pattern 21.

1 塗布装置
2 塗布部
3 塗布ステージ
4 測定装置
5 制御部
10 塗布ヘッド
11 吐出ノズル
12 塗布ヘッド移動装置
13 吐出ユニット
14 ノズルプレート
15 サブタンク
16 メインタンク
17 真空源
18 真空調圧弁
21 着弾パターン
22 異物
31 検査面
32 帯状フィルム
33 ガイドローラ
34 着弾領域
35 吸着テーブル
40 画像取得部
41 画像認識カメラ
42 第1カメラ移動装置
43 第2カメラ移動装置
51 解析装置
91 着弾パターン
W 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Application | coating apparatus 2 Application | coating part 3 Application | coating stage 4 Measuring apparatus 5 Control part 10 Application | coating head 11 Discharge nozzle 12 Application | coating head moving apparatus 13 Discharge unit 14 Nozzle plate 15 Sub tank 16 Main tank 17 Vacuum source 18 Vacuum pressure regulation valve 21 Landing pattern 22 Foreign material 31 Inspection surface 32 Band-shaped film 33 Guide roller 34 Landing area 35 Suction table 40 Image acquisition unit 41 Image recognition camera 42 First camera moving device 43 Second camera moving device 51 Analyzing device 91 Landing pattern W substrate

Claims (6)

液滴を吐出する複数の吐出ノズルを有し、各吐出ノズルが吐出面に配置されている吐出ユニットと、
液滴を着弾させる検査面と、
前記検査面に対して平行な方向に、前記吐出ユニットと前記検査面とを相対的に移動させる移動機構と、
を備え、
前記移動機構によって前記吐出ユニットを走査方向へ移動させながら、各吐出ノズルから基板へ液滴を吐出することにより、基板に塗布膜を形成する塗布モードと、
各吐出ノズルから前記検査面へ液滴を吐出し、液滴の着弾状態を検査する着弾状態検査モードと、
を有する塗布装置であって、
前記着弾状態検査モードは、前記検査面へ液滴を吐出して着弾パターンを形成した後、前記着弾パターンの上を前記吐出面が通過するように前記吐出ユニットを前記走査方向へ移動させ、次に、前記着弾パターンの上を前記吐出面が再度通過するように、先に移動した方向と反対の方向に前記吐出ユニットを移動させ、前記吐出ユニットが両方向に移動した後の前記着弾パターンの各液滴の形状から検査を行い、
前記着弾状態検査モードにおいて、前記着弾パターンの検査を行う前に前記吐出ユニットの前記両方向への移動を複数回行っており、その際、前記両方向への移動が完了して次の前記両方向への移動を実施する前に前記走査方向と直交する方向への移動を行うことを特徴とする、塗布装置。
A discharge unit having a plurality of discharge nozzles for discharging droplets, each discharge nozzle being disposed on a discharge surface;
An inspection surface for landing droplets;
A moving mechanism for relatively moving the discharge unit and the inspection surface in a direction parallel to the inspection surface;
With
A coating mode in which a coating film is formed on the substrate by ejecting droplets from each ejection nozzle to the substrate while moving the ejection unit in the scanning direction by the moving mechanism;
A landing state inspection mode in which a droplet is discharged from each discharge nozzle onto the inspection surface, and a landing state of the droplet is inspected,
A coating device comprising:
In the landing state inspection mode, after a droplet is discharged onto the inspection surface to form a landing pattern, the discharge unit is moved in the scanning direction so that the discharge surface passes over the landing pattern. In addition, the discharge unit is moved in a direction opposite to the previously moved direction so that the discharge surface again passes over the landing pattern, and each of the landing patterns after the discharge unit has moved in both directions. Inspect from the shape of the droplet ,
In the landing state inspection mode, the discharge unit is moved a plurality of times in the both directions before the landing pattern is inspected. At that time, the movement in the both directions is completed and the next two directions are completed. A coating apparatus that performs a movement in a direction orthogonal to the scanning direction before performing the movement .
前記着弾状態検査モードにおいて前記吐出ユニットを移動させる際の前記吐出面と前記検査面との距離は、前記塗布モードにおいて前記吐出ユニットを走査させる際の前記吐出面と基板との距離以下であることを特徴とする、請求項1に記載の塗布装置。 The distance between the ejection surface and the inspection surface when moving the ejection unit in the landing state inspection mode is equal to or less than the distance between the ejection surface and the substrate when scanning the ejection unit in the coating mode. The coating apparatus according to claim 1, wherein: 前記着弾状態検査モードにおいて、前記着弾パターンを形成する際、前記吐出ユニットは、前記検査面上の同等の箇所へ液滴の吐出を複数回行うことを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載の塗布装置。 3. The method according to claim 1, wherein when the landing pattern is formed in the landing state inspection mode, the discharge unit discharges a liquid droplet a plurality of times to an equivalent location on the inspection surface. A coating apparatus according to any one of the above. 液滴を吐出する複数の吐出ノズルを有し、各吐出ノズルが吐出面に配置されている吐出ユニットと、
液滴を着弾させる検査面と、
前記検査面に対して平行な方向に、前記吐出ユニットと前記検査面とを相対的に移動させる移動機構と、
を備える塗布装置の着弾状態検査方法であって、
前記吐出ユニットが前記検査面へ液滴を吐出して着弾パターンを形成する、パターン形成工程と、
パターン形成工程の後、前記着弾パターンの上を前記吐出面が通過するように前記吐出ユニットを移動させ、次に、前記着弾パターンの上を前記吐出面が再度通過するように、先の移動方向と反対の方向に前記吐出ユニットを移動させ、前記吐出ユニットが両方向に移動した後の前記着弾パターンの各液滴の形状から検査を行う検査工程と、
を有し、
前記検査工程において、前記着弾パターンの検査を行う前に前記吐出ユニットの前記両方向への移動を複数回行っており、その際、前記両方向への移動が完了して次の前記両方向への移動を実施する前に前記走査方向と直交する方向への移動を行うことを特徴とする、着弾状態検査方法。
A discharge unit having a plurality of discharge nozzles for discharging droplets, each discharge nozzle being disposed on a discharge surface;
An inspection surface for landing droplets;
A moving mechanism for relatively moving the discharge unit and the inspection surface in a direction parallel to the inspection surface;
A landing state inspection method for a coating apparatus comprising:
A pattern forming step in which the discharge unit discharges droplets onto the inspection surface to form a landing pattern;
After the pattern formation step, the ejection unit is moved so that the ejection surface passes over the landing pattern, and then the previous movement direction so that the ejection surface passes again over the landing pattern. An inspection step of inspecting from the shape of each droplet of the landing pattern after the discharge unit is moved in the opposite direction and the discharge unit is moved in both directions;
I have a,
In the inspection step, before the landing pattern is inspected, the discharge unit is moved a plurality of times in both directions, and at that time, the movement in the both directions is completed and the next movement in the two directions is performed. A landing state inspection method characterized by performing movement in a direction orthogonal to the scanning direction before execution .
前記検査工程において、前記吐出ユニットを移動させる際の前記吐出面と前記検査面との距離は、前記塗布モードにおいて前記吐出ユニットを走査させる際の前記吐出面と基板との距離以下であることを特徴とする、請求項に記載の着弾状態検査方法。 In the inspection step, a distance between the ejection surface when moving the ejection unit and the inspection surface is equal to or less than a distance between the ejection surface and the substrate when scanning the ejection unit in the coating mode. The landing state inspection method according to claim 4 , wherein the landing state inspection method according to claim 4 . 前記パターン形成工程において、前記着弾パターンを形成する際、前記吐出ユニットは、前記検査面上の同等の箇所へ液滴の吐出を複数回行うことを特徴とする、請求項4または5のいずれかに記載の着弾状態検査方法。 The said pattern formation process WHEREIN: When forming the said landing pattern, the said discharge unit discharges a droplet several times to the equivalent location on the said test | inspection surface, It is any one of Claim 4 or 5 characterized by the above-mentioned. The landing state inspection method described in 1.
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