JP5834431B2 - アクチュエーター、アクチュエーターの製造方法、光スキャナーおよび画像形成装置 - Google Patents
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Description
例えば、特許文献1に記載されたアクチュエーターは、平板状の可動板と、可動板を揺動可能に支持する1対のトーションバーとを有する。そして、かかるアクチュエーターは、可動板に設けられた平面コイルと、固定配置された永久磁石とを有し、平面コイルおよび永久磁石の相互の磁界の作用により可動板を回動させる。
また、可動板および1対のトーションバーを有する構造体は、シリコン基板をエッチングすることにより形成される。
かかる構造体をドライエッチングにより形成すると、可動板および各トーションバーの側面にいわゆるスキャロップと呼ばれる凹凸が形成されてしまう。また、かかる構造体をウェットエッチングにより形成すると、可動板と各トーションバーとの接続部にシリコン結晶面に起因する角部が形成されてしまう。
本発明のアクチュエーターは、所定の軸まわりに回動可能な可動部、前記可動部に連結する少なくとも1つの連結部、前記連結部を支持する支持部、を含み、かつシリコンで形成された板状の基体と、
前記基体の表面に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられた導電性を有する導体部と、を有し、
前記絶縁層は、前記基体を前記基体の厚さ方向から平面視したときに、前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、を除いて設けられ、
前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部は、それぞれ丸められていることを特徴とする。
よって、可動部の回動に伴って連結部および連結部の周辺に生じる応力集中を防止または緩和することができる。その結果、アクチュエーターの長寿命化を図ることができる。
これにより、可動部と連結部との接続部分の側面、および支持部と連結部との接続部分の側面、ならびに連結部の側面全域を平坦化処理することができる。
これにより、可動部の回動に伴って連結部および連結部の周辺に生じる応力集中を防止または緩和することができる。
これにより、本発明のアクチュエーターを光スキャナー、光スイッチ、光アッテネーター等の光学デバイスに適用することができる。
本発明のアクチュエーターでは、前記絶縁層は、前記基体の前記光反射部が設けられる表面とは反対の表面に設けられていることが好ましい。
これにより、基体の光反射部が設けられる表面とは反対側の表面を有効利用して、導体部を形成することができる。
これにより、導体部の各部同士の絶縁を確実なものとすることができる。
これにより、絶縁層をエッチングによりパターンニングする際に、導体部をマスクとして用いることができる。
本発明のアクチュエーターでは、前記絶縁層は、光の反射を防止または抑制する機能を有することが好ましい。
これにより、迷光を防止することができる。
シリコン酸化膜は、絶縁性を有するとともに、シリコンの熱酸化処理により比較的簡単に形成することができる。また、平坦化処理として水素アニール処理を用いた場合、絶縁層の表面に微細な凹凸を形成することができる。このような凹凸を有する絶縁層は、光の反射を防止または抑制することができる。
Taは、導電性を有するとともに、高い融点を有する。そのため、導体として適するだけでなく、平坦化処理として水素アニール処理のような熱処理を用いた場合でも、その熱に耐え得る。
前記絶縁層上に導体部を形成する工程と、
前記シリコン基板をエッチングした後に平坦化処理を施すことにより、所定の軸まわりに回動可能な可動部と、前記可動部に連結する少なくとも1つの連結部、前記連結部を支持する支持部、を含む板状の基体を形成する工程とを有し、
前記絶縁層を形成する工程では、前記基体を前記基体の厚さ方向から平面視したときに、前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、を除いて前記絶縁層を形成することを特徴とする。
よって、得られるアクチュエーターは、可動部の回動に伴って連結部および連結部の周辺に生じる応力集中を防止または緩和することができ、その結果、長寿命化を図ることができる。
これにより、可動部と連結部との接続部分の側面、および支持部と連結部との接続部分の側面、ならびに連結部の側面の平坦化処理を行うことができる。また、可動部の縁部と連結部の縁部とを接続する縁部、および支持部の縁部と連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに連結部の縁部の丸め処理を行うことができる。
前記基体の表面に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられた導電性を有する導体部とを有し、
前記絶縁層は、前記基体を前記基体の厚さ方向から平面視したときに、前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、を除いて設けられ、
前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部は、それぞれ丸められていることを特徴とする。
よって、可動部の回動に伴って連結部および連結部の周辺に生じる応力集中を防止または緩和することができる。その結果、光スキャナーの長寿命化を図ることができる。
前記光源からの光を走査する光スキャナーとを備え、
前記光スキャナーは、
光反射性を有する光反射部、前記光反射部を備える所定の軸回りに回動可能な可動部、前記可動部に連結する少なくとも1つの連結部、前記連結部を支持する支持部、を含み、かつシリコンで形成された板状の基体と、
前記基体の表面に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられた導電性を有する導体部とを有し、
前記絶縁層は、前記基体を前記基体の厚さ方向から平面視したときに、前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、を除いて設けられ、
前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部は、それぞれ丸められていることを特徴とする。
このような画像形成装置よれば、可動部の回動に伴って連結部および連結部の周辺に生じる応力集中を防止または緩和することができる。その結果、アクチュエーターの長寿命化、ひいては、画像形成装置の長寿命化を図ることができる。
<第1実施形態>
まず、本発明の光スキャナーの第1実施形態について説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る光スキャナー(アクチュエーター)を示す平面図(上面図)、図2は、図1中のA−A線断面図、図3は、図1に示す光スキャナーに備えられた基体(可動板、支持部および1対の弾性部を備える構造体)を示す平面図(下面図)、図4は、図3に示す基体の部分拡大図、図5および図6は、それぞれ、図1に示す光スキャナーの製造方法を説明する断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図2、5、6中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
また、基体2は、光反射部211が設けられた可動板(可動部)21と、可動板21に連結する1対の連結部23、24と、1対の連結部23、24とを支持する支持部22とを有している。支持部22は連結部23、24を介して可動板21を支持しているとも言え、1対の連結部23、24は可動板21と支持部22とを連結しているとも言える。
このような光スキャナー1では、駆動手段4の駆動力により、各連結部23、24を捩り変形させながら、可動板21を連結部23、24に沿った所定の軸まわりに回動させる。これにより、光反射部211で反射した光を所定の一方向に走査することができる。
[基体]
基体2は、前述したように、光反射部211が設けられた可動板21と、可動板21を支持する支持部22と、可動板21と支持部22とを連結する1対の連結部23、24とを有する。
このような基体2は、シリコンで構成されており、可動板21、支持部22および連結部23、24が一体的に形成されている。この基体2は、後に詳述するように、シリコン基板をエッチングすることにより形成されたものであり、基体2には、かかるエッチングにより厚さ方向に貫通した異形状の貫通孔25が形成されている。
支持部22は、図1に示すように、枠状をなしている。より具体的には、支持部22は、可動板21の外周および各連結部23、24の側面に沿った内周面を有する環状をなしている。すなわち、前述した貫通孔25の幅が可動板21の回動および各連結部23、24の捩れ変形を許容し得る程度にできるだけ狭くかつ一定となるように形成されている。これにより、不要光が基体2の上面側から下面側へ入り込むのを防止または抑制することができる。このような支持部22は、1対の連結部23、24を介して可動板21を支持する。なお、支持部22の形状としては、1対の連結部23、24を介して可動板21を支持することができれば、特に限定されず、例えば、各連結部23、24に対応して分割された形状をなしていてもよい。
可動板21は、板状をなしている。また、本実施形態では、可動板21は、平面視にて、四角形(本実施形態では正方形)をなしている。なお、可動板21の平面視形状は、四角形に限定されず、例えば、五角形、六角形等の他の多角形、円形、楕円形等であってもよい。
このような可動板21の上面には、光反射性を有する光反射部211が設けられている。
なお、縁部とは、各部の外形部分とその周辺部分を示している。特に、本実施形態では、可動板21および支持部22ならびに連結部23、24の縁部は、各部の貫通孔25に面している部分にあたる。
より具体的に説明すると、図2に示すように、可動板21の側面212が平坦化処理されている。また、可動板21の上面および下面の縁部に形成された角部213が平坦化処理により丸められている。
また、可動板21の側面212と連結部23の側面231との境界部付近に形成された1対の角部232、および、連結部23の側面231と支持部22の側面221との境界部付近に形成された角部233が、それぞれ、平坦化処理により丸められている。
このような平坦化処理により、1対の連結部23、24の捩り変形を伴う可動板21の回動の際に、各連結部23、24に生じる応力集中を防止または緩和することができる。その結果、光スキャナー1の長寿命化を図ることができる。なお、かかる平坦化処理については、後に詳述する。
これにより、後述するように、基体2上に絶縁層61、62が形成された状態で比較的簡単に、可動板21、支持部22および連結部23、24の側面全域を平坦化処理することができる。また、この平坦化処理に伴って、可動板21、支持部22および連結部23、24の縁部や角部を丸め処理することができる。
より具体的に説明すると、絶縁層61、62は、可動板21の側面、各連結部23、24の側面および支持部22の側面には形成されていない。そのため、可動板21の側面、各連結部23、24の側面および支持部22の側面には、それぞれ、絶縁層が実質的に形成されていない面、すなわち、シリコンで構成された面が露出している。
このように連結部23、24の縁部、および、可動板21および支持部22の縁部のうちの連結部23、24近傍部分がそれぞれシリコンで構成された面が露出しているので、可動板21、支持部22および連結部23、24の側面全域を平坦化処理することができる。
この絶縁層61、62は、それぞれ、例えば、シリコン酸化膜またはシリコン窒化膜で構成されている。なお、このような絶縁層61、62の形成方法については、後述する基体2の製造方法の説明において、詳述する。
特に、絶縁層61、62は、シリコン酸化膜で構成されているのが好ましい。より具体的には、絶縁層61、62は、シリコン熱酸化膜で構成されているのが好ましい。
シリコン酸化膜は、絶縁性を有するとともに、シリコンの熱酸化処理により比較的簡単に形成することができる。また、平坦化処理として水素アニール処理を用いた場合、絶縁層61、62の表面に微細な凹凸を形成することができる。このような凹凸を有する絶縁層61、62は、光の反射を防止または抑制することができる。
また、絶縁層61、62の厚さは、それぞれ、特に限定されないが、例えば、10nm以上1500nm以下程度である。
支持体3は、前述した基体2を支持する機能を有する。また、支持体3は、後述する駆動手段4の永久磁石42、43を支持する機能をも有する。
この支持体3は、上方に開放する凹部31を有する箱状をなしている。言い換えると、支持体3は、板状をなす板状部32と、その板状部32の上面の外周部に沿って設けられた枠状をなす枠状部33とで構成されている。
このような支持体3の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、石英ガラス、パイレックスガラス(「パイレックス」は登録商標)、テンパックスガラス等のガラス材料や、単結晶シリコン、ポリシリコン等のシリコン材料、LTCC(低温焼結セラミックス)等が挙げられる。
また、基体2と支持体3との接合方法としては、支持体3の構成材料、形状等に応じて適宜決められるものであり、特に限定されないが、接着剤を用いた方法、陽極接合法、直接接合法等が挙げられる。
駆動手段4は、コイル41および1対の永久磁石42、43を有し、前述した基体2の可動板21を電磁駆動方式(より具体的にはムービングコイル方式)により回動駆動させるものである。電磁駆動方式は、大きな駆動力を発生させることができる。そのため、電磁駆動方式を採用する駆動手段4によれば、低駆動電圧化を図りつつ、可動板21の振れ角を大きくすることができる。
また、電極73、74は、それぞれ、支持部22の下面上に設けられている。
また、配線74は、可動板21の中央部付近まで延びて形成されており、配線74とコイル41との間には、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等で構成された絶縁層63が設けられている。
なお、コイル41を構成する素線の他端(渦巻きの中心側の端)と配線74との接続は、ボンディングワイヤーを介して行ってもよい。
Taは、比較的優れた導電性を有するとともに、極めて高い融点を有する。そのため、導体として適するだけでなく、平坦化処理として水素アニール処理のような熱処理を用いた場合でも、その熱に耐え得る。
永久磁石42は、可動板21の回動中心軸Xに対して一方側(図1、2にて左側)に設けられ、また、永久磁石43は、可動板21の回動中心軸Xに対して他方側(図1、2にて右側)に設けられている。そして、1対の永久磁石42、43は、可動板21を介して対向している。
なお、コイル41の磁界との相互作用により可動板21を回動し得るものであれば、永久磁石の数、配置や極性等は、図示のものに限定されないことは言うまでもない。
電極73と電極75との間に周期的に変化する電圧(交番電圧、間欠的な直流等)を印加する。これにより、コイル41の上側がN極、下側がS極となる第1の磁界と、コイル41の上側がS極、下側がN極となる第2の磁界とが、交互にかつ周期的に発生する。
第1の電界では、コイル41の上側が永久磁石42側に引きつけられ、反対にコイル41の下側が永久磁石43側に引き付けられ、可動板21が回動中心軸Xを中心に図2にて時計回りに回動する(第1の状態)。反対に、第2の電界では、コイル41の上側が永久磁石43側に引きつけられ、反対にコイル41の下側が永久磁石42側に引き付けられ、可動板21が回動中心軸Xを中心に図2にて反時計回りに回動する(第2の状態)。このような第1の状態と第2の状態とが交互に繰り返され、可動板21が回動中心軸Xを中心に回動する。
このように、1対の永久磁石42、43の磁界中に配された可動板21は、各連結部23、24を捩れ変形させながら、支持部22に対し回動(振動)する。
よって、可動板21の回動に伴って連結部23、24に生じる応力集中を防止または緩和することができる。その結果、光スキャナー1の長寿命化を図ることができる。
以上のような光スキャナー1は、例えば、次のようにして製造することができる。以下、本発明のアクチュエーターの製造方法の一例として、図5、図6に基づいて、光スキャナー1の製造方法を説明する。また、図5および図6は、それぞれ、図2に対応する断面で示されている。
光スキャナー1の製造方法は、基体2を形成する工程を有する。
基体2を形成する工程は、[A]絶縁層61、62を形成する工程と、[B]導体パターン8を形成する工程と、[C]基体2を形成する工程とを有する。
以下、各工程を順次詳細に説明する。
−A1−
まず、図5(a)に示すように、シリコン基板102を用意する。
このシリコン基板102は、後述するエッチングおよび平坦化処理を経ることにより基体2となるものである。
次に、図5(b)に示すように、シリコン基板102の上面上に絶縁層161を一様に形成するとともに、シリコン基板102の下面上に絶縁層162を一様に形成する。
この絶縁層161、162は、それぞれ、シリコン酸化膜またはシリコン窒化膜で構成されている。
絶縁層161、162の形成方法としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、絶縁層161、162がシリコン酸化膜で構成されている場合、熱酸化法を用いることができ、また、絶縁層161、162がシリコン窒化膜で構成されている場合、プラズマCVD、LPCVD等の気相成膜法を用いることができる。
次に、絶縁層161、162の一部を除去することにより、図5(c)に示すように、絶縁層61、62を形成する。
より具体的に説明すると、まず、絶縁層161、162上にそれぞれレジスト膜(図示せず)を形成する。このレジスト膜の構成材料としては、ポジ型またはネガ型のレジスト材料を用いることができる。
上記エッチングとしては、特に限定されないが、例えば、リアクティブイオンエッチング(RIE)、CF4を用いたドライエッチング等が挙げられる。
また、マスク(レジスト膜)の除去方法としては、特に限定されないが、例えば、硫酸による洗浄、O2アッシング等が挙げられる。
−B1−
次に、図5(d)に示すように、絶縁層62上にコイル41を含む導体パターン8を形成する。また、絶縁層63も形成する。
より具体的には、例えば、コイル41、配線72および電極73を一括して形成し、絶縁層63を形成した後に、配線74および電極75を一括して形成する。
また、絶縁層63の形成方法としては、特に限定されないが、例えば、プラズマCVD等の気相成膜法を用いることができる。
−C1−
次に、図6(a)に示すように、絶縁層62上に、基体2の平面視形状に対応した形状をなすマスク200を形成する。
より具体的に説明すると、まず、絶縁層62上にそれぞれレジスト膜(図示せず)を形成する。このレジスト膜の構成材料としては、ポジ型またはネガ型のレジスト材料を用いることができる。
次に、このレジスト膜を露光および現像することにより、基体2の平面視形状に対応した形状をなすマスク200を形成する。
なお、このマスク200は、絶縁層61上に形成してもよいし、絶縁層61上および絶縁層62上の双方に形成してもよい。
次に、マスク200を介してシリコン基板102をドライエッチングすることにより、図6(b)に示すように、基体2に対応した形状をなす基体102Aを形成する。
この基体102Aには、かかるドライエッチングにより厚さ方向に貫通する貫通孔125が形成されている。この貫通孔125の壁面には、ドライエッチングにより形成された微細な凹凸が形成されている。このような貫通孔125は、後述する平坦化処理を経て貫通孔25となる。
なお、貫通孔125の形成方法としては、KOH水溶液等を用いたウェットエッチングを用いてもよい。この場合、基体102の上面にもマスク200を形成すればよい。
次に、マスク200を除去する。これにより、図6(c)に示すように、絶縁層61、62が露出した状態となる。
マスク200(レジスト膜)の除去方法としては、特に限定されないが、例えば、例えば、硫酸による洗浄、O2アッシング等が挙げられる。
次に、基体102Aに平坦化処理を施す。これにより、図6(d)に示すように、基体2を得る。
ここで、貫通孔125の壁面と、基体102Aの上面および下面のうちの貫通孔125の両開口端近傍でかつ絶縁層61、62に覆われていない部分とがそれぞれ露出している。
さらに、基体102Aの上面および下面のうちの貫通孔125の両開口端付近でかつ絶縁層61、62に覆われていない部分も丸められる。
その後、図示しないが、基体2に支持体3を接合し、1対の永久磁石42、43を設置する。
以上の工程により、光スキャナー1が得られる。
よって、得られる光スキャナー1は、可動板21の回動に伴って連結部23、24に生じる応力集中を防止または緩和することができ、その結果、長寿命化を図ることができる。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
図8は、本発明の第2実施形態に係る光スキャナーを示す断面図、図9は、図8に示す光スキャナーに備えられた基体(可動板、支持部および1対の弾性部を備える構造体)を示す平面図(下面図)である。
第2実施形態の光スキャナーは、基体2の下面上に設けられた絶縁層の形状が異なる以外は、第1実施形態の光スキャナー1とほぼ同様である。なお、前述した実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
この絶縁層62Aは、コイル41、配線72、74および電極73、75で構成された導体パターン8と同一形状をなしている。すなわち、絶縁層62Aは、かかる導体パターン8の直下のみに形成されている。
また、絶縁層62Aが導体パターン8と同一形状をなしていると、絶縁層62Aをエッチングによりパターンニングする際に、導体パターン8をマスクとして用いることができる。
よって、可動板21の回動に伴って連結部23、24に生じる応力集中を防止または緩和することができる。その結果、光スキャナー1Aの長寿命化を図ることができる。
このような画像形成装置よれば、前述したような光スキャナー1を有するので、画像形成装置の長寿命化を図ることができる。
ここで、本発明の画像形成装置の実施形態を説明する。
(プロジェクター)
図10は、本発明の画像形成装置の実施形態(プロジェクター)を示す概略図である。なお、以下では、説明の便宜上、スクリーンSCの長手方向を「横方向」といい、長手方向に直角な方向を「縦方向」という。
図10に示すプロジェクター9は、レーザーなどの光を照出する光源装置91と、クロスダイクロイックプリズム92と、1対の本発明の光スキャナー93、94(例えば、光スキャナー1と同様の構成の光スキャナー)と、固定ミラー95とを有している。
クロスダイクロイックプリズム92は、4つの直角プリズムを貼り合わせて構成され、赤色光源装置911、青色光源装置912、緑色光源装置913のそれぞれから照出された光を合成する光学素子である。
まず、クロスダイクロイックプリズム92で合成された光は、光スキャナー93によって横方向に走査される(主走査)。そして、この横方向に走査された光は、光スキャナー94によってさらに縦方向に走査される(副走査)。これにより、2次元カラー画像をスクリーンSC上に形成することができる。このような光スキャナー93、94として本発明の光スキャナーを用いることで、極めて優れた描画特性を発揮することができる。
このように構成されたプロジェクター9によれば、前述した光スキャナー1と同様の構成の光スキャナー93、94を備えるので、安価に、高品位な画像を得ることができる。
図11は、本発明の画像形成装置の実施形態(ヘッドアップディスプレイ)を示す概略図である。なお、以下では、前述したプロジェクター9と同様の構成については、その説明を省略する。
図11に示すヘッドアップディスプレイ9Aは、自動車、飛行機等の移動体において、各種情報をフロントウインドウSC1に投影する装置である。
ここで、固定ミラー95Aは、凹面ミラーであり、光スキャナー94からの光をフロントウインドウSC1に投影する。すると、移動体の操縦者は、フロントウインドウSC1に対して前方に位置する仮想面SC2に虚像として表示像を視認することができる。
また、前述した実施形態では、可動板を支持部に対して回動可能に連結する連結部が1対設けられた場合を例に説明したが、可動板を支持部に対して回動可能に連結するものであれば、連結部の数は、1つであってもよいし、3つ以上であってもよい。
また、前述した実施形態では、可動板を回動させる駆動手段がムービングコイル型の電磁駆動方式を採用した構成を例に説明したが、かかる駆動手段は、ムービングマグネット型の電磁駆動方式であってもよいし、また、静電駆動方式、圧電駆動方式等の電磁駆動方式以外の駆動方式を採用するものであってもよい。
また、前述した実施形態では、基体上に絶縁層を介して設けた導体パターンがコイルを有する場合を例に説明したが、かかる導体パターンは、電気的導通のためのものであれば、これに限定されず、例えば、各種駆動源への通電のための配線、各種センサーに接続された配線等を含むものであってもよい。
Claims (14)
- 所定の軸まわりに回動可能な可動部、前記可動部に連結する少なくとも1つの連結部、前記連結部を支持する支持部、を含み、かつシリコンで形成された板状の基体と、
前記基体の表面に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられた導電性を有する導体部と、を有し、
前記絶縁層は、前記基体を前記基体の厚さ方向から平面視したときに、前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、を除いて設けられ、
前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部は、それぞれ丸められていることを特徴とするアクチュエーター。 - 前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部は、それぞれ、シリコンで構成された面が露出している請求項1に記載のアクチュエーター。
- 前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部は、それぞれ、平坦化処理されている請求項2に記載のアクチュエーター。
- 前記可動部は、当該可動部の表面に設けられ、かつ光反射性を有する光反射部を備える請求項1ないし3のいずれかに記載のアクチュエーター。
- 前記絶縁層は、前記基体の前記光反射部が設けられる表面とは反対の表面に設けられている請求項4に記載のアクチュエーター。
- 前記絶縁層は、前記基体を前記基体の厚さ方向から平面視したときに、前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部を除いて、前記基体の表面の略全域に設けられている請求項5に記載のアクチュエーター。
- 前記絶縁層は、前記導体部と同一形状をなす請求項1ないし4のいずれかに記載のアクチュエーター。
- 前記絶縁層は、光の反射を防止または抑制する機能を有する請求項1ないし7のいずれかに記載のアクチュエーター。
- 前記絶縁層は、シリコン酸化膜またはシリコン窒化膜で構成されている請求項8に記載のアクチュエーター。
- 前記導体部は、Taで構成されている請求項1ないし9のいずれかに記載のアクチュエーター。
- シリコン基板の表面に絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層上に導体部を形成する工程と、
前記シリコン基板をエッチングした後に平坦化処理を施すことにより、所定の軸まわりに回動可能な可動部と、前記可動部に連結する少なくとも1つの連結部、前記連結部を支持する支持部、を含む板状の基体を形成する工程とを有し、
前記絶縁層を形成する工程では、前記基体を前記基体の厚さ方向から平面視したときに、前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、を除いて前記絶縁層を形成することを特徴とするアクチュエーターの製造方法。 - 前記平坦化処理は、水素アニール処理、または水素アニール処理後、Ar雰囲気でアニール処理を行う処理である請求項11に記載のアクチュエーターの製造方法。
- 光反射性を有する光反射部、前記光反射部を備える所定の軸回りに回動可能な可動部、前記可動部に連結する少なくとも1つの連結部、前記連結部を支持する支持部、を含み、かつシリコンで形成された板状の基体と、
前記基体の表面に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられた導電性を有する導体部とを有し、
前記絶縁層は、前記基体を前記基体の厚さ方向から平面視したときに、前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、を除いて設けられ、
前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部は、それぞれ丸められていることを特徴とする光スキャナー。 - 光を出射する光源と、
前記光源からの光を走査する光スキャナーとを備え、
前記光スキャナーは、
光反射性を有する光反射部、前記光反射部を備える所定の軸回りに回動可能な可動部、前記可動部に連結する少なくとも1つの連結部、前記連結部を支持する支持部、を含み、かつシリコンで形成された板状の基体と、
前記基体の表面に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられた導電性を有する導体部とを有し、
前記絶縁層は、前記基体を前記基体の厚さ方向から平面視したときに、前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、を除いて設けられ、
前記連結部の縁部、および、前記可動部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部、ならびに、前記支持部の縁部と前記連結部の縁部とを接続する縁部は、それぞれ丸められていることを特徴とする画像形成装置。
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