JP5802164B2 - Light irradiation apparatus, hard coat film manufacturing apparatus, and laminated film manufacturing method - Google Patents

Light irradiation apparatus, hard coat film manufacturing apparatus, and laminated film manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP5802164B2
JP5802164B2 JP2012083386A JP2012083386A JP5802164B2 JP 5802164 B2 JP5802164 B2 JP 5802164B2 JP 2012083386 A JP2012083386 A JP 2012083386A JP 2012083386 A JP2012083386 A JP 2012083386A JP 5802164 B2 JP5802164 B2 JP 5802164B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
light irradiation
light
resin film
housing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012083386A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2013212619A (en
Inventor
正房 村上
正房 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tomoegawa Co Ltd
Original Assignee
Tomoegawa Paper Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tomoegawa Paper Co Ltd filed Critical Tomoegawa Paper Co Ltd
Priority to JP2012083386A priority Critical patent/JP5802164B2/en
Publication of JP2013212619A publication Critical patent/JP2013212619A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5802164B2 publication Critical patent/JP5802164B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

本発明は、樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射して該光硬化型樹脂塗膜を硬化させる光照射装置およびその光照射装置を用いた積層フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a light irradiation apparatus for irradiating light on a photocurable resin coating film formed on a resin film to cure the photocurable resin coating film, and a method for producing a laminated film using the light irradiation apparatus About.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の各種デイスプレイの表面には、ディスプレイ表面の傷付きを防止する目的で、光硬化型樹脂層が積層されたフィルム(以下、積層フィルムと称することがある)が設けられているものがある。この積層フィルムは、トリアセチルセルロースやポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルムに、電離放射線硬化型樹脂等の光硬化型樹脂が積層されて構成されている。なお、この積層フィルムには、傷付防止以外の機能が付与されたものもあり、例えば、光硬化型樹脂にフィラーを含有させることで表面に凹凸を形成し、外光(蛍光灯の光や太陽光等)の映り込みを抑える防眩性を付与したものもある。また、高屈折微粒子を含有した光硬化型樹脂層に低屈折率層を積層して、低屈折率層の表面で反射する表面反射光と、光硬化型樹脂層と低屈折率層の界面で反射する界面反射光の位相を逆転させ打ち消し合うことで反射光を軽減する反射防止機能を有する反射防止フィルムもある。   On the surface of various displays such as liquid crystal displays and plasma displays, a film (hereinafter sometimes referred to as a laminated film) on which a photocurable resin layer is laminated is provided for the purpose of preventing scratches on the display surface. There is something. This laminated film is configured by laminating a photocurable resin such as an ionizing radiation curable resin on a resin film such as triacetylcellulose or polyethylene terephthalate. In addition, some of these laminated films are provided with functions other than the prevention of scratches. For example, by adding a filler to a photocurable resin, irregularities are formed on the surface, and external light (light from a fluorescent lamp or Some of them have an antiglare property that suppresses reflection of sunlight. In addition, a low refractive index layer is laminated on a photocurable resin layer containing high refractive fine particles, and the surface reflected light reflected on the surface of the low refractive index layer is reflected at the interface between the photocurable resin layer and the low refractive index layer. There is also an antireflection film having an antireflection function that reduces the reflected light by reversing and canceling the phase of the reflected interface light.

この積層フィルムは、一般的に、樹脂フィルムの上に光硬化型樹脂塗膜を形成した後に、光照射装置によって紫外線等の光を光硬化型樹脂塗膜に照射して光硬化型樹脂塗膜を硬化させることで製造されている。この光硬化型樹脂塗膜を硬化させる際に、光硬化型樹脂塗膜の近傍に高濃度の酸素があると、紫外線などの光がその酸素を活性化することに消費されてしまい、その光を光硬化型樹脂塗膜を硬化させることに効率的に活用することが出来ないという問題がある。   This laminated film is generally formed by forming a photocurable resin coating film on a resin film and then irradiating the photocurable resin coating film with light such as ultraviolet rays by a light irradiation device. It is manufactured by curing. When curing this photocurable resin coating, if there is a high concentration of oxygen in the vicinity of the photocurable resin coating, light such as ultraviolet rays is consumed to activate the oxygen, and the light There is a problem that it cannot be efficiently used to cure the photocurable resin coating film.

この問題を解決するために、樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜の近傍に不活性ガスを供給して酸素濃度を下げることが提案されている(例えば、特許文献1〜2参照)。特許文献1および2に記載された光照射装置では、光硬化型樹脂塗膜の光照射範囲を覆うハウジングが設けられている。このハウジング内には、光硬化型樹脂塗膜に光を照射する光源が配置されている。また、このハウジング内には、そのハウジング内を、光源が配置された側(以下、光源室と称することがある)と、光硬化型樹脂塗膜の、光源から光が照射される光照射範囲が存在する側(以下、照射室と称することがある)とに仕切きる、石英ガラスなどの透光性を有する材料で構成された仕切板が設けられている。この光照射装置では、照射室内部に不活性ガスを吐出することで光硬化型樹脂塗膜の近傍の酸素濃度を低下させている。また、光源の発熱や光源からの光によって光源室が高温になりやすいので、光源室には空気の出入り口が設けられている。   In order to solve this problem, it has been proposed to reduce the oxygen concentration by supplying an inert gas in the vicinity of the photocurable resin coating film formed on the resin film (for example, Patent Documents 1 and 2). reference). In the light irradiation apparatus described in Patent Documents 1 and 2, a housing that covers the light irradiation range of the photocurable resin coating film is provided. A light source for irradiating light to the photocurable resin coating film is disposed in the housing. In the housing, a light irradiation range in which light is irradiated from the light source on the side where the light source is disposed (hereinafter sometimes referred to as a light source chamber) and the photocurable resin coating is contained in the housing. There is provided a partition plate made of a light-transmitting material such as quartz glass, which is partitioned to the side where the light is present (hereinafter sometimes referred to as an irradiation chamber). In this light irradiation apparatus, the oxygen concentration in the vicinity of the photocurable resin coating film is reduced by discharging an inert gas into the irradiation chamber. Further, since the light source chamber is likely to become hot due to the heat generated by the light source and the light from the light source, the light source chamber is provided with an air entrance / exit.

特許第4059782号明細書Patent No. 4059782 特許第4144052号明細書Japanese Patent No. 4144052

しかしながら、特許文献1および2に記載された光照射装置では、光源室内の空気が、仕切板の取付部分に設けられたシール材などの隙間から照射室内に流れ込んでしまうことがある。光源室内の空気には酸素が含まれているため、この空気が照射室内に流れ込むと、照射室内の酸素濃度が高くなってしまう。光源室内の空気が照射室内に流れ込んでしまう状況で、照射室内の酸素濃度が低下した状態を維持するためには、照射室内部に大量の不活性ガスを吐出し続ける必要が生じてしまう。しかし、それでは不活性ガスの使用量が多くなってしまい、光硬化型樹脂塗膜を硬化させるためのコストが高くなってしまうという問題がある。   However, in the light irradiation devices described in Patent Documents 1 and 2, the air in the light source chamber may flow into the irradiation chamber through a gap such as a seal material provided at the attachment portion of the partition plate. Since the air in the light source chamber contains oxygen, when this air flows into the irradiation chamber, the oxygen concentration in the irradiation chamber increases. In a situation where the air in the light source room flows into the irradiation chamber, it is necessary to continue to discharge a large amount of inert gas into the irradiation chamber in order to maintain a state in which the oxygen concentration in the irradiation chamber is reduced. However, there is a problem that the amount of the inert gas used increases, and the cost for curing the photocurable resin coating film increases.

本発明は上記事情に鑑み、安価に光硬化型樹脂塗膜を硬化させることができる光照射装置、ハードコートフィルム製造装置、および積層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the manufacturing method of the light irradiation apparatus , the hard-coat film manufacturing apparatus, and laminated film which can harden a photocurable resin coating film inexpensively in view of the said situation.

上記目的を解決する本発明の光照射装置は、樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射して該光硬化型樹脂塗膜を硬化させる光照射装置であって、
前記光硬化型樹脂塗膜に光を照射する光源が内部に配置され、該光硬化型樹脂塗膜の、該光源から光が照射される光照射範囲を覆うハウジングと、
前記ハウジング内に設けられた透光性のものであって、前記光源と前記光照射範囲との間を仕切る仕切板と、
前記ハウジング内における、前記仕切板よりも前記光照射範囲側に不活性ガスを吐出する吐出手段と、
前記ハウジング内における、前記仕切板よりも前記光源側の空気を、該ハウジング外に排出する排出手段とを備え、
前記ハウジングは、前記仕切板よりも前記光源側にこのハウジング外から空気が供給されるものであって、
前記排出手段は、前記ハウジングに供給される空気の量よりも多くの量の空気を排出し、前記ハウジング内における、前記仕切板よりも前記光源側の気圧を、該仕切板よりも前記光照射範囲側の気圧未満に低下させるものであり、
前記ハウジングは、前記樹脂フィルムの、前記光硬化型樹脂塗膜が形成された形成面側から前記光照射範囲を覆うものであり、
前記樹脂フィルムの、前記形成面とは反対側の裏面側から、該樹脂フィルムを介して前記光照射範囲に対向して配置された裏側部材を備え、
前記ハウジングが、前記裏側部材と一体に形成された箱状のものであることを特徴とする。
The light irradiation device of the present invention that solves the above object is a light irradiation device that irradiates light to a photocurable resin coating film formed on a resin film and cures the photocurable resin coating film,
A light source that irradiates light to the photocurable resin coating is disposed inside, and a housing that covers a light irradiation range of the photocurable resin coating that is irradiated with light from the light source,
A translucent one provided in the housing, the partition plate separating the light source and the light irradiation range;
A discharge means for discharging an inert gas to the light irradiation range side of the partition plate in the housing;
A discharge means for discharging the air closer to the light source than the partition plate in the housing to the outside of the housing;
The housing is one in which air is supplied from the outside of the housing to the light source side than the partition plate,
The discharge means discharges a larger amount of air than the amount of air supplied to the housing, and the pressure on the light source side relative to the partition plate in the housing is irradiated with the light from the partition plate. der which is reduced to less than the range side of the pressure is,
The housing covers the light irradiation range from the formation surface side of the resin film on which the photocurable resin coating film is formed.
From the back side of the resin film opposite to the forming surface, the back side member disposed to face the light irradiation range through the resin film,
The housing is in a box shape formed integrally with the back side member .

本発明の光照射装置によれば、ハウジング内における仕切板よりも光源側の気圧を仕切板よりも光照射範囲側の気圧未満にしているので、仕切板よりも光源側の空気が仕切板よりも光照射範囲側に流れ込むことがなくなり、光照射範囲側の酸素濃度が高くなってしまうことを抑制できる。これにより、光照射範囲側に大量の不活性ガスを吐出しなくても光照射範囲側の酸素濃度が高くなることを防止でき、安価に光硬化型樹脂塗膜を硬化させることができる。さらに、仕切板よりも光照射範囲側に吐出された不活性ガスが樹脂フィルムの裏面側から拡散してしまい、不活性ガスの濃度が低下してしまうことを裏側部材によって抑制できる。これにより、大量の不活性ガスを吐出しなくても光照射範囲側の酸素濃度が高くなることを防止でき、安価に光硬化型樹脂塗膜を硬化させることができる。 According to the light irradiation device of the present invention, the air pressure on the light source side with respect to the partition plate in the housing is set to be lower than the pressure on the light irradiation range side with respect to the partition plate. Moreover, it does not flow into the light irradiation range side, and it can be suppressed that the oxygen concentration on the light irradiation range side becomes high. Thereby, even if a large amount of inert gas is not discharged to the light irradiation range side, it can prevent that the oxygen concentration by the side of a light irradiation range becomes high, and can cure a photocurable resin coating film at low cost. Furthermore, it can suppress by the back side member that the inert gas discharged to the light irradiation range side rather than the partition plate diffuses from the back surface side of a resin film, and the density | concentration of an inert gas falls. Thereby, even if it does not discharge a lot of inert gas, it can prevent that the oxygen concentration by the side of a light irradiation range becomes high, and can cure a photocurable resin coating film at low cost.

なお、前記光硬化型樹脂塗膜は、電離放射線硬化型樹脂塗膜であってもよい。   The photocurable resin coating film may be an ionizing radiation curable resin coating film.

また、前記光源は、前記光硬化型樹脂膜を構成する光硬化型樹脂の種類に応じて適宜選択すればよく、例えば紫外線、可視光線、赤外線が照射される光源であってもよい。   The light source may be appropriately selected according to the type of the photocurable resin constituting the photocurable resin film. For example, the light source may be irradiated with ultraviolet rays, visible rays, or infrared rays.

さらに、樹脂フィルムは、光硬化型樹脂塗膜との間に、易接着層、帯電防止層、近赤外線吸収層、電磁波吸収層等の1又は複数の層が設けられたものであってもよい。   Furthermore, the resin film may be provided with one or more layers such as an easy-adhesion layer, an antistatic layer, a near-infrared absorbing layer, and an electromagnetic wave absorbing layer between the photocurable resin coating film. .

また、本発明の光照射装置において、前記光源は、搬送されてくる前記樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射するものであり、
前記ハウジングよりも前記樹脂フィルムの搬送方向上流側で該ハウジングに隣接して設けられ、該樹脂フィルムの搬送に伴って該樹脂フィルムの搬送方向に向かって流れる同伴風の流れを乱す乱流手段を備えることが好ましい。
Moreover, in the light irradiation apparatus of the present invention, the light source irradiates light to a photocurable resin coating film formed on the resin film being conveyed,
Turbulence means provided adjacent to the housing on the upstream side in the transport direction of the resin film from the housing and disturbing the flow of the accompanying air flowing in the transport direction of the resin film as the resin film is transported It is preferable to provide.

乱流手段を設けているので、ハウジング内における、仕切板よりも光照射範囲側に、ハウジング外の空気が同伴風によって流入してしまうことを抑制できる。   Since the turbulent flow means is provided, the air outside the housing can be prevented from flowing into the light irradiation range side of the partition plate in the housing due to the accompanying air.

前記乱流手段は、前記樹脂フィルムの搬送方向に延在したものであってもよい。   The turbulent means may extend in the transport direction of the resin film.

また、前記乱流手段は、前記光硬化型樹脂塗膜に対向して配置され、前記樹脂フィルムの搬送方向に間隔をあけて該光硬化型樹脂塗膜に向かって突出した複数の突起を有するものであってもよい。   The turbulent flow means has a plurality of protrusions that are arranged to face the photocurable resin coating film and project toward the photocurable resin coating film at intervals in the transport direction of the resin film. It may be a thing.

また、本発明の光照射装置において、前記ハウジング内における、前記仕切板よりも前記光照射範囲側の酸素濃度および窒素濃度のうち少なくとも一方の濃度を検出する検出手段を設けることが好ましい。   Moreover, in the light irradiation apparatus of this invention, it is preferable to provide the detection means which detects at least one density | concentration in the said housing in the said light irradiation range side oxygen concentration and nitrogen concentration rather than the said partition plate.

酸素濃度および窒素濃度のうち少なくとも一方の濃度を検出することで、不活性ガスの供給が必要か否かを正確に判断することがでる。   By detecting at least one of the oxygen concentration and the nitrogen concentration, it is possible to accurately determine whether or not the supply of the inert gas is necessary.

また、本発明の光照射装置において、前記吐出手段は、前記樹脂フィルムの幅方向に複数設けられ、該樹脂フィルムの幅方向に対して不活性ガスを略均一に供給するものであることがより好ましい。   Further, in the light irradiation apparatus of the present invention, a plurality of the discharge means are provided in the width direction of the resin film, and the inert gas is supplied substantially uniformly in the width direction of the resin film. preferable.

こうすることで、樹脂フィルムの上に形成された光硬化側樹脂塗膜を、樹脂フィルムの幅方向で均一な硬度に硬化させることができる。   By carrying out like this, the photocuring side resin coating film formed on the resin film can be hardened to uniform hardness in the width direction of the resin film.

上記目的を解決する本発明のハードコートフィルム製造装置は、
前述の光照射装置と、
前記光照射装置よりも前記樹脂フィルムの搬送方向下流側に配置され、該樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射する光源を有する下流側光照射装置とを備えたことを特徴とする。
上記目的を解決する本発明の積層フィルムの製造方法は、
前記樹脂フィルムの上に少なくとも光硬化型樹脂層が積層された積層フィルムの製造方法であって、
樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に、前述の光照射装置を用いて光を照射し、該光硬化型樹脂塗膜を硬化させることを特徴とする。
The hard coat film manufacturing apparatus of the present invention that solves the above-mentioned object is
The aforementioned light irradiation device;
A downstream light irradiation device having a light source that is disposed on the downstream side in the transport direction of the resin film relative to the light irradiation device and that irradiates light to a photocurable resin coating film formed on the resin film. It is characterized by that.
The manufacturing method of the laminated film of the present invention that solves the above-mentioned object is
A method for producing a laminated film in which at least a photocurable resin layer is laminated on the resin film,
The photocurable resin coating film formed on the resin film is irradiated with light using the above-described light irradiation device, and the photocurable resin coating film is cured.

本発明の積層フィルムの製造方法によれば、光硬化型樹脂層が積層された積層フィルムを安価に得ることができる。   According to the method for producing a laminated film of the present invention, a laminated film on which a photocurable resin layer is laminated can be obtained at low cost.

本発明の光照射装置によれば、安価に光硬化型樹脂塗膜を硬化させることができる。また、本発明のハードコートフィルム製造装置によれば、安価に光硬化型樹脂塗膜を硬化させることができる。さらに、その光照射装置を用いて、光硬化型樹脂層が積層された積層フィルムを安価に得ることができる。 According to the light irradiation apparatus of the present invention, the photocurable resin coating film can be cured at low cost. Moreover, according to the hard coat film manufacturing apparatus of this invention, a photocurable resin coating film can be hardened at low cost. Furthermore, the laminated | multilayer film by which the photocurable resin layer was laminated | stacked can be obtained cheaply using the light irradiation apparatus.

本発明の一実施形態である上流側光照射装置が配置されたハードコートフィルム製造装置の一部を示す模式図であるIt is a schematic diagram which shows a part of hard coat film manufacturing apparatus by which the upstream light irradiation apparatus which is one Embodiment of this invention is arrange | positioned. (a)は、図1のA−A断面であり、(b)は、図1のB−B断面である。(A) is the AA cross section of FIG. 1, (b) is the BB cross section of FIG. 上流側光照射装置の変形例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the modification of an upstream light irradiation apparatus.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。本発明の一実施形態である光照射装置は、樹脂フィルムよりも硬いハードコート層を樹脂フィルムに積層させるハードコートフィルム製造装置に用いられる光照射装置である。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The light irradiation apparatus which is one Embodiment of this invention is a light irradiation apparatus used for the hard coat film manufacturing apparatus which laminates | stacks the hard-coat layer harder than a resin film on a resin film.

図1は、本発明の一実施形態である上流側光照射装置が配置されたハードコートフィルム製造装置の一部を示す模式図である。   FIG. 1 is a schematic view showing a part of a hard coat film manufacturing apparatus in which an upstream light irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention is arranged.

図1にその一部を示すハードコートフィルム製造装置1は、長尺の樹脂フィルムFをその樹脂フィルムFの長手方向に所定の搬送経路に沿って略一定速度で搬送しながらハードコートフィルムを製造するものである。本実施形態におけるハードコートフィルムは、本発明における積層フィルムの一例に相当する。なお、本実施形態では、樹脂フィルムFとして、膜厚5〜200μm、鉛筆強度がH程度のトリアセチルセルロース製のフィルムを用いている。以下、搬送経路上流側を単に上流側と称し、搬送経路下流側を単に下流側と称することがある。   The hard coat film manufacturing apparatus 1 whose part is shown in FIG. 1 manufactures a hard coat film while transporting a long resin film F at a substantially constant speed along a predetermined transport path in the longitudinal direction of the resin film F. To do. The hard coat film in the present embodiment corresponds to an example of a laminated film in the present invention. In the present embodiment, as the resin film F, a film made of triacetyl cellulose having a film thickness of 5 to 200 μm and a pencil strength of about H is used. Hereinafter, the upstream side of the transport path may be simply referred to as the upstream side, and the downstream side of the transport path may be simply referred to as the downstream side.

ハードコートフィルム製造装置1は、上流側から順に、乾燥装置2と、上流側光照射装置3と、下流側光照射装置5とを備えている。また、図示省略されているが、ハードコートフィルム製造装置1には、乾燥装置2よりも上流側に、樹脂フィルムFに光硬化型樹脂を塗布するダイヘッド式の塗布装置が設けられている。この塗布装置によって、樹脂フィルムF上に光硬化型樹脂が塗布される。この光硬化型樹脂の塗布量は、光硬化型樹脂が硬化することで得られる光硬化型樹脂層(ハードコート層)が1〜12μmになる範囲に設定されている。なお、塗布装置として、メイヤーバー式やグラビアロール式等、樹脂フィルムF上に連続して光硬化型樹脂を塗布できる適宜の塗布装置を用いることもできる。長尺の樹脂フィルムFは、上流側端に設けられた図示しない送出しロールに巻回され、このハードコートフィルム製造装置1にセットされる。一方、下流側端まで搬送された樹脂フィルムFは、図示しない巻取りロールで巻き取られる。このハードコートフィルム製造装置1において、長尺の樹脂フィルムFは所定の速度の範囲内で、略一定の速度で搬送される。したがって、ハードコートフィルム製造装置1は、略一定の速度でハードコートフィルムを製造することができる。本実施形態では、樹脂フィルムFの搬送速度は、1〜100m/minに設定されている。   The hard coat film manufacturing apparatus 1 includes a drying device 2, an upstream light irradiation device 3, and a downstream light irradiation device 5 in order from the upstream side. Although not shown, the hard coat film manufacturing apparatus 1 is provided with a die head type coating apparatus that applies a photocurable resin to the resin film F upstream of the drying apparatus 2. A photo-curing resin is applied onto the resin film F by this coating apparatus. The coating amount of the photocurable resin is set in a range in which the photocurable resin layer (hard coat layer) obtained by curing the photocurable resin becomes 1 to 12 μm. In addition, as a coating device, the appropriate coating device which can apply | coat photocurable resin continuously on the resin film F, such as a Mayer bar type and a gravure roll type, can also be used. The long resin film F is wound around a feed roll (not shown) provided at the upstream end, and is set in the hard coat film manufacturing apparatus 1. On the other hand, the resin film F conveyed to the downstream end is wound up by a winding roll (not shown). In the hard coat film manufacturing apparatus 1, the long resin film F is transported at a substantially constant speed within a predetermined speed range. Therefore, the hard coat film manufacturing apparatus 1 can manufacture a hard coat film at a substantially constant speed. In this embodiment, the conveyance speed of the resin film F is set to 1-100 m / min.

乾燥装置2は、上述した塗布装置と上流側光照射装置3の間に配置されている。この乾燥装置2は、塗布装置によって樹脂フィルムF上に塗布された光硬化型樹脂に直接熱風を吹きかけ、その光硬化型樹脂を加熱するものである。光硬化型樹脂が塗布された樹脂フィルムFが乾燥装置2内を通過することで、その光硬化型樹脂に含まれる溶剤が揮発する。なお、この乾燥装置2は、光硬化型樹脂に含まれる溶剤を揮発させることができるものであればよく、例えば、間接的に加熱する加熱装置を用いてもよい。樹脂フィルムF上の、溶剤が揮発した光硬化型樹脂が、光硬化型樹脂塗膜になる。以下、樹脂フィルムFの、光硬化型樹脂塗膜が形成された面を、樹脂フィルムFの形成面と称し、樹脂フィルムFの、光硬化型樹脂塗膜が形成された面とは反対側の面を樹脂フィルムFの裏面と称することがある。また、以下、長尺の搬送フィルムFの一部であっても、単に搬送フィルムFと称することがある。   The drying device 2 is disposed between the coating device described above and the upstream light irradiation device 3. This drying device 2 blows hot air directly on the photocurable resin coated on the resin film F by the coating device, and heats the photocurable resin. As the resin film F coated with the photocurable resin passes through the drying device 2, the solvent contained in the photocurable resin is volatilized. In addition, this drying apparatus 2 should just be a thing which can volatilize the solvent contained in photocurable resin, for example, you may use the heating apparatus heated indirectly. The photocurable resin in which the solvent is volatilized on the resin film F becomes a photocurable resin coating film. Hereinafter, the surface of the resin film F on which the photocurable resin coating film is formed is referred to as the resin film F forming surface, and the resin film F on the side opposite to the surface on which the photocurable resin coating film is formed. The surface may be referred to as the back surface of the resin film F. In addition, hereinafter, even a part of the long transport film F may be simply referred to as a transport film F.

乾燥装置2と下流側光照射装置5の間には上流側光照射装置3が配置されている。本実施形態における上流側光照射装置3は、本発明における光照射装置の一例に相当する。上流側光照射装置3は、搬送されてくる樹脂フィルムFの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射し、その光硬化型樹脂塗膜の表面部分を硬化させるものである。この上流側光照射装置3については後に詳述する。   An upstream light irradiation device 3 is disposed between the drying device 2 and the downstream light irradiation device 5. The upstream light irradiation device 3 in the present embodiment corresponds to an example of the light irradiation device in the present invention. The upstream light irradiation device 3 irradiates light to the photocurable resin coating film formed on the conveyed resin film F, and cures the surface portion of the photocurable resin coating film. The upstream light irradiation device 3 will be described in detail later.

上流側光照射装置3と巻取りロールの間には下流側光照射装置5が配置されている。下流側光照射装置5は、上流側光照射装置3によって表面部分が硬化した光硬化型樹脂塗膜に光を照射し、その光硬化型樹脂塗膜内部の未硬化部分を硬化させるものである。内部まで硬化した光硬化型樹脂塗膜がハードコート層(光硬化型樹脂層)になり、そのハードコート層が積層された樹脂フィルムFがハードコートフィルムになる。なお、ハードコート層の鉛筆硬度は、樹脂フィルムの鉛筆硬度よりも固い。例えば、樹脂フィルムの鉛筆硬度がH程度であるのに対して、ハードコート層の鉛筆硬度は2H〜3H程度である。このため、液晶ディスプレイ等の各種デイスプレイの表面にハードコートフィルムが設けられた場合、ディスプレイの表面を保護して傷付きを防止することができる。   A downstream light irradiation device 5 is disposed between the upstream light irradiation device 3 and the winding roll. The downstream light irradiation device 5 irradiates the photocurable resin coating whose surface portion is cured by the upstream light irradiation device 3 with light, and cures the uncured portion inside the photocurable resin coating. . The photocurable resin coating film cured to the inside becomes a hard coat layer (photocurable resin layer), and the resin film F on which the hard coat layer is laminated becomes a hard coat film. The pencil hardness of the hard coat layer is harder than the pencil hardness of the resin film. For example, the pencil hardness of the resin film is about H, whereas the pencil hardness of the hard coat layer is about 2H to 3H. For this reason, when a hard coat film is provided on the surface of various displays such as a liquid crystal display, the surface of the display can be protected and scratches can be prevented.

下流側光照射装置5は、一面が開口した箱状の下流側チャンバー51と、下流側紫外線ランプ52と、照射用ロール53とを備えている。下流側チャンバー51は、搬送されてくる樹脂フィルムFの形成面側に配置されている。下流側チャンバー51の開口部は、矩形であり四つの縁により画定されたものである。下流側チャンバー51は、開口部が搬送経路に近接するように配置されている。このため、樹脂フィルムFは、下流側チャンバー51の開口部の近傍をそれぞれ通過することになる。   The downstream light irradiation device 5 includes a box-shaped downstream chamber 51 whose one surface is open, a downstream ultraviolet lamp 52, and an irradiation roll 53. The downstream chamber 51 is disposed on the surface on which the resin film F to be conveyed is formed. The opening of the downstream chamber 51 is rectangular and is defined by four edges. The downstream chamber 51 is arranged so that the opening is close to the transport path. For this reason, the resin film F passes through the vicinity of the opening of the downstream chamber 51.

下流側チャンバー51内には、樹脂フィルムFの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射する下流側紫外線ランプ52が配置されている。この下流側紫外線ランプ52は、樹脂フィルムFの幅方向(図1における紙面直交方向、以下、単に「幅方向」と称することがある)に延在した一本のランプである。また、下流側紫外線ランプ52の延在方向の長さは樹脂フィルムFの幅とほぼ等しい。なお、光硬化型樹脂として紫外線以外の光で硬化する樹脂を用いる場合、対応する光を照射するランプを使用すればよい。照射用ロール53は、搬送経路を挟んで下流側紫外線ランプ52に対向し、樹脂フィルムFの裏面側に配置されている。   In the downstream chamber 51, a downstream ultraviolet lamp 52 for irradiating light to a photocurable resin coating film formed on the resin film F is disposed. The downstream ultraviolet lamp 52 is a single lamp that extends in the width direction of the resin film F (the direction orthogonal to the paper surface in FIG. 1, hereinafter simply referred to as the “width direction”). Further, the length of the downstream ultraviolet lamp 52 in the extending direction is substantially equal to the width of the resin film F. In addition, when using resin hardened | cured with light other than an ultraviolet-ray as a photocurable resin, the lamp | ramp which irradiates corresponding light should just be used. The irradiation roll 53 faces the downstream ultraviolet lamp 52 across the transport path, and is disposed on the back side of the resin film F.

なお、下流側チャンバー51内に、窒素ガス等の不活性ガスを吐出する不活性ガス吐出手段を設けてもよい。不活性ガス吐出手段を設けることで、光硬化型樹脂塗膜がより硬化しやすくなる。ただし、下流側光照射装置5に搬送されてくる樹脂フィルムFの上に形成された光硬化型樹脂塗膜は、既に表面部分が硬化しているため光硬化型樹脂塗膜内部の未硬化部分は下流側チャンバー51内の気体と直接接触していない。このため、下流側チャンバー51内にある気体の酸素濃度が多少高くても、下流側紫外線ランプ52から照射された紫外線が、その酸素を活性化することに消費されてしまう虞は、表面が硬化していない光硬化型樹脂塗膜と比較して低い。   Note that an inert gas discharge means for discharging an inert gas such as nitrogen gas may be provided in the downstream chamber 51. By providing the inert gas discharge means, the photocurable resin coating film is more easily cured. However, since the surface part has already hardened | cured the photocurable resin coating film formed on the resin film F conveyed to the downstream light irradiation apparatus 5, the uncured part inside a photocurable resin coating film Is not in direct contact with the gas in the downstream chamber 51. For this reason, even if the oxygen concentration of the gas in the downstream chamber 51 is somewhat high, the surface is hardened by the possibility that the ultraviolet rays irradiated from the downstream ultraviolet lamp 52 may be consumed to activate the oxygen. It is low compared with a photocurable resin coating film that has not been used.

上流側光照射装置3は、上流側チャンバー31と、上流側紫外線ランプ32と、仕切板33と、不活性ガスを吐出する第一吐出手段34と、空気を供給する供給手段35と、空気を排出する排出手段36と、充填部材37と、乱流手段38と、第1検出手段39と、第2検出手段40と、第1ロール41と、第2ロール42とを備えている。本実施形態における上流側紫外線ランプ32は、本発明における光源の一例に相当する。   The upstream light irradiation device 3 includes an upstream chamber 31, an upstream ultraviolet lamp 32, a partition plate 33, a first discharge means 34 for discharging an inert gas, a supply means 35 for supplying air, and air. A discharging means 36 for discharging, a filling member 37, a turbulent flow means 38, a first detecting means 39, a second detecting means 40, a first roll 41, and a second roll 42 are provided. The upstream ultraviolet lamp 32 in the present embodiment corresponds to an example of a light source in the present invention.

上流側チャンバー31は、樹脂フィルムFの形成面側に配置されたハウジング311と、樹脂フィルムFの裏面側に配置された裏側壁312とが一体に形成された箱状のものである。また、上流側チャンバー31には、搬送されてくる樹脂フィルムFを上流側チャンバー31内に受け入れる受入口31aと、そのフィルムFが上流側チャンバー31の外部に排出されていく排出口31bとが形成されている。   The upstream chamber 31 has a box shape in which a housing 311 disposed on the resin film F forming surface side and a back side wall 312 disposed on the back surface side of the resin film F are integrally formed. Further, the upstream chamber 31 is formed with a receiving port 31a for receiving the conveyed resin film F into the upstream chamber 31, and a discharge port 31b through which the film F is discharged to the outside of the upstream chamber 31. Has been.

ハウジング311内には、搬送されてくる樹脂フィルムFの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射する上流側紫外線ランプ32が配置されている。この上流側紫外線ランプ32は、樹脂フィルムFの幅方向に延在した一本のランプである。この上流側紫外線ランプ32の延在方向の長さは樹脂フィルムFの幅とほぼ等しい。本実施形態の上流側光照射装置3では、搬送されてくる樹脂フィルムFと上流側紫外線ランプ32との間の距離は約200mmである。また、上流側紫外線ランプ32の出力は、40〜200W/cm程度に設定されている。なお、この上流側紫外線ランプ32として、樹脂フィルムFの幅方向とは直交する方向に沿って分割された複数の紫外線ランプを用いてもよい。また、光硬化型樹脂として紫外線以外の光で硬化する樹脂を用いる場合、対応する光を照射するランプを使用すればよい。紫外線以外の光で硬化する樹脂としては、例えば可視光線或いは赤外線等で硬化する樹脂がある。上流側紫外線ランプ32から光が照射される光硬化型樹脂塗膜の一部分が光照射範囲になる。ハウジング311は、樹脂フィルムFの形成面側からその光照射範囲を覆っている。このハウジング311内には、冷却水が循環する水路3110が形成されている。この水路3110は、上流側紫外線ランプ32の発熱や上流側紫外線ランプ32からの光によってハウジング311の壁などが高熱になることを防止するための冷却手段である。   In the housing 311, an upstream ultraviolet lamp 32 that irradiates light onto the photocurable resin coating film formed on the resin film F being conveyed is disposed. The upstream ultraviolet lamp 32 is a single lamp extending in the width direction of the resin film F. The length of the upstream ultraviolet lamp 32 in the extending direction is substantially equal to the width of the resin film F. In the upstream light irradiation device 3 of the present embodiment, the distance between the resin film F being conveyed and the upstream ultraviolet lamp 32 is about 200 mm. The output of the upstream ultraviolet lamp 32 is set to about 40 to 200 W / cm. A plurality of ultraviolet lamps divided along the direction orthogonal to the width direction of the resin film F may be used as the upstream ultraviolet lamp 32. Further, when a resin curable with light other than ultraviolet rays is used as the photocurable resin, a lamp that emits corresponding light may be used. Examples of the resin that is cured by light other than ultraviolet light include a resin that is cured by visible light or infrared light. A part of the photocurable resin coating film irradiated with light from the upstream ultraviolet lamp 32 is in the light irradiation range. The housing 311 covers the light irradiation range from the surface on which the resin film F is formed. A water passage 3110 through which cooling water circulates is formed in the housing 311. This water channel 3110 is a cooling means for preventing the heat of the upstream ultraviolet lamp 32 and the wall of the housing 311 from being heated by the light from the upstream ultraviolet lamp 32.

仕切板33は、ハウジング311内に設けられている。この仕切板33は、光照射範囲と上流側紫外線ランプ32との間に配置されている。本実施形態の上流側光照射装置3では、樹脂フィルムFの上に形成された光硬化型樹脂塗膜の表面から上流側紫外線ランプ32側に約10mm離れた位置に仕切板33が配置されている。また、仕切板33は、上流側紫外線ランプ32から照射された光が透過する、透光性の高い石英ガラスで構成されている。なお、仕切板33は、透光性を有するものであればよく、例えば樹脂製のものであってもよい。ハウジング311は、仕切板33よりも上流側紫外線ランプ32側3111(以下、光源室と称することがある)と、仕切板33よりも光照射範囲側3112(以下、照射室と称することがある)とに仕切板33によって仕切られている。上述の受入口31aは、照射室3112の、搬送方向上流側端に形成されている。また、排出口31bは、照射室3112の、搬送方向下流側端に形成されている。   The partition plate 33 is provided in the housing 311. The partition plate 33 is disposed between the light irradiation range and the upstream ultraviolet lamp 32. In the upstream side light irradiation device 3 of the present embodiment, the partition plate 33 is arranged at a position about 10 mm away from the surface of the photocurable resin coating film formed on the resin film F toward the upstream ultraviolet lamp 32 side. Yes. Further, the partition plate 33 is made of quartz glass having high translucency through which light emitted from the upstream ultraviolet lamp 32 is transmitted. In addition, the partition plate 33 should just have translucency, for example, may be resin. The housing 311 has an upstream ultraviolet lamp 32 side 3111 (hereinafter sometimes referred to as a light source chamber) from the partition plate 33 and a light irradiation range side 3112 (hereinafter sometimes referred to as an irradiation chamber) from the partition plate 33. Are partitioned by a partition plate 33. The above-described receiving port 31a is formed at the upstream end of the irradiation chamber 3112 in the transport direction. Further, the discharge port 31b is formed at the downstream end of the irradiation chamber 3112 in the transport direction.

第一吐出手段34は、窒素ガス等の不活性ガスを照射室3112に吐出する吐出ノズルを備えている。この不活性ガスは、照射室3112内の酸素濃度を低くするために吐出される。照射室3112の酸素濃度は、低い程よいが、0〜1ppm程度にすることが好ましい。なお、照射室3112内に吐出する不活性ガスとして、窒素ガス以外の不活性ガスを使用することもできる。第一吐出手段34により、第一吐出手段34と樹脂フィルムF間に不活性ガスのカーテンを形成することができる。これによって、同伴風を遮断することができる。効率的に同伴風である空気から不活性ガスに置換させやすくなる。後述する乱流手段38を設けることにより、より効率的に同伴風である空気から不活性ガスに置換させやすくなる。   The first discharge means 34 includes a discharge nozzle that discharges an inert gas such as nitrogen gas into the irradiation chamber 3112. This inert gas is discharged to reduce the oxygen concentration in the irradiation chamber 3112. The oxygen concentration in the irradiation chamber 3112 is preferably as low as possible, but is preferably about 0 to 1 ppm. Note that an inert gas other than nitrogen gas can be used as the inert gas discharged into the irradiation chamber 3112. By the first discharge means 34, an inert gas curtain can be formed between the first discharge means 34 and the resin film F. Thereby, an accompanying wind can be interrupted | blocked. It becomes easy to efficiently replace the air that is the accompanying air with the inert gas. By providing the turbulent flow means 38 to be described later, it becomes easier to efficiently replace the air that is the accompanying air with the inert gas.

第一吐出手段34による不活性ガスの吐出方向は、樹脂フィルムFの表面に対して垂直な方向よりも搬送方向下流側に傾動可能にすることができる。第一吐出手段34の傾動角度は、0度(垂直)より大きく10度より小さい範囲にすることが好ましい。より好ましくは1度以上5度以下であり、さらに好ましくは2度以上3度以下である。第一吐出手段34を傾斜させることによって、不活性ガスが充填されやすくなるため、より効率的に同伴風である空気から不活性ガスに置換させやすくなる。   The discharge direction of the inert gas by the first discharge means 34 can be tilted downstream in the transport direction from the direction perpendicular to the surface of the resin film F. The tilt angle of the first discharge means 34 is preferably in a range greater than 0 degrees (vertical) and less than 10 degrees. More preferably, it is 1 degree or more and 5 degrees or less, More preferably, it is 2 degree or more and 3 degrees or less. By inclining the first discharge means 34, it becomes easy to fill with the inert gas, so that it becomes easier to efficiently replace the air that is the accompanying air with the inert gas.

第一吐出手段34の下流側近傍には、第二吐出手段340を設けることが好ましい。これによって、不活性ガスが充填されることから酸素濃度を減少させやすくなる。なお、第一吐出手段34と第二吐出手段340のうちのどちらか一方を省略しても構わない。第二吐出手段340による不活性ガスの吐出方向は、樹脂フィルムFの表面に対して垂直な方向よりも搬送方向下流側に傾動可能にすることができる。第二吐出手段340の傾動角度は、0度(垂直)より大きく10度より小さい範囲にすることが好ましい。より好ましくは1度以上5度以下であり、さらに好ましくは2度以上3度以下である。第二吐出手段340を傾斜させることによって、不活性ガスが充填されやすくなるため、より効率的に同伴風である空気から不活性ガスに置換させやすくなる。なお、第一吐出手段34及び第二吐出手段340の配置については後述する。   It is preferable to provide the second discharge means 340 in the vicinity of the downstream side of the first discharge means 34. As a result, the oxygen concentration is easily reduced because the inert gas is filled. Note that one of the first discharge unit 34 and the second discharge unit 340 may be omitted. The discharge direction of the inert gas by the second discharge means 340 can be tilted downstream in the transport direction from the direction perpendicular to the surface of the resin film F. The tilt angle of the second discharge means 340 is preferably in a range greater than 0 degrees (vertical) and less than 10 degrees. More preferably, it is 1 degree or more and 5 degrees or less, More preferably, it is 2 degree or more and 3 degrees or less. By inclining the second discharge means 340, the inert gas is easily filled, so that the air that is the accompanying air can be more efficiently replaced with the inert gas. The arrangement of the first discharge means 34 and the second discharge means 340 will be described later.

本実施形態では、樹脂フィルムFの裏面側から、樹脂フィルムFを介して光照射範囲に対向して配置された裏側壁312が設けられている。本実施形態における裏側壁312は、本発明における裏側部材の一例に相当する。この裏側壁312は、樹脂フィルムFの裏面側を覆っている。樹脂フィルムFの幅方向端部と上流側チャンバー31との間には、多少の隙間が設けられている。隙間は狭いほどよいが、10mm以下であることが好ましい。ただし、この隙間があまりに狭いと樹脂フィルムFと上流側チャンバー31とが接触する虞があるので、この隙間の下限値は例えば1mm程度にすることが望ましい。また、樹脂フィルムFの上面と仕切板33間の隙間も狭いほどよいが、10mm以下であることが好ましい。照射室3112内に吐出された不活性ガスは、その隙間を通って樹脂フィルムFの裏面側に回り込むことがある。裏側壁312がないと、裏面側に回り込んだ不活性ガスが、上流側チャンバー31の外部に拡散してしまい、照射室3112内の不活性ガスの濃度が低下してしまう虞がある。裏側壁312を設けることで、不活性ガスが、樹脂フィルムFの裏面側から上流側チャンバー31の外部に拡散してしまうこと防止がされ、照射室3112の酸素濃度が高くなってしまうことが抑制されている。   In the present embodiment, a back side wall 312 is provided from the back side of the resin film F so as to face the light irradiation range through the resin film F. The back side wall 312 in the present embodiment corresponds to an example of a back side member in the present invention. The back side wall 312 covers the back side of the resin film F. A slight gap is provided between the width direction end of the resin film F and the upstream chamber 31. The narrower the gap, the better, but it is preferably 10 mm or less. However, if this gap is too narrow, the resin film F and the upstream chamber 31 may come into contact with each other. Therefore, the lower limit of this gap is preferably about 1 mm, for example. Further, the gap between the upper surface of the resin film F and the partition plate 33 is preferably as narrow as possible, but is preferably 10 mm or less. The inert gas discharged into the irradiation chamber 3112 may wrap around the back side of the resin film F through the gap. Without the back side wall 312, the inert gas that has entered the back side diffuses outside the upstream chamber 31, and the concentration of the inert gas in the irradiation chamber 3112 may decrease. By providing the back side wall 312, the inert gas is prevented from diffusing from the back side of the resin film F to the outside of the upstream chamber 31, and the oxygen concentration in the irradiation chamber 3112 is prevented from increasing. Has been.

供給手段35は、空気を供給する吸気ファン351、および光源室3111と吸気ファン351を接続した吸気ダクト352を備えている。光源室3111は、供給手段35によってハウジング311外から空気が供給される。光源室3111に供給される空気の量は、吸気ファン351の動作によって制御されている。排出手段36は、空気を排出する排気ファン361、および光源室3111と排気ファン361と接続した排気ダクト362を備えている。この排出手段36によって、光源室3111内の空気がハウジング311外に排出される。光源室3111から排出される空気の量は、排気ファン361の動作によって制御されている。吸気ファン351と排気ファン361それぞれは、上流側紫外線ランプ32が点灯している間は、常時動作している。光源室3111は、上流側紫外線ランプ32の発熱や上流側紫外線ランプ32からの光によって高温になりやすい。吸気ファン351と排気ファン361を常時動作させることで、光源室3111内の空気と光源室3111外の空気を循環させ、光源室3111内を冷却している。なお、次に説明する光源室3111の減圧状態が維持できれば、吸気ファン351と排気ファン361を上流側紫外線ランプ32の点灯にかかわらす断続的に動作させてもよいし、上流側紫外線ランプ32が消灯しているときにも動作させてもよい。排出手段36によって光源室3111からハウジング311外に排出される空気の量は、供給手段35によってハウジング311外から光源室3111に供給される空気の量よりも多くの量になるように、排気ファン361および吸気ファン351の動作が設定されている。こうすることで、光源室3111内の気圧を、照射室3112の気圧未満の気圧に低下した減圧状態にしている。本実施形態の上流側光照射装置3では、照射室3112内の気圧に対し、光源室3111内の気圧Pが、−30Pa≦P<0Paになるように吸気ファン351の動作と排気ファン361の動作が設定されている。−30Paを超えて減圧状態になると、照射室3112内の不活性ガスが光源室3111内に吸い込まれやすくなり、吸い込まれた不活性ガスが排気ファン361より排出され、結果として不活性ガスの消費量が増大してしまうので好ましくない。 充填部材37、第1ロール41、および第2ロール42は、樹脂フィルムFの裏面と裏側壁312との間に配置されている。第1ロール41は、上流側チャンバー31内における受入口31a近傍に配置され、搬送されている樹脂フィルムFの一部分が巻き掛けられる従動ロールである。また、第2ロール42は、上流側チャンバー31内における排出口31b近傍に配置され、搬送されている樹脂フィルムFの一部が巻き掛けられる従動ロールである。樹脂フィルムFの、上流側チャンバー31内にある部分は、この第1ロール41および第2ロール42によって案内されている。   The supply means 35 includes an intake fan 351 that supplies air, and an intake duct 352 that connects the light source chamber 3111 and the intake fan 351. The light source chamber 3111 is supplied with air from outside the housing 311 by the supply means 35. The amount of air supplied to the light source chamber 3111 is controlled by the operation of the intake fan 351. The discharge means 36 includes an exhaust fan 361 that discharges air, and an exhaust duct 362 connected to the light source chamber 3111 and the exhaust fan 361. By this discharging means 36, the air in the light source chamber 3111 is discharged outside the housing 311. The amount of air discharged from the light source chamber 3111 is controlled by the operation of the exhaust fan 361. Each of the intake fan 351 and the exhaust fan 361 is always operating while the upstream ultraviolet lamp 32 is lit. The light source chamber 3111 is likely to become hot due to heat generated by the upstream ultraviolet lamp 32 and light from the upstream ultraviolet lamp 32. By always operating the intake fan 351 and the exhaust fan 361, the air in the light source chamber 3111 and the air outside the light source chamber 3111 are circulated to cool the inside of the light source chamber 3111. If the reduced pressure state of the light source chamber 3111 described below can be maintained, the intake fan 351 and the exhaust fan 361 may be operated intermittently in connection with the lighting of the upstream ultraviolet lamp 32, or the upstream ultraviolet lamp 32 may be The operation may be performed even when the light is off. The amount of air discharged from the light source chamber 3111 to the outside of the housing 311 by the discharge means 36 is larger than the amount of air supplied from the outside of the housing 311 to the light source chamber 3111 by the supply means 35. 361 and the operation of the intake fan 351 are set. Thus, the pressure in the light source chamber 3111 is reduced to a pressure lower than the pressure in the irradiation chamber 3112. In the upstream side light irradiation device 3 of the present embodiment, the operation of the intake fan 351 and the exhaust fan 361 are performed such that the atmospheric pressure P in the light source chamber 3111 is −30 Pa ≦ P <0 Pa with respect to the atmospheric pressure in the irradiation chamber 3112. The operation is set. When the pressure is reduced beyond −30 Pa, the inert gas in the irradiation chamber 3112 is easily sucked into the light source chamber 3111, and the sucked inert gas is discharged from the exhaust fan 361, resulting in consumption of the inert gas. Since the amount increases, it is not preferable. The filling member 37, the first roll 41, and the second roll 42 are disposed between the back surface of the resin film F and the back side wall 312. The first roll 41 is a driven roll that is disposed in the vicinity of the receiving port 31a in the upstream chamber 31 and around which a part of the resin film F being conveyed is wound. The second roll 42 is a driven roll that is disposed in the vicinity of the discharge port 31b in the upstream chamber 31 and around which a part of the transported resin film F is wound. A portion of the resin film F in the upstream chamber 31 is guided by the first roll 41 and the second roll 42.

充填部材37は、第1ロール41と第2ロール42の間に配置され、上流側チャンバー31の幅方向に延在した厚い板状のものである。この充填部材37は、樹脂フィルムFの裏面から10mm程度離間して配置されている。樹脂フィルムFの裏面と充填部材37間の隙間は狭いほどよいが、10mm以下であることが好ましい。ただし、この隙間があまりに狭いと樹脂フィルムFの裏面が充填部材3に摺接してしまう虞があるので、この隙間の下限値は例えば1mm程度にすることが望ましい。充填部材37が設けられていることで、上流側チャンバー31内で、樹脂フィルムFの裏面側に回り込む不活性ガスの量が削減されている。その結果、第一吐出手段34から吐出される不活性ガスの量が少なくても照射室3112の不活性ガスの濃度が高まり、不活性ガスの使用量を削減することができる。また、第1ロール41或いは第2ロール42が回転すると、それらのロールの回りにある不活性ガスに流れが生じ、受入口31aや排出口31bから照射室3112の外部に不活性ガスが流出してしまう虞がある。第1ロール41と第2ロール42の間に充填部材37を配置することで、不活性ガスの流れを抑制し、不活性ガスが照射室3112の外部に流出してしまうことを抑制できる。   The filling member 37 is disposed between the first roll 41 and the second roll 42, and has a thick plate shape extending in the width direction of the upstream chamber 31. The filling member 37 is disposed at a distance of about 10 mm from the back surface of the resin film F. The narrower the gap between the back surface of the resin film F and the filling member 37 is, the better, but it is preferably 10 mm or less. However, if the gap is too narrow, the back surface of the resin film F may come into sliding contact with the filling member 3, so the lower limit of the gap is preferably about 1 mm, for example. By providing the filling member 37, the amount of inert gas that wraps around the back side of the resin film F in the upstream chamber 31 is reduced. As a result, even when the amount of the inert gas discharged from the first discharge means 34 is small, the concentration of the inert gas in the irradiation chamber 3112 increases, and the amount of the inert gas used can be reduced. Moreover, when the 1st roll 41 or the 2nd roll 42 rotates, a flow will arise in the inert gas around those rolls, and an inert gas will flow out of the irradiation chamber 3112 from the receiving port 31a and the discharge port 31b. There is a risk that. By disposing the filling member 37 between the first roll 41 and the second roll 42, the flow of the inert gas can be suppressed, and the inert gas can be prevented from flowing out of the irradiation chamber 3112.

乱流手段38は、ハウジング311よりも樹脂フィルムFの搬送方向上流側で、ハウジング311に隣接して設けられている。この乱流手段38は、樹脂フィルムFの、光硬化型樹脂塗膜が形成された面に対向して配置され、樹脂フィルムFの搬送方向に延在している。また、乱流手段38は、樹脂フィルムFの搬送方向に間隔をあけて光硬化型樹脂塗膜に向かって突出した複数の突起を有している。乱流手段38は、樹脂フィルムFの幅方向から見て櫛刃状の、樹脂フィルムFの幅とほぼ同一の幅に形成されている。各突起の突出端は、樹脂フィルムFの形成面から10〜20mm程度離れた位置にある。樹脂フィルムFの搬送に伴って、樹脂フィルムFの近傍には、搬送方向に向かって流れる同伴風が生じている。この同伴風は、樹脂フィルムFの表面から10〜15mmまでの部分に生じる流れである。同伴風は樹脂フィルムFの搬送速度によって変化する。乱流手段38の突起端と樹脂フィルムF間の距離が近すぎても遠すぎても同伴風を乱しにくい。また、乱流手段38よりも上流側では、同伴風は、酸素を大量に含む大気を成分とした風であるため、同伴風を伴った樹脂フィルムFが照射室3112にそのまま入り込むと、照射室3112内の酸素濃度が高くなってしまう。乱流手段は、ハウジング311よりも搬送方向上流側で同伴風の流れを乱すことで、同伴風が照射室3112内に流入してしまうことを抑制している。なお、乱流手段38として、光硬化型樹脂塗膜に向かって突出した複数の針状の部材が形成されたものを用いてもよく、同伴風に向けて空気を吹き付けて同伴風の流れを乱す送風装置を用いてもよい。   The turbulent flow means 38 is provided adjacent to the housing 311 on the upstream side of the housing 311 in the transport direction of the resin film F. The turbulent flow means 38 is disposed to face the surface of the resin film F on which the photocurable resin coating film is formed, and extends in the conveyance direction of the resin film F. Moreover, the turbulent flow means 38 has a plurality of protrusions that protrude toward the photocurable resin coating film at intervals in the transport direction of the resin film F. The turbulent flow means 38 is formed in a comb blade shape as viewed from the width direction of the resin film F, and has a width substantially the same as the width of the resin film F. The protruding end of each protrusion is at a position away from the formation surface of the resin film F by about 10 to 20 mm. Accompanying the transport of the resin film F, an accompanying wind flowing in the transport direction is generated in the vicinity of the resin film F. This accompanying air is a flow generated in a portion from the surface of the resin film F to 10-15 mm. The accompanying air changes depending on the conveying speed of the resin film F. Even if the distance between the projection end of the turbulent flow means 38 and the resin film F is too close or too far away, it is difficult to disturb the accompanying wind. Further, on the upstream side of the turbulent flow means 38, the entrained wind is a wind composed of an atmosphere containing a large amount of oxygen. Therefore, when the resin film F accompanied with the entrained wind enters the irradiation chamber 3112 as it is, the irradiation chamber The oxygen concentration in 3112 becomes high. The turbulent flow means suppresses the accompanying air from flowing into the irradiation chamber 3112 by disturbing the flow of the accompanying air upstream of the housing 311 in the transport direction. The turbulent flow means 38 may be one in which a plurality of needle-like members protruding toward the photo-curing resin coating film are formed. A disturbing blower may be used.

第1検出手段39は、照射室3112内における、上流側端近傍の酸素濃度を検出する酸素濃度センサである。また、第2検出手段40は、照射室3112内における、下流側端近傍の酸素濃度を検出する酸素濃度センサである。なお、第1検出手段39および第2検出手段40の両方を設けることが、正確に酸素濃度を検出する意味では好ましいが、第1検出手段39と第2検出手段40のうちの一方を省略しても構わない。   The first detection means 39 is an oxygen concentration sensor that detects the oxygen concentration in the vicinity of the upstream end in the irradiation chamber 3112. The second detection means 40 is an oxygen concentration sensor that detects the oxygen concentration in the vicinity of the downstream end in the irradiation chamber 3112. Although it is preferable to provide both the first detection means 39 and the second detection means 40 in the sense of accurately detecting the oxygen concentration, one of the first detection means 39 and the second detection means 40 is omitted. It doesn't matter.

図2(a)は、図1のA−A断面であり、図2(b)は、図1のB−B断面である。   2A is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG.

図2(a)に示すように、第1検出手段39は、樹脂フィルムFの幅方向に並んで9つ設けられている。第1検出手段39の数は制限されない。第1検出手段39の数が1つであってもよい。第1検出手段39の数を増やすにつれ、検出感度が向上すると共に、後述するように検出結果を用いて不活性ガス吐出量を調節しやすくなる。第二吐出手段340は、各第1検出手段39の間にそれぞれ配置される。第二吐出手段340の数を増やすほど、樹脂フィルムFの幅方向に対して不活性ガスを略均一に供給することができる。この第二吐出手段340の先端部は三つに分岐している。不活性ガスは、その先端部から樹脂フィルムFに向かって吐出される。第二吐出手段340の先端部は分岐していなくてもよいが、分岐させることで、より樹脂フィルムFの幅方向に対して不活性ガスを略均一に供給することができる。なお、第一吐出手段34も、第二吐出手段340と同様に、各第1検出手段39の間にそれぞれ配置され、その先端部が三つに分岐している。この第一吐出手段34と第二吐出手段340の先端部分は、いくつに分岐していても構わないが、分岐数が多くすることでより樹脂フィルムFの幅方向に対して不活性ガスを略均一に供給することができる。また、図2(b)に示すように、第2検出手段40は、第1検出手段39と同様に、樹脂フィルムFの幅方向に並んで9つ設けられている。第2検出手段40の数も制限されない。   As shown in FIG. 2A, nine first detection means 39 are provided side by side in the width direction of the resin film F. The number of the first detection means 39 is not limited. The number of the first detection means 39 may be one. As the number of the first detection means 39 is increased, the detection sensitivity is improved and the discharge amount of the inert gas can be easily adjusted using the detection result as will be described later. The second discharge means 340 is disposed between the first detection means 39, respectively. As the number of the second discharge means 340 is increased, the inert gas can be supplied substantially uniformly in the width direction of the resin film F. The tip of the second discharge means 340 is branched into three. The inert gas is discharged toward the resin film F from the tip portion. The tip of the second discharge means 340 may not be branched, but the inert gas can be supplied substantially uniformly in the width direction of the resin film F by branching. In addition, the 1st discharge means 34 is each arrange | positioned between each 1st detection means 39 similarly to the 2nd discharge means 340, and the front-end | tip part has branched into three. The leading end portions of the first discharge means 34 and the second discharge means 340 may be branched in any number, but the inert gas is substantially reduced in the width direction of the resin film F by increasing the number of branches. It can be supplied uniformly. Further, as shown in FIG. 2B, nine second detection means 40 are provided side by side in the width direction of the resin film F, similarly to the first detection means 39. The number of second detection means 40 is not limited.

各第1検出手段39と各第2検出手段40によって検出された酸素濃度に基づき、第一吐出手段34或いは第二吐出手段340からの不活性ガス吐出量を調整することができる。不活性ガス吐出量を調整する調整手段は制限されない。調整手段としては、例えば、弁の開閉により簡便に行う手法の他、酸素濃度に基づいて自動的に不活性ガス吐出量を調整する手法を使用することができる。自動的に調整する手法をより具体的に示す。なお、ここでの説明では、第一吐出手段34が吐出する不活性ガスの吐出量を自動的に調整する手法を示すが、第二吐出手段340に同様の手法を採用してもよい。さらに、第一吐出手段34と第二吐出手段340それぞれの不活性ガスの吐出量を自動的に調整してもよい。各第1検出手段39と各第2検出手段40によって検出された酸素濃度それぞれは、酸素濃度を示す信号に変換され、図示しない制御手段に送信される。その制御手段は、受信した酸素濃度を示す信号に基づいて、酸素濃度を所望の濃度にするための不活性ガス吐出量を第一吐出手段34毎に算出し、不活性ガス吐出指令を各第一吐出手段34に出力する。こうすることで、酸素濃度の高い部分に対応する第一吐出手段34から不活性ガスを吐出して酸素濃度を下げることができ、不活性ガスを吐出する必要性の低い部分に対応する第一吐出手段34からは不活性ガスを吐出しないですむので、不活性ガスの使用量を減らすことができる。第一吐出手段34、第1検出手段39、および第2検出手段40の数は、それぞれいくつでも構わないが、多く配置するほど部分毎の酸素濃度に対応する制御が可能になり、不活性ガスの使用量をより削減できるという効果が見込める。なお、大気を成分とした同伴風が乱流手段38によって乱された後、照射室3112内に搬送された樹脂フィルムFの周囲には、不活性ガスを主成分とした同伴風が新たに形成されるので、上流側で不活性ガスを吐出すれば、同伴風によってその不活性ガスを下流側まで運ぶことができる。下流側で不活性ガスを吐出することにより、排出口31bからの空気の流入を防ぐことができることから、酸素濃度を減少させる若干の効果は期待できるため、下流側に吐出手段を設けてもよい。   Based on the oxygen concentration detected by each first detection means 39 and each second detection means 40, the amount of inert gas discharged from the first discharge means 34 or the second discharge means 340 can be adjusted. The adjusting means for adjusting the inert gas discharge amount is not limited. As the adjusting means, for example, a method of simply adjusting the discharge amount of the inert gas based on the oxygen concentration can be used in addition to a method simply performed by opening and closing a valve. A method for automatic adjustment will be described more specifically. In the description here, a method of automatically adjusting the discharge amount of the inert gas discharged by the first discharge unit 34 is shown, but a similar method may be adopted for the second discharge unit 340. Furthermore, the discharge amount of the inert gas of each of the first discharge unit 34 and the second discharge unit 340 may be automatically adjusted. Each oxygen concentration detected by each first detection means 39 and each second detection means 40 is converted into a signal indicating the oxygen concentration and transmitted to a control means (not shown). The control means calculates an inert gas discharge amount for setting the oxygen concentration to a desired concentration for each first discharge means 34 based on the received signal indicating the oxygen concentration, and issues an inert gas discharge command to each of the first discharge means 34. Output to one discharge means 34. By doing so, it is possible to discharge the inert gas from the first discharge means 34 corresponding to the portion having a high oxygen concentration to lower the oxygen concentration, and the first corresponding to the portion where the necessity of discharging the inert gas is low. Since it is not necessary to discharge the inert gas from the discharge means 34, the amount of the inert gas used can be reduced. The number of the first discharge means 34, the first detection means 39, and the second detection means 40 may be any number. However, as the number of the first discharge means 34, the first detection means 39, and the second detection means 40 is increased, the control corresponding to the oxygen concentration of each part becomes possible. The effect of reducing the amount of use of can be expected. In addition, after the accompanying wind containing air as a component is disturbed by the turbulent flow means 38, a new accompanying air mainly composed of an inert gas is formed around the resin film F transferred into the irradiation chamber 3112. Therefore, if the inert gas is discharged on the upstream side, the inert gas can be carried to the downstream side by the accompanying wind. Since the inflow of air from the discharge port 31b can be prevented by discharging the inert gas on the downstream side, a slight effect of reducing the oxygen concentration can be expected. Therefore, discharge means may be provided on the downstream side. .

光硬化型樹脂塗膜は、硬化する際の反応(架橋)により樹脂フィルムFの幅方向に硬化収縮することがある。また、光硬化型樹脂塗膜が硬化する際に熱が発生し、その熱により光硬化型樹脂塗膜が熱収縮することもある。さらに、光硬化型樹脂塗膜が硬化する際に発生した熱により樹脂フィルムFも幅方向に熱収縮することがある。光硬化型樹脂塗膜の収縮量或いは樹脂フィルムFの収縮量が大きいと、樹脂フィルムFに皺が発生してしまうことがある。本実施形態では、上流側光照射装置3で光硬化型樹脂塗膜のうち表面側の部分のみを硬化させ、下流側光照射装置5で光硬化型樹脂塗膜のうち未硬化の部分を硬化させている。このため、上流側光照射装置3において光硬化型樹脂塗膜の硬化の際に生じた熱がある程度放出された状態で、下流側光照射装置5に樹脂フィルムFが到達し、一度に大量の熱が生じることがない。こうすることで、光硬化型樹脂塗膜の収縮と樹脂フィルムの収縮が抑えられ、樹脂フィルムFに皺を生じ難くしている。   The photocurable resin coating film may be cured and contracted in the width direction of the resin film F due to a reaction (crosslinking) at the time of curing. Further, heat is generated when the photocurable resin coating is cured, and the photocurable resin coating may be thermally contracted by the heat. Furthermore, the resin film F may also be thermally contracted in the width direction by heat generated when the photocurable resin coating is cured. If the shrinkage amount of the photocurable resin coating film or the shrinkage amount of the resin film F is large, wrinkles may occur in the resin film F. In the present embodiment, only the surface side portion of the photocurable resin coating film is cured by the upstream light irradiation device 3, and the uncured portion of the photocurable resin coating film is cured by the downstream light irradiation device 5. I am letting. For this reason, the resin film F reaches the downstream light irradiation device 5 in a state in which the heat generated during the curing of the photocurable resin coating film is released to some extent in the upstream light irradiation device 3, and a large amount at a time. No heat is generated. By doing so, the shrinkage of the photocurable resin coating film and the shrinkage of the resin film are suppressed, and the resin film F is less likely to be wrinkled.

次に、本実施形態の変形例について説明する。以下の説明では、これまで説明した構成要素の名称と同じ名称の構成要素には、これまで用いた符号と同じ符号を付して説明することがある。また、これまで説明したハードコートフィルム製造装置1や上流側光照射装置3の説明と重複する説明は省略することがある。   Next, a modification of this embodiment will be described. In the following description, components having the same names as those of the components described so far may be described with the same reference numerals as those used so far. Moreover, the description which overlaps with description of the hard coat film manufacturing apparatus 1 demonstrated so far and the upstream light irradiation apparatus 3 may be abbreviate | omitted.

図3は、上流側光照射装置の変形例を示す模式図である。   FIG. 3 is a schematic diagram showing a modification of the upstream light irradiation device.

この変形例の上流側光照射装置3は、充填部材37を設けていない点と供給手段35の代わりに吸気孔353を設けている点が、先の実施形態とは異なる。第1ロール41と第2ロール42の間には、先の実施形態に示した充填部材37の代わりに、裏側壁312の一部に、樹脂フィルムFの裏面に向かって突出した凸部312aが形成されている。こうすることでも、樹脂フィルムFの裏面側に回り込んでしまう不活性ガスの量を削減することができる。また、第1ロール41と第2ロール42の回転による不活性ガスの流れを抑制し、不活性ガスが照射室3112から流出してしまうことを抑制できる。また、充填部材37を用いる必要がなくなるので、上流側光照射装置3を安価に製造できる。   The upstream side light irradiation device 3 of this modification is different from the previous embodiment in that the filling member 37 is not provided and an intake hole 353 is provided instead of the supply means 35. Between the 1st roll 41 and the 2nd roll 42, the convex part 312a which protruded toward the back surface of the resin film F was formed in a part of back side wall 312 instead of the filling member 37 shown in previous embodiment. Is formed. By doing this as well, the amount of inert gas that wraps around the back side of the resin film F can be reduced. Moreover, the flow of the inert gas due to the rotation of the first roll 41 and the second roll 42 can be suppressed, and the outflow of the inert gas from the irradiation chamber 3112 can be suppressed. Moreover, since it is not necessary to use the filling member 37, the upstream light irradiation device 3 can be manufactured at low cost.

また、この変形例では、先の実施形態における供給手段35の代わりに、光源室3111に連なり、断面積が小さな吸気孔353が設けられている。この吸気孔353は、ハウジング311外の空気を光源室3111内に供給するために設けられている。また、吸気孔353は、光源室3111に吸い込まれる単位時間あたりの空気の量が、排出手段36が排出する光源室3111の単位時間あたりの空気の量よりも少ない量になるような断面積に設定されたものである。こうすることで、光源室3111内の気圧を、照射室3112の気圧未満の気圧に低下した減圧状態にしている。また、先の実施形態と比較して、吸気ファン351が不要になり、その制御も不要になるので、上流側光照射装置3を安価に製造できる上に吸気ファン351が消費する電力も削減できるといった効果がある。   Further, in this modification, instead of the supply means 35 in the previous embodiment, an intake hole 353 that is connected to the light source chamber 3111 and has a small cross-sectional area is provided. The intake hole 353 is provided for supplying air outside the housing 311 into the light source chamber 3111. Further, the air intake hole 353 has a cross-sectional area such that the amount of air sucked into the light source chamber 3111 is smaller than the amount of air per unit time of the light source chamber 3111 discharged by the discharge means 36. It is set. Thus, the pressure in the light source chamber 3111 is reduced to a pressure lower than the pressure in the irradiation chamber 3112. Further, as compared with the previous embodiment, the intake fan 351 is not required and the control thereof is not required, so that the upstream side light irradiation device 3 can be manufactured at a low cost and the power consumed by the intake fan 351 can be reduced. There is an effect.

続いて、本実施形態で好ましく使用される材料について説明する。   Next, materials that are preferably used in the present embodiment will be described.

樹脂フィルムとしては、透光性と可撓性を有し連続生産に適した、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、ポリイミド(PI)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリ塩化ビニル(PVC)、シクロオレフィンコポリマー(COC)、含ノルボルネン樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルスルホン、セロファン、芳香族ポリアミド等の各種樹脂フィルムを好適に使用することができる。なお、プラズマディスプレイ(PDP)、液晶表示装置(LCD)に用いる場合は、PETフィルム、TACフィルムおよび含ノルボルネン樹脂フィルムから選ばれる1種を使用することがより好ましい。   As the resin film, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), polyethylene naphthalate (PEN), polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (transparent and flexible and suitable for continuous production) PC), polyimide (PI), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl chloride (PVC), cycloolefin copolymer (COC), norbornene resin, acrylic resin, polyethersulfone, cellophane Various resin films such as aromatic polyamide can be preferably used. In addition, when using for a plasma display (PDP) and a liquid crystal display device (LCD), it is more preferable to use 1 type chosen from a PET film, a TAC film, and a norbornene-containing resin film.

これら樹脂フィルムの透明性は高いものほど良好であるが、光学用途では、全光線透過率(JIS K7105)としては80%以上、より好ましくは90%以上が良い。   The higher the transparency of these resin films, the better. However, in optical applications, the total light transmittance (JIS K7105) is 80% or more, more preferably 90% or more.

樹脂フィルムの表面に、アルカリ処理、コロナ処理、プラズマ処理、スパッタ処理などのトリートメント処理、界面活性剤、シランカップリング剤などのプライマーコーティング、Si蒸着などの薄膜ドライコーティングなどを施すことで、樹脂フィルムとハードコート層との密着性を向上させ、該ハードコート層の物理的強度、耐薬品性を向上させることができる。また、樹脂フィルムのハードコート層側に他の層を設ける場合も、上記同様の方法で、各層界面の密着性を向上させ、当該ハードコート層の物理的強度、耐薬品性を向上させることができる。   Resin film surface is subjected to treatment treatment such as alkali treatment, corona treatment, plasma treatment and sputtering treatment, primer coating such as surfactant and silane coupling agent, thin film dry coating such as Si deposition, etc. It is possible to improve the adhesion between the hard coat layer and the physical strength and chemical resistance of the hard coat layer. Also, when providing other layers on the hard coat layer side of the resin film, it is possible to improve the adhesion at the interface of each layer and improve the physical strength and chemical resistance of the hard coat layer in the same manner as described above. it can.

光硬化型樹脂塗膜を構成する樹脂成分としては、硬化後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性のあるものを特に制限なく使用できる。紫外線照射による硬化処理にて、簡易な加工操作にて効率よく硬化することができる電離放射線硬化型樹脂が好適である。   As the resin component constituting the photocurable resin coating film, a transparent material having sufficient strength as a cured film and having transparency can be used. An ionizing radiation curable resin that can be efficiently cured by a simple processing operation by a curing treatment by ultraviolet irradiation is preferable.

電離放射線硬化型樹脂としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のラジカル重合性官能基や、エポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタン基等のカチオン重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー、ポリマーを単独で、または適宜混合した組成物が用いられる。モノマーの例としては、アクリル酸メチル、メチルメタクリレート、メトキシポリエチレンメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を挙げることができる。オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、多官能ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、アルキットアクリレート、メラミンアクリレート、シリコーンアクリレート等のアクリレート化合物、不飽和ポリエステル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルや各種脂環式エポキシ等のエポキシ系化合物、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル等のオキセタン化合物を挙げることができる。ポリマーとしては、ポリアクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等を挙げることができる。これらは単独、もしくは複数混合して使用することができる。   Examples of the ionizing radiation curable resin include monomers and oligomers having radical polymerizable functional groups such as acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, and methacryloyloxy group, and cationic polymerizable functional groups such as epoxy group, vinyl ether group, and oxetane group. , Prepolymers, and compositions obtained by mixing polymers alone or as appropriate are used. Examples of monomers include methyl acrylate, methyl methacrylate, methoxy polyethylene methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, and the like. it can. As oligomers and prepolymers, polyester acrylate, polyurethane acrylate, polyfunctional urethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, acrylate compounds such as alkit acrylate, melamine acrylate, silicone acrylate, unsaturated polyester, tetramethylene glycol diglycidyl ether, Epoxy compounds such as propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether and various alicyclic epoxies, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis {[((3- Oxeta such as ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether Mention may be made of the compound. Examples of the polymer include polyacrylate, polyurethane acrylate, and polyester acrylate. These can be used alone or in combination.

電離放射線硬化型樹脂は、紫外線照射による硬化を行う場合は、光重合開始剤の添加が必要である。なお、用いられる放射線としては、紫外線、可視光線、赤外線のいずれであってもよい。また、これらの放射線は、偏光であっても無偏光であってもよい。   When the ionizing radiation curable resin is cured by ultraviolet irradiation, it is necessary to add a photopolymerization initiator. In addition, as a radiation used, any of an ultraviolet-ray, visible light, and infrared rays may be sufficient. Further, these radiations may be polarized or non-polarized.

光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合開始剤、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物等のカチオン重合開始剤を単独または適宜組み合わせて使用することができる。   Photopolymerization initiators include radical polymerization initiators such as acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, and benzoin methyl ether, and cationic polymerization starts such as aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, and metallocene compounds. The agents can be used alone or in appropriate combination.

また、電離放射線硬化型樹脂にレベリング剤、帯電防止剤等の添加剤を含有させることができる。レベリング剤は、塗膜表面の張力均一化を図り塗膜形成前に欠陥を直す働きがある。   Moreover, additives, such as a leveling agent and an antistatic agent, can be contained in ionizing radiation curable resin. The leveling agent works to make the tension on the surface of the coating uniform and to repair defects before forming the coating.

上記樹脂組成物は透光性の微粒子を含有してもよい。当該樹脂組成物に溶剤を加えた光硬化型樹脂を、樹脂フィルム上に塗布した後、当該光硬化型樹脂を硬化させてハードコート層を形成させることができる。樹脂組成物に透光性の微粒子を添加することにより、防眩性を有するハードコート層(防眩層)の表面凹凸の形状や数を調整しやすくなる。   The resin composition may contain translucent fine particles. After applying a photocurable resin obtained by adding a solvent to the resin composition on a resin film, the photocurable resin can be cured to form a hard coat layer. By adding translucent fine particles to the resin composition, it becomes easy to adjust the shape and number of surface irregularities of the hard coat layer (antiglare layer) having antiglare properties.

透光性の微粒子としては、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリル共重合体、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化エチレン系樹脂等よりなる有機系の透光性の樹脂微粒子、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン等の無機系の透光性の微粒子を使用することができる。透光性の微粒子の屈折率は、1.40〜1.75が好ましく、屈折率が1.40未満または1.75より大きい場合は、樹脂フィルムあるいは樹脂マトリックスとの屈折率差が大きくなり過ぎ、全光線透過率が低下する。また、透光性の微粒子と樹脂との屈折率の差は、0.2以下が好ましい。透光性の微粒子の平均粒径は、0.3〜10μmの範囲のものが好ましく、1〜7μmがより好ましく、2〜6μmがさらに好ましい。   As the translucent fine particles, an organic translucent resin made of acrylic resin, polystyrene resin, styrene-acrylic copolymer, polyethylene resin, epoxy resin, silicone resin, polyvinylidene fluoride, polyfluoroethylene resin, etc. Fine inorganic particles such as fine particles, silica, alumina, titania, zirconia, calcium oxide, tin oxide, indium oxide, and antimony oxide can be used. The refractive index of the translucent fine particles is preferably 1.40 to 1.75. When the refractive index is less than 1.40 or more than 1.75, the difference in refractive index from the resin film or resin matrix becomes too large. , The total light transmittance decreases. Further, the difference in refractive index between the translucent fine particles and the resin is preferably 0.2 or less. The average particle diameter of the translucent fine particles is preferably in the range of 0.3 to 10 μm, more preferably 1 to 7 μm, and further preferably 2 to 6 μm.

粒径が0.3μmより小さい場合は防眩性が低下するため、また10μmより大きい場合は、ギラツキを発生すると共に、表面凹凸の程度が大きくなり過ぎて表面が白っぽくなってしまうため好ましくない。また、上記樹脂中に含まれる透光性の微粒子の割合は特に限定されないが、樹脂組成物100質量部に対し、0.1〜20質量部とするのが防眩機能、ギラツキ等の特性を満足する上で好ましく、ハードコート層表面の微細な凹凸形状とヘイズ値をコントロールし易い。ここで、「屈折率」は、JIS K−7142に従った測定値を指す。また、「平均粒径」は、電子顕微鏡で実測した100個の粒子の直径の平均値を指す。   When the particle size is smaller than 0.3 μm, the antiglare property is lowered. When the particle size is larger than 10 μm, it is not preferable because glare occurs and the surface unevenness becomes too large and the surface becomes whitish. In addition, the ratio of the light-transmitting fine particles contained in the resin is not particularly limited, but it is 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition. It is preferable for satisfaction, and it is easy to control the fine uneven shape and haze value on the surface of the hard coat layer. Here, “refractive index” refers to a measured value according to JIS K-7142. Further, “average particle diameter” refers to an average value of the diameters of 100 particles actually measured with an electron microscope.

溶剤としては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、イソプロピルアルコール(IPA)、イソブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン(MIBK)等のケトン類;ジアセトンアルコール等のケトンアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;N−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、水等を使用することができる。これらは一種で溶剤としてもよいし、複数を混合して溶剤としてもよい。   Solvents include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, butanol, isopropyl alcohol (IPA), and isobutanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone (MIBK). Ketone alcohols such as diacetone alcohol; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol; ethyl cellsolve, butylcellsolve, ethylcarbitol and butyl Glycol ethers such as carbitol, diethyl cellosolve, diethyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether; N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, lactic acid Le, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, esters such as amyl acetate; dimethyl ether, and diethyl ether, it is possible to use water or the like. These may be used alone or as a solvent, or a plurality of these may be used as a solvent.

以上説明したように、本実施形態の上流側光照射装置3によれば、光源室3111内の気圧を照射室3112の気圧未満の気圧に低下した減圧状態にしているので、光源室3111内の空気が照射室3112内に入り込むことがなくなり、照射室3112の酸素濃度が高くなることを抑制できる。これにより、照射室3112に大量の不活性ガスを吐出しなくても光硬化型樹脂塗膜を効率的に硬化させることができるので、安価に光硬化型樹脂塗膜を硬化させることができる。また、照射室3112内の酸素濃度が変化すると、光硬化型樹脂塗膜の硬化の進行度合いが大きく変化してしまい、光硬化型樹脂塗膜の表面から所望の厚みの部分だけを硬化させることが困難になる。本実施形態の上流側光照射装置3によれば、照射室3112内の酸素濃度の変化を抑制できるので、光硬化型樹脂塗膜の表面から所望の厚みの部分を安定して硬化させることができる。また、本発明の積層フィルムの製造方法によれば、光硬化型樹脂層が積層された積層フィルムを安価に得ることができる。   As described above, according to the upstream side light irradiation device 3 of the present embodiment, the pressure in the light source chamber 3111 is reduced to a pressure lower than the pressure in the irradiation chamber 3112. Air does not enter the irradiation chamber 3112 and the oxygen concentration in the irradiation chamber 3112 can be suppressed from increasing. Accordingly, the photocurable resin coating film can be efficiently cured without discharging a large amount of inert gas into the irradiation chamber 3112, and thus the photocurable resin coating film can be cured at low cost. Further, when the oxygen concentration in the irradiation chamber 3112 changes, the degree of curing of the photocurable resin coating film changes greatly, and only a portion having a desired thickness is cured from the surface of the photocurable resin coating film. Becomes difficult. According to the upstream side light irradiation apparatus 3 of this embodiment, since the change of the oxygen concentration in the irradiation chamber 3112 can be suppressed, a portion having a desired thickness can be stably cured from the surface of the photocurable resin coating film. it can. Moreover, according to the manufacturing method of the laminated film of this invention, the laminated film on which the photocurable resin layer was laminated | stacked can be obtained at low cost.

本発明は上述の実施形態に限られることなく特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変形を行うことができる。例えば、上記実施形態では、樹脂フィルムFを搬送させながら、上流側光照射装置3で光硬化型樹脂塗膜を硬化させているが、樹脂フィルムFが停止した状態で、樹脂フィルムF上に形成された光硬化型樹脂塗膜に紫外線を照射してもよい。また、樹脂フィルムFが停止した状態で、上流側光照射装置3を移動させながら樹脂フィルムF上に形成された光硬化型樹脂塗膜に紫外線を照射してもよい。また、本実施形態では、上流側光照射装置3に、光源室3111と照射室3112とに仕切られたハウジング311を設け、光源室3111を減圧した例を示したが、下流側光照射装置5に同様の構成を適用してもよい。また、本実施形態の上流側光照射装置3の構成は、光照射装置が1つしか設けられていないハードコートフィルム製造装置の光照射装置にも適用できる。また、本実施形態では、樹脂フィルムよりも硬いハードコート層を樹脂フィルムに積層させるハードコートフィルム製造装置に光照射装置を用いた例で説明したが、本発明の光照射装置は、硬化した光硬化型樹脂層が積層されたフィルムを製造する製造装置であれば、反射防止フィルムを製造する製造装置など、他の製造装置にも適用できる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope described in the claims. For example, in the above-described embodiment, the photocurable resin coating film is cured by the upstream light irradiation device 3 while the resin film F is conveyed, but the resin film F is formed on the resin film F in a stopped state. The formed photocurable resin coating film may be irradiated with ultraviolet rays. Moreover, you may irradiate an ultraviolet-ray to the photocurable resin coating film formed on the resin film F, moving the upstream light irradiation apparatus 3 in the state which the resin film F stopped. In the present embodiment, the upstream light irradiation device 3 is provided with the housing 311 partitioned into the light source chamber 3111 and the irradiation chamber 3112, and the light source chamber 3111 is decompressed. However, the downstream light irradiation device 5 is illustrated. A similar configuration may be applied. Moreover, the structure of the upstream light irradiation apparatus 3 of this embodiment is applicable also to the light irradiation apparatus of the hard coat film manufacturing apparatus provided with only one light irradiation apparatus. In the present embodiment, the light irradiation apparatus is used in the hard coat film manufacturing apparatus in which the hard coat layer harder than the resin film is laminated on the resin film. However, the light irradiation apparatus of the present invention is a cured light. If it is a manufacturing apparatus which manufactures the film by which the curable resin layer was laminated | stacked, it can apply also to other manufacturing apparatuses, such as a manufacturing apparatus which manufactures an antireflection film.

なお、以上説明した変形例の記載それぞれにのみ含まれている構成要件であっても、その構成要件を他の変形例に適用してもよい。   In addition, even if it is a structural requirement contained only in description of the modification demonstrated above, you may apply the structural requirement to another modification.

3 上流側光照射装置
32 上流側紫外線ランプ
33 仕切板
34 第一吐出手段
36 排出手段
38 乱流手段
311 ハウジング
312 裏側壁
3111 光源室
3112 照射室
F 樹脂フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Upstream light irradiation apparatus 32 Upstream ultraviolet lamp 33 Partition plate 34 First discharge means 36 Discharge means 38 Turbulence means 311 Housing 312 Back side wall 3111 Light source room 3112 Irradiation room F Resin film

Claims (6)

樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射して該光硬化型樹脂塗膜を硬化させる光照射装置であって、
前記光硬化型樹脂塗膜に光を照射する光源が内部に配置され、該光硬化型樹脂塗膜の、該光源から光が照射される光照射範囲を覆うハウジングと、
前記ハウジング内に設けられた透光性のものであって、前記光源と前記光照射範囲との間を仕切る仕切板と、
前記ハウジング内における、前記仕切板よりも前記光照射範囲側に不活性ガスを吐出する吐出手段と、
前記ハウジング内における、前記仕切板よりも前記光源側の空気を、該ハウジング外に排出する排出手段とを備え、
前記ハウジングは、前記仕切板よりも前記光源側にこのハウジング外から空気が供給されるものであって、
前記排出手段は、前記ハウジングに供給される空気の量よりも多くの量の空気を排出し、前記ハウジング内における、前記仕切板よりも前記光源側の気圧を、該仕切板よりも前記光照射範囲側の気圧未満に低下させるものであり、
前記ハウジングは、前記樹脂フィルムの、前記光硬化型樹脂塗膜が形成された形成面側から前記光照射範囲を覆うものであり、
前記樹脂フィルムの、前記形成面とは反対側の裏面側から、該樹脂フィルムを介して前記光照射範囲に対向して配置された裏側部材を備え、
前記ハウジングが、前記裏側部材と一体に形成された箱状のものであることを特徴とする光照射装置。
A light irradiation device for irradiating light on a photocurable resin coating film formed on a resin film to cure the photocurable resin coating film,
A light source that irradiates light to the photocurable resin coating is disposed inside, and a housing that covers a light irradiation range of the photocurable resin coating that is irradiated with light from the light source,
A translucent one provided in the housing, the partition plate separating the light source and the light irradiation range;
A discharge means for discharging an inert gas to the light irradiation range side of the partition plate in the housing;
A discharge means for discharging the air closer to the light source than the partition plate in the housing to the outside of the housing;
The housing is one in which air is supplied from the outside of the housing to the light source side than the partition plate,
The discharge means discharges a larger amount of air than the amount of air supplied to the housing, and the pressure on the light source side relative to the partition plate in the housing is irradiated with the light from the partition plate. der which is reduced to less than the range side of the pressure is,
The housing covers the light irradiation range from the formation surface side of the resin film on which the photocurable resin coating film is formed.
From the back side of the resin film opposite to the forming surface, the back side member disposed to face the light irradiation range through the resin film,
The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the housing is a box-shaped unit formed integrally with the back side member .
前記光源は、搬送されてくる前記樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射するものであり、
前記ハウジングよりも前記樹脂フィルムの搬送方向上流側で該ハウジングに隣接して設けられ、該樹脂フィルムの搬送に伴って該樹脂フィルムの搬送方向に向かって流れる同伴風の流れを乱す乱流手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の光照射装置。
The light source irradiates light to a photocurable resin coating film formed on the resin film being conveyed,
Turbulence means provided adjacent to the housing on the upstream side in the transport direction of the resin film from the housing and disturbing the flow of the accompanying air flowing in the transport direction of the resin film as the resin film is transported The light irradiation apparatus according to claim 1, further comprising:
前記ハウジング内における、前記仕切板よりも前記光照射範囲側の酸素濃度および窒素濃度のうち少なくとも一方の濃度を検出する検出手段を設けたことを特徴とする請求項1または2記載の光照射装置。 3. The light irradiation apparatus according to claim 1, further comprising a detection unit configured to detect at least one of an oxygen concentration and a nitrogen concentration closer to the light irradiation range than the partition plate in the housing. . 前記吐出手段は、前記樹脂フィルムの幅方向に複数設けられ、該樹脂フィルムの幅方向に対して不活性ガスを略均一に供給するものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光照射装置。 The said discharge means is provided with two or more in the width direction of the said resin film, and supplies an inert gas substantially uniformly with respect to the width direction of this resin film, The any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. Item 2. The light irradiation device according to item 1. 請求項2に記載の光照射装置と、  The light irradiation device according to claim 2;
前記光照射装置よりも前記樹脂フィルムの搬送方向下流側に配置され、該樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に光を照射する光源を有する下流側光照射装置とを備えたことを特徴とするハードコートフィルム製造装置。  A downstream light irradiation device having a light source that is disposed on the downstream side in the transport direction of the resin film relative to the light irradiation device and that irradiates light to a photocurable resin coating film formed on the resin film. A hard coat film manufacturing apparatus.
前記樹脂フィルムの上に少なくとも光硬化型樹脂層が積層された積層フィルムの製造方法であって、
樹脂フィルムの上に形成された光硬化型樹脂塗膜に、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光照射装置を用いて光を照射し、該光硬化型樹脂塗膜を硬化させることを特徴とする積層フィルムの製造方法。
A method for producing a laminated film in which at least a photocurable resin layer is laminated on the resin film,
Light is irradiated to the photocurable resin coating film formed on the resin film using the light irradiation apparatus of any one of Claims 1-4 , and this photocurable resin coating film is hardened. The manufacturing method of the laminated | multilayer film characterized by the above-mentioned.
JP2012083386A 2012-03-31 2012-03-31 Light irradiation apparatus, hard coat film manufacturing apparatus, and laminated film manufacturing method Active JP5802164B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012083386A JP5802164B2 (en) 2012-03-31 2012-03-31 Light irradiation apparatus, hard coat film manufacturing apparatus, and laminated film manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012083386A JP5802164B2 (en) 2012-03-31 2012-03-31 Light irradiation apparatus, hard coat film manufacturing apparatus, and laminated film manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013212619A JP2013212619A (en) 2013-10-17
JP5802164B2 true JP5802164B2 (en) 2015-10-28

Family

ID=49586360

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012083386A Active JP5802164B2 (en) 2012-03-31 2012-03-31 Light irradiation apparatus, hard coat film manufacturing apparatus, and laminated film manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5802164B2 (en)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4059782B2 (en) * 2003-02-12 2008-03-12 富士フイルム株式会社 Method and apparatus for curing ultraviolet curable resin
CN1922696B (en) * 2004-03-09 2010-05-26 大日本印刷株式会社 Electron beam irradiation device
JP4710368B2 (en) * 2005-03-18 2011-06-29 富士フイルム株式会社 Coating film curing method and apparatus
JP2007144301A (en) * 2005-11-28 2007-06-14 Konica Minolta Opto Inc Curing method of ultraviolet curing resin layer and ultraviolet ray irradiation apparatus
JP5510785B2 (en) * 2009-09-25 2014-06-04 大日本印刷株式会社 Coating apparatus and coating method
JP5349353B2 (en) * 2010-01-28 2013-11-20 富士フイルム株式会社 Method for forming polymer film and method for producing laminated film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013212619A (en) 2013-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7824740B2 (en) Anti-reflection film, production of anti-reflection film, and multi-layer film producing apparatus
JP6111060B2 (en) Initial drying apparatus and initial drying method
CN102574151B (en) Process for gradient nanovoided article
US10479931B2 (en) Polymer molding composition, wavelength converter, backlight unit, and liquid crystal display device
US8425984B2 (en) Multilayer film and manufacturing method thereof
JP6702317B2 (en) METHOD OF MANUFACTURING CONCRETE PATTERN FORMED BODY, MANUFACTURING DEVICE THEREOF, AND SEAL
JP2008137002A (en) Method for drying coating film and apparatus therefor, and optical film using the same
KR20070105901A (en) Anti-reflection film producing method and apparatus
WO2016076069A1 (en) Functional multilayer film
JP6185088B2 (en) Method for producing laminated film
US20180314102A1 (en) Lighting device
JP5802164B2 (en) Light irradiation apparatus, hard coat film manufacturing apparatus, and laminated film manufacturing method
JP6542007B2 (en) Anisotropic optical film and method for producing the same
JP5712511B2 (en) Optical sheet, optical sheet roll, optical sheet manufacturing method, and video display device
JP5135845B2 (en) LAMINATE MANUFACTURING METHOD AND OPTICAL FILM MANUFACTURING METHOD
JP6774012B2 (en) Light irradiation device and photocuring device equipped with this
JP6774013B2 (en) Light irradiation device and photocuring device equipped with this
JP2008116182A (en) Drying method for coated film, and optical film
JP6208964B2 (en) Method for producing laminated film
JP2013186455A (en) Manufacturing method for hard coat film
WO2016051760A1 (en) Wavelength conversion member, backlight unit provided with same, and liquid crystal display device
JP5267375B2 (en) Optical film
JP2006285221A (en) Antireflective film, method of manufacturing antireflective film, polarizing plate, and image display device using same
JP6186850B2 (en) Optical functional film manufacturing method and optical functional film coating apparatus
KR101839605B1 (en) Method for preparing coating film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20141105

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150529

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150602

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150729

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150818

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150828

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5802164

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250