JP5795172B2 - 半導体製造装置 - Google Patents
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Description
板の側面の半分以上を囲む、ことを特徴とする。
図1(a)は第一実施形態に係るプラズマを発生させた状態のプラズマ処理装置100の概略構成を示す図である。プラズマ処理装置100は、チャンバ101と、その内部の底面に配された、被処理基板104が載置されるトレイ103の支持台102と、上部電極106および下部電極をなす支持台102で構成されるプラズマ雰囲気Pを発生させる手段と、チャンバ101の外側に配され、プラズマ雰囲気Pの分布を制御する磁場発生手段Mと、を備える。
図3(a)、(b)は、それぞれ図1(b)に示す基板を支持するトレイのB−B線、C−C線において切断した断面に相当する図であり、第一実施形態の変形例1を示す図である。図3(a)、(b)に示すように、変形例1における保持部115は、トレイの他方の主面113Tに、基板の側面114Sとの間隔が、トレイの他方の主面113Tから遠ざかるにしたがって広くなる形状を有している。保持部115以外の構成については、第一実施形態と同様の構成となっている。
図4(a)、(b)は、それぞれ図1(b)に示す基板を支持するトレイのB−B線、C−C線において切断した断面に相当する図であり、第一実施形態の変形例2を示す図である。図4(a)、(b)に示すように、変形例2における保持部125は、第一部位125aと、第一部位125a上に設けられた第二部位125bとで構成される。第一部位125aは、トレイの他方の主面123Tに、基板の側面124Sに接して囲むように設けられる。第二部位125bは、第一部位125a上に、基板の側面124Sを厚さ方向に拡張させた仮想の曲面に接して囲むように、かつ、この曲面との間隔が、トレイの他方の主面123Tから遠ざかるにしたがって広くなるように設けられる。保持部125以外の構成については、第一実施形態と同様の構成となっている。
図5は、複数の基板134が載置されたトレイ133の上面側から見た図であり、第一実施形態の変形例3に相当する図である。図6(a)、(b)は、それぞれ図5のD−D線、E−E線において切断した断面を示す図である。図5および6に示すように、変形例3における保持部135は、基板の側面134Sに沿うように設けられた壁の形状をなし、トレイの他方の主面133Tのうち、基板の非処理面134Bが接していない領域R3の一部の領域R4において、保持部135が設けられていない点が第一実施形態と異なる。保持部135以外の構成については、第一実施形態と同様の構成となっている。
図7は、複数の基板144が載置されたトレイ143の上面側から見た図であり、第一実施形態の変形例4に相当する図である。図7に示すように、変形例4における保持部145は、基板の側面144Sに沿うように分布して設けられた複数のピンからなる形状であり、トレイの他方の主面143Tのうち基板の非処理面144Bが接していない領域R3の一部の領域において保持部145が設けられていない点が、第一実施形態と異なる。保持部145以外の構成については、第一実施形態と同様の構成となっている。
図8(a)、(b)は、それぞれ図1(b)に示す基板を支持するトレイのB−B線、C−C線において切断した断面に相当する図であり、第一実施形態の変形例5を示す図である。図8(c)は、図8(b)に示す基板の側面154S近傍の領域Fを拡大し、変形例5に係る基板の保持部155の形状を説明する図である。保持部155以外の構成については、第一実施形態と同様の構成となっている。
図9は、複数の基板164が載置されたトレイの上面側から見た図であり、第一実施形態の変形例6に相当する図である。基板164の重心がトレイとの接触領域R1に含まれる限りにおいて、図9に示すように、トレイに載置される各基板同士の間隔を空けた構成とすることができる。各基板の側面同士の間隔が空いている点以外の構成については、第一実施形態と同様の構成となっている。
102S・・・一面、103、113、123・・・トレイ、
103S、113S、123S、103T、113T、123T・・・主面、
104、114、124・・・基板、104B、114B、124B・・・非処理面、
104S、114S、124S・・・側面、105、115、125・・・保持部、
106・・・上部電極、H、H1、H2・・・高さP・・・プラズマ雰囲気、R2、R3・・・領域。
Claims (9)
- プロセス処理を行うチャンバと、
前記チャンバ内に配され、平坦な一面を有する支持台と、
一方の主面が、前記支持台の前記一面に接して重なるように載置される、一枚の平板状のトレイと、を有し、
前記トレイの他方の主面に複数のウェハ状の基板が載置され、各々の前記基板の一部が前記トレイの他方の主面からはみ出すことにより、前記基板は前記トレイとの接触領域および非接触領域を有し、かつ、少なくとも前記基板の重心は前記接触領域に含まれるように、前記トレイの形状が規定され、
前記トレイの他方の主面のうち、前記基板の非処理面が接していない領域に、前記基板の側面に接して囲むように前記基板の保持部が設けられている、ことを特徴とする半導体製造装置。 - 前記トレイの面積を、前記複数のウェハ状の基板の合計面積よりも小さくするとともに、前記保持部は、前記基板の側面の半分以上を囲む、ことを特徴とする請求項1に記載の半導体製造装置。
- 前記保持部と前記基板の間隔が、前記トレイの他方の主面から遠ざかるにしたがって広くなる形状である、ことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体製造装置。
- 前記保持部の高さは、前記基板の厚さに等しい、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体製造装置。
- 前記保持部は、前記基板の側面に接して囲むように設けられた第一部位と、
前記基板の側面を厚み方向に拡張させた曲面に接して囲むように、前記第一部位上に設けられ、前記曲面との間隔が、前記トレイの他方の主面から遠ざかるにしたがって広くなる第二部位とで構成される、ことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体製造装置。 - 前記保持部は壁形状である、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の半導体製造装置。
- 前記保持部はピン形状である、ことを特徴とする請求項1、2または4のいずれかに記載の半導体製造装置。
- 前記トレイの他方の主面のうち、前記基板の非処理面が接している領域は平坦な形状であり、前記基板の非処理面が接していない領域は粗面形状であり、後者は前記保持部として機能する、ことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の半導体製造装置。
- 前記保持部は前記トレイと一体である、ことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の半導体製造装置。
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