JP5755123B2

JP5755123B2 - Stage and stage manufacturing method

Info

Publication number: JP5755123B2
Application number: JP2011261950A
Authority: JP
Inventors: 幸治明石
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 2011-11-30
Filing date: 2011-11-30
Publication date: 2015-07-29
Anticipated expiration: 2031-11-30
Also published as: JP2013115324A

Description

本発明は、例えば半導体製造装置または液晶製造装置においてウェハまたはガラス基板の搬送に用いられるステージおよびステージの製造方法に関する。 The present invention relates to a stage used for transporting a wafer or a glass substrate in a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal manufacturing apparatus, for example, and a stage manufacturing method.

近年、半導体製造装置または液晶製造装置においては、ウェハまたはガラス基板などの基板を搬送し、所定位置に位置決めするステージが用いられている。 In recent years, in a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal manufacturing apparatus, a stage that transports a substrate such as a wafer or a glass substrate and positions the substrate at a predetermined position is used.

このステージとしては、例えば、特許文献１に、テーブルベースと、このテーブルベース上に位置するＸ軸駆動テーブルと、このＸ軸駆動テーブル上に位置するＹ軸駆動テーブルとを備えた構成が記載されている。さらに、特許文献１のステージにおいては、Ｘ軸駆動テーブルとテーブルベースの間に、Ｘ軸方向に平行に延びる一対のＸ軸レールとこのＸ軸レールに取り付けられてスライドするＸ軸ガイドとが設けられており、Ｘ軸駆動テーブルとＹ軸テーブルとの間に、Ｙ軸方向に平行に延びる一対のＹ軸レールとこのＹ軸レールに取り付けられてスライドするＹ軸ガイドとが設けられている。 As this stage, for example, Patent Document 1 describes a configuration including a table base, an X-axis drive table located on the table base, and a Y-axis drive table located on the X-axis drive table. ing. Furthermore, in the stage of Patent Document 1, a pair of X-axis rails extending parallel to the X-axis direction and an X-axis guide that is attached to and slides on the X-axis rails are provided between the X-axis drive table and the table base. A pair of Y-axis rails extending in parallel to the Y-axis direction and a Y-axis guide that is attached to and slides on the Y-axis rails are provided between the X-axis drive table and the Y-axis table.

この特許文献１のステージにおいて、例えば、セラミック製のＸ軸テーブルと金属製のＹ軸レールとを用いると、Ｙ軸レールの熱膨張率がＸ軸テーブルの熱膨張率よりも大きくなることがある。この場合、ステージと同時に使用されるポンプやレーザー干渉計などの装置によってステージの周囲の温度が上がると、上述した熱膨張率の違いによって、Ｘ軸テーブルがＹ軸レールに対して凸状に反ることがある。このようにＸ軸テーブルの平坦性が低下すると、ステージ上に載置される基板に傾きが生じ、基板の加工または検査の精度が低下しやすくなる。 In the stage of Patent Document 1, for example, when a ceramic X-axis table and a metal Y-axis rail are used, the thermal expansion coefficient of the Y-axis rail may be larger than the thermal expansion coefficient of the X-axis table. . In this case, if the ambient temperature of the stage is increased by an apparatus such as a pump or a laser interferometer that is used at the same time as the stage, the X-axis table is convexly deformed with respect to the Y-axis rail due to the difference in thermal expansion coefficient. Sometimes. When the flatness of the X-axis table is thus lowered, the substrate placed on the stage is inclined, and the accuracy of processing or inspection of the substrate is likely to be lowered.

それ故、載置される基板の加工または検査を高精度に行なうことが可能なステージが求められている。 Therefore, there is a need for a stage that can process or inspect a substrate to be placed with high accuracy.

特開２００４−３４９４９４号公報JP 2004-349494 A

本発明は、載置される基板の加工または検査を高精度に行なう要求に応えるステージを提供するものである。 The present invention provides a stage that meets the demand for processing or inspecting a substrate to be placed with high accuracy.

本発明の一形態に係るステージは、ステージベースと、該ステージベース上に設けられ、第１方向に沿って直線状であるとともに該第１方向に交差する第２方向に沿って配列された複数の第１リニアガイドと、該複数の第１リニアガイド上に設けられた第１テーブルと、該第１テーブル上に設けられ、前記第２方向に沿って直線状であるとともに前記第１方向に沿って配列された複数の第２リニアガイドと、該複数の第２リニアガイド上に設けられた第２テーブルとを備える。 A stage according to an aspect of the present invention includes a stage base and a plurality of stages that are provided on the stage base and that are linear along the first direction and arranged along the second direction that intersects the first direction. The first linear guide, the first table provided on the plurality of first linear guides, and provided on the first table, and is linear along the second direction and in the first direction. A plurality of second linear guides arranged along the second linear guide; and a second table provided on the plurality of second linear guides.

前記複数の第１リニアガイドは、両端に位置する１組の外側第１リニアガイドと、該１組の外側第１リニアガイドの間に位置する内側第１リニアガイドとを有する。前記外側第１リニアガイドは、前記ステージベースに接続された、前記第１方向に沿って直線状であ
る外側第１レールと、該外側第１レールに取り付けられ、該外側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能であるとともに、前記第１テーブルに接続された外側第１スライダとを有する。前記内側第１リニアガイドは、前記ステージベースに接続された、前記第１方向に沿って直線状である内側第１レールと、該内側第１レールに取り付けられ、該内側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能であるとともに、前記第１テーブルに接続された内側第１スライダとを有する。 The plurality of first linear guides include a pair of outer first linear guides positioned at both ends, and an inner first linear guide positioned between the pair of outer first linear guides. The outer first linear guide is connected to the stage base, and is attached to the outer first rail. The outer first rail is linear along the first direction, and is mounted on the outer first rail. An outer first slider that is movable along the first direction and connected to the first table; The inner first linear guide is connected to the stage base, and is attached to the inner first rail, and is attached to the inner first rail. An inner first slider is movable along the first direction and connected to the first table.

前記複数の第２リニアガイドのそれぞれは、前記第１テーブルに接続された、前記第２方向に沿って直線状である第２レールと、該第２レールに取り付けられ、該第２レール上を前記第２方向に沿って移動可能であるとともに、前記第２テーブルに接続された第２スライダとを有する。 Each of the plurality of second linear guides is connected to the first table and has a second rail that is linear along the second direction, and is attached to the second rail. The second slider is movable along the second direction and connected to the second table.

前記第２レールの熱膨張率は、前記第１テーブルの熱膨張率よりも大きい。前記内側第１スライダにおける前記第１レール側から前記第１テーブル側への高さは、前記外側第１スライダにおける前記第１レール側から前記第１テーブル側への高さよりも小さい。 The thermal expansion coefficient of the second rail is larger than the thermal expansion coefficient of the first table. The height of the inner first slider from the first rail side to the first table side is smaller than the height of the outer first slider from the first rail side to the first table side.

本発明の一形態に係るステージによれば、内側第１スライダの高さを外側第１スライダの高さよりも小さくすることによって、ステージを使用する際に第１テーブルの反りを低減できる。したがって、ステージに載置される基板の傾きを低減することができるため、この基板の加工または検査を高精度に行なうことができる。 According to the stage according to an aspect of the present invention, the warpage of the first table can be reduced when the stage is used by making the height of the inner first slider smaller than the height of the outer first slider. Therefore, since the inclination of the substrate placed on the stage can be reduced, the substrate can be processed or inspected with high accuracy.

図１（ａ）は、本発明の一実施形態に係るステージの平面視であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示したステージの側面視である。FIG. 1A is a plan view of a stage according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a side view of the stage shown in FIG. 図２（ａ）は、図１（ｂ）における外側第１リニアガイドの部分拡大図であり、図２（ｂ）は、図１（ｂ）における内側第１リニアガイドの部分拡大図である。2A is a partially enlarged view of the outer first linear guide in FIG. 1B, and FIG. 2B is a partially enlarged view of the inner first linear guide in FIG. 1B. 図３（ａ）は、実験例２の平面視であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）に示したステージの側面視である。FIG. 3A is a plan view of Experimental Example 2, and FIG. 3B is a side view of the stage shown in FIG. 図４（ａ）は、実験例１のステージにおいて、真空チャンバ内を２２℃から２６℃に変化させたときの真直度を測定したグラフであり、図４（ｂ）は、実験例２のステージにおいて、真空チャンバ内を２２℃から２６℃に変化させたときの真直度を測定したグラフである。4A is a graph showing the straightness measured when the inside of the vacuum chamber is changed from 22 ° C. to 26 ° C. in the stage of Experimental Example 1, and FIG. 4B is the stage of Experimental Example 2. Is a graph obtained by measuring straightness when the inside of the vacuum chamber is changed from 22 ° C. to 26 ° C. FIG. 図５（ａ）は、実験例２において、真空チャンバ内の温度を上昇させたときのステージの平面視であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）に示したステージの側面視である。5A is a plan view of the stage when the temperature in the vacuum chamber is increased in Experimental Example 2, and FIG. 5B is a side view of the stage shown in FIG. 5A. is there.

以下に、本発明の一実施形態に係るステージを用いた位置決め装置を、図１および図２に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, a positioning apparatus using a stage according to an embodiment of the present invention will be described in detail based on FIG. 1 and FIG.

図１に示した位置決め装置１は、半導体製造装置または液晶製造装置において、加工または検査の対象であるウェハまたはガラス基板などの基板を所定の場所に位置決めするものである。以下、半導体製造装置においてウェハを位置決めする場合を例に説明する。 A positioning apparatus 1 shown in FIG. 1 is for positioning a substrate such as a wafer or a glass substrate to be processed or inspected at a predetermined place in a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal manufacturing apparatus. Hereinafter, a case where a wafer is positioned in a semiconductor manufacturing apparatus will be described as an example.

この位置決め装置１は、中空状の容器である真空チャンバ２と、この真空チャンバ２内でチャンバベース３に支持されたステージ４とを含んでいる。ウェハ（図示せず）は、真空チャンバ２内に収納されるとともに、ステージ４上に載置される。 The positioning device 1 includes a vacuum chamber 2 which is a hollow container, and a stage 4 supported by a chamber base 3 in the vacuum chamber 2. A wafer (not shown) is housed in the vacuum chamber 2 and placed on the stage 4.

真空チャンバ２は、ウェハおよびステージ３の周囲を真空状態として、空気に起因した
光や電子ビームの干渉を低減するものである。この真空チャンバ２の内部は、気圧が例えば１０^−５Ｐａ以上１００Ｐａ以下といった真空状態に保たれている。また、このように真空チャンバ２の内部を真空状態に保つため、真空チャンバ２にはポンプなどの排気手段が設置される。 The vacuum chamber 2 is configured to reduce the interference of light and electron beams caused by air by setting the periphery of the wafer and the stage 3 to a vacuum state. The inside of the vacuum chamber 2 is kept in a vacuum state such that the atmospheric pressure is, for example, 10 ⁻⁵ Pa or more and 100 Pa or less. Further, in order to keep the inside of the vacuum chamber 2 in a vacuum state in this way, the vacuum chamber 2 is provided with exhaust means such as a pump.

ステージ４は、ウェハの位置決めを行なうものである。このステージ４は、第１方向（Ｘ方向）および第２方向（Ｙ方向）に平行な主面（ＸＹ平面）を有する平板状のステージベース５と、このステージベース５上に設けられ、第１方向に沿って直線状である複数の第１リニアガイド６と、この複数の第１リニアガイド６上に設けられ、第１方向および第２方向に平行な主面を有する平板状の第１テーブル７と、この第１テーブル７に接続した第１駆動部（図示せず）と、第１テーブル７上に設けられ、第２方向に沿って直線状である複数の第２リニアガイド８と、この複数の第２リニアガイド８上に設けられ、第１方向および第２方向に平行な主面を有する平板状の第２テーブル９と、この第２テーブル９に接続した第２駆動部（図示せず）とを含んでいる。なお、本実施形態において、第１方向と第２方向とは、直交している。 The stage 4 is for positioning the wafer. The stage 4 is provided on the stage base 5 having a flat plate-like stage base 5 having a main surface (XY plane) parallel to the first direction (X direction) and the second direction (Y direction). A plurality of first linear guides 6 that are linear along the direction, and a flat plate-like first table that is provided on the plurality of first linear guides 6 and has a main surface parallel to the first direction and the second direction. 7, a first drive unit (not shown) connected to the first table 7, a plurality of second linear guides 8 provided on the first table 7 and linear in the second direction, A flat plate-like second table 9 provided on the plurality of second linear guides 8 and having a main surface parallel to the first direction and the second direction, and a second drive unit connected to the second table 9 (see FIG. Not shown). In the present embodiment, the first direction and the second direction are orthogonal to each other.

ステージベース５は、ステージ４を構成する他の部材を支持するものである。このステージベース５は、アルミナ、コージエライト、窒化ケイ素または炭化ケイ素などのセラミック材料によって形成することができる。なかでも、セラミック材料としてアルミナを用いることが望ましい。その結果、ステージベース５を高剛性且つ低熱膨張として、ステージ４の位置決め精度を高めることができる。 The stage base 5 supports other members constituting the stage 4. The stage base 5 can be formed of a ceramic material such as alumina, cordierite, silicon nitride, or silicon carbide. Among these, it is desirable to use alumina as the ceramic material. As a result, the stage base 5 can be made to have high rigidity and low thermal expansion, and the positioning accuracy of the stage 4 can be increased.

ステージベース５の高さ（Ｚ方向）は、例えば５０ｍｍ以上１００ｍｍ以下に設定されている。また、ステージベース５の熱膨張率は、例えば０．１ｐｐｍ／℃以上８ｐｐｍ／℃以下に設定されている。なお、ステージベース５の熱膨張率は、市販のＴＭＡ（Thermo-Mechanical Analysis）装置を用いて、ＪＩＳＫ７１９７−１９９１に準じた測定方法によって測定される。以下、各部材の熱膨張率は、ステージベース５と同様の方法で測定される。 The height (Z direction) of the stage base 5 is set to, for example, 50 mm or more and 100 mm or less. Further, the thermal expansion coefficient of the stage base 5 is set to, for example, 0.1 ppm / ° C. or more and 8 ppm / ° C. or less. The thermal expansion coefficient of the stage base 5 is measured by a measurement method according to JISK7197-1991 using a commercially available TMA (Thermo-Mechanical Analysis) apparatus. Hereinafter, the coefficient of thermal expansion of each member is measured by the same method as that for the stage base 5.

また、ステージベース５は、第１リニアガイド６側の一主面に、複数の第１リニアガイド６のそれぞれを支持する複数の凸部１０を有している。この凸部１０は、第１リニアガイド６を固定するものであり、それぞれの凸部１０は、第１方向に沿って直線状であるとともに、第２方向に沿って配列している。この凸部１０の高さ（ステージベース５側から第１リニアガイド６側への高さ（Ｚ方向））は、例えば１ｍｍ以上２０ｍｍ以下に設定されている。なお、凸部１０は、ステージベース５に形成されていなくても構わない。 Further, the stage base 5 has a plurality of convex portions 10 for supporting each of the plurality of first linear guides 6 on one main surface of the first linear guide 6 side. This convex part 10 fixes the 1st linear guide 6, and each convex part 10 is linear along the 1st direction, and is arranged along the 2nd direction. The height of the projection 10 (height from the stage base 5 side to the first linear guide 6 side (Z direction)) is set to, for example, 1 mm or more and 20 mm or less. The convex portion 10 may not be formed on the stage base 5.

ここで、便宜上、複数の凸部１０のうち、両端に位置する１組の凸部１０を外側凸部１０ａとし、外側凸部１０ａの間に位置する凸部１０を内側凸部１０ｂとする。 Here, for convenience, a set of convex portions 10 located at both ends of the plurality of convex portions 10 is referred to as an outer convex portion 10a, and a convex portion 10 positioned between the outer convex portions 10a is referred to as an inner convex portion 10b.

また、図１において、ステージベース５は、第１リニアガイド６側に配された平板状の上側ステージベース５ａと、第１リニアガイド６と反対側に配された平板状の下側ステージベース５ｂとからなるが、ステージベース５は、１つの部材のみから構成されても構わない。 In FIG. 1, the stage base 5 includes a flat upper stage base 5 a disposed on the first linear guide 6 side and a flat lower stage base 5 b disposed on the opposite side of the first linear guide 6. However, the stage base 5 may be composed of only one member.

複数の第１リニアガイド６は、転がり方式の直線運動によって、第１テーブル７の移動する方向を第１方向に規定するものである。それぞれの第１リニアガイド６は、図２に示すように、ステージベース５の凸部１０に接続し、第１方向に沿って直線状である第１レール１１と、この第１レール１１に取り付けられ、第１レール１１上を第１方向に沿って移動可能であるとともに、第１テーブル７に接続した第１スライダ１２と、第１レール１１と第１スライダ１２との間に介された球状の第１ボール１３とを含んでいる。 The plurality of first linear guides 6 define the moving direction of the first table 7 as the first direction by rolling linear movement. As shown in FIG. 2, each first linear guide 6 is connected to the convex portion 10 of the stage base 5, and is attached to the first rail 11 and the first rail 11 that is linear along the first direction. The first slider 11 is movable in the first direction along the first rail 11, and the first slider 12 connected to the first table 7, and the spherical shape interposed between the first rail 11 and the first slider 12. The first ball 13 is included.

ここで、便宜上、図２に示すように、複数の第１リニアガイド６のうち、両端に位置する１組の第１リニアガイド６を外側第１リニアガイド６ａとし、外側第１リニアガイド６ａの間に位置する第１リニアガイド６を内側第１リニアガイド６ｂとする。 Here, for convenience, as shown in FIG. 2, among the plurality of first linear guides 6, one set of first linear guides 6 positioned at both ends is referred to as an outer first linear guide 6 a, and the outer first linear guide 6 a The first linear guide 6 positioned between them is referred to as an inner first linear guide 6b.

第１レール１１は、第１スライダ１２を所定の方向（第１方向）に移動させるためのレールとして機能するものである。この第１レール１１は、例えばステンレスまたはベリリウム銅などの金属材料によって形成することができる。なかでも、金属材料としてステンレスを用いることが望ましい。その結果、第１レール１１を長寿命化することができる。 The first rail 11 functions as a rail for moving the first slider 12 in a predetermined direction (first direction). The first rail 11 can be formed of a metal material such as stainless steel or beryllium copper. Especially, it is desirable to use stainless steel as a metal material. As a result, the life of the first rail 11 can be extended.

第１レール１１の高さ（Ｚ方向）は、例えば５ｍｍ以上２０ｍｍ以下に設定されている。また、第１レール１１の熱膨張率は、例えば１５ｐｐｍ／℃以上５０ｐｐｍ／℃以下に設定されている。 The height (Z direction) of the first rail 11 is set to, for example, 5 mm or more and 20 mm or less. Moreover, the thermal expansion coefficient of the 1st rail 11 is set to 15 ppm / degrees C or more and 50 ppm / degrees C or less, for example.

また、第１レール１１の側面には、第１方向に渡って第１レール溝１４が形成されている。この第１レール溝１４の内側には、第１ボール１３の一部が配置される。 A first rail groove 14 is formed on the side surface of the first rail 11 in the first direction. A part of the first ball 13 is disposed inside the first rail groove 14.

なお、便宜上、外側第１リニアガイド６ａの第１レール１１を外側第１レール１１ａとし、内側第１リニアガイド６ｂの第１レール１１を内側第１レール１１ｂとする。 For convenience, the first rail 11 of the outer first linear guide 6a is referred to as an outer first rail 11a, and the first rail 11 of the inner first linear guide 6b is referred to as an inner first rail 11b.

第１スライダ１２は、第１レール１１上を第１方向に沿って移動することによって、第１テーブル７を第１方向に沿って移動させるものである。この第１スライダ１２は、例えばステンレスまたはベリリウム銅などの金属材料によって形成することができる。なかでも、金属材料としてステンレスを用いることが望ましく、その結果、第１スライダ１２を長寿命化することができる。また、第１スライダ１２は、第１レール１１と同一材料からなることが望ましい。その結果、第１スライダ１２と第１レール１１との熱膨張率の差を低減し、第１スライダ１２と第１レール１１との間における熱応力を低減できる。 The first slider 12 moves the first table 7 along the first direction by moving along the first direction on the first rail 11. The first slider 12 can be formed of a metal material such as stainless steel or beryllium copper. Among these, it is desirable to use stainless steel as the metal material, and as a result, the life of the first slider 12 can be extended. The first slider 12 is preferably made of the same material as the first rail 11. As a result, the difference in thermal expansion coefficient between the first slider 12 and the first rail 11 can be reduced, and the thermal stress between the first slider 12 and the first rail 11 can be reduced.

第１スライダ１２の高さ（第１レール１１側から第１テーブル７側への高さ（Ｚ方向））は、例えば５ｍｍ以上３０ｍｍ以下に設定されている。この第１スライダ１２の高さは、第１レール１１の上面と対向する第１スライダ１２の下面から、第１テーブル７の下面と対向する第１スライダ１２の上面までの高さである。また、第１スライダ１２の熱膨張率は、例えば１５ｐｐｍ／℃以上５０ｐｐｍ／℃以下に設定されている。 The height of the first slider 12 (height from the first rail 11 side to the first table 7 side (Z direction)) is set to, for example, 5 mm or more and 30 mm or less. The height of the first slider 12 is a height from the lower surface of the first slider 12 facing the upper surface of the first rail 11 to the upper surface of the first slider 12 facing the lower surface of the first table 7. Further, the coefficient of thermal expansion of the first slider 12 is set to, for example, 15 ppm / ° C. or more and 50 ppm / ° C. or less.

また、第１スライダ１２には、第１方向に渡って凹部１５が形成されており、この凹部１５の内側には、第１レール１１が嵌め合わさられる。この凹部１５の深さ（Ｚ方向）は、例えば５ｍｍ以上２０ｍｍ以下に設定されている。 The first slider 12 has a recess 15 extending in the first direction, and the first rail 11 is fitted inside the recess 15. The depth (Z direction) of the recess 15 is set to, for example, 5 mm or more and 20 mm or less.

また、凹部１５の内側の側面には、第１方向に渡って第１スライダ溝１６が形成されている。この第１スライダ溝１６の内側には、第１ボール１３の一部が配置される。 A first slider groove 16 is formed on the inner side surface of the recess 15 in the first direction. A part of the first ball 13 is disposed inside the first slider groove 16.

ここで、便宜上、外側第１リニアガイド６ａの第１スライダ１２を外側第１スライダ１２ａとし、内側第１リニアガイド６ｂの第１スライダ１２を内側第１スライダ１２ｂとする。 Here, for convenience, the first slider 12 of the outer first linear guide 6a is referred to as an outer first slider 12a, and the first slider 12 of the inner first linear guide 6b is referred to as an inner first slider 12b.

第１ボール１３は、第１スライダ１２が移動する際に回転することによって、第１レール１１と第１スライダ１２との間における摩擦を低減し、第１スライダ１２の移動を高精度化、高速化および省力化するものである。この第１ボール１３は、例えば窒化ケイ素またはジルコニアなどのセラミック材料によって形成することができる。なかでも、セラミック材料として窒化ケイ素を用いることが望ましい。その結果、第１レール１１および第
１スライダ１２と異なる材料で第１ボール１３を形成することによって、第１ボール１３の摩耗を低減できる。 The first ball 13 rotates when the first slider 12 moves, thereby reducing the friction between the first rail 11 and the first slider 12, and the movement of the first slider 12 is made highly accurate and high speed. And saving labor. The first balls 13 can be formed of a ceramic material such as silicon nitride or zirconia. Among these, it is desirable to use silicon nitride as the ceramic material. As a result, the wear of the first ball 13 can be reduced by forming the first ball 13 with a material different from that of the first rail 11 and the first slider 12.

第１ボール１３の直径は、例えば１ｍｍ以上６ｍｍ以下に設定されている。また、第１ボール１３の熱膨張率は、例えば７ｐｐｍ／℃以上１２ｐｐｍ／℃以下に設定されている。 The diameter of the 1st ball | bowl 13 is set to 1 mm or more and 6 mm or less, for example. Further, the coefficient of thermal expansion of the first ball 13 is set to, for example, 7 ppm / ° C. or more and 12 ppm / ° C. or less.

ここで、便宜上、外側第１リニアガイド６ａの第１ボール１３を外側第１ボール１３ａとし、内側第１リニアガイド６ｂの第１ボール１３を内側第１ボール１３ｂとする。 Here, for convenience, the first ball 13 of the outer first linear guide 6a is referred to as an outer first ball 13a, and the first ball 13 of the inner first linear guide 6b is referred to as an inner first ball 13b.

第１テーブル７は、ウェハを第１方向にて位置決めするとともに、第２リニアガイド８および第２テーブル７を支持するものである。この第１テーブル７は、アルミナ、コージエライト、窒化ケイ素または炭化ケイ素などのセラミック材料によって形成することができる。なかでも、セラミック材料としては、アルミナを用いることが望ましい。その結果、第１テーブル７を高剛性且つ低熱膨張として、ステージ４の位置決め精度を高めることができる。また、第１テーブル７は、ステージベース５と同一材料からなることが望ましい。その結果、第１テーブル７とステージベース５との熱膨張率の差を低減し、第１テーブル７とステージベース５との間における熱応力を低減できる。 The first table 7 positions the wafer in the first direction and supports the second linear guide 8 and the second table 7. The first table 7 can be formed of a ceramic material such as alumina, cordierite, silicon nitride, or silicon carbide. Among these, it is desirable to use alumina as the ceramic material. As a result, the first table 7 has high rigidity and low thermal expansion, and the positioning accuracy of the stage 4 can be increased. The first table 7 is preferably made of the same material as the stage base 5. As a result, the difference in thermal expansion coefficient between the first table 7 and the stage base 5 can be reduced, and the thermal stress between the first table 7 and the stage base 5 can be reduced.

第１テーブル７の高さ（Ｚ方向）は、例えば２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下に設定されている。また、第１テーブル７の熱膨張率は、例えば０．１ｐｐｍ／℃以上８ｐｐｍ／℃以下に設定されている。 The height (Z direction) of the first table 7 is set to 20 mm or more and 50 mm or less, for example. Moreover, the thermal expansion coefficient of the 1st table 7 is set to 0.1 ppm / degrees C or more and 8 ppm / degrees C or less, for example.

第１駆動部は、第１テーブル７を移動させる動力を発生するものである。この第１駆動部としては、例えばボールねじ、リニアモータまたは超音波モータなどを用いることができる。また、第１駆動部は、例えばステージベース５と第１テーブル７との間であって、第１リニアガイド６以外の領域に位置する。 The first drive unit generates power for moving the first table 7. As this 1st drive part, a ball screw, a linear motor, or an ultrasonic motor etc. can be used, for example. The first drive unit is located, for example, between the stage base 5 and the first table 7 and in an area other than the first linear guide 6.

複数の第２リニアガイド８は、転がり方式の直線運動によって、第２テーブル９の移動する方向を第２方向に規定するものである。それぞれの第２リニアガイド８は、第１テーブル７に接続し、第２方向に沿って直線状である第２レール１８と、この第２レール１８に取り付けられ、第２レール１８上を第２方向に沿って移動可能であるとともに、第２テーブル９に接続した第２スライダ１９と、第２レール１８と第２スライダ１９との間に介された球状の第２ボール（図示せず）とを含んでいる。 The plurality of second linear guides 8 defines the moving direction of the second table 9 in the second direction by rolling linear movement. Each of the second linear guides 8 is connected to the first table 7 and is attached to the second rail 18 that is linear along the second direction. A second slider 19 connected to the second table 9, and a spherical second ball (not shown) interposed between the second rail 18 and the second slider 19. Is included.

第２レール１８は、第２スライダ１９を所定の方向（第２方向）に移動させるためのレールとして機能するものである。この第２レール１８は、第１レール１１と同様の構成を有する。 The second rail 18 functions as a rail for moving the second slider 19 in a predetermined direction (second direction). The second rail 18 has the same configuration as the first rail 11.

第２スライダ１９は、第２レール１８上を第２方向に沿って移動することによって、第２テーブル９を第２方向に沿って移動させるものである。この第２スライダ１９は、第１スライダ１２と同様の構成を有する。 The second slider 19 moves the second table 9 along the second direction by moving along the second direction on the second rail 18. The second slider 19 has a configuration similar to that of the first slider 12.

第２ボールは、第１ボールと同様の機能を有するものであり、同様の構成を有する。 The second ball has the same function as the first ball and has the same configuration.

第２テーブル９は、ウェハを第２方向にて位置決めするとともに、ウェハを支持するものである。この第２テーブル９は、第１テーブル７と同様の構成を有する。 The second table 9 positions the wafer in the second direction and supports the wafer. The second table 9 has the same configuration as the first table 7.

第２駆動部は、第２テーブル９を移動させる動力を発生するものである。この第２駆動部は、第１駆動部と同様の構成を有する。 The second drive unit generates power for moving the second table 9. The second drive unit has the same configuration as the first drive unit.

上述した位置決め装置１において、ステージ４は、以下のように動作する。まず、第１駆動部によって発生した動力が第１テーブル７に伝わると、第１テーブル７は、第１リニアガイド６に案内されて第１方向に沿って移動する。次に、第２駆動部によって発生した動力が第２テーブル９に伝わると、第２テーブル９は、第２リニアガイド８に案内されて第２方向に沿って移動する。そして、第１駆動部および第２駆動部を制御することによって、第２テーブル７に載置されたウェハを所望の位置に位置決めすることができる。 In the positioning device 1 described above, the stage 4 operates as follows. First, when the power generated by the first drive unit is transmitted to the first table 7, the first table 7 is guided by the first linear guide 6 and moves along the first direction. Next, when the power generated by the second drive unit is transmitted to the second table 9, the second table 9 is guided by the second linear guide 8 and moves along the second direction. And the wafer mounted on the 2nd table 7 can be positioned in a desired position by controlling a 1st drive part and a 2nd drive part.

ところで、第２レール１８として金属材料からなるものを用いて、第１テーブル７としてセラミック材料からなるものを用いた場合には、第２レール１８の熱膨張率は、第１テーブル７の熱膨張率よりも大きくなりやすい。例えば、第２レール１８がステンレスからなる場合に熱膨張率は１７ｐｐｍ／℃程度であり、第１テーブル７がアルミナからなる場合に熱膨張率は７ｐｐｍ／℃程度である。 When the second rail 18 is made of a metal material and the first table 7 is made of a ceramic material, the coefficient of thermal expansion of the second rail 18 is that of the first table 7. It tends to be larger than the rate. For example, when the second rail 18 is made of stainless steel, the coefficient of thermal expansion is about 17 ppm / ° C., and when the first table 7 is made of alumina, the coefficient of thermal expansion is about 7 ppm / ° C.

したがって、例えば、位置決め装置１を使用する際に、真空チャンバ２に設置されるポンプやレーザー干渉計などから熱が発生すると、真空チャンバ２内が高温となってステージ４に熱が加わり、第２レール１８が第１テーブル７よりも大きく熱膨張する。その結果、第１テーブル７に熱応力が印加され、第１テーブル７が第２レール１８に向かって凸状に反りやすくなる。 Therefore, for example, when the positioning device 1 is used, if heat is generated from a pump, a laser interferometer, or the like installed in the vacuum chamber 2, the inside of the vacuum chamber 2 becomes high temperature and heat is applied to the stage 4, and the second The rail 18 thermally expands larger than the first table 7. As a result, thermal stress is applied to the first table 7, and the first table 7 tends to warp convexly toward the second rail 18.

一方、本実施形態のステージ４においては、複数の第１リニアガイド６は、両端に位置する１組の外側第１リニアガイド６ａと、１組の外側第１リニアガイド６ａの間に位置する内側第１リニアガイド６ｂとを有している。その結果、外側第１リニアガイド６ａによって、第１テーブル７の両端を固定しつつ、内側第１リニアガイド６ｂによって第１テーブル７の内側を固定することができるため、第１テーブル７の反りを低減することができる。 On the other hand, in the stage 4 of the present embodiment, the plurality of first linear guides 6 are arranged between a pair of outer first linear guides 6a located at both ends and an inner side located between the pair of outer first linear guides 6a. And a first linear guide 6b. As a result, the inner side of the first table 7 can be fixed by the inner first linear guide 6b while fixing both ends of the first table 7 by the outer first linear guide 6a. Can be reduced.

ここで、ステージ４に加わる熱が大きくなると、第１テーブル７の内側に接続した内側第１リニアガイド６ｂは、外側第１リニアガイド６ａよりも大きな応力が印加されやすい。このため、内側第１レール１１ｂと内側第１スライダ１２ｂとの取り付け箇所において、内側第１レール１１ｂおよび内側第１スライダ１２ｂのいずれかに弾性変形が生じて、取り付け箇所の構造が変化し、内側第１リニアガイド６ｂの高さ（ステージベース５側から第１テーブル７側への高さ（Ｚ方向））が、外側第１リニアガイド６ａの高さ（ステージベース５側から第１テーブル７側への高さ（Ｚ方向））よりも、大きくなりやすい。 Here, when the heat applied to the stage 4 increases, the inner first linear guide 6b connected to the inner side of the first table 7 is likely to be applied with a larger stress than the outer first linear guide 6a. For this reason, elastic deformation occurs in either the inner first rail 11b or the inner first slider 12b at the attachment location of the inner first rail 11b and the inner first slider 12b, and the structure of the attachment location changes, and the inner The height of the first linear guide 6b (the height from the stage base 5 side to the first table 7 side (Z direction)) is the height of the outer first linear guide 6a (from the stage base 5 side to the first table 7 side). Than the height (Z direction)).

一方、本実施形態のステージ４においては、内側第１スライダ１２ｂの高さＨｂ（第１レール１１側から第１テーブル７側への高さ（Ｚ方向））は、外側第１スライダ１２ａの高さＨａ（第１レール１１側から第１テーブル７側への高さ（Ｚ方向））よりも、小さい。 On the other hand, in the stage 4 of this embodiment, the height Hb of the inner first slider 12b (height from the first rail 11 side to the first table 7 side (Z direction)) is the height of the outer first slider 12a. It is smaller than the height Ha (height from the first rail 11 side to the first table 7 side (Z direction)).

その結果、ステージ４を作製する際に、内側第１リニアガイド６ｂの高さＨｂを外側第１リニアガイド６ａの高さＨａよりも小さくし、ひいては第１テーブル７を第２レール１８に対して凹状にすることができる。これにより、真空チャンバ２内が高温となって内側第１リニアガイド６ｂに外側第１リニアガイド６ａよりも大きな応力が印加された際に、内側第１リニアガイド６ｂと外側第１リニアガイド６ａとの高さの差を低減することができる。したがって、第１テーブル７の反りを低減し、ステージ４に載置されるウェハの傾きを低減することができ、ひいてはウェハの加工または検査の精度を高めることができる。 As a result, when the stage 4 is manufactured, the height Hb of the inner first linear guide 6b is made smaller than the height Ha of the outer first linear guide 6a, and as a result, the first table 7 is moved with respect to the second rail 18. Can be concave. Thereby, when the inside of the vacuum chamber 2 becomes high temperature and a larger stress is applied to the inner first linear guide 6b than the outer first linear guide 6a, the inner first linear guide 6b and the outer first linear guide 6a The difference in height can be reduced. Therefore, the warp of the first table 7 can be reduced, the tilt of the wafer placed on the stage 4 can be reduced, and the accuracy of wafer processing or inspection can be improved.

また、第１テーブル７の反りを低減することによって、第２レール１８の変形を低減し
て、第２リニアガイド８の転がり抵抗を低減し、ひいては第２リニアガイド８の移動を高精度化、高速化および省力化することができる。なお、ステージ４を作製する際の温度は、２０℃以上２５℃以下に設定されている。 Further, by reducing the warp of the first table 7, the deformation of the second rail 18 is reduced, the rolling resistance of the second linear guide 8 is reduced, and as a result, the movement of the second linear guide 8 is improved. High speed and labor saving can be achieved. In addition, the temperature at the time of producing the stage 4 is set to 20 degreeC or more and 25 degrees C or less.

外側第１スライダ１２ａの高さＨａは、例えば５ｍｍ以上３０ｍｍ以下に設定され、内側第１スライダ１２ｂの高さＨｂは、例えば５ｍｍ以上３０ｍｍ以下に設定されている。また、外側第１スライダ１２ａの高さＨａと内側第１スライダ１２ｂの高さＨｂとの差は、例えば２μｍ以上５μｍ以下に設定されている。 The height Ha of the outer first slider 12a is set to, for example, 5 mm to 30 mm, and the height Hb of the inner first slider 12b is set to, for example, 5 mm to 30 mm. The difference between the height Ha of the outer first slider 12a and the height Hb of the inner first slider 12b is set to, for example, 2 μm or more and 5 μm or less.

一方、外側第１レール１１ａの高さ（ステージテーブル５側から第１スライダ１２側への高さ（Ｚ方向））は、内側第１レール１１ｂとの高さ（ステージテーブル５側から第１スライダ１２側への高さ（Ｚ方向））と同じである。その結果、各第１レール１１ａを同一工程で加工して生産性を高めることができる。なお、外側第１レール１１ａと内側第１レール１１ｂとの高さの差は、例えば１μｍ以下に設定されている。 On the other hand, the height of the outer first rail 11a (the height from the stage table 5 side to the first slider 12 side (Z direction)) is the same as the height of the inner first rail 11b (from the stage table 5 side to the first slider). This is the same as the height to the 12 side (Z direction). As a result, each first rail 11a can be processed in the same process to increase productivity. The difference in height between the outer first rail 11a and the inner first rail 11b is set to 1 μm or less, for example.

また、本実施形態においては、複数の第１リニアガイド６が、１組の外側第１リニアガイド６ａとその間の内側第１リニアガイド６ｂといった、３つの第１リニアガイド６からなる。この場合に、内側第１リニアガイド６ｂは、第１テーブル７の中央に位置することが望ましい。その結果、第１テーブル７の変形を低減し、ステージ４に載置されるウェハの傾きを低減できる。この場合に、一方の外側第１リニアガイド６ａと内側第１リニアガイド６ｂとの距離は、他方の外側第１リニアガイド６ａと内側第１リニアガイド６ｂとの距離の例えば０．９倍以上１．１倍以下に設定されている。 In the present embodiment, the plurality of first linear guides 6 includes three first linear guides 6 such as a pair of outer first linear guides 6a and an inner first linear guide 6b therebetween. In this case, the inner first linear guide 6 b is preferably located at the center of the first table 7. As a result, the deformation of the first table 7 can be reduced, and the tilt of the wafer placed on the stage 4 can be reduced. In this case, the distance between one outer first linear guide 6a and the inner first linear guide 6b is, for example, 0.9 times or more the distance between the other outer first linear guide 6a and the inner first linear guide 6b. .1 or less is set.

次に、上述した位置決め装置１の製造方法を説明する。 Next, a method for manufacturing the above-described positioning device 1 will be described.

（１）ステージベース５、第１ベース７、第１ボール１３、第２ベース９および第２ボールといったセラミック製の各部材を作製する。具体的には、例えば以下のように行なう。 (1) Ceramic members such as the stage base 5, the first base 7, the first ball 13, the second base 9, and the second ball are produced. Specifically, for example, the following is performed.

まず、セラミック粉末を種々の成形方法を用いて成形して成形体を得た後、この成形体を所定の温度で焼成して焼結体を得る。次に、この焼結体を所望の形状に研削加工することによって、セラミック製の各部材を作製することができる。 First, a ceramic powder is molded using various molding methods to obtain a molded body, and then the molded body is fired at a predetermined temperature to obtain a sintered body. Next, each member made of ceramic can be produced by grinding the sintered body into a desired shape.

（２）第１レール１１、第１スライダ１２、第２レール１８および第２スライダ１９といった金属製の各部材を作製する。具体的には、例えば以下のように行なう。 (2) Metal members such as the first rail 11, the first slider 12, the second rail 18, and the second slider 19 are produced. Specifically, for example, the following is performed.

金属材を所望の形状に研削加工することによって、金属製の各部材を作製することができる。このように研削加工で金属材を所望の形状とするため、外側第１スライダ１２ａおよび内側第１スライダ１２ｂの高さを容易に調整することができる。その結果、上述した如く、内側第１スライダ１２ｂの高さを外側第１スライダ１２ａの高さよりも容易に小さくすることができる。 Each member made of metal can be manufactured by grinding a metal material into a desired shape. Thus, since the metal material is formed into a desired shape by grinding, the heights of the outer first slider 12a and the inner first slider 12b can be easily adjusted. As a result, as described above, the height of the inner first slider 12b can be easily made smaller than the height of the outer first slider 12a.

（３）第１リニアガイド６および第２リニアガイド８を作製する。具体的には、例えば以下のように行なう。 (3) The first linear guide 6 and the second linear guide 8 are produced. Specifically, for example, the following is performed.

まず、第１レール１１の第１レール溝１４および第１スライダ１２の第１スライダ溝１６の双方に第１ボール１３の少なくとも一部を配置することによって、第１レール１１と第１スライダ１２との間に第１ボール１３を介在させつつ、第１レール１１上に第１スライダ１２を取り付ける。これにより、第１リニアガイド６を作製することができる。また、第１リニアガイド６と同様にして、第２リニアガイド８を作製することができる。 First, by disposing at least a part of the first ball 13 in both the first rail groove 14 of the first rail 11 and the first slider groove 16 of the first slider 12, the first rail 11, the first slider 12, The first slider 12 is mounted on the first rail 11 with the first ball 13 interposed therebetween. Thereby, the 1st linear guide 6 can be produced. Further, the second linear guide 8 can be manufactured in the same manner as the first linear guide 6.

ここで、工程（２）において、内側第１スライダ１２ｂの高さを外側第１スライダ１２ａの高さよりも小さくしているため、内側第１リニアガイド６ｂの高さを外側第１リニアガイド６ａの高さよりも容易に小さくすることができる。 Here, since the height of the inner first slider 12b is made smaller than the height of the outer first slider 12a in the step (2), the height of the inner first linear guide 6b is set to the height of the outer first linear guide 6a. It can be easily made smaller than the height.

（４）スライドベース５に第１リニアガイド６を介して第１テーブル７を接続する。具体的には、例えば以下のように行なう。 (4) The first table 7 is connected to the slide base 5 via the first linear guide 6. Specifically, for example, the following is performed.

まず、第１レール１１を第１方向に渡って複数箇所でスライドベース５にねじ止めすることによって、スライドベース５に第１リニアガイド６を固定する。次に、第１リニアガイド６を第１テーブル７にねじ止めすることによって、第１テーブル７に第１リニアガイド６を接続する。 First, the first linear guide 6 is fixed to the slide base 5 by screwing the first rail 11 to the slide base 5 at a plurality of locations in the first direction. Next, the first linear guide 6 is connected to the first table 7 by screwing the first linear guide 6 to the first table 7.

ここで、工程（３）にて、内側第１リニアガイド６ｂの高さを外側第１リニアガイド６ａの高さよりも小さくしているため、第１テーブル７を凹状にしつつ、複数の第１リニアガイド６上に設けることができる。 Here, in the step (3), since the height of the inner first linear guide 6b is made smaller than the height of the outer first linear guide 6a, the plurality of first linears are made while making the first table 7 concave. It can be provided on the guide 6.

なお、本工程は、温度が例えば２０℃以上２５℃以下に設定されている。 In this step, the temperature is set to 20 ° C. or more and 25 ° C. or less, for example.

（５）第１テーブル７に第２リニアガイド８を介して第２テーブル９を接続する。具体的には、例えば、工程（４）と同様に行なう。 (5) The second table 9 is connected to the first table 7 via the second linear guide 8. Specifically, for example, the same process as in step (4) is performed.

以上のようにして、ステージ４を作製することができる。 The stage 4 can be produced as described above.

（６）ステージ４を、チャンバステージ３を介して真空チャンバ２内に設置することによって、図１に示す位置決め装置１を作製することができる。 (6) The positioning device 1 shown in FIG. 1 can be manufactured by installing the stage 4 in the vacuum chamber 2 through the chamber stage 3.

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良、組み合わせなどが可能である。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes, improvements, combinations, and the like can be made without departing from the spirit of the present invention.

例えば、上述した実施形態において、内側第１スライダの高さを外側第１スライダの高さよりも小さくした構成を例に説明したが、ステージを作製する際の温度（２０℃以上２５℃以下）で内側第１リニアガイドの高さが外側第１リニアガイドの高さよりも小さければよい。このような構成の例として、内側凸部の高さを外側凸部の高さよりも例えば２μｍ以上５μｍ以下小さくしても構わない。また、内側第１レールの高さを外側第１レールの高さよりも例えば２μｍ以上５μｍ以下小さくしても構わない。 For example, in the embodiment described above, the configuration in which the height of the inner first slider is made smaller than the height of the outer first slider has been described as an example, but at the temperature (20 ° C. or more and 25 ° C. or less) when the stage is manufactured. It is sufficient that the height of the inner first linear guide is smaller than the height of the outer first linear guide. As an example of such a configuration, the height of the inner convex portion may be smaller than the height of the outer convex portion by 2 μm or more and 5 μm or less, for example. Further, the height of the inner first rail may be, for example, 2 μm or more and 5 μm or less smaller than the height of the outer first rail.

以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明は、下記実施例によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の変更、実施の態様は、いずれも本発明の範囲内に含まれる。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and all modifications and embodiments within the scope of the present invention do not depart from the gist of the present invention. Included in range.

（ステージの準備）
上述した製造方法を用いて、実験例１のステージ４を作製し、真空チャンバ２内に設置した。なお、実験例１のステージ４は、外側第１スライダ１２ａと内側第１スライダ１２ｂとの高さの差が２μｍに設定されている。 (Stage preparation)
Using the manufacturing method described above, the stage 4 of Experimental Example 1 was manufactured and installed in the vacuum chamber 2. In the stage 4 of Experimental Example 1, the height difference between the outer first slider 12a and the inner first slider 12b is set to 2 μm.

また、上述した製造方法において、図３に示すように、内側第１リニアガイド６ｂを形成せずに実験例２のステージ４を作製し、真空チャンバ２内に設置した。 Further, in the manufacturing method described above, as shown in FIG. 3, the stage 4 of Experimental Example 2 was produced without forming the inner first linear guide 6 b and installed in the vacuum chamber 2.

ここで、実験例１および２のステージ４は、周囲の温度を２３℃に維持して作製した。 Here, the stage 4 of Experimental Examples 1 and 2 was manufactured while maintaining the ambient temperature at 23 ° C.

（評価方法）
実験例１および２において、真空チャンバ２内の温度を２２℃から２６℃まで変化させて、第１テーブル７の形状を観察し、第１テーブル７の真直度をカールマール社製電気マイクロメータ装置によって測定した。なお、真直度は、ＪＩＳＢ０１８２−１９９３に準ずる。 (Evaluation method)
In Experimental Examples 1 and 2, the temperature in the vacuum chamber 2 was changed from 22 ° C. to 26 ° C., the shape of the first table 7 was observed, and the straightness of the first table 7 was determined by an electric micrometer device manufactured by Karl Marl. Measured by. The straightness is in accordance with JIS B0182-1993.

（評価結果）
実験例１のステージ４は、図４（ａ）に示すように、真空チャンバ２内の温度が２２℃においては第１テーブル７が凹形状となり真直度が１．５μｍであり、真空チャンバ２内の温度が２６℃においては第１テーブル７が凸形状となり真直度が１μｍであった。 (Evaluation results)
As shown in FIG. 4A, the stage 4 of Experimental Example 1 has a concave shape in which the first table 7 is concave when the temperature in the vacuum chamber 2 is 22 ° C., and the straightness is 1.5 μm. When the temperature was 26 ° C., the first table 7 was convex and the straightness was 1 μm.

一方、実験例２のステージ４は、図４（ｂ）に示すように、真空チャンバ２内の温度が２２℃においては第１テーブル７が凹形状となり真直度が１μｍであり、真空チャンバ２内の温度が２６℃においては第１テーブル７が凸形状となり真直度が５μｍであった。この実験例２のステージ４は、真空チャンバ２内の温度を上昇させると、図５に示すように、第１テーブル７が凸形状に大きく反った。 On the other hand, as shown in FIG. 4B, in the stage 4 of Experimental Example 2, when the temperature in the vacuum chamber 2 is 22 ° C., the first table 7 is concave and the straightness is 1 μm. When the temperature was 26 ° C., the first table 7 was convex and the straightness was 5 μm. In the stage 4 of this experimental example 2, when the temperature in the vacuum chamber 2 was raised, as shown in FIG. 5, the first table 7 was greatly warped in a convex shape.

以上の結果より、本発明のステージ４によれば、内側第１スライダ１２ｂの高さを外側第１スライダ１２ａの高さよりも小さくすることによって、ステージ４の周囲の温度が上がった際に、第１テーブル７の反りを低減できることが確かめられた。 From the above results, according to the stage 4 of the present invention, when the temperature around the stage 4 is increased by making the height of the inner first slider 12b smaller than the height of the outer first slider 12a, It was confirmed that the warp of one table 7 can be reduced.

１位置決め装置
２真空チャンバ
３チャンバベース
４ステージ
５ステージベース
６第１リニアガイド
７第１テーブル
８第２リニアガイド
９第２テーブル
１０凸部
１１第１レール
１２第１スライダ
１３第１ボール
１４第１レール溝
１５凹部
１６第１スライダ溝
１８第２レール
１９第２スライダ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Positioning device 2 Vacuum chamber 3 Chamber base 4 Stage 5 Stage base 6 1st linear guide 7 1st table 8 2nd linear guide 9 2nd table 10 Convex part 11 1st rail 12 1st slider 13 1st ball 14 1st Rail groove 15 Recess 16 First slider groove 18 Second rail 19 Second slider

Claims

ステージベースと、
該ステージベース上に設けられ、第１方向に沿って直線状であるとともに該第１方向に交差する第２方向に沿って配列された複数の第１リニアガイドと、
該複数の第１リニアガイド上に設けられた第１テーブルと、
該第１テーブル上に設けられ、前記第２方向に沿って直線状であるとともに前記第１方向に沿って配列された複数の第２リニアガイドと、
該複数の第２リニアガイド上に設けられた第２テーブルと
を備え、
前記複数の第１リニアガイドは、両端に位置する１組の外側第１リニアガイドと、該１組の外側第１リニアガイドの間に位置する内側第１リニアガイドとを有し、
前記外側第１リニアガイドは、前記ステージベースに接続された、前記第１方向に沿って直線状である外側第１レールと、該外側第１レールに取り付けられ、該外側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能であるとともに、前記第１テーブルに接続された外側第１スライダとを有し、
前記内側第１リニアガイドは、前記ステージベースに接続された、前記第１方向に沿って直線状である内側第１レールと、該内側第１レールに取り付けられ、該内側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能であるとともに、前記第１テーブルに接続された内側第１スライダとを有し、
前記複数の第２リニアガイドのそれぞれは、前記第１テーブルに接続された、前記第２方向に沿って直線状である第２レールと、該第２レールに取り付けられ、該第２レール上を前記第２方向に沿って移動可能であるとともに、前記第２テーブルに接続された第２スライダとを有し、
前記第２レールの熱膨張率は、前記第１テーブルの熱膨張率よりも大きく、
前記内側第１スライダにおける前記第１レール側から前記第１テーブル側への高さは、前記外側第１スライダにおける前記第１レール側から前記第１テーブル側への高さよりも小さいことを特徴とするステージ。 Stage base,
A plurality of first linear guides provided on the stage base and linear along the first direction and arranged along a second direction intersecting the first direction;
A first table provided on the plurality of first linear guides;
A plurality of second linear guides provided on the first table, being linear along the second direction and arranged along the first direction;
A second table provided on the plurality of second linear guides,
The plurality of first linear guides include a pair of outer first linear guides located at both ends, and an inner first linear guide located between the one set of outer first linear guides,
The outer first linear guide is connected to the stage base, and is attached to the outer first rail. The outer first rail is linear along the first direction, and is mounted on the outer first rail. An outer first slider that is movable along a first direction and connected to the first table;
The inner first linear guide is connected to the stage base, and is attached to the inner first rail, and is attached to the inner first rail. An inner first slider that is movable along a first direction and connected to the first table;
Each of the plurality of second linear guides is connected to the first table and has a second rail that is linear along the second direction, and is attached to the second rail. A second slider that is movable along the second direction and connected to the second table;
The thermal expansion coefficient of the second rail is larger than the thermal expansion coefficient of the first table,
The height from the first rail side to the first table side of the inner first slider is smaller than the height from the first rail side to the first table side of the outer first slider. Stage to do.

請求項１に記載のステージにおいて、
前記内側第１リニアガイドは、前記内側第１レールと前記内側第１スライダとの間に介在して、前記内側第１スライダを前記第１レール上で移動可能とする球状の内側第１ボールをさらに備えることを特徴とするステージ。 The stage according to claim 1,
The inner first linear guide includes a spherical inner first ball that is interposed between the inner first rail and the inner first slider so that the inner first slider can move on the first rail. A stage characterized by further comprising.

請求項２に記載のステージにおいて、
前記内側第１レールおよび前記内側第１スライダは、金属材料からなり、
前記内側第１ボールは、セラミック材料からなることを特徴とするステージ。 The stage according to claim 2,
The inner first rail and the inner first slider are made of a metal material,
The inner first ball is made of a ceramic material.

請求項１に記載のステージにおいて、
前記第２レールは、金属材料からなり、
前記第１テーブルは、セラミック材料からなることを特徴とするステージ。 The stage according to claim 1,
The second rail is made of a metal material,
The stage, wherein the first table is made of a ceramic material.

ステージベースを準備する工程と、
第１方向に沿って直線状であり、該第１方向に交差する第２方向に沿って配列した複数の第１レールを前記ステージベース上に設け、前記複数の第１レールのうち、両端に位置する１組の前記第１レールを外側第１レールとし、該外側第１レールの間に位置する前記第１レールを内側第１レールとする工程と、
前記外側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能な外側第１スライダを前記外側第１レールに取り付ける工程と、
前記第１レール側からの高さが前記外側第１スライダの高さよりも小さく、前記内側第１
レール上を前記第１方向に沿って移動可能な内側第１スライダを、前記内側第１レールに取り付ける工程と、
前記外側第１スライダおよび前記内側第１スライダに第１テーブルを接続する工程と、
前記第２方向に沿って直線状であり、前記第１方向に沿って配列した、前記第１テーブルよりも熱膨張率の大きい複数の第２レールを前記第１テーブル上に設ける工程と、
前記第２レール上を前記第２方向に沿って移動可能な複数の第２スライダのそれぞれを、前記複数の第２レールに取り付ける工程と、
前記複数の第２スライダに第２テーブルを接続する工程と
を備えることを特徴とするステージの製造方法。 Preparing a stage base;
A plurality of first rails that are linear along the first direction and arranged along a second direction intersecting the first direction are provided on the stage base, and at both ends of the plurality of first rails. A set of positioned first rails as outer first rails, and the first rail positioned between the outer first rails as inner first rails;
Attaching an outer first slider movable on the outer first rail along the first direction to the outer first rail;
The height from the first rail side is smaller than the height of the outer first slider, and the inner first
Attaching an inner first slider movable on the rail along the first direction to the inner first rail;
Connecting a first table to the outer first slider and the inner first slider;
Providing a plurality of second rails on the first table that are linear along the second direction and arranged along the first direction and have a higher coefficient of thermal expansion than the first table;
Attaching each of a plurality of second sliders movable on the second rail along the second direction to the plurality of second rails;
And a step of connecting a second table to the plurality of second sliders.

ステージベースと、
該ステージベース上に設けられ、第１方向に沿って直線状であるとともに該第１方向に交差する第２方向に沿って配列された複数の第１リニアガイドと、
該複数の第１リニアガイド上に設けられた第１テーブルと、
該第１テーブル上に設けられ、前記第２方向に沿って直線状であるとともに前記第１方向に沿って配列された複数の第２リニアガイドと、
該複数の第２リニアガイド上に設けられた第２テーブルと
を備え、
前記複数の第１リニアガイドは、両端に位置する１組の外側第１リニアガイドと、該１組の外側第１リニアガイドの間に位置する内側第１リニアガイドとを有し、
前記外側第１リニアガイドは、前記ステージベースに接続された、前記第１方向に沿って直線状である外側第１レールと、該外側第１レールに取り付けられ、該外側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能であるとともに、前記第１テーブルに接続された外側第１スライダとを有し、
前記内側第１リニアガイドは、前記ステージベースに接続された、前記第１方向に沿って直線状である内側第１レールと、該内側第１レールに取り付けられ、該内側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能であるとともに、前記第１テーブルに接続された内側第１スライダとを有し、
前記複数の第２リニアガイドのそれぞれは、前記第１テーブルに接続された、前記第２方向に沿って直線状である第２レールと、該第２レールに取り付けられ、前記第２レール上を前記第２方向に沿って移動可能であるとともに、前記第２テーブルに接続された第２スライダとを有し、
前記第２レールの熱膨張率は、前記第１テーブルの熱膨張率よりも大きく、
前記内側第１リニアガイドにおける前記ステージベース側から前記第１テーブル側への高さは、２０℃以上２５℃以下の温度において、前記外側第１リニアガイドにおける前記ステージベース側から前記第１テーブル側への高さよりも小さいことを特徴とするステージ。 Stage base,
A plurality of first linear guides provided on the stage base and linear along the first direction and arranged along a second direction intersecting the first direction;
A first table provided on the plurality of first linear guides;
A plurality of second linear guides provided on the first table, being linear along the second direction and arranged along the first direction;
A second table provided on the plurality of second linear guides,
The plurality of first linear guides include a pair of outer first linear guides located at both ends, and an inner first linear guide located between the one set of outer first linear guides,
The outer first linear guide is connected to the stage base, and is attached to the outer first rail. The outer first rail is linear along the first direction, and is mounted on the outer first rail. An outer first slider that is movable along a first direction and connected to the first table;
The inner first linear guide is connected to the stage base, and is attached to the inner first rail, and is attached to the inner first rail. An inner first slider that is movable along a first direction and connected to the first table;
Each of the plurality of second linear guides is connected to the first table and has a second rail that is linear along the second direction, and is attached to the second rail, on the second rail. A second slider that is movable along the second direction and connected to the second table;
The thermal expansion coefficient of the second rail is larger than the thermal expansion coefficient of the first table,
The height from the stage base side to the first table side in the inner first linear guide is from 20 ° C. to 25 ° C. from the stage base side to the first table side in the outer first linear guide. The stage is characterized by being smaller than the height to.

ステージベースを準備する工程と、
第１方向に沿って直線状であり、該第１方向に交差する第２方向に沿って配列した複数の第１レールを前記ステージベース上に設け、前記複数の第１レールのうち、両端に位置する１組の前記第１レールを外側第１レールとし、該外側第１レールの間に位置する前記第１レールを内側第１レールとする工程と、
前記外側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能な外側第１スライダを前記外側第１レールに取り付けることによって、外側第１リニアガイドを設ける工程と、
前記内側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能な内側第１スライダを前記内側第１レールに取り付けることによって、前記ステージベース側からの高さが前記外側第１リニアガイドの高さよりも小さい内側第１リニアガイドを設ける工程と、
前記外側第１スライダおよび前記内側第１スライダに第１テーブルを接続する工程と、
前記第２方向に沿って直線状であり、前記第１方向に沿って配列した、前記第１テーブル
よりも熱膨張率の大きい複数の第２レールを前記第１テーブル上に設ける工程と、
前記第２レール上を前記第２方向に沿って移動可能な複数の第２スライダのそれぞれを、前記複数の第２レールに取り付ける工程と、
前記複数の第２スライダに第２テーブルを接続する工程と
を備えたことを特徴とするステージの製造方法。 Preparing a stage base;
A plurality of first rails that are linear along the first direction and arranged along a second direction intersecting the first direction are provided on the stage base, and at both ends of the plurality of first rails. A set of positioned first rails as outer first rails, and the first rail positioned between the outer first rails as inner first rails;
Providing an outer first linear guide by attaching an outer first slider movable on the outer first rail along the first direction to the outer first rail;
By attaching an inner first slider that is movable on the inner first rail along the first direction to the inner first rail, the height from the stage base side is higher than the height of the outer first linear guide. Providing a smaller inner first linear guide;
Connecting a first table to the outer first slider and the inner first slider;
Providing a plurality of second rails on the first table that are linear along the second direction and arranged along the first direction and have a higher coefficient of thermal expansion than the first table;
Attaching each of a plurality of second sliders movable on the second rail along the second direction to the plurality of second rails;
And a step of connecting a second table to the plurality of second sliders.

一主面に設けられ、該一主面に平行な第１方向に沿って直線状であり、該第１方向に交差する第２方向に沿って配列した複数の凸部を有するステージベースと、
該複数の凸部上のそれぞれに設けられ、前記第１方向に沿って直線状であるとともに前記第２方向に沿って配列された複数の第１リニアガイドと、
該複数の第１リニアガイド上に設けられた第１テーブルと、
該第１テーブル上に設けられ、前記第２方向に沿って直線状であるとともに前記第１方向に沿って配列された複数の第２リニアガイドと、
該複数の第２リニアガイド上に設けられた第２テーブルと
を備え、
前記複数の凸部は、両端に位置する１組の外側凸部と、該外側凸部の間に位置する内側凸部とを有し、
前記複数の第１リニアガイドは、両端に位置する１組の外側第１リニアガイドと、該１組の外側第１リニアガイドの間に位置する内側第１リニアガイドとを有し、
前記外側第１リニアガイドは、前記外側凸部に接続された、前記第１方向に沿って直線状である外側第１レールと、該外側第１レールに取り付けられ、該外側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能であるとともに、前記第１テーブルに接続された外側第１スライダとを有し、
前記内側第１リニアガイドは、前記内側凸部に接続された、前記第１方向に沿って直線状である内側第１レールと、該内側第１レールに取り付けられ、該内側第１レール上を前記第１方向に沿って移動可能であるとともに、前記第１テーブルに接続された内側第１スライダとを有し、
前記複数の第２リニアガイドのそれぞれは、前記第１テーブルに接続された、前記第２方向に沿って直線状である第２レールと、該第２レールに取り付けられ、該第２レール上を前記第２方向に沿って移動可能であるとともに、前記第２テーブルに接続された第２スライダとを有し、
前記第２レールの熱膨張率は、前記第１テーブルの熱膨張率よりも大きく、
前記内側凸部における前記ステージベース側から前記第１リニアガイド側への高さは、前記外側凸部における前記ステージベース側から前記第１リニアガイド側への高さよりも小さいことを特徴とするステージ。 A stage base provided on one main surface, having a plurality of convex portions arranged along a second direction that is linear along a first direction parallel to the one main surface and intersects the first direction;
A plurality of first linear guides provided on each of the plurality of convex portions and linear along the first direction and arranged along the second direction;
A first table provided on the plurality of first linear guides;
A plurality of second linear guides provided on the first table, being linear along the second direction and arranged along the first direction;
A second table provided on the plurality of second linear guides,
The plurality of convex portions have a pair of outer convex portions located at both ends, and an inner convex portion located between the outer convex portions,
The plurality of first linear guides include a pair of outer first linear guides located at both ends, and an inner first linear guide located between the one set of outer first linear guides,
The outer first linear guide is connected to the outer convex portion and is linear along the first direction, and is attached to the outer first rail, on the outer first rail. An outer first slider that is movable along the first direction and connected to the first table;
The inner first linear guide is connected to the inner convex portion, and is attached to the inner first rail, and is mounted on the inner first rail. The inner first rail is linear along the first direction. An inner first slider that is movable along the first direction and connected to the first table;
Each of the plurality of second linear guides is connected to the first table and has a second rail that is linear along the second direction, and is attached to the second rail. A second slider that is movable along the second direction and connected to the second table;
The thermal expansion coefficient of the second rail is larger than the thermal expansion coefficient of the first table,
The stage of the inner convex part from the stage base side to the first linear guide side is smaller than the height of the outer convex part from the stage base side to the first linear guide side. .