JP5752037B2 - 排ガスサンプリング分析システム - Google Patents
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Description
201 ・・・フィルタ装置(DPF)
PT ・・・導入ポート
2 ・・・メイン流路
3 ・・・絞り機構
P1 ・・・第1吸引ポンプ
4 ・・・測定流路
5 ・・・分析装置
6 ・・・補償流路
MFC3・・・流量調整機構
31 ・・・可動体
301 ・・・主絞り流路
302 ・・・副絞り流路
32 ・・・固定部
33 ・・・スプリング
導入ポートPTは、排気管200に設けられた例えばDPF(Diesel Particulate Filter)等のフィルタ装置201の上流側に設けられている。このフィルタ装置201の上流においては、フィルタの目詰まり等の要因によって排ガスの圧力が高圧(例えば300kPa(ゲージ圧))になる。
排気管200のDPF201上流の圧力が高圧力(例えば300[kPa](ゲージ圧))の場合において、導入ポートPTから排ガスをサンプリングした場合、絞り機構3のベンチュリ(例えば流量性能6[lpm(リットル毎分)])により排ガスの圧力が低くなる(例えば280[kPa](ゲージ圧))。ここで、臨界ベンチュリの圧力−流量特性を図3に示す。なお、図3の横軸の圧力はゲージ圧である。この図3から分かるように、絞り機構3下流の排ガスの圧力が−15[kPa](ゲージ圧)で一定の場合に、排気管200の排ガスの圧力が高くなればなるほど、ベンチュリによる降圧効果が小さくなり、ベンチュリを流れる排ガスの流量を一定に調整することができず、流量が大きくなってしまう。具体的には、排ガスの入力圧力が300[kPa](ゲージ圧)の場合には、流量性能6[lpm]のCFVでは、20[lpm]の排ガスが流れ、24[lpm]のCFVでは、100[lpm]の排ガスが流れる。つまり、CFVは、排気管200の排ガスの圧力が上昇するに連れて流れる流量も大きくなってしまう。
このように構成した本実施形態に係る排ガスサンプリング装置100によれば、絞り機構3により減圧された排ガスの圧力をさらに減圧するとともに、メイン流路2に供給される補償ガスを調整して測定流路4の延出点における排ガスの圧力を所定値としているので、測定流路4を流れる流路を分析装置5の仕様の範囲内の収めることができる。したがって、高圧の排ガスをサンプリングして測定精度を損なうことなく、排ガスを分析することができる。
Claims (4)
- 排気管に設けられて当該排気管を流れる排ガスを導入するための導入ポートに基端が接続されたメイン流路と、
前記メイン流路に排ガスを導入すべく当該メイン流路に接続された第1吸引ポンプと、
前記メイン流路上に設けられた絞り機構と、
前記絞り機構の下流においてメイン流路から延出し、当該メイン流路を流れる排ガスをサンプリングして流通する測定流路と、
前記測定流路上に設けられ、サンプリングされた排ガスを分析する分析装置と、
前記測定流路の延出点の下流においてメイン流路から延出し、当該メイン流路に補償ガスを供給する補償流路と、
前記補償流路上に設けられ、前記メイン流路に供給する補償ガスの流量を調整する流量調整機構と、を備え、
前記第1吸引ポンプが、前記絞り機構を通過して減圧された排ガスの圧力を所定値までさらに減圧するとともに、
前記流量調整機構が、前記測定流路の延出点における排ガスの圧力が所定値となるようにメイン流路に供給される補償ガスの流量を調整する排ガスサンプリング分析システム。 - 前記導入ポートが、前記排気管において、前記排気管に設けられたフィルタ装置の上流側に設けられている請求項1記載の排ガスサンプリング分析システム。
- 前記測定流路を構成する配管の上流側開口が、前記メイン流路と同軸上において上流側を向くように配置され、
前記測定流路を構成する配管によって等速サンプリングを行う請求項1記載の排ガスサンプリング分析システム。 - 前記絞り機構が、
中央部に軸方向に沿ってメイン流路に連通する主絞り流路、その周囲に軸方向に沿って1又は複数のメイン流路に連通する副絞り流路が形成された可動体と、
前記可動体の下流側の外周にスライド可能に嵌合し、前記副内部流路を閉塞又は開成する固定部と、
前記可動体の外周において前記固定部及び前記可動体の間に介在して設けられ、前記可動部を前記固定部から離間させる方向に付勢するスプリングと、を備え、
前記可動体が受ける排ガスの圧力に応じて前記可動体が軸方向にスライド移動することにより、通過する排ガスの流量を調整するものである請求項1記載の排ガスサンプリング分析システム。
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