JP5738796B2 - 処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム - Google Patents

処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム Download PDF

Info

Publication number
JP5738796B2
JP5738796B2 JP2012089849A JP2012089849A JP5738796B2 JP 5738796 B2 JP5738796 B2 JP 5738796B2 JP 2012089849 A JP2012089849 A JP 2012089849A JP 2012089849 A JP2012089849 A JP 2012089849A JP 5738796 B2 JP5738796 B2 JP 5738796B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
allocation
processing chamber
chamber
candidate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012089849A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013219257A (ja
Inventor
仲田 輝男
輝男 仲田
慶太 野木
慶太 野木
智己 井上
智己 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2012089849A priority Critical patent/JP5738796B2/ja
Priority to TW102110754A priority patent/TWI520256B/zh
Priority to US13/859,812 priority patent/US9507328B2/en
Priority to KR1020130039150A priority patent/KR101422403B1/ko
Priority to CN201310124313.3A priority patent/CN103377968B/zh
Publication of JP2013219257A publication Critical patent/JP2013219257A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5738796B2 publication Critical patent/JP5738796B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67276Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B15/00Systems controlled by a computer
    • G05B15/02Systems controlled by a computer electric
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G05B19/41865Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by job scheduling, process planning, material flow
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G05B19/41815Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by the cooperation between machine tools, manipulators and conveyor or other workpiece supply system, workcell
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G05B19/4189Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by the transport system
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/31From computer integrated manufacturing till monitoring
    • G05B2219/31002Computer controlled agv conveys workpieces between buffer and cell
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/32Operator till task planning
    • G05B2219/32328Dynamic scheduling, resource allocation, multi agent negotiation
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/45Nc applications
    • G05B2219/45031Manufacturing semiconductor wafers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、複数の処理室を有する半導体処理装置において、各処理室で実施する処理の種類を評価・設定する処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラムに関するものである。
半導体処理装置、特に、減圧された装置内において処理対象を処理する装置においては、処理の微細化、精密化とともに、処理対象である半導体被処理体(以下、「ウェハ」という。)の処理の生産性向上が求められてきた。このために、近年では、一つの装置に複数の処理室が接続されて備えられたマルチチャンバ装置が開発され、クリーンルームの設置面積あたりの生産性を向上させることが行われてきた。このような複数の処理室を備えて処理を行う装置では、それぞれの処理室が、内部のガスやその圧力が減圧可能に調節され、且つ、ウェハを搬送するためのロボット等が備えられた搬送室に接続されている。
このようなマルチチャンバ装置においては、搬送室の周囲に放射状に処理室が接続されたクラスタツールと呼ばれる構造の装置が広く普及している。しかし、このクラスタツールの装置は、大きな設置面積を必要とし、特に、近年のウェハの大口径化に伴い、ますます設置面積が大きくなる問題を抱えている。そこで、この問題を解決するために、線形ツールと呼ばれる構造の装置が登場した(例えば、特許文献1を参照)。線形ツールの特徴は、複数の搬送室を有し、それぞれの搬送室に処理室が接続され、且つ、搬送室同士も直接接続、若しくは、中間に受渡しのスペース(以下、「中間室」という。)を挟んで接続される構造である。
マルチチャンバ装置においては、複数の処理室があるため、複数種類のウェハに対し、それぞれ異なる処理を別々の処理室にて並行して行う事が可能である。この並行処理を行うためには、処理を行う各ウェハ種類に対して、どの処理室で処理を行うか、事前に設定しておく必要がある。そこで、ウェハ種類と処理室との割当(以下「処理室割当」)という。)の設定を、処理室設定装置にて行っている。
処理室割当の決定には、生産性や処理されるウェハ種類と処理室との相性などを評価して行われる。特に、線形ツールは、搬送室が複数あり、ウェハの搬送経路や搬送順序が複雑であるため、処理室割当が変わることで、搬送経路や搬送順序が変わり、生産性が大きく変化し得る。よって、線形ツールにおける処理室割当の決定には、生産性の評価を重視して行う必要がある。
この線形ツールの生産性の評価について、いくつかの提案がなされている(例えば、非特許文献1)。それらは、線形ツールの処理室割当やウェハの搬送経路が与えられた時に、搬送動作にかかるサイクル時間をもとに、生産性を算出するものである。
特表2007−511104号公報
Van Der Meulen著: 「Linear semiconductor manufacturing logistics and the impact on cycle time」(Advanced Semiconductor Manufacturing Conference, 2007. ASMC 2007. IEEE/SEMI,page111−116) 11th−12th,June,2007
上記従来技術では、次のような点について課題があった。
処理室割当に複数の候補が考えられる場合、最良の生産性を実現できる処理室割当を選択したい。しかし、従来技術は、所与の処理室割当に対して、その生産性を算出するだけであり、最良の生産性を実現できる処理室割当を提示することはない。よって、処理室割当の決定者が、試行錯誤を繰り返して、より生産性の高い処理室割当を導かねばならない。しかし、生産量の増大に合わせ、多くの処理室数を配置した半導体処理装置においては、処理室割当の候補数が膨大にあり、試行錯誤によって最良の処理室割当を導くのは困難である。
そこで、本発明では、線形ツールにおいて、処理室割当の設定に関し、迅速かつ簡便に最良の処理室割当を選択出来る方法を提供する。
上記課題を解決するために本発明では、複数の搬送室を有し、それぞれの搬送室に処理室が接続され、かつ前記複数の搬送室同士が直接、若しくは中間に被処理体の受け渡し用の中間室を挟んで接続される構造を備えた半導体処理装置における、各処理室と被処理体種類との割当を事前に評価する処理室割当設定装置を、各被処理体種類に対し、少なくとも1以上の処理室を割当てる全ての処理室割当数候補を算出し、各処理室割当数候補において、各処理室に被処理体種類を割当てる1つの処理室割当候補を作成し、前記1つの処理室割当候補に対して、任意の処理室のペアの割当被処理体種類を入れ替えて新たな処理室割当候補を探索して、全ての組合せの処理室割当候補を生成する処理室割当候補生成部と、前記各処理室割当候補に従ってユーザが指定した処理対象の未処理の被処理体を格納場所から搬出して前記搬送室を介して前記半導体処理装置の該当処理室へ搬送して所定の処理を施した後に当該処理室から搬出し前記搬送室を介して元の格納場所に搬送して戻す一連の製造過程を計算機上に仮想的に再現して、全ての処理対象の被処理体の最初のものの前記格納場所からの搬出の開始時刻から最後の被処理体の前記格納場所への戻しの完了時刻までの処理完了時間を、前記処理室割当候補毎に計算する処理完了時間算出部とを備えて構成した。
また、上記課題を解決するために本発明では、前記処理室割当設定装置において、演算部と、記憶部と、情報入力部と、表示部と、および通信部とを備え、前記演算部は、前記処理室割当候補生成部と、前記処理完了時間算出部とを有し、前記処理完了時間算出部は、計算した前記処理室割当候補毎の処理完了時間を最も早く終了する候補から降順に前記表示部に表示して、ユーザが前記情報入力部により選択した処理室割当候補を受付け、前記選択された処理室割当候補に従って処理対象の全ての被処理体の一連の製造過程を再度シミュレーションして、対象とする半導体処理装置の動作スケジュール情報を作成して、前記通信部を介して前記半導体処理装置へ前記選択された処理室割当と、前記動作スケジュール情報を伝送するように構成した。
また、上記課題を解決するために本発明では、複数の搬送室を有し、それぞれの搬送室に処理室が接続され、かつ前記複数の搬送室同士が直接、若しくは中間に被処理体の受け渡し用の中間室を挟んで接続される構造を備えた半導体処理装置における、各処理室と被処理体種類との割当を事前に評価するために、コンピュータを、ユーザが入力した処理対象情報と、前記半導体処理装置より入手した処理可能な処理室情報に基づき、各被処理体種類に対し、少なくとも1以上の処理室を割当てる全ての処理室割当数候補を算出する手段、各処理室割当数候補において、各処理室に被処理体種類を割当てる1つの処理室割当候補を作成し、前記1つの処理室割当候補に対して、任意の処理室のペアの割当被処理体種類を入れ替えて新たな処理室割当候補を探索して、全ての組合せの処理室割当候補を生成する手段、及び前記半導体処理装置より入手した動作ルール・動作時間情報を使用して、前記各処理室割当候補に従ってユーザが指定した処理対象の未処理の被処理体を格納場所から搬出して前記搬送室を介して前記半導体処理装置の該当処理室へ搬送して所定の処理を施した後に当該処理室から搬出し前記搬送室を介して元の格納場所に搬送して戻す一連の製造過程を計算機上に仮想的に再現して、全ての処理対象の被処理体の最初のものの前記格納場所からの搬出の開始時刻から最後の被処理体の前記格納場所への戻しの完了時刻までの処理完了時間を、前記処理室割当候補毎に計算する手段、として機能させるための処理室割当設定プログラムを提案した。
また、上記課題を解決するために本発明では、前記処理室割当設定プログラムが、更にコンピュータを、表示部に前記半導体処理装置の処理室のレイアウト図を表示して、前記処理室割当候補の処理完了時間の一覧よりユーザの選択を受付けた結果、各処理室に割当たった被処理体の種類の情報を該当する処理室の図の上に表示する手段、及びユーザによる割当を希望する被処理体の種類の情報を処理室の図上に指定入力することを可能として、ユーザより指定された処理室と被処理体の種類との割当に特定した全ての処理室割当候補と処理完了時間の組合せだけを選択して、最も早い処理完了時間から降順に選択された処理室割当候補を並べて表示する手段として機能させることを特徴とする。
本発明によれば、線形ツールの半導体処理装置において、複数の処理を並行して行う場合に、複数ある処理室割当の中から、生産性の高い処理室割当を迅速かつ簡便に選択することができる。
線形ツールの半導体処理装置の構成を説明した図である。 線形ツールの半導体処理装置の構成の様々な例を説明した図である。 処理室割当設定装置と半導体処理装置との関係について説明した図である。 処理室割当設定装置の構成を説明した図である。 処理室割当設定画面について説明した図である。 処理室割当計算処理のフローチャートを説明した図である。 処理室割当候補生成処理のデータの入出力を説明した図である。 処理完了時間算出処理のデータの入出力を説明した図である。 処理完了時間算出処理のシミュレーションの手順を説明した図である。 処理室割当設定画面の処理割当結果表示について説明した図である。 処理対象情報の例を示した図である。 処理室情報の例を示した図である。 動作ルール・動作時間情報の例を示した図である。 処理室割当数候補情報の例を示した図である。 処理室割当候補情報の例を示した図である。 処理室割当結果情報の例を示した図である。 処理室割当候補情報を算出する計算手順を説明するフローチャートである。 動作スケジュール情報の例を示した図である。
以下に、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。
本発明によって、処理室の設定が行われる線形ツールの半導体処理装置の構成について、図1を用いて説明する。半導体処理装置の構成は、大きく分けると、処理を行う処理室と、ウェハを搬送する搬送機構を含む機械部と、制御を行う制御部から成っている。
機械部は、処理室107、108、111、112と、ロードポート101、102、103と、大気側搬送ロボット(以下、「大気ロボット」という。)104と、ロードロック105と、真空側搬送ロボット(以下、「真空ロボット」という。)106、110と、中間室109から構成されている。
ロードポート101、102、103は、処理対象のウェハを収納したカセットが置かれる台である。
大気ロボット104は、伸縮出来るアームを備え、アームの先には、ウェハを保持できるハンドが備えられている。又、大気ロボット104は、各ロードポートの前まで水平移動したり、旋回し向きを変えたりすることが可能である。この大気ロボット104がロードポート101、102、103に置かれたカセットから未処理のウェハを搬出したり、処理済のウェハを搬入したりする。
ロードロック105は、ウェハを内部に保持する機構を有しており、更に、ウェハの搬出入口には、開閉可能なゲートバルブを備えている。ゲートバルブを閉じることで内部を密閉することができ、内部の圧力を大気圧と真空圧との間で上下させることができる。
真空ロボット106、110は、密閉された容器(搬送室)内に配置されており、その容器内は減圧された状態に保たれている。この容器には、ロードロック105や中間室109や処理室107、108、111、112と連結されるウェハの搬出入口があり、その搬出入口には開閉可能なゲートバルブが備わっている。真空ロボット106、110は、伸縮出来るアームを備え、アームの先には、ウェハを保持できるハンドが備えられている。又、真空ロボット106、110は、旋回し、向きを変えることが可能である。この真空ロボット106、110がロードロック105や中間室109や処理室107、108、111,112に対し、ウェハの搬入や搬出を行う。
中間室109は、内部にウェハを保持できる機構を有しており、内部は減圧された状態に保たれている。この中間室109に真空ロボット106、110がウェハを置いたり、取り出したりすることで、真空ロボット間でウェハを受渡しすることができる。処理室107、108、111、112は、処理室内にウェハを保持した状態で、エッチングや成膜などの処理を施す機能を有している。
又、制御部113は、大気ロボット104や真空ロボット106、110の搬送動作や処理室107,108、111、112での処理などの実行を制御する機能を有している。制御部113は、演算処理を行う演算処理部とデータを記憶する記憶部から構成され、制御の手順などを記述したプログラムや装置内の状態等のデータが保持されている。
但し、図1で示した半導体処理装置の構成は一例であり、特に、機械部において、処理室の数は4つに限定されるものではなく、又、ロードポートの数は3つに限定されるものでもなく、又、真空ロボットの数は2つに限定されるものでもない。図2に、半導体処理装置の機械部の他の例を示す。図2に示す通り、処理室が6つ、真空ロボットが3つあっても良いし、又、一つの真空ロボットに接続された処理室の数が、1つや3つであっても良い。
図3は、本発明である処理室割当設定装置と半導体処理装置との関係について説明したものである。処理室割当設定装置301と半導体処理装置302はネットワーク303を介して接続されており、データの授受が可能である。処理室割当設定装置301でシミュレーションに基づいて算出した最も生産性が高められる処理室割当候補の中よりユーザが採用した処理室割当情報と、当該処理室割当における半導体処理装置の動作スケジュール情報とを半導体処理装置302へ伝送し、その情報に基づいて半導体処理装置302がウェハ搬送や処理を実行する。一方、半導体処理装置302からは、処理室割当に必要となる半導体処理装置302の使用可能な処理室情報、及び半導体処理装置固有の動作制御ルール情報を処理室割当設定装置301へ伝送し、その情報に基づいて処理室割当設定装置301では、処理室割当を決定することになる。
図4は、本発明である処理室割当設定装置301の構成について説明したものである。処理室割当設定装置301は、大きく分けると、演算部401と、記憶部404と、情報入力部412と、処理室割当設定画面413と、通信部414とを備える。演算部401と記憶部404と通信部414は、演算処理やデータの記憶を行う事ができるコンピュータ上に配置される。そのコンピュータと、キーボードやマウスなどの情報入力部412、ディスプレイなどの処理室割当設定画面413とは接続されており、情報入力部412から入力された情報、及びネットワーク303、通信部414を介して半導体処理装置302から受付けた情報は記憶部404へ記憶される。一方、記憶部404に記憶されている処理室割当結果に関する情報410を処理室割当設定画面413に表示することが出来る。また、前記処理室割当情報、および前記動作スケジュール情報は、通信部414を介して半導体処理装置302へ出力する。
演算部401には、処理室割当の候補を生成する処理室割当候補生成部402と、各処理室割当の候補について、その処理完了時間を算出する処理完了時間算出部403の二つの処理部が含まれている。
又、記憶部404には、処理対象情報405、処理室情報406、動作ルール・動作時間情報407、処理室割当数候補情報408、処理室割当候補情報409、処理室割当結果情報410が保持されている。
図5は、処理室割当設定画面413について説明した図である。処理室割当設定画面413は、処理対象入力部501と処理室割当結果表示部502と処理室割当計算を開始するための処理室割当計算実行ボタン503と処理室割当の設定を決定する時の処理室割当設定決定ボタン504から構成される。処理対象入力部501は、これから処理するウェハ種類とその処理時間と処理枚数をユーザが入力する領域である。図5の表示例は、WAというウェハ種類があり、その処理時間は30であり、処理枚数は500枚というデータと、WBというウェハ種類があり、その処理時間は100であり、処理枚数は200枚というデータが入力されている例である。処理室割当結果表示部502は、処理室割当計算の結果を表示する部分である。図5の例では、処理室割当計算を実行する前の状態であるため、処理室割当結果表示部502は空欄となっている。処理室割当計算実行ボタン503は、処理室割当の決定者が、処理対象のデータを入力した後、処理室割当の計算を実行させるために押下するボタンである。このボタンが押下されると、処理室割当設定装置301で、処理室割当計算が開始される。
処理対象情報405は、処理室割当設定画面413の処理対象入力部501よりユーザが入力したデータを受付けて、記憶部404に格納されたものである。図11に示す通り、ウェハ種類、処理時間、処理枚数のデータ項目を有するデータテーブルで構成される。
処理室情報406は、対象とする半導体処理装置302が備える処理室情報を、ネットワーク303を介して受付けて、記憶部404に格納されたものである。図12に示す通り、処理室IDのデータ項目より成るデータテーブルである。ユーザより受付けた処理対象情報405にあるウェハ種類情報を半導体処理装置302へ伝えて、半導体処理装置302から、それらのウェハ種類のウェハを処理できる処理室、およびメンテナンスなどのために停止中ではない処理室を選択した処理室情報を受付けて、記憶部404に格納する。
動作ルール・動作時間情報407は、対象とする半導体処理装置302が備える大気ロボットや真空ロボットなどのウェハの搬送を行う機構、およびロードロック、中間室、および処理室などのゲートバルブの開閉動作などの動作の実行を開始するための条件とその動作時間を示した情報である。図13に示す通り、動作部位、動作内容、動作実行条件、および動作時間のデータ項目を有するデータテーブルで構成される。例えば、ロボットが把持すべき対象が同時に複数存在する場合、またはウェハを処理する処理室が複数使用可能な状態にある場合にどちらを優先するかといったルールも、対象とする半導体処理装置302ごとに固有に動作制御ルールとして決められているものであり、後述するシミュレーション処理において必要となるので、対象とする半導体処理装置302から予め動作ルール・動作時間情報として受付けて、記憶部404に格納しておく。
処理室割当数候補情報408は、処理室割当候補生成部402において作成され、対象とする半導体処理装置が備える使用可能な処理室数を、ユーザが入力した各ウェハ種類ごとに割当てる処理室数の全ての組合せの情報である。図14に示す通り、割当数候補No、ウェハ種類、割当処理室数のデータ項目を有するデータテーブルで構成される。
処理室割当候補情報409は、処理室割当候補生成部402において作成され、各々の処理室と割当たっているウェハ種類との組合せの全ての可能な候補を保持している。図15(b)に示す通り、処理室割当候補No、使用可能な各処理装置に割付けられるウェハ種類のデータ項目を有するデータテーブルで構成される。
処理室割当結果情報410は、処理完了時間算出部403において、処理室割当候補ごとに処理対象の処理をシミュレーションを行った結果である処理完了時間を記録している。図16に示す通り、処理室割当候補No、処理完了時間のデータ項目を有するデータテーブルで構成される。
動作スケジュール情報411は、本発明の処理室割当設定装置において最も生産性が高くなると評価された1つ以上の処理室割当候補を降順に並べて表示した中より、ユーザが選択した処理室割当に基づいて、半導体処理装置の大気ロボット、真空ロボット、ロードロック、処理室の動作スケジュールを算出した結果を保持している。図18に示す通り、部位、動作、開始時刻のデータ項目を有するデータテーブルで構成される。
図6は、本発明の処理室割当設定装置301で実施される処理室割当計算処理のフローチャートを説明した図である。処理室割当計算処理は、処理室割当候補生成処理601と処理完了時間算出処理602から構成され、処理完了時間算出処理602では、処理室割当候補生成処理601で生成した複数の処理室割当候補の全てに対し、処理完了時間を計算するため、全ての候補について計算が完了するまで繰り返す。全ての候補について、処理完了時間が計算されたら処理室割当計算は終了する。そして、処理室割当計算の結果を、処理室割当設定画面413の処理室割当結果表示部502に表示する。
図7は、処理室割当候補生成処理601のデータの入出力を説明した図である。処理室割当候補生成処理601は、処理対象情報405と処理室情報406が入力され、処理室割当候補情報409を出力する。この処理対象情報405は、処理室割当設定画面413の処理対象入力部501に対して、情報入力部412を用いて、処理室割当の決定者が入力した値である。又、処理室情報406は、半導体処理装置302で利用可能な処理室を示しており、半導体処理装置からネットワークを介して、伝送されてくる情報である。
処理対象情報405と処理室情報406から処理室割当候補情報409を算出する計算手順を図17のフローチャートに沿って説明する。
まず、処理対象情報に保持されている各ウェハ種類の各々に対し、割り当てる処理室の数の候補を算出する。ここでは、ユーザが入力した処理対象の各ウェハ種類のウェハを、評価対象とする半導体処理装置302において、並行して処理することを前提としている。処理室情報406から割当対象の総処理室数を算出する。次に、各ウェハ種類に対し、少なくとも1つは処理室を割り当てる必要があるため、ウェハ種類の数を総処理室数から引く。その残りを割当残数とする。次に、この割当残数を、各々のウェハ種類に割り当てる組合せを全て求める。この時、割当残数からの割当がないウェハ種類があってもよい。最後に、求めた各ウェハ種類の割当残数の割当数に1を加える事で、各ウェハ種類の処理室割当数が算出される(S701)。
図11、図12で示したデータの例を用いて説明する。まず、総処理室数は4である。そして、ウェハ種類の数はWAとWBの2つであるため、総処理室4から2を引いて、割当残数は2である。この割当残数を割り当てるウェハ種類が2つであるため、割当残数を割り当てる組合せは、(WA=2,WB=0)、(WA=1,WB=1)、(WA=0,WB=2)である。この割当数に1を加えると、(WA=3,WB=1)、(WA=2,WB=2)、(WA=1,WB=3)となる。これらの組合せ各々が、処理室割当数候補である。図14に例示するような情報として、記憶部404に記憶される。
次に、どのウェハ種類をどの処理室に割り当てるかを算出する。
一つの処理室割当数候補を選び(S702)、
その中から一つのウェハ種類を選び、そのウェハ種類の割当数に基づき、未割当の処理室から、そのウェハ種類の割当数が満たされるまで処理室を割り当てる。全てのウェハ種類に処理室の割当が決まるまで、処理室の割当を繰り返す。これにより選択した処理室割当数候補について、処理室割当の一つの候補が生成され、記憶部に登録する(S703)。
図14の例を用いて説明する。まず、処理室割当数候補No1を選択する。その中からウェハ種類WAを選択すると、処理室割当数は3である。未割当の処理室は、処理室107、108、111、112があるので、例えば処理室IDの順番に処理室107、108、111をウェハ種類WAに割り当てる。次にウェハ種類WBについて、処理室割当数が1であるので、未割当の処理室112を割り当てる。これによって、ウェハ種類WAに処理室107、108、111、ウェハ種類WBに処理室112が割当たった処理室割当の候補の一つが生成されたことになる(S703)。
次に、生成された一つの処理室割当の候補について、任意の処理室のペア(順次ペア番号を付与する)を選択し、一つ目の処理室に割当たっているウェハ種類と、二つ目の処理室に割当たっているウェハ種類が異なる場合は、一つ目の処理室に割当たっているウェハ種類と、二つ目の処理室に割当たっているウェハ種類を入れ替える。これによって、もう一つの処理室割当候補を仮定する(S706)。
もし、前ステップ(S706)において新たな処理室割当候補が仮定されており、それが既に登録された処理室割当候補のいずれとも一致しない場合に(S707)、新たな処理室割当候補として記憶部に登録する(S708)。
以上の操作(S706〜S708)を、全ての処理室のペアが選択されるまで繰り返す(S705〜S709)。
更に、新たに生成された処理室割当候補がある場合、これらの処理室割当候補についても同様の操作を繰り返す(S704〜S710)。これによって、選択された処理室割当数候補について、処理室割当候補が生成されたことになるので、以上の操作を全ての処理室割当数候補について行うことで(S702〜S711)、全ての処理室割当候補を網羅的に生成できたことになる。
図14の処理室割当数候補No1の例を用いて説明する。前記の説明で、ウェハ種類WAに処理室107、108、111、ウェハ種類WBに処理室112が割当たった処理室割当の候補の一つが生成されたところから続きを説明する。生成された処理室割当候補データを、記憶部404の処理室割当候補情報テーブル409に登録する(S703)。図15(b)に示す処理室割当候補情報テーブル409の第1のレコード1501として登録される。この処理室割当候補No.1−1に対して、任意の処理室のペアに割当てられたウェハ種類を入れ替えることで別解があるか否かを探索する。まず、任意の処理室のペアを選択する。処理室107、処理室108を選択する。処理室107、108には、同じウェハ種類WAが割当たっているため、新たな処理室割当候補は生成されないので、別の処理室のペアを選択し直す。ここで、処理室のペアを順次選択する順序は予め決めてあり、順次、処理室のペアの番号を付けて全ての組み合わせを選択する。
続いて、処理室107、112のペアが選択されたとする。処理室107はウェハ種類WAが割当たっており、処理室112はウェハ種類WBが割当たっているため、この処理室割当を入れ替える。つまり、処理室107にウェハ種類WB、処理室112にウェハ種類WAを割り当てる。これによって、ウェハ種類WAに処理室108、111、112、ウェハ種類WBに処理室107を割り当てた処理室割当候補が生成される。生成された処理室割当候補データは、処理室割当候補情報テーブル409の第2のレコード1502として登録される(S708)。
このようにして全ての処理室のペアを選択し、新たな処理室割当候補を生成すると、ウェハ種類WAに処理室107、111、112、ウェハ種類WBに処理室108を割り当てた処理室割当候補(レコード1503)、ウェハ種類WAに処理室107、108、112、ウェハ種類WBに処理室111を割り当てた処理室割当候補(レコード1504)が生成される。
更に、新たに生成された処理室割当候補(処理室割当候補No.1−2,No.1−3,No.1−4)についても同様の操作を行う(S704〜S710)。例えば、ウェハ種類WAに処理室108、111、112、ウェハ種類WBに処理室107を割り当てた処理室割当候補(レコード1502)について、同様の操作を行うと、全て既に生成された処理室割当候補と同じになるので(S707)、新たな処理室割当候補は生成されない。同様に、ウェハ種類WAに処理室107、111、112、ウェハ種類WBに処理室108を割り当てた処理室割当候補(レコード1503)、ウェハ種類WAに処理室107、108、112、ウェハ種類WBに処理室111を割り当てた処理室割当候補(レコード1504)についても新たな処理室割当候補は生成されない。よって、選択した処理室割当数候補No1に対する処理室割当候補生成は終了する。その後、新しい処理室割当数候補について処理室割当候補を生成し、全ての処理室割当数候補について処理室割当候補生成が終わるまで繰り返す(S702〜S711)。
例えば、処理室割当数候補No.2に対してループの処理を行い(S702)、処理室割当の1つの候補として、ウェハ種類WAに処理室107、108を、ウェハ種類WBに処理室111、112を割当てた処理室割当候補を生成して、処理室割当候補情報テーブル409に登録する(S703)。図15(b)に示す処理室割当候補情報テーブル409のレコード1505に当たる。続いて、前ステップS703にて登録した処理室割当候補No.2−1に対してループの処理を行い(S704)、処理室のペアを順次選択して、割当ウェハ種類を入れ替えた処理室割当候補を仮定して(S706)、既生成の処理室割当候補のいずれにも一致しないことを確認して(S707)、順次登録(S708)したのが、図15(b)に示す処理室割当候補情報テーブル409のレコード1506〜1509に当たる。
上記の処理室割当候補生成処理S601にて、図15(b)に例示するような処理室割当候補情報409が生成される。この情報は、各々の処理室割当候補毎に、各々の処理室と割当たっているウェハ種類の組合せを保持している。
図8は、処理完了時間算出処理S602のデータの入出力を説明した図である。処理完了時間算出処理S602には、処理対象情報405と処理室割当候補情報409と動作ルール・動作時間情報407が入力され、処理室割当結果情報410を出力する。
動作ルール・動作時間情報407とは、前記した通り図13に例示する情報である。これは、大気ロボットや真空ロボットなどのウェハの搬送を行う機構が動作の実行を開始するための条件とその動作時間を示した情報である。例えば、図13のデータテーブルの第1行目のデータレコードに記載される動作内容「ロードポート(101、102、103)からロードロック105へウェハを搬送」というデータは、大気ロボット104の、ロードポートから未処理ウェハを搬出して、ロードロックへ搬入するという一つの動作を定義したもので、この動作を開始する条件として、「ロードポート(101,102,103)に割当たった処理室が待機中の未処理ウェハがある」「ロードロック105に空きスペースがあり大気圧状態である」「大気ロボットが待機状態である」が定義されており、この動作の開始から終了までに要する動作時間が5であることを意味している。
処理完了時間算出処理S602の処理手順について説明する。処理完了時間算出処理S602は、シミュレーションと呼ばれる、半導体処理装置の状態を仮想的に計算機上にデータとして保持し、計算機内で時刻を進めながら装置の動作を並べていく計算手順を用いて行う。まず、処理対象情報405を基に、各ウェハ種類について、生産枚数分の未処理ウェハがロードポートに存在する状態にセットする。図11の例では、ウェハ種類WAの未処理ウェハが500枚、ウェハ種類WBの未処理ウェハが200枚ロードポートに存在するという状態にする。実際には、一つのロードポートに保持できるウェハの枚数には制限があるが、仮想的な計算であるので、本実施例では、シミュレーションを簡便にするため各ウェハの供給の仕方・タイミングなどは特に考慮しないことにする。
次に、処理室割当候補情報409から候補情報を一つ選択する。その候補情報から、各ウェハ種類のウェハがどの処理室へ搬送されるかが決定される。例として、図15(b)の例から、処理室割当候補No.1−1を選択することにすると、ウェハ種類WAの500枚のウェハはそれぞれ処理室107、108、111のいずれかへ搬送され、ウェハ種類WBの200枚のウェハはそれぞれ処理室112へ搬送されることになる。この初期状態が設定されたら、動作ルール・動作時間情報407に基づいて、大気ロボット、真空ロボット、およびロードロックなどの動作実行条件に照らし合わせ、条件が満たされている動作があれば、その動作を実行する。動作が実行されると、その動作の動作時間経過後、ウェハの位置や稼働中や待機中といった稼働状態が変化する。そこで、時刻を進め、変化後の状態に対して、動作実行条件に照らし合わせ、条件が満たされている動作があれば、動作を実行する。この手順を繰り返して動作を並べていくと、各ウェハについて、未処理状態でロードポートから搬出され、処理室にて処理が施され、処理済状態でロードポートに戻ってくる一連の動作が出来あがる。これを全てのウェハが処理完了し、ロードポートに戻ってくるまで繰り返す。
このシミュレーションの手順を図9を用いて説明する。図9で用いている略号は以下の通りである。部位名称の略号は、AR:大気ロボット104、LL:ロードロック105、VR1:真空ロボット106、PU1:処理室107、PU2:処理室108、VR2:真空ロボット110、PU3:処理室111、PU4:処理室112、LP:ロードポート(101,102,103)、BR:中間室109である。又、W1,…W5はウェハのIDを意味する。各部位の動作の表記は、「部位1→部位2(ウェハID)」は、そのウェハIDのウェハが部位1から部位2へ搬送される動作のことを意味している。又、Vacはバキューム、Ventはベント、Processingは処理中を意味している。
時刻0の初期状態では、全ての未処理ウェハはロードポート101にあり、全ての処理室107,108,111,112、大気ロボット104、真空ロボット106,110は待機中であり、ロードロック105は大気圧状態で中は空であるとする。又、ウェハ種類WAのウェハはそれぞれ処理室107、108、111のいずれかへ搬送され、ウェハ種類WBのウェハはそれぞれ処理室112へ搬送されるという条件だとする。
まず、時刻0の状態では、「ロードポート(101,102,103)に割当たった処理室が待機中の未処理ウェハがある」「ロードロック105に空きスペースがあり大気圧状態である」「大気ロボット104が待機中である」という条件が成立しているため、「ロードポート(101,102,103)からロードロック105へウェハを搬送」の動作が実行される。この場合では、全ての処理室が待機中であるため、ウェハ種類WAのウェハを処理室107、108、111のいずれに搬送しても良いし、ウェハ種類WBのウェハを処理室112へ搬送しても良い。同じ動作部位に対して、動作実行条件が複数成立した場合、どれを優先するかは、半導体処理装置の動作制御ルールとして与えられているので、それに従うものとする。すなわち、半導体処理装置302から、予めその半導体処理装置固有の動作制御ルールに基づいて、動作ルール・動作時間情報407の形式にルールを作成されたものをネットワーク303を介して入力して、記憶部404に記憶しておく。
図9で示す例では、処理室107へウェハIDがW1のウェハを搬送することにする。この動作が開始されると、大気ロボット104は稼働中の状態に変わる。この状態の変化によって、他に動作実行可能な条件が無いので、時刻を進める。時刻を1に進めるが、動作実行可能な条件が無いので、更に時刻を進める。時刻0から開始した、大気ロボット104によるロードポート101からロードロック105へのウェハの搬送が動作時間が5であるので、時刻が5になった時に、ウェハW1はロードロック105内に搬入された状態になり、大気ロボット104は待機中に変化する。
ここで、動作実行可能な条件に照らし合わせると、「ロードロック105に未処理ウェハがあり、大気圧状態である」という条件が成立し、ロードロック105のバキュームという動作が開始する。これにより、ロードロック105はバキューム中という状態に変わる。その後、時刻を更に進めていくと、時刻10の時点で、ロードロック105のバキュームが完了し、ロードロック105が真空状態に変化する。この時、動作実行可能な条件に照らし合わせると、「ロードロック105に未処理ウェハがあり、真空状態である」という条件と、「ロードロック105に処理室(107,108)に割当たった未処理ウェハがあり、真空状態である」「処理室(107,108)が待機状態である」「真空ロボットが待機状態である」という条件の二つの動作実行条件が成立する。この場合では、前者はロードロック105の動作実行条件であり、後者は真空ロボット106の動作実行条件であるので、同時に実行することが可能である。よって、ロードロック105は時刻10からベントを開始し、真空ロボット106はウェハW1のロードロック105から処理室107への搬送を開始する。それによって、ロードロック105はベント中の状態に変わり、真空ロボット106は稼働中の状態に変わる。
その後、時刻を進めていくと、時刻15でロードロック105のベントが完了し、ロードロック105の状態が大気圧状態に変わる。それにより、大気ロボット104がロードポート101から未処理ウェハW2をロードロック105へ搬送を開始する。ウェハW2は処理室111へ搬送されるものとする。その後、時刻20で、大気ロボット104がウェハW2をロードロック105へ搬送完了し、又、真空ロボット106がウェハW1を処理室107へ搬送を完了する。この時の状態変化によって、時刻20からは、ロードロック105がバキュームを開始し、処理室107が処理を開始する。
以上のような手順を繰り返していき、全てのウェハの処理が完了し、ロードポートに戻った時の時刻を求める。時刻0から前記求めた時刻までの間の時間が選択した処理室割当候補の処理完了時間となる。この手順を全ての処理室割当候補について実行し、全ての処理室割当候補の処理完了時間を算出し、それを処理室割当結果情報410として記憶する。この処理室割当結果情報410は、図16に例示するような情報であり、各処理室割当候補について、処理完了時間を保持している。
処理室割当結果情報410が生成されると、それを処理室割当設定画面413の処理室割当結果表示部502に表示する。図10に処理室割当結果情報が表示された例を示す。処理室割当結果表示部502は、各処理室割当候補とその処理完了時間のリストを表示する結果一覧表示部1001と、結果一覧表示部1001から選択された処理室割当候補のウェハ種類と割当たった処理室の配置を表示する割当配置表示部1002から成る。結果一覧表示部1001には、処理完了時間が早い方から降順に処理室割当候補を並べて表示する。割当配置表示部1002には、半導体処理装置のレイアウトを表示し、各処理室の上に割当たったウェハ種類を表示する。又、各処理室の上に表示されているウェハ種類を処理室割当の決定者が指定することで、その処理室に割当たるウェハ種類が指定されたウェハ種類となっている処理室割当候補のみが結果一覧表示部1001に表示されるようになる。
ここで、ユーザが、処理室割当候補から採用したいものを選択し、処理室割当設定決定ボタン504を押下する。処理室割当設定決定ボタン504が押下されると、選択された処理室割当を入力として、処理完了時間算出処理602が実行される。この処理では、選択された処理室割当に従って、処理対象の全ウェハを該当する処理室へ搬送して、所定の処理を施す一連の製造過程を再度シミュレーションする。それにより、図9に示すような大気ロボット、真空ロボット、ロードロック、処理室の動作スケジュールが算出され、図18に例示するような動作スケジュール情報413が生成される。この動作スケジュール情報413とユーザに選択された処理室割当が、半導体処理装置へ伝送される。半導体処理装置は、受け取った動作スケジュール情報413と処理室割当に基づいて、動作を実行する。
101、102、103:ロードポート、
104:大気ロボット、
105:ロードロック、
106、110:真空ロボット、
107、108、111、112:処理室、
109:中間室、
113:制御部、
301:処理室割当設定装置、
302:半導体処理装置、
303:ネットワーク
401:演算部、
402:処理室割当候補生成部、
403:処理完了時間算出部、
404:記憶部、
405:処理対象情報、
406:処理室情報、
407:動作ルール・動作時間情報、
408:処理室割当数候補情報、
409:処理室割当候補情報、
410:処理室割当結果情報、
411:動作スケジュール情報、
412:情報入力部、
413:処理室割当設定画面、
414:通信部、
501:処理対象入力部、
502:処理室割当結果表示部、
503:処理室割当計算実行ボタン、
504:処理室割当設定決定ボタン
S601:処理室割当候補生成処理、
S602:処理完了時間算出処理、
1001:結果一覧表示部、
1002:割当配置表示部
1501−1509:処理室割当候補データレコード

Claims (9)

  1. 複数の搬送室を有し、それぞれの搬送室に処理室が接続され、かつ前記複数の搬送室同士が直接、若しくは中間に被処理体の受け渡し用の中間室を挟んで接続される構造を備えた半導体処理装置における、各処理室と被処理体種類との割当を事前に評価する処理室割当設定装置であって、
    各被処理体種類に対し、少なくとも1以上の処理室を割当てる全ての処理室割当数候補を算出し、各処理室割当数候補において、各処理室に被処理体種類を割当てる1つの処理室割当候補を作成し、前記1つの処理室割当候補に対して、任意の処理室のペアの割当被処理体種類を入れ替えて新たな処理室割当候補を探索して、全ての組合せの処理室割当候補を生成する処理室割当候補生成部と、
    前記各処理室割当候補に従ってユーザが指定した処理対象の未処理の被処理体を格納場所から搬出して前記搬送室を介して前記半導体処理装置の該当処理室へ搬送して所定の処理を施した後に当該処理室から搬出し前記搬送室を介して元の格納場所に搬送して戻す一連の製造過程を計算機上に仮想的に再現して、全ての処理対象の被処理体の最初のものの前記格納場所からの搬出の開始時刻から最後の被処理体の前記格納場所への戻しの完了時刻までの処理完了時間を、前記処理室割当候補毎に計算する処理完了時間算出部と、
    を有することを特徴とする処理室割当設定装置。
  2. 請求項1に記載の処理室割当設定装置において、
    演算部と、記憶部と、情報入力部と、表示部と、および通信部とを備え、
    前記演算部は、前記処理室割当候補生成部と、前記処理完了時間算出部とを有し、
    前記処理完了時間算出部は、計算した前記処理室割当候補毎の処理完了時間を最も早く終了する候補から降順に前記表示部に表示して、ユーザが前記情報入力部により選択した処理室割当候補を受付け、前記選択された処理室割当候補に従って処理対象の全ての被処理体の一連の製造過程を再度シミュレーションして、対象とする半導体処理装置の動作スケジュール情報を作成して、前記通信部を介して前記半導体処理装置へ前記選択された処理室割当と、前記動作スケジュール情報を伝送する、
    ことを特徴とする処理室割当設定装置。
  3. 請求項2に記載の処理室割当設定装置において、
    前記記憶部は、
    ユーザが前記情報入力部より入力した処理対象情報と、
    対象とする半導体処理装置が、自らが備える処理室の中で前記処理対象の被処理体を処理可能な処理室を特定する情報を通知してきた処理室情報と、
    前記半導体処理装置が備える各動作部位の動作を実行開始とする条件、その動作部位の動作時間、及び複数の可能動作に対する優先付けを与える動作制御ルールを含み、前記半導体処理装置が通知してきた動作ルール・動作時間情報と、
    処理対象の被処理体種類ごとに割当てる処理室数の全ての組合せ情報である処理室割当数候補情報と、
    各処理室と割当っている被処理体種類との組合せの全ての可能な候補を保持する処理室割当候補情報と、
    処理室割当候補ごとに処理対象の一連の製造過程をシミュレーションした結果である処理完了時間を記録する処理室割当結果情報と、
    ユーザが選択した処理室割当に基づいて、半導体処理装置の各動作部位の動作スケジュールを算出した動作スケジュール情報と、を記憶することを特徴とする処理室割当設定装置。
  4. 前記処理室割当候補生成部は、
    ユーザが入力した処理対象の各被処理体種類に対し、対象とする半導体処理装置の少なくとも1以上の処理室を割当てる全ての処理室割当数候補を算出し、
    各処理室割当数候補において、各処理室に被処理体種類を割当てる1つの処理室割当候補を作成し、前記1つの処理室割当候補に対して、任意の処理室のペアの割当被処理体種類を入れ替えて新たな処理室割当候補を探索して、新たな処理室割当候補が見出された場合には登録して、全ての処理室のペアに対して探索を繰り返し、及び全ての処理室割当数候補に対して探索を繰り返して、全ての組合せの処理室割当候補を生成することを特徴とする請求項1に記載の処理室割当設定装置。
  5. 前記記憶部の前記動作ルール・動作時間情報は、少なくとも、動作部位、動作内容、動作実行条件、および動作時間のデータ項目を有するデータテーブルに記憶され、
    前記処理完了時間算出部は、
    前記各処理室割当候補ごとに、前記処理対象情報の全ての被処理体が半導体処理装置のロードポートに存在すると仮定して、一連の製造過程のシミュレーションを開始して、単位時間ずつ時刻を進行させ、半導体処理装置の各動作部位が動作実行条件を満たした時刻に動作を開始し、各被処理体を該当処理室へ搬送して所定の処理を施し、全ての被処理体をロードポートへ回収するまでの処理完了時間を算出し、前記表示部に各処理室割当候補における処理完了時間を、最も早い処理完了時間から降順に並べて表示することを特徴とする請求項3に記載の処理室割当設定装置。
  6. 前記処理完了時間算出部は、
    前記表示部に、前記半導体処理装置の処理室のレイアウト図を表示して、前記処理室割当候補の処理完了時間の一覧よりユーザの選択を受付けた結果、各処理室に割当たった被処理体の種類の情報を該当する処理室の図の上に表示する、および
    ユーザによる割当を希望する被処理体の種類の情報を処理室の図上に指定入力することを可能として、ユーザより指定された処理室と被処理体の種類との割当に特定した全ての処理室割当候補と処理完了時間の組合せだけを選択して、最も早い処理完了時間から降順に選択された処理室割当候補を並べて表示することを特徴とする請求項5に記載の処理室割当設定装置。
  7. 複数の搬送室を有し、それぞれの搬送室に処理室が接続され、かつ前記複数の搬送室同士が直接、若しくは中間に被処理体の受け渡し用の中間室を挟んで接続される構造を備えた半導体処理装置における、各処理室と被処理体種類との割当を事前に評価するために、コンピュータを、
    ユーザが入力した処理対象情報と、前記半導体処理装置より入手した処理可能な処理室情報に基づき、各被処理体種類に対し、少なくとも1以上の処理室を割当てる全ての処理室割当数候補を算出する手段、
    各処理室割当数候補において、各処理室に被処理体種類を割当てる1つの処理室割当候補を作成し、前記1つの処理室割当候補に対して、任意の処理室のペアの割当被処理体種類を入れ替えて新たな処理室割当候補を探索して、全ての組合せの処理室割当候補を生成する手段、及び
    前記半導体処理装置より入手した動作ルール・動作時間情報を使用して、前記各処理室割当候補に従ってユーザが指定した処理対象の未処理の被処理体を格納場所から搬出して前記搬送室を介して前記半導体処理装置の該当処理室へ搬送して所定の処理を施した後に当該処理室から搬出し前記搬送室を介して元の格納場所に搬送して戻す一連の製造過程を計算機上に仮想的に再現して、全ての処理対象の被処理体の最初のものの前記格納場所からの搬出の開始時刻から最後の被処理体の前記格納場所への戻しの完了時刻までの処理完了時間を、前記処理室割当候補毎に計算する手段、
    として機能させるための処理室割当設定プログラム。
  8. コンピュータを、更に、
    計算した前記処理室割当候補毎の処理完了時間を最も早く終了する候補から降順に表示部に表示して、ユーザが情報入力部により選択した処理室割当候補を受付ける手段、
    前記選択された処理室割当候補に従って処理対象の全ての被処理体の一連の製造過程を再度シミュレーションして、対象とする半導体処理装置の動作スケジュール情報を作成する手段、及び
    通信部を介して前記半導体処理装置へ前記選択された処理室割当と、前記動作スケジュール情報を伝送する手段、
    として機能させることを特徴とする請求項7に記載の処理室割当設定プログラム。
  9. コンピュータを、更に、
    表示部に、前記半導体処理装置の処理室のレイアウト図を表示して、前記処理室割当候補の処理完了時間の一覧よりユーザの選択を受付けた結果、各処理室に割当たった被処理体の種類の情報を該当する処理室の図の上に表示する手段、及び
    ユーザによる割当を希望する被処理体の種類の情報を処理室の図上に指定入力することを可能として、ユーザより指定された処理室と被処理体の種類との割当に特定した全ての処理室割当候補と処理完了時間の組合せだけを選択して、最も早い処理完了時間から降順に選択された処理室割当候補を並べて表示する手段、
    として機能させることを特徴とする請求項7に記載の処理室割当設定プログラム。
JP2012089849A 2012-04-11 2012-04-11 処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム Active JP5738796B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012089849A JP5738796B2 (ja) 2012-04-11 2012-04-11 処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム
TW102110754A TWI520256B (zh) 2012-04-11 2013-03-26 Processing room distribution setting means and processing chamber distribution setting program
US13/859,812 US9507328B2 (en) 2012-04-11 2013-04-10 Processing chamber allocation setting device and processing chamber allocation setting program
KR1020130039150A KR101422403B1 (ko) 2012-04-11 2013-04-10 처리실 할당 설정 장치 및 기록 매체
CN201310124313.3A CN103377968B (zh) 2012-04-11 2013-04-11 处理室分配设定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012089849A JP5738796B2 (ja) 2012-04-11 2012-04-11 処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013219257A JP2013219257A (ja) 2013-10-24
JP5738796B2 true JP5738796B2 (ja) 2015-06-24

Family

ID=49325792

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012089849A Active JP5738796B2 (ja) 2012-04-11 2012-04-11 処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9507328B2 (ja)
JP (1) JP5738796B2 (ja)
KR (1) KR101422403B1 (ja)
CN (1) CN103377968B (ja)
TW (1) TWI520256B (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104656571B (zh) * 2013-11-18 2017-07-04 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种支持同时加工多片物料的路由控制方法和装置
CN107275248B (zh) * 2016-04-07 2019-08-27 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 机台控制方法和机台控制***
JP6629698B2 (ja) * 2016-08-22 2020-01-15 ファナック株式会社 セルコントロールシステム
JP6802722B2 (ja) * 2017-01-27 2020-12-16 株式会社ディスコ 加工装置
US10359769B2 (en) * 2017-09-15 2019-07-23 Applied Materials, Inc. Substrate routing and throughput modeling
US10698392B2 (en) * 2018-06-22 2020-06-30 Applied Materials, Inc. Using graphics processing unit for substrate routing and throughput modeling
JP7170438B2 (ja) * 2018-07-03 2022-11-14 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び判定方法
JP7311553B2 (ja) * 2021-03-29 2023-07-19 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2870117B2 (ja) * 1990-04-27 1999-03-10 株式会社日立製作所 最適計画作成方法
US5975740A (en) * 1996-05-28 1999-11-02 Applied Materials, Inc. Apparatus, method and medium for enhancing the throughput of a wafer processing facility using a multi-slot cool down chamber and a priority transfer scheme
US5928389A (en) * 1996-10-21 1999-07-27 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for priority based scheduling of wafer processing within a multiple chamber semiconductor wafer processing tool
US5914879A (en) * 1997-03-04 1999-06-22 Advanced Micro Devices System and method for calculating cluster tool performance metrics using a weighted configuration matrix
US6201999B1 (en) * 1997-06-09 2001-03-13 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for automatically generating schedules for wafer processing within a multichamber semiconductor wafer processing tool
US6519498B1 (en) * 2000-03-10 2003-02-11 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for managing scheduling in a multiple cluster tool
US6418350B1 (en) * 2000-06-09 2002-07-09 Brooks Automation Inc. Periodic scheduler for dual-arm robots in cluster tools with process-module residency constraints
US20050111956A1 (en) 2003-11-10 2005-05-26 Blueshift Technologies, Inc. Methods and systems for reducing the effect of vibration in a vacuum-based semiconductor handling system
US20070282480A1 (en) * 2003-11-10 2007-12-06 Pannese Patrick D Methods and systems for controlling a semiconductor fabrication process
JP4181522B2 (ja) * 2004-04-12 2008-11-19 沖電気工業株式会社 製造工程管理方法
US7085612B2 (en) * 2004-04-14 2006-08-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System and method for identifying semiconductor process steps for queue-time control and abnormality detection
US7460920B1 (en) * 2006-02-22 2008-12-02 Advanced Micro Devices, Inc. Determining scheduling priority using fabrication simulation
KR100858890B1 (ko) * 2007-03-28 2008-09-17 세메스 주식회사 기판 처리 장치와 기판 처리 방법
JP5191880B2 (ja) * 2008-12-26 2013-05-08 東京エレクトロン株式会社 処理装置、処理方法、コンピュータプログラムおよび記憶媒体
US8483861B2 (en) * 2009-08-31 2013-07-09 Applied Materials, Inc. Scheduling modeling system for adaptive, automated data collection and performance analysis of manufacturing system for optimal scheduling
JP5282021B2 (ja) * 2009-12-14 2013-09-04 株式会社日立ハイテクノロジーズ 半導体処理システム及び半導体処理方法
JP5476162B2 (ja) * 2010-03-02 2014-04-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空処理装置及びプログラム
JP5586271B2 (ja) * 2010-03-02 2014-09-10 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空処理装置及びプログラム

Also Published As

Publication number Publication date
US20130274908A1 (en) 2013-10-17
US9507328B2 (en) 2016-11-29
TWI520256B (zh) 2016-02-01
CN103377968A (zh) 2013-10-30
CN103377968B (zh) 2016-03-30
TW201349379A (zh) 2013-12-01
KR20130115162A (ko) 2013-10-21
KR101422403B1 (ko) 2014-07-22
JP2013219257A (ja) 2013-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5738796B2 (ja) 処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム
KR101216836B1 (ko) 진공 처리 장치 및 기록 매체
JP6002532B2 (ja) 真空処理装置及び真空処理方法
JP5586271B2 (ja) 真空処理装置及びプログラム
JP5476337B2 (ja) 真空処理装置及びプログラム
JP5592863B2 (ja) 真空処理装置および被処理体の搬送方法
KR102430459B1 (ko) 기판 라우팅 및 스루풋 모델링
TWI716275B (zh) 真空處理裝置之運轉方法
CN117077975A (zh) 基于混合初始化模因算法的分布式异构流水车间调度方法
US20070233362A1 (en) Manufacturing facility control system
JP6106370B2 (ja) 真空処理装置及び真空処理装置の運転方法
JP2005038392A (ja) 単一経路用の作業システム及びその制御方法
CN114029947B (zh) 机器人拾物序列确定方法与装置
CN114757483A (zh) 一种半导体工艺设备的物料调度方法和半导体工艺设备
Ibrahim et al. An assembly sequence planning approach with binary gravitational search algorithm
JP2013118415A (ja) 半導体処理システム及びプログラム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140319

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140724

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140729

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140917

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20141027

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150331

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150422

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5738796

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350