JP5734079B2 - 電子ビーム蒸着装置 - Google Patents
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Description
上記搬送機構は、上記チャンバの内部で上記基板を支持する支持部材と、上記支持部材を第1の方向に搬送する駆動源とを有する。
上記第1の容器は、上記チャンバの内部に配置され、第1の蒸着材料を収容する。
上記第1のマスクは、上記支持部材と上記第1の容器との間に配置され、上記支持部材に支持された上記基板に対する上記第1の蒸着材料の成膜領域を規制する。
上記第1の電子ビーム形成機構は、上記チャンバに設置され第1の電子を出射する第1の電子銃を含む。上記第1の電子ビーム形成機構は、上記第1のマスク側から上記第1の容器側へ向かう第2の方向より、上記第1の電子が上記第1の容器へ入射する第1のビームラインを形成する。
上記搬送機構は、上記チャンバの内部で上記基板を支持する支持部材と、上記支持部材を第1の方向に搬送する駆動源とを有する。
上記第1の容器は、上記チャンバの内部に配置され、第1の蒸着材料を収容する。
上記第1のマスクは、上記支持部材と上記第1の容器との間に配置され、上記支持部材に支持された上記基板に対する上記第1の蒸着材料の成膜領域を規制する。
上記第1の電子ビーム形成機構は、上記チャンバに設置され第1の電子を出射する第1の電子銃を含む。上記第1の電子ビーム形成機構は、上記第1のマスク側から上記第1の容器側へ向かう第2の方向より、上記第1の電子が上記第1の容器へ入射する第1のビームラインを形成する。
これにより複数枚の基板に対して連続的な成膜処理が可能となり、処理量を向上させることができる。
上記第2の容器は、第2の蒸着材料を収容する。
上記第2のマスクは、上記第1のマスクよりも上記第1の方向の下流側に離間して配置され、上記支持部材に支持された上記基板に対する上記第2の蒸着材料の成膜領域を規制する。
上記第2の電子ビーム形成機構は、上記チャンバに設置され第2の電子を出射する第2の電子銃を含む。上記第2の電子ビーム形成機構は、上記第2のマスク側から上記第2の容器側へ向かう第3の方向より、上記第2の電子が上記第2の容器へ入射する第2のビームラインを形成する。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る電子ビーム蒸着装置を示す概略断面図である。図において、X軸及びY軸は相互に直交する水平方向を示し、Z軸は鉛直方向を示している。
図4及び図5は、本発明の第2の実施形態に係る電子ビーム蒸着装置を示す概略断面図である。以下、第1の実施形態と異なる構成について主に説明し、上述の実施形態と同様の構成については同様の符号を付しその説明を省略または簡略化する。
図6は、本発明の第3の実施形態に係る電子ビーム蒸着装置を示す概略断面図である。以下、第1及び第2の実施形態と異なる構成について主に説明し、上述の実施形態と同様の構成については同様の符号を付しその説明を省略または簡略化する。
図7は、本発明の第4の実施形態に係る電子ビーム蒸着装置を示す概略断面図である。以下、第1の実施形態と異なる構成について主に説明し、上述の実施形態と同様の構成については同様の符号を付しその説明を省略または簡略化する。
図8は、本発明の第5の実施形態に係る電子ビーム蒸着装置を示す概略断面図である。以下、第1及び第2の実施形態と異なる構成について主に説明し、上述の実施形態と同様の構成については同様の符号を付しその説明を省略または簡略化する。
11…チャンバ
12…搬送機構
13…支持部材
13a,13b…基板支持部
14…駆動部
15,25,35,45…電子ビーム形成機構
16,26,36,46…電子銃
17,27…容器
19,29,39,49…マスク
19a,29a,39a,49a…開口部
M,M1,M2…蒸着材料
MP,MP1,MP2…蒸発粒子
Claims (5)
- 基板上に蒸着材料を斜め方向から蒸着させる電子ビーム蒸着装置であって、
チャンバと、
前記チャンバの内部で前記基板を支持する支持部材と、前記支持部材を第1の方向に搬送する駆動部とを有する搬送機構と、
第1の蒸着材料を収容する第1の凹部を有し、前記チャンバの内部に配置された第1の容器と、
前記支持部材に支持された前記基板に対する前記第1の蒸着材料の成膜領域を規制する第1の開口部を有し、前記支持部材と前記第1の容器との間に配置された第1のマスクと、
前記チャンバに設置され第1の電子を出射する第1の電子銃を含み、前記第1の開口部側から前記第1の容器側へ向かい前記第1の凹部の深さ方向と鋭角をなす第2の方向より、前記第1の電子が前記第1の容器へ入射する第1のビームラインを形成し、かつ前記第2の方向の反対方向へ向かう前記第1の蒸着材料の蒸発粒子を出射させる第1の電子ビーム形成機構と
を具備する電子ビーム蒸着装置。 - 請求項1に記載の電子ビーム蒸着装置であって、
前記支持部材は、前記第1の方向に沿って配列された複数の基板支持部を有する
電子ビーム蒸着装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の電子ビーム蒸着装置であって、
第2の蒸着材料を収容する第2の凹部を有する第2の容器と、
前記支持部材に支持された前記基板に対する前記第2の蒸着材料の成膜領域を規制する第2の開口部を有し、前記第1のマスクよりも前記第1の方向の下流側に離間して配置された第2のマスクと、
前記チャンバに設置され第2の電子を出射する第2の電子銃を含み、前記第2の開口部側から前記第2の容器側へ向かい前記第2の凹部の深さ方向と鋭角をなす第3の方向より、前記第2の電子が前記第2の容器へ入射する第2のビームラインを形成し、かつ前記第3の方向の反対方向へ前記第2の蒸着材料の蒸発粒子を出射させる第2の電子ビーム形成機構と
をさらに具備する電子ビーム蒸着装置。 - 請求項1から請求項3の何れか1つに記載の電子ビーム蒸着装置であって、
前記第1の方向は、前記チャンバの縦方向である
電子ビーム蒸着装置。 - 請求項1から請求項3の何れか1つに記載の電子ビーム蒸着装置であって、
前記第1の方向は、前記チャンバの横方向である。
電子ビーム蒸着装置。
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