JP5714955B2

JP5714955B2 - Air conditioner

Info

Publication number: JP5714955B2
Application number: JP2011068894A
Authority: JP
Inventors: 健太郎植田; 松下　功; 功松下; 亮太稲毛; 清水　一男; 一男清水
Original assignee: Shin Nippon Air Technologies Co Ltd; Osaka Gas Co Ltd
Current assignee: Shin Nippon Air Technologies Co Ltd; Osaka Gas Co Ltd
Priority date: 2011-03-25
Filing date: 2011-03-25
Publication date: 2015-05-07
Anticipated expiration: 2031-03-25
Also published as: JP2012202637A

Description

本発明は、送風手段の働きにより、空調対象空間内の気体を処理空間に吸引して前記空調対象空間に戻す送風路を備えた空調装置に関する。 The present invention relates to an air conditioner provided with a ventilation path that sucks gas in an air-conditioning target space into a processing space and returns the air to the air-conditioning target space by the action of a blowing unit.

空調装置の役割として、人の生活環境の質を向上させることがその１つに挙げられる。この目的のためには、温度や湿度の制御による快適性の向上だけでなく、人体に害を及ぼす空気中の菌あるいはウイルスを減少させることが望ましい。また、ホルムアルデヒドに代表される揮発性有機化合物（ＶｏｌａｔｉｌｅＯｒｇａｎｉｃＣｏｍｐｏｕｎｄｓ；ＶＯＣ）や空気中の臭い成分は人に健康被害を及ぼしたり、不快感を与えたりするために問題となっており、空気中のこれら成分の低減も強く要望されている。 One of the roles of the air conditioner is to improve the quality of the human living environment. For this purpose, it is desirable not only to improve comfort by controlling temperature and humidity, but also to reduce bacteria and viruses in the air that are harmful to the human body. In addition, volatile organic compounds (VOC) represented by formaldehyde and odorous components in the air are problematic for causing health damage and discomfort in humans. Reduction of these components is also strongly demanded.

従来、こうした目的のために、除加湿による菌・ウイルスの繁殖抑制や、フィルタを搭載した空気清浄機による除去が行われてきた。ＶＯＣや臭い成分については、薬剤散布によるマスキングや、活性炭などによる臭い吸着が用いられている。 Conventionally, for these purposes, bacterial / virus propagation suppression by dehumidification and removal by an air cleaner equipped with a filter have been performed. For VOCs and odor components, masking by chemical spraying or odor adsorption by activated carbon or the like is used.

これら従来技術に対し、近年、菌やウイルス、ＶＯＣや臭い成分などあらゆる汚染物質に対して効果を持つとして注目されている方法に、プラズマによる空気清浄技術がある。これは大きく分けて２タイプあり、一つはプラズマにより発生する活性種を空気中に放散するタイプ（以下、活性種放散タイプと呼ぶ。）、もう一つは浄化対象の空気が直接放電空間を通過するように構成するタイプ（以下、放電空間通過処理タイプと呼ぶ。）である。 In contrast to these conventional techniques, there is a plasma air cleaning technique as a method that has recently been attracting attention as having an effect on various contaminants such as bacteria, viruses, VOCs and odor components. This can be broadly divided into two types, one is a type that diffuses active species generated by plasma into the air (hereinafter referred to as the active species diffusion type), and the other is that the air to be purified directly flows into the discharge space. It is a type configured to pass (hereinafter referred to as a discharge space passage processing type).

活性種放散タイプによる殺菌は、装置内で発生したオゾン、イオン等の比較的長寿命の活性種が空気中に放散され、汚染物質に衝突したときに分子構造を変化させ、失活あるいは脱臭に導くというメカニズムである。これら活性種は、大気中でプラズマ放電を起こすことによって発生させることが可能であり、この原理に基づく装置が、特許文献１に提案されている。また放電空間通過処理タイプによる殺菌は、プラズマ放電空間に直接汚染空気を導入し、特に短寿命で強力な活性種による殺菌および電撃殺菌を行うというメカニズムである。この原理に基づく装置が、特許文献２に開示されている。これらの技術は電気と空気中の水分子などを原料とし、薬剤を別途準備する手間を必要とせず、またフィルタも必要としないためにメンテナンス性がよいという利点があり、様々な空調機器に搭載されている。 Sterilization by the active species-dispersing type involves the activation of relatively long-lived active species such as ozone and ions generated in the device into the air, changing the molecular structure when colliding with pollutants, resulting in deactivation or deodorization. It is a mechanism of guiding. These active species can be generated by causing plasma discharge in the atmosphere, and an apparatus based on this principle has been proposed in Patent Document 1. The sterilization by the discharge space passing treatment type is a mechanism in which contaminated air is directly introduced into the plasma discharge space, and particularly, sterilization by a strong active species with short life and electric shock sterilization are performed. An apparatus based on this principle is disclosed in Patent Document 2. These technologies use electricity and water molecules in the air as raw materials, and do not require the need to prepare chemicals separately, and they do not require a filter, so they have the advantage of good maintainability and are installed in various air conditioning equipment. Has been.

プラズマを形成させるデバイスは、特許文献１及び２に示されるように、誘電体で導電性電極表面の一部を保護してつくられる沿面放電型のデバイスや、対向電極の片側を針状にしてコロナ放電を誘発するデバイスが存在する。 As shown in Patent Documents 1 and 2, devices for forming plasma include creeping discharge type devices that are made by protecting a part of the surface of a conductive electrode with a dielectric, and needles on one side of a counter electrode. There are devices that induce corona discharge.

その他に、特許文献３に示すように、１０〜１００μｍオーダーのギャップをとった対向平板電極間に電界を印加することでプラズマを発生させるマイクロプラズマ装置がある。このデバイスでは、対向する両平板電極の面積分の大きさだけ放電空間が広がっており、ランダムに生成されるストリーマ放電によって効率よく大気分子が電離や電子移動反応を起こし、オゾン、イオン、ラジカルなどの活性種を大量に発生させる。同時に、放電空間通過処理タイプとして利用する場合には、被処理空気の流量を多くとれる利点がある。またこのデバイスの長所は、平板電極を用いることで電極の局所的な材料劣化が防止されることがある。 In addition, as shown in Patent Document 3, there is a microplasma device that generates plasma by applying an electric field between opposed flat-plate electrodes having a gap of the order of 10 to 100 μm. In this device, the discharge space is expanded by the size of the area of the opposing plate electrodes, and atmospheric molecules efficiently cause ionization and electron transfer reactions by randomly generated streamer discharge, resulting in ozone, ions, radicals, etc. A large amount of active species is generated. At the same time, when used as a discharge space passage treatment type, there is an advantage that the flow rate of the air to be treated can be increased. The advantage of this device is that local material deterioration of the electrode may be prevented by using a flat plate electrode.

特開２００２−０９５７３１号公報JP 2002-095731 A 特開２００２−３３６６８９号公報JP 2002-336689 A 特開２００９−７８２６６号公報JP 2009-78266 A

特許文献１に示す活性種放散タイプの技術は、プラズマにより発生させた活性種を菌・ウイルス・臭い成分と反応させるとしているが、居住空間で運転する場合、人体に害のない範囲で活性種を放散させなければならないという制約があるため、強力な効果は見込めない。また、特許文献２に示す放電空間通過処理タイプは放電空間に汚染空気を通すことで電撃やラジカルなどの強力な浄化因子に触れさせることを狙っているため、殺菌性は高いと考えられるが、処理空気量が放電範囲に限定されるという問題がある。 The active species-dissipating type technique shown in Patent Document 1 is intended to react active species generated by plasma with bacteria, viruses, and odor components. Due to the restriction that must be dissipated, a strong effect cannot be expected. In addition, since the discharge space passage treatment type shown in Patent Document 2 aims to touch powerful purification factors such as electric shock and radicals by passing contaminated air through the discharge space, it is considered that bactericidal properties are high. There is a problem that the amount of processing air is limited to the discharge range.

一方、従来のフィルタや吸着材による汚染物質除去は、フィルタや吸着材は時間が経つと飽和へと向かうため、定期的な交換が必要である。また、薬剤散布は薬剤の補填が不可欠であるという点で手間を要する。そのため、メンテナンス性の高い除菌技術が要望されている。 On the other hand, the removal of contaminants by conventional filters and adsorbents requires periodic replacement because the filters and adsorbents become saturated over time. In addition, the spraying of medicine requires labor in that it is indispensable to supplement the medicine. Therefore, there is a demand for a highly maintainable sterilization technique.

本発明は上記状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、マイクロプラズマを用いた除菌において、より高い効果を発揮でき、メンテナンス性にも優れた空調装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above situation, and an object of the present invention is to provide an air conditioner that can exhibit a higher effect in sterilization using microplasma and has excellent maintainability.

本発明に係る送風手段の働きにより、空調対象空間内の気体を処理空間に吸引して前記空調対象空間に戻す送風路であるダクトを備え、前記ダクトが建造物の居住スペース外に配置された空調装置の特徴構成は、前記処理空間に配設されるマイクロプラズマ発生手段と、前記マイクロプラズマ発生手段に送られる気体を加湿する加湿手段とを備え、前記マイクロプラズマ発生手段が、前記気体の流れ方向を横断して互いに略平行に配置される一対の電極板と、前記電極板にプラズマ発生用の電圧を印加する電圧印加装置とを備えて構成されるとともに、前記一対の電極板の夫々に、前記気体が通過可能な貫通孔を前記電極板の厚み方向に形成して構成され、前記一対の電極板の対向する表面の少なくとも一方に誘電体層が形成され、
前記マイクロプラズマ発生手段に到達する前記気体を、前記加湿手段により加湿して、前記マイクロプラズマ発生手段で発生するマイクロプラズマの除菌能を維持できる好適湿度範囲に維持する湿度調整手段と、
前記気体の流れ方向で前記マイクロプラズマ発生手段より下流側に位置する前記ダクトの吐出口近傍において、前記気体の流れ方向を横断する形態で設けられたオゾン分解除去手段と、
前記気体が前記貫通孔を通過後、所定時間の間、前記処理空間内に滞留する滞留空間として、前記マイクロプラズマ発生手段と前記オゾン分解除去手段の間に備え、
前記ダクト内に、前記加湿手段、前記マイクロプラズマ発生手段、前記滞留空間、前記オゾン分解除去手段の順に設けられる点にある。 By the function of the air blowing means according to the present invention , a duct that is a ventilation path that sucks the gas in the air-conditioning target space into the processing space and returns it to the air-conditioning target space is provided , and the duct is arranged outside the living space of the building A characteristic configuration of the air conditioner includes: a microplasma generating unit disposed in the processing space; and a humidifying unit that humidifies a gas sent to the microplasma generating unit, wherein the microplasma generating unit is configured to flow the gas. A pair of electrode plates arranged substantially parallel to each other across the direction, and a voltage applying device for applying a voltage for generating plasma to the electrode plates, and each of the pair of electrode plates The through-hole through which the gas can pass is formed in the thickness direction of the electrode plate, and a dielectric layer is formed on at least one of the opposing surfaces of the pair of electrode plates,
Humidity adjusting means for humidifying the gas that reaches the microplasma generating means by the humidifying means, and maintaining a suitable humidity range in which the sterilization ability of the microplasma generated by the microplasma generating means can be maintained ;
In the vicinity of the duct outlet located downstream of the microplasma generating means in the gas flow direction, ozone decomposing / removing means provided in a form crossing the gas flow direction;
As a residence space in which the gas stays in the processing space for a predetermined time after passing through the through hole, it is provided between the microplasma generation means and the ozone decomposition removal means,
In the duct, the humidifying means, the microplasma generating means, the staying space, and the ozone decomposing / removing means are provided in this order .

この特徴構成によれば、加湿手段によって、マイクロプラズマ発生手段に送られる気体は、適切に加湿される。このとき湿度調整手段によって、加湿手段はマイクロプラズマの除菌能を維持できる好適な湿度範囲となるように気体を加湿する。よって、マイクロプラズマ発生手段の除菌効率を高めることが出来る。また、マイクロプラズマに送られる気体は複数の貫通孔を通過することで処理されるため、被処理気体の流量を多くとれるとともに、平板に配置される電極を用いるため、電極の局所的な材料劣化が防止される。よって、この特徴構成によれば、マイクロプラズマを用いた除菌において、より高い効果を発揮でき、メンテナンス性にも優れた空調装置を提供することができる。
ここで、発明者らは、鋭意研究の結果、マイクロプラズマ発生手段により生成した活性種と浮遊菌との混合気体において、浮遊菌の死滅率は、混合直後よりも混合後所定時間経過させた場合の方が高くなることを見出した。すなわち、発明者らは、マイクロプラズマ発生手段により生成した活性種による除菌効果を高める為には、除菌対象の気体と活性種とが混合された後、活性種の除菌効果が高まる程度の時間、滞留させる必要があるとの結論に到った。この結論は発明者らが初めて見出した新知見である。この点、この構成によれば、マイクロプラズマ発生手段に送られた気体が、貫通孔の通過後、マイクロプラズマ発生手段により生成した活性種と所定時間混在する状態を実現する。よって、マイクロプラズマを用いた除菌において、より高い効果を発揮できる空調装置を提供することができる。
加えて、この構成によれば、マイクロプラズマ発生手段により生成されたオゾンは、除菌された気体とともにオゾン分解除去手段に導かれ、オゾン分解除去手段により無害な酸素分子に変化する。よって、オゾンが空調装置の外部に流出することを抑制することができる。しかも、オゾンは酸素分子に変化する過程で酸素原子として存在するため、オゾン分解除去手段に導かれた気体は、当該酸素原子によってもさらに除菌される。すなわち、オゾン分解除去手段を設けることで、マイクロプラズマ発生手段を用いて気体の除菌を行う際にオゾンが生成されるという課題を解決できるとともに、気体の除菌効果を高めることが可能となる。よって、マイクロプラズマを用いた除菌において、より一層高い効果を発揮できる空調装置を提供することができる。 According to this characteristic configuration, the gas sent to the microplasma generating means is appropriately humidified by the humidifying means. At this time, the humidity adjusting means humidifies the gas so that the humidifying means has a suitable humidity range in which the microplasma disinfection ability can be maintained. Therefore, the sterilization efficiency of the microplasma generating means can be increased. In addition, since the gas sent to the microplasma is processed by passing through a plurality of through-holes, the flow rate of the gas to be processed can be increased, and the electrodes disposed on the flat plate are used. Is prevented. Therefore, according to this characteristic configuration, it is possible to provide an air conditioner that can exhibit a higher effect in sterilization using microplasma and is excellent in maintainability.
Here, the inventors, as a result of earnest research, in the mixed gas of active species and floating bacteria generated by the microplasma generating means, the killing rate of the floating bacteria is when the predetermined time has passed after mixing than immediately after mixing I found that was higher. That is, the inventors have increased the sterilization effect of the active species after the gas to be sterilized and the active species are mixed in order to enhance the sterilization effect by the active species generated by the microplasma generating means. It was concluded that it was necessary to stay for a long time. This conclusion is a new finding discovered by the inventors for the first time. In this respect, according to this configuration, a state is realized in which the gas sent to the microplasma generating unit is mixed with the active species generated by the microplasma generating unit for a predetermined time after passing through the through hole. Therefore, it is possible to provide an air conditioner that can exhibit a higher effect in sterilization using microplasma.
In addition, according to this configuration, the ozone generated by the microplasma generating unit is guided to the ozone decomposing / removing unit together with the sterilized gas, and changed into harmless oxygen molecules by the ozone decomposing / removing unit. Therefore, it is possible to suppress ozone from flowing out of the air conditioner. Moreover, since ozone exists as oxygen atoms in the process of changing to oxygen molecules, the gas introduced to the ozonolysis removal means is further sterilized by the oxygen atoms. That is, by providing the ozone decomposing / removing means, it is possible to solve the problem that ozone is generated when the gas is sterilized using the microplasma generating means, and it is possible to enhance the gas sterilizing effect. . Therefore, it is possible to provide an air conditioner that can exhibit even higher effects in sterilization using microplasma.

ここで、前記マイクロプラズマ発生手段に送られる気体の温度を調整する温度調整手段を備え、前記湿度調整手段は、前記加湿手段及び前記温度調整手段を働かせて、前記加湿手段により加湿された前記気体が前記マイクロプラズマ発生手段で結露を発生しない温湿度に、前記気体を調整すると好適である。 Here, a temperature adjusting means for adjusting the temperature of the gas sent to the microplasma generating means is provided, and the humidity adjusting means works the humidifying means and the temperature adjusting means, and the gas humidified by the humidifying means. However, it is preferable to adjust the gas to a temperature and humidity that does not cause condensation in the microplasma generating means.

この構成によれば、マイクロプラズマ発生手段に送られる気体の温度と湿度の両方を調整することができるので、結露の発生を抑制してマイクロプラズマを良好に発生しながら、マイクロプラズマを用いた除菌において、より高い効果を発揮できる空調装置を提供することができる。 According to this configuration, it is possible to adjust both the temperature and humidity of the gas sent to the microplasma generating means, so that the generation of condensation is suppressed and the microplasma is generated satisfactorily, and the removal using the microplasma is performed. It is possible to provide an air conditioner that can exhibit a higher effect in bacteria.

また、前記加湿手段が、前記送風路にミストを噴霧して前記気体を加湿する、又は前記空調対象空間内にミストを噴霧して前記気体を加湿すると好適である。 It is preferable that the humidifying means sprays mist on the air passage to humidify the gas, or sprays mist in the air-conditioning target space to humidify the gas.

この構成によれば、マイクロプラズマ発生手段に送られる気体を加湿するために必要な機構としては、ミストを噴霧するだけで良いので、空調装置の製造コストを抑えることが出来る。また、ミストの噴霧場所は送風路又は空調対象空間内のいずれでも構わないので、空調装置の設計の自由度を高めることが出来、メンテナンス性にも優れた空調装置を提供することができる。 According to this configuration, as the mechanism necessary for humidifying the gas sent to the microplasma generating means, it is only necessary to spray mist, so that the manufacturing cost of the air conditioner can be suppressed. Further, since the mist spraying place may be either the air passage or the air conditioning target space, the degree of freedom in designing the air conditioning apparatus can be increased, and an air conditioning apparatus excellent in maintainability can be provided.

また、前記湿度調整手段は、前記気体の湿度を５０％ＲＨ以上９０％ＲＨ以下の前記好適湿度範囲に維持すると好適である。 The humidity adjusting means preferably maintains the humidity of the gas in the preferred humidity range of 50% RH to 90% RH.

ここで、好適湿度範囲としては、より好ましくは、７０％ＲＨ以上８５％以下の範囲とすると良い。この構成によれば、最も効果的にマイクロプラズマ発生手段により活性種を発生させることが出来る。 Here, the preferable humidity range is more preferably in the range of 70% RH to 85%. According to this configuration, active species can be generated most effectively by the microplasma generating means.

本発明の第一実施形態に係る空調装置の模式図である。It is a mimetic diagram of an air-conditioner concerning a first embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係るマイクロプラズマ発生手段の概略図である。It is the schematic of the microplasma generation means which concerns on embodiment of this invention. 本発明の参考形態に係る空調装置の模式図である。It is a schematic diagram of the air conditioner which concerns on the reference form of this invention. マイクロプラズマを用いた実験の装置構成を示す図である。It is a figure which shows the apparatus structure of the experiment using microplasma. マイクロプラズマによる浮遊菌の除菌効果を示す図である。It is a figure which shows the disinfection effect of the floating microbe by microplasma.

人が生活する建造物の空調システムは、大きく分類して個別空調システムと全館空調システムとがある。個別空調システムは、一室ごとに空調機器を設置し空調するものであり、全館空調システムは、複数の部屋を一つの空調機器で一斉に空調するものである。全館空調システムの最も一般的な手法としては、建造物内の各部屋に繋がるダクトを設け、そのダクトで連結された部屋を大型空調機で一斉に空調するものがある。このような手法は、集合住宅やビルなどの部屋数の多い建造物でよく導入されている。全館空調システムで用いられるダクトは天井、壁の内側、床下などの居住スペース外に配置されるという特徴がある。 Air conditioning systems for buildings where people live can be broadly classified into individual air conditioning systems and whole building air conditioning systems. The individual air conditioning system installs an air conditioning device for each room and air-conditions it. The entire building air conditioning system air-conditions a plurality of rooms all at once with one air conditioning device. The most common method of the entire building air conditioning system is to provide a duct connected to each room in the building and to air-condition the rooms connected by the duct all at once with a large air conditioner. Such a technique is often introduced in buildings with a large number of rooms such as apartment houses and buildings. The duct used in the entire building air conditioning system is characterized by being placed outside the living space such as the ceiling, the inside of the wall, or under the floor.

以下では、まず、第一実施形態として、全館空調システムに用いられるダクト内にマイクロプラズマ発生装置を始めとする各種装置を取り付け、本発明に係る空調装置として構成した実施形態を説明する。 Hereinafter, as the first embodiment, an embodiment in which various devices such as a microplasma generator are attached to a duct used in the entire building air conditioning system and configured as an air conditioner according to the present invention will be described.

次に、第二実施形態として、個別空調システムの一例である浴室暖房乾燥機にマイクロプラズマ発生装置を始めとする各種装置を取り付け、本発明に係る空調装置として構成した実施形態を説明する。 Next, as a second embodiment, an embodiment will be described in which various devices including a microplasma generator are attached to a bathroom heater / dryer, which is an example of an individual air conditioning system, and configured as an air conditioner according to the present invention.

〔第一実施形態〕
１.空調装置の概略構成
本実施形態における空調装置１０２は、図１に示すように、例えばビルなどの建造物内において、室内１０１の換気を行うために天井に設けられたダクト１３０を装置の筐体として備えるとともに、ダクト１３０内部に設置されたマイクロプラズマ発生装置６、換気ファン１０３、及び後述する各種機器で構成されている。ダクト１３０は、換気ファン１０３の働きにより室内１０１の空気を吸引するための吸引口１２１と、吸引された空気を室内１０１に戻すための吐出口１２２とにより、室内１０１と連通している。よって、ダクト１３０は、本発明における『送風路』としての役割をも果たす。 [First embodiment]
1. Schematic Configuration of Air Conditioner As shown in FIG. 1, an air conditioner 102 according to this embodiment includes a duct 130 provided on a ceiling for ventilating a room 101 in a building such as a building. In addition to being provided as a housing, the micro plasma generator 6, the ventilation fan 103, and various devices described later are installed inside the duct 130. The duct 130 communicates with the room 101 by a suction port 121 for sucking the air in the room 101 by the function of the ventilation fan 103 and a discharge port 122 for returning the sucked air to the room 101. Therefore, the duct 130 also serves as a “fan passage” in the present invention.

本実施形態では、室内１０１が本発明における『空調対象空間』に相当し、マイクロプラズマ発生装置６が本発明における『マイクロプラズマ発生手段』に相当し、換気ファン１０３が本発明における『送風手段』に相当し、室内１０１の空気が本発明における『気体』に相当する。また、ダクト１３０内部の吸引口１２１から吐出口１２２へと流れる空気の流通方向に基づき、以下では、吸引口１２１側を「上流側」、吐出口１２２側を「下流側」と呼ぶ。 In the present embodiment, the room 101 corresponds to the “air-conditioning target space” in the present invention, the microplasma generator 6 corresponds to the “microplasma generating means” in the present invention, and the ventilation fan 103 corresponds to the “air blowing means” in the present invention. The air in the room 101 corresponds to “gas” in the present invention. Further, based on the flow direction of the air flowing from the suction port 121 to the discharge port 122 inside the duct 130, the suction port 121 side is hereinafter referred to as “upstream side” and the discharge port 122 side is referred to as “downstream side”.

換気ファン１０３は、マイクロプラズマ発生装置６より上流側に設けられている。換気ファン１０３は、マイクロプラズマ発生装置６に室内１０１の空気を送るとともに、マイクロプラズマ発生装置６で発生するイオンやラジカルなどの活性種をダクト１３０内部の一定範囲（マイクロプラズマ発生装置６の下流側）に拡散させる。このようなにして、マイクロプラズマ発生装置６で発生する活性種を空気と混合、反応させることで、空調装置１０２はダクト１３０内部を流れる空気の浄化を行う。ここで、マイクロプラズマ発生装置６で発生する活性種と空気とが相互作用し、空気の浄化処理が行われる空間を処理空間１０４と呼ぶ。具体的には、処理空間１０４は、ダクト１３０内部において、マイクロプラズマ発生装置６の近傍、及びマイクロプラズマ発生装置６から吐出口１２２に至るまでの空間である。すなわち、マイクロプラズマ発生装置６は処理空間１０４内に配設されている。 The ventilation fan 103 is provided on the upstream side of the microplasma generator 6. The ventilation fan 103 sends air in the room 101 to the microplasma generator 6, and activates active species such as ions and radicals generated in the microplasma generator 6 within a certain range inside the duct 130 (on the downstream side of the microplasma generator 6). ). In this way, the air conditioner 102 purifies the air flowing inside the duct 130 by mixing and reacting the active species generated by the microplasma generator 6 with the air. Here, a space in which the active species generated in the microplasma generator 6 interact with air and the air purification process is performed is referred to as a processing space 104. Specifically, the processing space 104 is a space in the duct 130 in the vicinity of the microplasma generator 6 and from the microplasma generator 6 to the discharge port 122. That is, the microplasma generator 6 is disposed in the processing space 104.

ここで、後述する実験結果に示すように、マイクロプラズマ発生装置６において効率的に活性種を発生させるためには、マイクロプラズマ発生装置６に送られる空気は適度に加湿されていることが望ましいことが分かっている。また、活性種によって、より高い除菌効果を得るためには、活性種と空気とが長時間混在された状態にあることが望ましい。加えて、マイクロプラズマ発生装置６は放電電圧を上昇させることにより、放電空間での電離が促進され、活性種が大量に発生することが知られている。 Here, as shown in the experimental results to be described later, in order to efficiently generate active species in the microplasma generator 6, it is desirable that the air sent to the microplasma generator 6 is appropriately humidified. I know. Moreover, in order to obtain a higher sterilization effect depending on the active species, it is desirable that the active species and air are mixed for a long time. In addition, it is known that the microplasma generator 6 increases the discharge voltage, thereby promoting ionization in the discharge space and generating a large amount of active species.

そこで、本実施形態における空調装置１０２は、マイクロプラズマ発生装置６に送られる空気の湿度を調整するため、当該空気を加湿するためのミストノズル１１５と、当該空気の温度を調整するための熱交換器１０７とを備える。さらに、ミストノズル１１５及び熱交換器１０７を制御するための制御手段１１６を備えている。また、マイクロプラズマ発生装置６で発生した活性種と空気とが長時間混在する状態におかれるように、マイクロプラズマ発生装置６はダクト１３０内において上流側寄りに配置されており、マイクロプラズマ発生装置６の下流側には、空気と活性種とが混在する状態で所定時間の間、処理空間１０４内に滞留するように滞留空間１１７が形成されている。また、マイクロプラズマ発生装置６の放電電圧を上昇させた場合、オゾンの発生量も増加するため、マイクロプラズマ発生装置６の下流側には、オゾン分解除去触媒フィルタ１３が設けられている。以下では、これら装置類の構成について上流側から順に説明する。 Therefore, the air conditioner 102 in the present embodiment adjusts the humidity of the air sent to the microplasma generator 6 and heat exchange for adjusting the temperature of the air with the mist nozzle 115 for humidifying the air. Device 107. Furthermore, the control means 116 for controlling the mist nozzle 115 and the heat exchanger 107 is provided. Further, the microplasma generator 6 is arranged on the upstream side in the duct 130 so that the active species generated in the microplasma generator 6 and air are mixed for a long time. A retention space 117 is formed on the downstream side of 6 so as to stay in the processing space 104 for a predetermined time in a state where air and active species are mixed. Further, when the discharge voltage of the microplasma generator 6 is increased, the amount of ozone generated also increases. Therefore, an ozone decomposition removal catalyst filter 13 is provided on the downstream side of the microplasma generator 6. Below, the structure of these apparatuses is demonstrated in order from an upstream.

なお、本実施形態では、ミストノズル１１５が本発明における『加湿手段』に相当し、熱交換器１０７が本発明における『温度調整手段』に相当し、制御手段１１６が本発明における『湿度調整手段』に相当し、オゾン分解除去触媒フィルタ１３が本発明における『オゾン分解除去手段』に相当する。 In this embodiment, the mist nozzle 115 corresponds to the “humidifying means” in the present invention, the heat exchanger 107 corresponds to the “temperature adjusting means” in the present invention, and the control means 116 corresponds to the “humidity adjusting means in the present invention. The ozone decomposition removal catalyst filter 13 corresponds to “ozone decomposition removal means” in the present invention.

２．各機器類の構成
２−１．ミストノズル
空調装置１０２には、ダクト１３０内を流れる空気を加湿するために、ダクト１３０内にミストを散布するミストノズル１１５が設けられている。ミストノズル１１５は、図示しない熱源機と接続されており、当該熱源機から供給される温水又は水をミスト状にしてダクト１３０内に散布するように構成されている。ミストノズル１１５は、ダクト１３０内において最上流側に設けられている。具体的には、マイクロプラズマ発生装置６及び換気ファン１０３よりも上流側に設けられている。 2. Configuration of each device 2-1. Mist nozzle The air conditioner 102 is provided with a mist nozzle 115 for spraying mist in the duct 130 in order to humidify the air flowing in the duct 130. The mist nozzle 115 is connected to a heat source device (not shown), and is configured to spray hot water or water supplied from the heat source device into the mist 130 in the form of a mist. The mist nozzle 115 is provided on the most upstream side in the duct 130. Specifically, it is provided upstream of the microplasma generator 6 and the ventilation fan 103.

上記熱源機は、室外に設置され、空調装置１０２に対して温水を循環供給するように構成されている。また、詳述しないが、温水を循環供給する機能に加え、ミストノズル１１５及び室内１０１の一般給湯栓などに対する給湯機能も有している。 The heat source device is installed outside and is configured to circulate and supply hot water to the air conditioner 102. Although not described in detail, in addition to the function of circulating and supplying hot water, it also has a hot water supply function for the mist nozzle 115 and the general hot water tap in the room 101.

また、ミストノズル１１５の近接位置には湿度センサ１２４（湿度取得手段）が備えられており、ミストノズル１１５により加湿される空気の湿度を検出可能に構成されている。本実施形態では、湿度センサ１２４は、ミストノズル１１５の上流側近傍で、ミストノズル１１５によって散布されるミストがかからない位置に設けられている。ミストノズル１１５と湿度センサ１２４とは、後述するように、制御手段１１６によってダクト１３０内に吸引された空気を適切に加湿するように制御される。 In addition, a humidity sensor 124 (humidity acquisition means) is provided at a position close to the mist nozzle 115 so that the humidity of the air humidified by the mist nozzle 115 can be detected. In the present embodiment, the humidity sensor 124 is provided in the vicinity of the upstream side of the mist nozzle 115 at a position where mist sprayed by the mist nozzle 115 is not applied. As will be described later, the mist nozzle 115 and the humidity sensor 124 are controlled to appropriately humidify the air sucked into the duct 130 by the control means 116.

２−２．熱交換器
マイクロプラズマ発生装置６に、湿度の高い空気を送る場合、当該空気により電極板８表面で結露が起きると、結露水により一対の電極板８間が導通し、マイクロプラズマを発生できなくなる怖れがある。そのため、空調装置１０２は、マイクロプラズマ発生装置６へと供給される空気がマイクロプラズマ発生装置６において結露を起こさない程度の温湿度となるように、ミストノズル１１５に加え、空気を加熱するための熱交換器１０７を備えている。熱交換器１０７は、ダクト１３０において、空気の流れ方向に対して、マイクロプラズマ発生装置６の上流側に位置するように設けられている。すなわち、換気ファン１０３の働きにより、ダクト１３０内に吸引された空気が、熱交換器１０７を通過した後に、マイクロプラズマ発生装置６内の処理空間４を通過するように構成されている。熱交換器７は、熱源機から供給される温水と、ダクト１３０内に吸引された空気と、を熱交換するように構成されている。 2-2. When high-humidity air is sent to the heat exchanger microplasma generator 6, if condensation occurs on the surface of the electrode plate 8 due to the air, the dew condensation water makes the pair of electrode plates 8 conductive, and microplasma cannot be generated. I'm scared. Therefore, the air conditioner 102 heats the air in addition to the mist nozzle 115 so that the air supplied to the microplasma generator 6 has a temperature and humidity that does not cause condensation in the microplasma generator 6. A heat exchanger 107 is provided. The heat exchanger 107 is provided in the duct 130 so as to be positioned upstream of the microplasma generator 6 with respect to the air flow direction. That is, the ventilation fan 103 is configured so that the air sucked into the duct 130 passes through the processing space 4 in the microplasma generator 6 after passing through the heat exchanger 107. The heat exchanger 7 is configured to exchange heat between the hot water supplied from the heat source device and the air sucked into the duct 130.

また、熱交換器１０７の近接位置には温度センサ１２７（温度取得手段）が備えられており、熱交換器１０７により加熱される空気の温度を検出可能に構成されている。本実施形態では、温度センサ１２７は熱交換器１０７の上流側で、換気ファン１０３よりも下流側の位置に設けられている。熱交換器１０７と温度センサ１２７とは、後述するように、制御手段１１６によってダクト１３０内に吸引された空気を適切に加熱するように制御される。 In addition, a temperature sensor 127 (temperature acquisition means) is provided at a position close to the heat exchanger 107 so that the temperature of the air heated by the heat exchanger 107 can be detected. In the present embodiment, the temperature sensor 127 is provided on the upstream side of the heat exchanger 107 and on the downstream side of the ventilation fan 103. As will be described later, the heat exchanger 107 and the temperature sensor 127 are controlled so as to appropriately heat the air sucked into the duct 130 by the control means 116.

２−３．制御手段
空調装置１０２は、マイクロプラズマ発生装置６に送られる空気を、ミストノズル１１５により加湿するとともに、熱交換器１０７で加熱することで、マイクロプラズマ発生装置６で発生するマイクロプラズマの除菌能を好適に維持できる好適湿度範囲に維持するための制御手段１１６を備えている。制御手段１１６は、湿度センサ１２４、ミストノズル１１５、換気ファン１０３、熱交換器１０７、及び温度センサ１２７と電気的に接続されている。本実施形態においては、制御手段１１６が本発明における『湿度調整手段』に相当する。 2-3. Control unit The air conditioner 102 sterilizes the microplasma generated in the microplasma generator 6 by humidifying the air sent to the microplasma generator 6 with the mist nozzle 115 and heating it with the heat exchanger 107. The control means 116 for maintaining in the suitable humidity range which can maintain suitably is provided. The control means 116 is electrically connected to the humidity sensor 124, the mist nozzle 115, the ventilation fan 103, the heat exchanger 107, and the temperature sensor 127. In the present embodiment, the control means 116 corresponds to the “humidity adjusting means” in the present invention.

制御手段１１６は、換気ファン１０３が動作している場合に、湿度センサ１２４及び温度センサ１２７の出力情報に基づいて、ミストノズル１１５及び熱交換器１０７を働かせ、ミストノズル１１５で加湿された空気が、マイクロプラズマ発生装置６において結露を発生させないように空気の温湿度を調整する。湿度の調整にあたっては、ダクト１３０に吸引された空気が乾燥状態にあり、マイクロプラズマ発生装置６において結露する心配がない場合には、熱交換器１０７を働かせないなど、ミストノズル１１５と熱交換器１０７とは適宜制御すると良い。マイクロプラズマ発生装置６に送る空気の湿度は、５０％ＲＨ以上９０％ＲＨ以下の範囲、より好ましくは７０％ＲＨ以上８５％ＲＨ以下であると良い。この範囲（好適湿度範囲）に維持すると、マイクロプラズマ発生装置６において最も活性種を大量に発生させることが出来、好適である。 The control means 116 operates the mist nozzle 115 and the heat exchanger 107 based on the output information of the humidity sensor 124 and the temperature sensor 127 when the ventilation fan 103 is operating, and the air humidified by the mist nozzle 115 is The temperature and humidity of the air are adjusted so that no condensation occurs in the microplasma generator 6. When adjusting the humidity, if the air sucked into the duct 130 is in a dry state and there is no fear of condensation in the microplasma generator 6, the heat exchanger 107 does not work. For example, the mist nozzle 115 and the heat exchanger 107 may be appropriately controlled. The humidity of the air sent to the microplasma generator 6 may be in the range of 50% RH to 90% RH, more preferably 70% RH to 85% RH. Maintaining this range (preferable humidity range) is preferable because it can generate the most active species in the microplasma generator 6.

２−４．マイクロプラズマ発生手段
マイクロプラズマ発生装置６は、図２に示すように、一対の電極板８及び高周波電源９により構成されている。マイクロプラズマ発生装置６を構成する一対の電極板８は、ハウジング６０、６１により固定支持されている。具体的には、ハウジング６０、６１は、一対の電極板８を挟持した状態で、ボルト６２及びナット６３より成る締結機構により互いに締結固定されている。除菌対象の流体である空気は、ハウジング６０、６１の内部に形成された空間を、図２に破線矢印で示す方向に流れる。 2-4. Microplasma Generating Unit The microplasma generating device 6 includes a pair of electrode plates 8 and a high frequency power source 9 as shown in FIG. A pair of electrode plates 8 constituting the microplasma generator 6 is fixedly supported by housings 60 and 61. Specifically, the housings 60 and 61 are fastened and fixed to each other by a fastening mechanism including a bolt 62 and a nut 63 with the pair of electrode plates 8 being sandwiched. Air, which is the fluid to be sterilized, flows in the space formed inside the housings 60 and 61 in the direction indicated by the dashed arrow in FIG.

ここで、マイクロプラズマ発生装置６は、図１に示すように、ダクト１３０内における空気の流通方向と、マイクロプラズマ発生装置６内部を流れる空気の流通方向が一致するようにダクト１３０内に固定されている。また、本実施形態においては、ダクト１３０内を流れる空気が全量、マイクロプラズマ発生装置６内に導かれるように、ハウジング６０、６１の外周面とダクト１３０の内周面とが一致するように構成されている。マイクロプラズマ発生装置６は、ダクト１３０内において熱交換器１０７と吐出口１２２との間に設けられている。 Here, as shown in FIG. 1, the microplasma generator 6 is fixed in the duct 130 so that the air flow direction in the duct 130 and the air flow direction in the microplasma generator 6 coincide. ing. Further, in the present embodiment, the outer peripheral surfaces of the housings 60 and 61 and the inner peripheral surface of the duct 130 are configured to coincide with each other so that all the air flowing through the duct 130 is guided into the microplasma generator 6. Has been. The microplasma generator 6 is provided between the heat exchanger 107 and the discharge port 122 in the duct 130.

ところで、マイクロプラズマ発生装置６が設けられるダクト１３０内部は、基本的に人が侵入することはないため、マイクロプラズマ発生装置６により高濃度かつ強力な活性種を発生させることができる。すなわち、本実施形態においては、電極板８に印加する電圧を高くして、電極板８間の間に形成される空間である放電空間での電離を促し、マイクロプラズマによる活性種を大量に発生させて構わない。 By the way, since the inside of the duct 130 in which the microplasma generator 6 is provided does not basically intrude, the microplasma generator 6 can generate a high concentration and powerful active species. That is, in this embodiment, the voltage applied to the electrode plates 8 is increased to promote ionization in the discharge space, which is a space formed between the electrode plates 8, and a large amount of active species is generated by microplasma. It does n’t matter.

マイクロプラズマ発生装置６は、図２に示すように、ダクト１３０内における空気の流通方向を横断して互いに略平行に配置される一対の電極板８と、電極板８にプラズマ発生用の電圧を印加する高周波電源９とを備えて構成されるとともに、一対の電極板８の夫々に、除菌対象の流体である空気が通過可能な貫通孔１０を電極板８の厚み方向に形成して構成されている。本実施形態では、高周波電源９が本発明における『電圧印加装置』に相当する。また、詳細は後述するが、一対の電極板８の対向する表面には誘電体膜（図示せず）が形成されている。高周波電源９と一対の電極板８のそれぞれとは電気配線により電気的に接続されている。そして、一対の電極板８間に高周波電源９から交流電圧を印加することで、一対の電極板８間にストリーマ形式の誘電体バリア放電を生起させ、マイクロプラズマを生成することができる。このマイクロプラズマにより生成された活性種（ＯＨラジカルやＯ原子と考えられる）が、一対の電極板８に形成された貫通孔１０を通過する空気の流れにより、ダクト１３０内を所定時間滞留するように滞留空間１１７に散布される。 As shown in FIG. 2, the microplasma generator 6 includes a pair of electrode plates 8 disposed substantially parallel to each other across the air flow direction in the duct 130, and a voltage for generating plasma on the electrode plates 8. A high-frequency power source 9 to be applied is configured, and a through-hole 10 through which air as a fluid to be sterilized can pass is formed in the thickness direction of the electrode plate 8 in each of the pair of electrode plates 8. Has been. In the present embodiment, the high-frequency power source 9 corresponds to a “voltage application device” in the present invention. Although details will be described later, a dielectric film (not shown) is formed on the opposing surfaces of the pair of electrode plates 8. The high frequency power supply 9 and each of the pair of electrode plates 8 are electrically connected by electric wiring. Then, by applying an AC voltage from the high-frequency power source 9 between the pair of electrode plates 8, streamer-type dielectric barrier discharge can be generated between the pair of electrode plates 8, and microplasma can be generated. The active species (considered as OH radicals and O atoms) generated by the microplasma stay in the duct 130 for a predetermined time by the flow of air passing through the through holes 10 formed in the pair of electrode plates 8. In the staying space 117.

電極板８は、大気圧中でマイクロプラズマを発生させるための電極として用いるため、高温での耐酸化性を有する各種のステンレス鋼で形成されたものを用いるのが好ましい。このようなステンレス鋼としては、例えば、マルテンサイト系ステンレス鋼（martensitic stainless steels）、フェライト系ステンレス鋼（ferritic stainless steels）、オーステナイト系ステンレス鋼（austenitic stainless steels）、オーステナイト・フェライト系ステンレス鋼（austenitic-ferritic stainless steels）、析出硬化系ステンレス鋼（precipitation hardening stainless steels）等がある。なお、ステンレス鋼以外の金属を用いて電極板８を形成しても良い。ここで、電極板８の板厚（図２における空気の流通方向の厚み）は、１ｍｍ以上とするのが好ましい。 Since the electrode plate 8 is used as an electrode for generating microplasma at atmospheric pressure, it is preferable to use one made of various stainless steels having oxidation resistance at high temperatures. Examples of such stainless steel include martensitic stainless steels, ferritic stainless steels, austenitic stainless steels, and austenitic-stainless steels. ferritic stainless steels) and precipitation hardening stainless steels. The electrode plate 8 may be formed using a metal other than stainless steel. Here, the plate thickness of the electrode plate 8 (thickness in the air flow direction in FIG. 2) is preferably 1 mm or more.

電極板８には空気が通過可能な貫通孔１０が厚み方向に複数形成されている。本実施形態では、貫通孔１０は、断面形状が円形であり、平面視で六方格子（三角格子、６０度千鳥）状に配置されている。複数の貫通孔１０は同一の孔径φを有しており、貫通孔１０間に位置する電極板部分に関し、隣接して配置される貫通孔１０間の最小離間長さｓは、貫通孔１０によらず一定の値となっている。電極板８に形成される貫通孔１０の孔径φは、１．５ｍｍ以上３ｍｍ以下とするのが好ましい。従って、この構造のマイクロプラズマ発生装置６は流路抵抗が低い。 A plurality of through holes 10 through which air can pass are formed in the electrode plate 8 in the thickness direction. In the present embodiment, the through hole 10 has a circular cross-sectional shape and is arranged in a hexagonal lattice (triangular lattice, 60 degrees staggered) shape in plan view. The plurality of through-holes 10 have the same hole diameter φ, and the minimum separation length s between the adjacent through-holes 10 with respect to the electrode plate portions located between the through-holes 10 is Regardless of the value. The hole diameter φ of the through hole 10 formed in the electrode plate 8 is preferably 1.5 mm or more and 3 mm or less. Therefore, the microplasma generator 6 having this structure has a low flow resistance.

本実施形態に係るマイクロプラズマ発生装置６は、一対の電極板８間に誘電体バリア放電を生起させマイクロプラズマを発生させる。そのため、一対の電極板８の互いに対向する面のうち少なくとも一方の面には誘電体膜（図示せず）を形成することになる。そこで、電極板８に隣接して配設される貫通孔１０間に位置する電極板部分に関し、隣接して配設される貫通孔１０間の最小離間長さｓは、少なくとも１ｍｍとするのが好ましい。 The microplasma generator 6 according to the present embodiment generates a dielectric plasma by generating a dielectric barrier discharge between the pair of electrode plates 8. Therefore, a dielectric film (not shown) is formed on at least one surface of the pair of electrode plates 8 facing each other. Therefore, regarding the electrode plate portion located between the through holes 10 disposed adjacent to the electrode plate 8, the minimum separation length s between the adjacent through holes 10 is at least 1 mm. preferable.

先にも述べたように、電極板８の表面には誘電体膜が形成されている。本実施形態では、上記のように、一対の電極板８間に誘電体バリア放電を生起させるため、一対の電極板８の互いに対向する面のうち少なくとも一方の面或いは双方の面には誘電体膜を形成することとなる。また、これらの面に加え、貫通孔１０の内周面にも誘電体膜を形成する構成としてもよい。このように誘電体膜を形成することで、一対の電極板８間に安定してマイクロプラズマを発生させることができる。誘電体膜の膜厚は、例えば、５０μｍ以上５００μｍ以下とすることが好ましい。また、誘電体膜は、例えば、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＺｒＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、ＰｂＺｒＯ₃−ＰｂＴｉＯ₃、ＢａＴｉＯ₃、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ等や、これらの複合酸化物により構成することができる。 As described above, a dielectric film is formed on the surface of the electrode plate 8. In the present embodiment, as described above, in order to cause dielectric barrier discharge between the pair of electrode plates 8, at least one surface or both surfaces of the pair of electrode plates 8 facing each other are provided with a dielectric material. A film will be formed. In addition to these surfaces, a dielectric film may be formed on the inner peripheral surface of the through hole 10. By forming the dielectric film in this way, microplasma can be stably generated between the pair of electrode plates 8. The film thickness of the dielectric film is preferably 50 μm or more and 500 μm or less, for example. The structure, the dielectric film, for _{_{_{example, SiO 2, Al 2 O 3}}} , MgO, ZrO 2, Y 2 O 3, PbZrO 3 -PbTiO 3, BaTiO 3, TiO 2, ZnO or the like and, these complex oxides can do.

本実施形態では、一対の電極板８は、電極板８の周縁部に沿う形状の円環状のスペーサ（図示せず）を間に挟持した状態で互いに固定されている。このスペーサは一様の厚みを有しており、一対の電極板８は互いに略平行になるように配置される。よって、一対の電極板８間に形成される空隙の板面に直交する方向の長さｄは、このスペーサの厚みにより厳密に定められる。一対の電極板８をこのように配設することで、一対の電極板８間に形成される空隙を板面に沿う方向において略均一にすることができ、誘電体バリア放電を均一に安定して発生させることが可能となっている。スペーサの厚みは、例えば、５〜５００μｍ以下の値から選択することができる。この時、上記の長さｄも少なくとも５００μｍ以下となり、一対の電極板８間に印加する交流電圧の波高値を１０００Ｖ程度と比較的低い値としても、マイクロプラズマを発生させることができる。この場合、一対の電極板間に波高値が１０００Ｖ以上の交流電圧が印加される構成とすると好適である。このようなスペーサは、例えば、ポリエチレン樹脂、テフロン（登録商標）樹脂等の合成樹脂やセラミックス等の絶縁材料により形成することができる。 In the present embodiment, the pair of electrode plates 8 are fixed to each other with an annular spacer (not shown) shaped along the peripheral edge of the electrode plate 8 sandwiched therebetween. The spacer has a uniform thickness, and the pair of electrode plates 8 are arranged so as to be substantially parallel to each other. Therefore, the length d in the direction perpendicular to the plate surface of the gap formed between the pair of electrode plates 8 is strictly determined by the thickness of the spacer. By disposing the pair of electrode plates 8 in this manner, the gap formed between the pair of electrode plates 8 can be made substantially uniform in the direction along the plate surface, and the dielectric barrier discharge can be stably stabilized. Can be generated. The thickness of the spacer can be selected from a value of 5 to 500 μm or less, for example. At this time, the length d is also at least 500 μm or less, and microplasma can be generated even if the peak value of the AC voltage applied between the pair of electrode plates 8 is a relatively low value of about 1000V. In this case, an AC voltage having a peak value of 1000 V or more is preferably applied between the pair of electrode plates. Such a spacer can be formed of, for example, a synthetic resin such as polyethylene resin or Teflon (registered trademark) resin or an insulating material such as ceramics.

なお、一対の電極板８の互いに対向する面の双方に誘電体膜が形成され、当該誘電体膜が電極板８の板面に直交する方向（厚み方向）に凹凸（例えば、５μｍ以上５０μｍ以下の高低差を有する凹凸）を有する場合には、上記のスペーサを介さずに一対の電極板８を積層するように互いに固定する構成としても好適である。この場合、上記の凹凸により形成される間隙において誘電体バリア放電が生じるため、一対の電極板８間にマイクロプラズマを発生させることができる。 A dielectric film is formed on both surfaces of the pair of electrode plates 8 facing each other, and the dielectric film is uneven (eg, 5 μm or more and 50 μm or less) in a direction (thickness direction) orthogonal to the plate surface of the electrode plate 8. In other words, the pair of electrode plates 8 are preferably fixed to each other so as to be stacked without using the spacer. In this case, a dielectric barrier discharge is generated in the gap formed by the irregularities, so that microplasma can be generated between the pair of electrode plates 8.

なお、本実施形態では、一対の電極板８は同じ構成のものであり、一対の電極板８は、板面に直交する方向からみて、双方の電極板８に形成された貫通孔１０同士が全体として互いに重なり合うように円周方向に位置決めされ、互いに固定されている。そのため、図２に示すように、除菌対象の空気は貫通孔１０の間を通過することができ、除菌対象の空気の流れを大きく阻害することなく一対の電極板８を厚さ方向に近接して配置することができる。その結果、マイクロプラズマを発生させるために一対の電極板８間に印加することが必要となる電圧の大きさを低く抑えることができ、少ない消費電力で効率的にマイクロプラズマ発生装置６にマイクロプラズマを発生させることが可能な構成となっている。 In the present embodiment, the pair of electrode plates 8 have the same configuration, and the pair of electrode plates 8 has through-holes 10 formed in both electrode plates 8 when viewed from the direction orthogonal to the plate surfaces. They are positioned in the circumferential direction so as to overlap each other as a whole, and are fixed to each other. Therefore, as shown in FIG. 2, the air to be sterilized can pass between the through holes 10, and the pair of electrode plates 8 are moved in the thickness direction without greatly obstructing the flow of the air to be sterilized. Can be placed close together. As a result, the magnitude of the voltage that needs to be applied between the pair of electrode plates 8 in order to generate microplasma can be kept low, and the microplasma generator 6 can be efficiently supplied with low power consumption. It is the structure which can generate | occur | produce.

２−５．滞留空間
空調装置１０２は、マイクロプラズマ発生装置６をダクト１３０において上流側寄りに配置している。すなわち、マイクロプラズマ発生装置６はダクト１３０内において吐出口１２２より吸引口１２１に近い位置に設けられている。より具体的には、ダクト１３０に吸引された空気がマイクロプラズマ発生装置６の電極板８に設けられた貫通孔１０を通過後、電極板８から吐出口１２２（又は後述するオゾン分解除去触媒フィルタ１３）までの間の活性種が存在し得る空間に所定時間の間、滞留できるように、マイクロプラズマ発生装置６の位置が決められる。図示する例では、ダクト径Ｄに対して同一径のダクトを、その流路長でダクト径Ｄの７倍程度（６．５〜７．５倍）とっている。ここで、電極板８に供給される気体の線速は約２．５ｍ／ｓとしている。なお、この値は、一般的な空気清浄機における線速と略一致する。このように、意図的にマイクロプラズマ発生装置６から吐出口１２２までの距離を長くとることで、空気が所定時間滞留するように空調装置１０２を構成している。ここで、マイクロプラズマ発生装置６の電極板８から吐出口１２２までの間の空間を『滞留空間１１７』と呼ぶ。 2-5. Residence space The air-conditioning apparatus 102 has the microplasma generator 6 disposed upstream of the duct 130. That is, the microplasma generator 6 is provided in the duct 130 at a position closer to the suction port 121 than the discharge port 122. More specifically, after the air sucked into the duct 130 passes through the through holes 10 provided in the electrode plate 8 of the microplasma generator 6, the air is discharged from the electrode plate 8 to the discharge port 122 (or an ozone decomposition / removal catalyst filter described later). The position of the microplasma generator 6 is determined so that it can stay in a space where active species up to 13) can exist for a predetermined time. In the illustrated example, a duct having the same diameter as the duct diameter D is about seven times (6.5 to 7.5 times) the duct diameter D in terms of the flow path length. Here, the linear velocity of the gas supplied to the electrode plate 8 is about 2.5 m / s. In addition, this value substantially corresponds with the linear velocity in a general air cleaner. In this manner, the air conditioner 102 is configured so that air stays for a predetermined time by intentionally increasing the distance from the microplasma generator 6 to the discharge port 122. Here, the space between the electrode plate 8 and the discharge port 122 of the microplasma generator 6 is referred to as a “staying space 117”.

空調装置１０２に、滞留空間１１７が形成されることにより、マイクロプラズマ発生装置６で発生した活性種は、滞留空間１１７が存在しない場合に比べ比較的長時間、空気と混在する状態におかれる。後述の実験結果に示すように、滞留空間１１７における空気の滞留時間を稼ぐことは、活性種による空気の浄化性能を高めることに寄与する。例えば、マイクロプラズマ発生装置６に好適湿度範囲の空気を送ることが出来る場合、滞留時間が５分程度となるように滞留空間１１７を形成すると良い。この点、本実施形態においては、空調装置１０２はダクト１３０で構成されているため、ダクト１３０を長くし、建造物内において壁内や天井裏などを迂回させることで、居住空間に影響を与えることなく、容易に滞留時間を稼ぐことができる。 By forming the stay space 117 in the air conditioner 102, the active species generated in the microplasma generator 6 are mixed with air for a relatively long time compared to the case where the stay space 117 does not exist. As shown in the experimental results described below, earning the air residence time in the residence space 117 contributes to improving the air purification performance by the active species. For example, when air in a suitable humidity range can be sent to the microplasma generator 6, the residence space 117 may be formed so that the residence time is about 5 minutes. In this respect, in the present embodiment, since the air conditioner 102 is constituted by the duct 130, the duct 130 is lengthened, and the inside of the wall, the ceiling, etc. are detoured in the building, thereby affecting the living space. The residence time can be easily earned without this.

２−６．オゾン分解除去手段
マイクロプラズマ発生装置６において、一対の電極板８間に印加する放電電圧を上昇させると、一対の電極板８間に発生するマイクロプラズマにより環境上の観点から無視できない程度の濃度のオゾンが生成される。オゾンが室内１０１に放出されるのは好ましくないため、空調装置１０２は、マイクロプラズマ発生装置６より下流側にはオゾン分解除去触媒フィルタ１３を備えている。オゾン分解除去触媒フィルタ１３は、ダクト１３０において最下流側、すなわち吐出口１２２近傍において、吐出口１２２から吐出される空気が確実に通過するようにダクト１３０内における空気の流通方向を横断して設けられている。オゾン分解除去触媒フィルタ１３は、例えば、二酸化マンガン、酸化ニッケル、四三酸化鉄、酸化銅、炭酸コバルト、炭酸ニッケル、及び炭酸銅の何れか一種又は複数種の組み合わせからなるオゾン分解触媒と、ハニカム状に構成された触媒担持用の構造体とから構成される。なお、このようなオゾン分解触媒フィルタの構成は公知であるため、ここでは詳細な説明は省く。 2-6. Ozone decomposition and removal means In the microplasma generator 6, when the discharge voltage applied between the pair of electrode plates 8 is increased, the microplasma generated between the pair of electrode plates 8 has a concentration that cannot be ignored from an environmental point of view. Ozone is generated. Since it is not preferable that ozone is released into the room 101, the air conditioner 102 includes the ozone decomposition removal catalyst filter 13 on the downstream side of the microplasma generator 6. The ozonolysis removal catalyst filter 13 is provided across the flow direction of air in the duct 130 so that the air discharged from the discharge port 122 surely passes on the most downstream side in the duct 130, that is, in the vicinity of the discharge port 122. It has been. The ozone decomposition removal catalyst filter 13 includes, for example, an ozone decomposition catalyst made of any one or a combination of manganese dioxide, nickel oxide, iron tetroxide, copper oxide, cobalt carbonate, nickel carbonate, and copper carbonate, and a honeycomb. And a catalyst-supporting structure configured in a shape. In addition, since the structure of such an ozonolysis catalyst filter is well-known, detailed description is abbreviate | omitted here.

３．空調装置による空気の浄化
最後に、空調装置１０２による空気の浄化について説明を行う。空調装置１０２は、室内１０１の空気を吸引し、室内１０１に戻すように構成されたダクト１３０内部に、上流側から順に、湿度センサ１２４、ミストノズル１１５、換気ファン１０３、温度センサ１２７、熱交換器１０７、マイクロプラズマ発生装置６、滞留空間１１７、及びオゾン分解除去触媒フィルタ１３が設けられている。 3. Air Purification by Air Conditioner Finally, air purification by the air conditioner 102 will be described. The air conditioner 102 sucks the air in the room 101 and returns to the inside of the duct 130 in order from the upstream side, the humidity sensor 124, the mist nozzle 115, the ventilation fan 103, the temperature sensor 127, and heat exchange. A vessel 107, a microplasma generator 6, a staying space 117, and an ozone decomposition removal catalyst filter 13 are provided.

そして、換気ファン１０３の働きにより、室内１０１からダクト１３０内に空気が吸引され、湿度センサ１２４による湿度情報に基づいて、ミストノズル１１５により吸引された空気が加湿される。また、温度センサ１２７による温度情報に基づいて、必要であれば熱交換器１０７により空気を加熱する。このようにして、好適湿度範囲となった空気がマイクロプラズマ発生装置６に送られ、電極板８に設けられた貫通孔１０を通過する過程で、マイクロプラズマにより直接浄化されるとともに、マイクロプラズマ発生装置６により発生した活性種と混合され反応がおきる。活性種と混合された空気は、滞留空間１１７において滞留する間に好適に除菌される。最後に、オゾン分解除去触媒フィルタ１３を通過することで空気中に含まれるオゾンが取り除かれ、浄化された空気のみが室内１０１に戻される。以上のようにして、空調装置１０２によって、室内１０１の空気は浄化される。 Then, air is sucked into the duct 130 from the room 101 by the action of the ventilation fan 103, and the air sucked by the mist nozzle 115 is humidified based on humidity information from the humidity sensor 124. Further, based on the temperature information from the temperature sensor 127, the air is heated by the heat exchanger 107 if necessary. In this way, air in a suitable humidity range is sent to the microplasma generator 6 and is directly purified by the microplasma in the process of passing through the through-holes 10 provided in the electrode plate 8, and the microplasma is generated. The reaction takes place by mixing with the active species generated by the device 6. The air mixed with the active species is suitably sterilized while staying in the stay space 117. Finally, the ozone contained in the air is removed by passing through the ozone decomposition removal catalyst filter 13, and only the purified air is returned to the room 101. As described above, the air in the room 101 is purified by the air conditioner 102.

〔参考形態〕
上記第一実施形態では本発明を全館空調システムに適用した場合の例を説明したのに対し、参考形態では、本発明を個別空調システムに適用した場合の例を説明する。この参考形態においては、個別空調システムの一例として浴室暖房乾燥機２を用いる。なお、第一実施形態との主な違いは、本発明における『加湿手段』及び『マイクロプラズマ発生手段』の構成及び配置のみであり、その他の構成については、上記第一実施形態と略同様である。よって、以下では、第一実施形態と略同様の構成については概略の説明にとどめ、差異点についてのみ詳細に説明する。
１．装置の概略構成
参考形態に係る浴室暖房乾燥機２は、浴室１の天井に設置され、浴室１内の空気を吸引口２１より吸引して加温し、吐出口２２より浴室１に戻す暖房乾燥機能に加え、浴室暖房乾燥機の下面にとりつけられたミストノズル１５により浴室１内にミストを散布するミストサウナ機能を備えたミストサウナ機能付き浴室暖房乾燥機に、マイクロプラズマ発生装置６を始めとする各種装置類を取り付け、本発明に係る空調装置としたものである。 [ Reference form]
In the first embodiment, the example in which the present invention is applied to the entire building air conditioning system has been described. In the reference embodiment, an example in which the present invention is applied to an individual air conditioning system will be described. In this reference form, the bathroom heating dryer 2 is used as an example of an individual air conditioning system. The main difference from the first embodiment is only the configuration and arrangement of the “humidifying means” and the “microplasma generating means” in the present invention, and the other configurations are substantially the same as those of the first embodiment. is there. Therefore, in the following, the configuration substantially similar to that of the first embodiment will be described only in outline, and only the differences will be described in detail.
1. Schematic configuration of the device
The bathroom heater / dryer 2 according to the reference mode is installed on the ceiling of the bathroom 1, in addition to the heating / drying function of sucking and heating the air in the bathroom 1 from the suction port 21 and returning the air to the bathroom 1 from the discharge port 22, Various devices including a microplasma generator 6 to a bathroom heater / dryer with a mist sauna function having a mist sauna function for spraying mist into the bathroom 1 by a mist nozzle 15 attached to the lower surface of the bathroom heater / dryer. The air conditioner according to the present invention is attached.

図３に示すように、浴室暖房乾燥機２は、略直方体の筐体３１を備え、内部を仕切板３２により、２つの空間に分けられている。一方の空間には、電動ファン３とマイクロプラズマ発生装置６と熱交換器７とが備えられ、これらの機器は浴室１内の空気を除菌する働きを担っている。以下では、当該空間を『処理空間４』と呼ぶ。他方の空間には、排出用電動ファン１２が備えられ、浴室１内の空気を浴室１外に排出する働きを担っている。 As shown in FIG. 3, the bathroom heater / dryer 2 includes a substantially rectangular parallelepiped casing 31, and the interior is divided into two spaces by a partition plate 32. One space includes an electric fan 3, a microplasma generator 6, and a heat exchanger 7, and these devices have a function of sterilizing the air in the bathroom 1. Hereinafter, this space is referred to as “processing space 4”. In the other space, an electric discharge fan 12 is provided, and the air in the bathroom 1 is discharged outside the bathroom 1.

浴室暖房乾燥機２は、電動ファン３の働きにより、浴室暖房乾燥機２の処理空間４に浴室１内の空気を吸引するための吸引口２１と、吸引した空気を浴室１内に吐出する吐出口２２を備えている。具体的には、吸引口２１及び吐出口２２は、浴室暖房乾燥機２下部で、浴室１内の空間に接する位置に形成されている。また、浴室暖房乾燥機２は内部に、吸引口２１より吸引した空気を加熱する熱交換器７と、マイクロプラズマ発生装置６とを備えるとともに、浴室１内の空間に接する位置に、浴室１内にミストを散布するミストノズル１５を備えている。加えて、吐出口２２には、オゾン分解除去触媒フィルタ１３が備えられている。 The bathroom heater / dryer 2 is operated by the electric fan 3 so that the suction port 21 for sucking the air in the bathroom 1 into the processing space 4 of the bathroom heater / dryer 2 and the discharge for discharging the sucked air into the bathroom 1. An outlet 22 is provided. Specifically, the suction port 21 and the discharge port 22 are formed at the lower part of the bathroom heating dryer 2 and in contact with the space in the bathroom 1. The bathroom heater / dryer 2 includes a heat exchanger 7 that heats the air sucked from the suction port 21 and a microplasma generator 6 inside the bathroom 1. A mist nozzle 15 for spraying mist is provided. In addition, an ozone decomposition removal catalyst filter 13 is provided at the discharge port 22.

また、マイクロプラズマ発生装置６の上流側近傍で、熱交換器７より下流側には、湿度センサ２４（湿度取得手段）を備えられており、マイクロプラズマ発生装置６に送られる空気の湿度を取得可能に構成されている。熱交換器７と吸引口２１との間には、温度センサ２７が備えられており、マイクロプラズマ発生装置６に送られる空気の温度を取得可能に構成されている。湿度センサ２４と温度センサ２７とに加え、ミストノズル１５と熱交換器７とが、筐体３１外に設けられた制御手段１１６に電気的に接続されている。そして
、制御手段１１６は、湿度センサ２４及び温度センサ２７の出力情報に基づいて、ミストノズル１５及び熱交換器７を働かせ、ミストノズル１５で加湿された空気を好適湿度範囲に維持する。制御手段１１６による制御の詳細については、上記第一実施形態と同様であるので説明を省略する。 Further, a humidity sensor 24 (humidity acquisition means) is provided in the vicinity of the upstream side of the microplasma generator 6 and downstream of the heat exchanger 7 to acquire the humidity of the air sent to the microplasma generator 6. It is configured to be possible. A temperature sensor 27 is provided between the heat exchanger 7 and the suction port 21 so that the temperature of the air sent to the microplasma generator 6 can be acquired. In addition to the humidity sensor 24 and the temperature sensor 27, the mist nozzle 15 and the heat exchanger 7 are electrically connected to the control means 116 provided outside the housing 31. And the control means 116 makes the mist nozzle 15 and the heat exchanger 7 work based on the output information of the humidity sensor 24 and the temperature sensor 27, and maintains the air humidified with the mist nozzle 15 in a suitable humidity range. The details of the control by the control means 116 are the same as those in the first embodiment, and a description thereof will be omitted .

２．各機器類の説明
２−１．マイクロプラズマ発生装置、及び滞留空間
マイクロプラズマ発生装置６は、熱交換器７と吐出口２２との間に設けられている。参考形態においては、マイクロプラズマ発生装置６は、熱交換器７の下流側で電動ファン３よりも上流側の位置に設けられている。このような配置とすることで、マイクロプラズマ発生装置６と吐出口２２との間をできる限り広げることができ、マイクロプラズマ発生装置６で発生する活性種が処理空間４内に滞留するための滞留空間１７を最大限形成することが出来る。 2. Explanation of each device 2-1. Microplasma generator and residence space The microplasma generator 6 is provided between the heat exchanger 7 and the discharge port 22. In the reference mode, the microplasma generator 6 is provided at a position downstream of the heat exchanger 7 and upstream of the electric fan 3. With such an arrangement, the space between the microplasma generator 6 and the discharge port 22 can be expanded as much as possible, and the active species generated in the microplasma generator 6 stay in the processing space 4. The space 17 can be formed as much as possible.

２−２．ミストノズル
ミストノズル１５は、浴室暖房乾燥機２下部で、浴室１内の空間に接する位置に設けられている。よって、参考形態においては、浴室暖房乾燥機２下部には、吸引口２１と吐出口２２とミストノズル１５とがそれぞれ異なる位置に設けられている。このような構成とすることで、ミストノズル１５は、浴室１内にミストを散布して浴室１内の空気を加湿するだけでなく、マイクロプラズマ発生装置６に送られる空気の湿度をも同時に調整することが可能となっている。また、ミストノズル１５が筐体３１外に設けられることで、限られた筐体３１内の空間を滞留空間１７として有効利用可能となっている。 2-2. Mist nozzle The mist nozzle 15 is provided in the position which touches the space in the bathroom 1 in the bathroom heating dryer 2 lower part. Therefore, in the reference form, the suction port 21, the discharge port 22, and the mist nozzle 15 are provided at different positions in the lower part of the bathroom heating dryer 2. With such a configuration, the mist nozzle 15 not only sprays mist in the bathroom 1 to humidify the air in the bathroom 1 but also adjusts the humidity of the air sent to the microplasma generator 6 at the same time. It is possible to do. Further, since the mist nozzle 15 is provided outside the casing 31, a limited space in the casing 31 can be effectively used as the staying space 17.

以上のような構成により、参考形態においても、第一実施形態と同様、空調対象空間の空気を浄化することが可能となっている。 With the above configuration, the air in the air-conditioning target space can be purified also in the reference mode, as in the first embodiment.

〔実験結果〕
最後に、マイクロプラズマにより発生する活性種の除菌効果の湿度依存性及び、時間依存性についての実験内容及び実験結果について説明する。〔Experimental result〕
Finally, the experimental contents and experimental results regarding the humidity dependency and time dependency of the sterilization effect of the active species generated by the microplasma will be described.

（実験方法）
図４に実験装置の模式図を示す。１ｍ³のボックス８６内で超音波加湿器８４を用いて湿度を３５％ＲＨ、５０％ＲＨ、７０％ＲＨに調整した。各試験区において、ボックス８６内に設置したマイクロプラズマ発生装置６に１ｋＶの電圧を印加し、３０分間放電させた。放電により発生する活性種を軸流ファン８１により、風量０．５ｍ³／分でボックス８６内に放出させた。 (experimental method)
FIG. 4 shows a schematic diagram of the experimental apparatus. The humidity was adjusted to 35% RH, 50% RH, and 70% RH using an ultrasonic humidifier 84 in a 1 m ³ box 86. In each test section, a voltage of 1 kV was applied to the microplasma generator 6 installed in the box 86 and discharged for 30 minutes. Active species generated by the discharge were discharged into the box 86 by the axial fan 81 at an air volume of 0.5 m ³ / min.

放電終了後、ペトリ皿上のＰＤＡ寒天培地で培養したカビ胞子（カビ培養シャーレ８２）を、ペトリ皿に対して垂直上方に設置した軸流ファン８１からの気流によって飛散させた。このとき軸流ファン８１の気流を２分間当てた。カビ噴霧後、吸引ポンプに接続したインピンジャ８７（１０ｍｌ滅菌水入り）で、ボックス８６内の浮遊カビをサンプリングした。このとき、２Ｌ／分で３分間、計６Ｌ分を吸引した。このサンプリング開始時を０分後とし５、１０、１５、２０、３０分後に同様にサンプリングを行った。比較試験として、湿度３５％ＲＨにて放電を行わず同様の実験を実施した。 After the end of discharge, mold spores (mold culture dish 82) cultured on a PDA agar medium on a Petri dish were scattered by an air flow from an axial fan 81 installed vertically above the Petri dish. At this time, the airflow of the axial flow fan 81 was applied for 2 minutes. After mold spraying, the floating mold in the box 86 was sampled with an impinger 87 (with 10 ml of sterilized water) connected to a suction pump. At this time, a total of 6 L was aspirated for 3 minutes at 2 L / min. Sampling was performed in the same manner after 5, 10, 15, 20, and 30 minutes with 0 minutes after the start of sampling. As a comparative test, a similar experiment was performed without discharging at a humidity of 35% RH.

（実験結果）
図５に実験結果を示す。低湿度の３５％ＲＨの条件下で、マイクロプラズマ発生装置６を放電させた場合、放電しない場合と比較して、活性種による除菌効果がわずかに認められた。湿度を５０％ＲＨに上げた場合、明らかな除菌効果の改善が見られた。更に７０％ＲＨに上げると、約１５分で浮遊菌の死滅が認められた。また、以上の結果より湿度を上げた場合、時間経過とともに浮遊菌が減少することが認められた。 (Experimental result)
FIG. 5 shows the experimental results. When the microplasma generator 6 was discharged under conditions of low humidity 35% RH, the sterilization effect due to the active species was slightly observed as compared with the case where it was not discharged. When the humidity was increased to 50% RH, a clear improvement in sterilization effect was observed. When the temperature was further increased to 70% RH, killing of planktonic bacteria was observed in about 15 minutes. Moreover, when humidity was raised from the above result, it was recognized that planktonic bacteria decreased with the passage of time.

（総括）
以上の結果から、湿度を７０％ＲＨ〜８５％ＲＨ程度の高湿度環境下においては、マイクロプラズマ発生装置６により発生する活性種と浮遊菌とを長時間混在する状態におく方が、より高い除菌効果が得られることが分かった。 (Summary)
From the above results, in a high humidity environment where the humidity is about 70% RH to 85% RH, it is higher to keep the active species generated by the microplasma generator 6 and the floating bacteria mixed for a long time. It was found that a sterilizing effect was obtained.

〔その他の実施形態〕
（１）上記の実施形態においては、空調装置が、温度調整手段を備える場合を例として説明した。しかし、本発明の実施形態はこれに限定されるものではない。したがって、例えば、第一実施形態における空調装置１０２が温度調整手段として熱交換器１０７を備えない構成とすることも発明の好適な実施形態の一つである。 [Other Embodiments]
(1) In the above embodiment, the case where the air conditioner includes a temperature adjusting unit has been described as an example. However, the embodiment of the present invention is not limited to this. Therefore, for example, it is also a preferred embodiment of the invention that the air conditioner 102 in the first embodiment does not include the heat exchanger 107 as a temperature adjusting means.

上記の実施形態においては、空調装置内に、滞在空間が形成されている場合を例として説明した。その他の参考形態としては、例えば、第一実施形態においてマイクロプラズマ発生装置６がダクト１３０の吐出口１２２近くに設けられ、マイクロプラズマ発生装置６の下流に滞留空間１１７が存在しない構成とすることもできる。 In the above embodiments SL is in the air conditioning system, a case where staying space is formed has been described as an example. As another reference form, for example, in the first embodiment, the microplasma generator 6 may be provided near the discharge port 122 of the duct 130, and the residence space 117 may not exist downstream of the microplasma generator 6. it can.

上記の実施形態においては、空調装置が、オゾン分解除去手段を備える場合を例として説明した。その他の参考形態としては、例えば、第一実施形態において空調装置１０２が吐出口１２２近くにオゾン分解除去触媒フィルタ１３を備えない構成としても構わない。この場合、マイクロプラズマ発生装置６によって発生するオゾンの量を減らすために、電極板８に印加する電圧を下げたり、空調装置から空調対象空間に放出されるオゾンの量を減らすために、滞留空間１１７における空気の滞留時間をより長くするなどすると良い。 In the above embodiments SL is the air conditioning apparatus has been described as an example a case comprising an ozone decomposition removal means. As another reference form , for example, in the first embodiment, the air conditioner 102 may be configured not to include the ozone decomposition removal catalyst filter 13 near the discharge port 122. In this case, in order to reduce the amount of ozone generated by the microplasma generator 6, the voltage applied to the electrode plate 8 is lowered, or in order to reduce the amount of ozone released from the air conditioner to the air conditioned space, It is preferable to make the residence time of the air at 117 longer.

（２）上記の実施形態においては、空調装置が温度調整手段と加湿手段とを備え、加湿手段が加熱手段の上流側に設けられている場合を例として説明した。しかし、本発明の実施形態はこれに限定されるものではない。したがって、例えば、第一実施形態においてダクト１３０の吸引口１２１近くに熱交換器１０７が設けられ、熱交換器１０７とマイクロプラズマ発生装置６との間にミストノズル１１５が設けられる構成とすることも本発明の好適な実施形態の一つである。 ( 2 ) In the above embodiment, the case where the air conditioner includes the temperature adjusting unit and the humidifying unit and the humidifying unit is provided on the upstream side of the heating unit has been described as an example. However, the embodiment of the present invention is not limited to this. Therefore, for example, in the first embodiment, the heat exchanger 107 may be provided near the suction port 121 of the duct 130, and the mist nozzle 115 may be provided between the heat exchanger 107 and the microplasma generator 6. It is one of the preferred embodiments of the present invention.

（３）上記の実施形態においては、導電性の金属板の片面に誘電体膜を形成し、プラズマ発生に使用する電極とする例を示したが、例えば、酸化チタン等の誘電体粉末を成形・焼結して誘電体板状体を得、この誘電体板状体の片面全面に導電体からなる電極膜を形成し、プラズマ発生用の電極としても良い。 (3) In the above embodiment, the dielectric film is formed on one surface of a conductive metal plate, an example of an electrode used for plasma generation, For example, the dielectric powder such as titanium oxide A dielectric plate-like body may be obtained by molding and sintering, and an electrode film made of a conductor may be formed on the entire surface of one side of the dielectric plate-like body to form an electrode for plasma generation.

送風手段の働きにより、空調対象空間内の気体を処理空間に吸引して前記空調対象空間に戻す送風路を備えた空調装置として利用可能である。 It can be used as an air conditioner provided with an air passage that sucks the gas in the air-conditioning target space into the processing space and returns it to the air-conditioning target space by the function of the air blowing means.

１：浴室（空調対象空間）
２：浴室暖房乾燥機（空調装置）
３：電動ファン（送風手段）
４：処理空間
６：マイクロプラズマ発生装置（マイクロプラズマ発生手段）
７：熱交換器（加熱手段）
８：電極板
９：高周波電源
１０：貫通孔
１３：オゾン分解除去触媒フィルタ（オゾン分解除去手段）
１５：ミストノズル（加湿手段）
１７：滞留空間
２１：吸引口
２２：吐出口
１０１：室内（空調対象空間）
１０２：空調装置（空調装置）
１０３：換気ファン（送風手段）
１０４：処理空間
１０７：熱交換器（温度調整手段）
１１５：ミストノズル（加湿手段）
１１６：制御手段（湿度調整手段）
１１７：滞留空間
１３０：ダクト（送風路） 1: Bathroom (space subject to air conditioning)
2: Bathroom heating dryer (air conditioner)
3: Electric fan (air blowing means)
4: Processing space 6: Microplasma generator (microplasma generating means)
7: Heat exchanger (heating means)
8: Electrode plate 9: High frequency power supply 10: Through hole 13: Ozone decomposition removal catalyst filter (ozone decomposition removal means)
15: Mist nozzle (humidification means)
17: Residence space 21: Suction port 22: Discharge port 101: Indoor (space to be air-conditioned)
102: Air conditioner (air conditioner)
103: Ventilation fan (air blowing means)
104: Processing space 107: Heat exchanger (temperature adjusting means)
115: Mist nozzle (humidifying means)
116: Control means (humidity adjustment means)
117: Residence space 130: Duct (air flow path)

Claims

送風手段の働きにより、空調対象空間内の気体を処理空間に吸引して前記空調対象空間に戻す送風路であるダクトを備え、前記ダクトが建造物の居住スペース外に配置された空調装置であって、
前記処理空間に配設されるマイクロプラズマ発生手段と、
前記マイクロプラズマ発生手段に送られる気体を加湿する加湿手段とを備え、
前記マイクロプラズマ発生手段が、前記気体の流れ方向を横断して互いに略平行に配置される一対の電極板と、前記電極板にプラズマ発生用の電圧を印加する電圧印加装置とを備えて構成されるとともに、前記一対の電極板の夫々に、前記気体が通過可能な貫通孔を前記電極板の厚み方向に形成して構成され、前記一対の電極板の対向する表面の少なくとも一方に誘電体層が形成され、
前記マイクロプラズマ発生手段に到達する前記気体を、前記加湿手段により加湿して、前記マイクロプラズマ発生手段で発生するマイクロプラズマの除菌能を維持できる好適湿度範囲に維持する湿度調整手段と、
前記気体の流れ方向で前記マイクロプラズマ発生手段より下流側に位置する前記ダクトの吐出口近傍において、前記気体の流れ方向を横断する形態で設けられたオゾン分解除去手段と、
前記気体が前記貫通孔を通過後、所定時間の間、前記処理空間内に滞留する滞留空間を、前記マイクロプラズマ発生手段と前記オゾン分解除去手段との間に備え、
前記ダクト内に、前記加湿手段、前記マイクロプラズマ発生手段、前記滞留空間、前記オゾン分解除去手段の順に設けられる空調装置。 The air conditioner is provided with a duct that is a ventilation path that sucks the gas in the air-conditioning target space into the processing space and returns it to the air-conditioning target space by the function of the air blowing means, and the duct is disposed outside the living space of the building. And
Microplasma generating means disposed in the processing space;
Humidifying means for humidifying the gas sent to the microplasma generating means,
The microplasma generating means includes a pair of electrode plates arranged substantially parallel to each other across the gas flow direction, and a voltage applying device that applies a voltage for generating plasma to the electrode plates. In addition, each of the pair of electrode plates is formed by forming a through hole through which the gas can pass in the thickness direction of the electrode plates, and a dielectric layer is formed on at least one of the opposing surfaces of the pair of electrode plates Formed,
Humidity adjusting means for humidifying the gas that reaches the microplasma generating means by the humidifying means, and maintaining a suitable humidity range in which the sterilization ability of the microplasma generated by the microplasma generating means can be maintained ;
In the vicinity of the duct outlet located downstream of the microplasma generating means in the gas flow direction, ozone decomposing / removing means provided in a form crossing the gas flow direction;
A residence space in which the gas stays in the processing space for a predetermined time after passing through the through-hole is provided between the microplasma generation unit and the ozone decomposition removal unit,
An air conditioner provided in the duct in the order of the humidifying means, the microplasma generating means, the staying space, and the ozone decomposing / removing means .

前記マイクロプラズマ発生手段に送られる気体の温度を調整する温度調整手段を備え、
前記湿度調整手段は、
前記加湿手段及び前記温度調整手段を働かせて、
前記加湿手段により加湿された前記気体が前記マイクロプラズマ発生手段で結露を発生しない温湿度に、前記気体を調整する請求項１に記載の空調装置。 Comprising temperature adjusting means for adjusting the temperature of the gas sent to the microplasma generating means,
The humidity adjusting means is
Working the humidifying means and the temperature adjusting means,
The air conditioner according to claim 1, wherein the gas humidified by the humidifying means is adjusted to a temperature and humidity at which dew condensation is not generated by the microplasma generating means.

前記加湿手段が、前記送風路にミストを噴霧して前記気体を加湿する、又は前記空調対象空間内にミストを噴霧して前記気体を加湿する請求項１又は２に記載の空調装置。 The air conditioning apparatus according to claim 1 or 2 , wherein the humidifying means sprays mist on the air passage to humidify the gas, or sprays mist in the air conditioning target space to humidify the gas.

前記湿度調整手段は、前記気体の湿度を５０％ＲＨ以上９０％ＲＨ以下の前記好適湿度範囲に維持する請求項１〜３の何れか一項に記載の空調装置。 The air conditioner according to any one of claims 1 to 3 , wherein the humidity adjusting unit maintains the humidity of the gas in the preferable humidity range of 50% RH to 90% RH.