JP5713378B2 - 導波路型光フィルター及び半導体レーザー - Google Patents
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Description
また、従来の半導体レーザーは、前方端面における光の位相を整合させる手段を開示しただけであり、単一波長の発振に至る手段を提供するものではない。
[式1]
m=λ0/Δλ
(但し、λ0:入射光波長、Δλ:波長ピーク周期)
[式2]
Δd=λ0(Φ0+2π(m−1))/2πneq
(但し、neq:第2の光導波路群の光導波路の等価屈折率、Φ0:初期整合位相)
[式5]
m=λ0/Δλ
(但し、λ0:入射光波長、Δλ:波長ピーク周期)
[式6]
Δd=λ0(Φ0+2π(m−1))/2πneq
導波路型光フィルター100は、基板10上に、光導波路及びマルチモード干渉導波路が配設され、外部から入射された光を分岐し、光の位相を整合させたうえで、光を合波して外部に出射する。このため、導波路型光フィルター100は、基板10の一端面10a側における光導波路の端面を入射面とし、基板10の一端面10aに対向する他端面10b側における光導波路の端面を出射面とする場合に、分波用及び合波用のマルチモード干渉導波路をそれぞれ備える必要がある。この場合には、導波路型光フィルター100は、後述する、第1の光導波路群1、第2の光導波路群2、第3の光導波路群3、M×N型マルチモード干渉導波路4及びN×M’型マルチモード干渉導波路5を少なくとも備える(例えば、図1(a)参照)。
We=W1+(λ0/π)(Nc/Nr)2σ(Nr2−Nc2)-1/2 ・・・(1)
Lπ=4NrWe 2/3λ0
また、マルチモード干渉導波路は、下記数2の式で表されるとき、1×N型の光導波路として動作することができる。また、マルチモード干渉導波路は、下記数3の式で表されるとき、M×N型の光導波路として動作することができる。なお、M及びNは正の整数であり、入力側のMは1であってもよく、出力側のNは2以上とすることができる。ただし、数2及び数3の式に示すLは、マルチモード干渉導波路の長さを表す。
L=(3/4N)Lπ(Nは正の整数) ・・・(2)
〔数3〕
第1の光導波路群1は、M×N型マルチモード干渉導波路4の入力側の各ポート(以下、入力ポートと称す)に一端がそれぞれ接続されるM本の光導波路からなる。また、第1の光導波路群1は、各光導波路の他端を入射面とする。なお、本実施形態においては、1×3型マルチモード干渉導波路4aを例に挙げて説明するために、第1の光導波路群1は、1本の光導波路(以下、入射光導波路1aと称す)からなる。特に、本実施形態に係る入射光導波路1aは、導波路長が50μm程度であり、導波路幅が1.0μm程度である、直線領域のみからなる直線導波路である。また、入射光導波路1aは、M×N型マルチモード干渉導波路4の入力側の辺に対して略中央に接続されている。
一般に、マルチモード干渉導波路でN分岐された波長λ0の光は、それぞれの振幅が等しく、また、それぞれの位相が各分岐ポート間で相対的に決まった位相で出力される。
Δd=λ0(Φ0+2π(m−1))/2πneq ・・・(4)
Δλ=λ0/m ・・・(5)
ここで、本実施形態では、第1の曲線導波路2b及び第2の曲線導波路2cの導波路長の長さを異なる長さとしているが、仮に、第1の曲線導波路2b及び第2の曲線導波路2cの導波路長が共に同じ長さであり、かつ、数4及び数5を満たすように設計した場合には、その透過スペクトルが、例えば、図3(a)及び図3(b)に示すようになる。
まず、通常のSOI(Silicon on Insulator)基板30上に、熱CVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)法を用いて、SiO2膜40を堆積する(図5(a))。
この後、第2のクラッド層13の直上にあるマスク50を、有機溶剤及びアッシング法により除去する(図6(b))。
また、本実施形態に係る導波路型光フィルター100は、必ずしも従属接続を否定するものではなく、従属接続が併用されていても問題はない。
(本発明の第2の実施形態)
図10(a)は第2の実施形態に係る導波路型光フィルターの概略構成の一例を示す平面図であり、図10(b)は図10(a)に示す導波路型光フィルターの矢視C−C’線の断面図である。図10において、図1乃至図9と同じ符号は、同一又は相当部分を示し、その説明を省略する。
図11(a)は第3の実施形態に係る半導体レーザーの概略構成の一例を示す平面図であり、図11(b)は第3の実施形態に係る半導体レーザーの概略構成の他の例を示す平面図である。図12(a)は図11に示す半導体レーザーの矢視D−D’線の断面図であり、図12(b)は図11に示す半導体レーザーの矢視E−E’線の断面図である。図13は第3の実施形態に係る半導体レーザーの製造方法を説明する説明図であり、図13(a)は図11に示す半導体レーザーの矢視D−D’線の断面図に対応するMOVPE法により結晶構造を製作した状態の断面図であり、図13(b)は図11に示す半導体レーザーの矢視D−D’線の断面図に対応するマスクを形成した状態の断面図である。図14は第3の実施形態に係る半導体レーザーの製造方法を説明する説明図であり、図14(a)は図11に示す半導体レーザーの矢視D−D’線の断面図に対応するエッチングによりハイメサ構造を形成した状態の断面図であり、図14(b)は図11に示す半導体レーザーの矢視D−D’線の断面図に対応するBCBで埋め込んだ状態の断面図である。
また、第2の光導波路群202は、光位相整合領域220及び光導波路領域221に領域分けでき、直線領域のみからなる直線導波路202aと、直線領域及び曲線領域からなる曲線導波路(第1の曲線導波路202b、第2の曲線導波路202c)とから構成される。また、第2の光導波路群202は、各光導波路がシングルモード導波路であり、各光導波路の導波路長を互いに異ならせている。
まず、通常のn−InP基板210上に、MOVPE(Metal-Organic Vapor Phase Epitaxy:有機金属気相成長)法を用いて、n−InP膜230、InGaAsP/InGaAsP−1.55μm帯膜240、i−InP膜250、p−InP膜260、p−InGaAs膜270を順番に堆積し、積層を形成する(図13(a))。
また、本実施形態に係る製造方法においては、フォトリソグラフィ法にステッパを用いているが、必ずしもこれに限られるわけではなく、例えば、電子ビーム露光装置であっても適用可能である。
図15(a)は第4の実施形態に係る半導体レーザーの概略構成の一例を示す平面図であり、図15(b)は図15(a)に示す半導体レーザーの矢視F−F’線の断面図である。図15において、図1乃至図14と同じ符号は、同一又は相当部分を示し、その説明を省略する。
なお、本実施形態に係る半導体レーザー200の製造方法は、埋め込み層216を形成し(図14(b))、コンタクト層215の直上にあるマスク280を、有機溶剤及びアッシング法により除去する(図12)までは、第3の実施形態に係る半導体レーザー200の製造方法と同様であるので、説明を省略する。
そして、PN接合間に順バイアスを加えるための外部電極となる図示しないTi/Pt/Au層を、コンタクト層215上に電子ビーム蒸着法で形成する。
最後に、前方端面に反射防止膜を形成し、後方端面に高反射膜を形成して、半導体レーザー200素子の製造を終了する。
1a 入射光導波路
2 第2の光導波路群
2a 直線導波路
2b 第1の曲線導波路
2c 第2の曲線導波路
2d 第3の曲線導波路
2e 第4の曲線導波路
3 第3の光導波路群
3a 出射光導波路
4 M×N型マルチモード干渉導波路
4a 1×3型マルチモード干渉導波路
5 N×M’型マルチモード干渉導波路
5a 3×1型マルチモード干渉導波路
6 1×1型マルチモード干渉導波路
10 基板,基板層
10a 一端面
10b 他端面
10c エッチング底面
11 第1のクラッド層
12 コア層
13 第2のクラッド層
20 光位相整合領域
20a 光位相整合領域
30 SOI基板
40 SiO2膜
50 マスク
100 導波路型光フィルター
101 第1の光導波路群
110 基板
200 半導体レーザー
201 第1の光導波路群
201a 光導波路
202 第2の光導波路群
202a 直線導波路
202b 第1の曲線導波路
202c 第2の曲線導波路
203 第3の光導波路群
204 M×N型マルチモード干渉導波路
204a 1×3型マルチモード干渉導波路
205 N×M’型マルチモード干渉導波路
207 電気的分離溝
210 基板,基板層
210a 一端面
210b 他端面
210c エッチング底面
211 バッファ層
212 発光層
213 第1のクラッド層
214 第2のクラッド層
215 コンタクト層
216 埋め込み層
220 光位相整合領域
221 光導波路領域
230 n−InP膜
250 i−InP膜
260 p−InP膜
270 p−InGaAs膜
280 マスク
Claims (8)
- 1入力かつN(Nは3以上の整数)出力型である1×N型マルチモード干渉導波路と、
前記1×N型マルチモード干渉導波路の入力側のポートに一端が接続される1本の光導波路からなる第1の光導波路群と、
前記1×N型マルチモード干渉導波路の出力側の各ポートに一端がそれぞれ接続され、三種以上の異なる導波路長を有するN本の光導波路からなる第2の光導波路群と、
を備え、
前記第1の光導波路群の1本の光導波路の他端を入射面及び出射面とし、
前記第2の光導波路群の各光導波路の他端を反射面とし、
前記第2の光導波路群のうち、一の光導波路の導波路長が、二種以上の異なる導波路長を有する複数本の他の光導波路の導波路長と異なり、
前記第2の光導波路群の一の光導波路の導波路長に対する、前記第2の光導波路群の複数本の他の導波路の各導波路長の差に基づく、前記出射面からの透過光の繰り返しピークの間隔である波長ピーク周期Δλが、複数存在し、
下記式1を満たす各整数をmとし、前記第2の光導波路群の一の光導波路の導波路長に対する、前記第2の光導波路群の複数本の他の光導波路の各導波路長との差をΔd/2とすると、下記式2を満たすことを特徴とする導波路型光フィルター。
[式1]
m=λ0/Δλ
(但し、λ0:入射光波長、Δλ:波長ピーク周期)
[式2]
Δd=λ0(Φ0+2π(m−1))/2πneq
(但し、neq:第2の光導波路群の光導波路の等価屈折率、Φ0:初期整合位相) - 1入力かつN(Nは3以上の整数)出力型である1×N型マルチモード干渉導波路と、
前記1×N型マルチモード干渉導波路の入力側のポートに一端が接続される1本の光導波路からなる第1の光導波路群と、
前記1×N型マルチモード干渉導波路の出力側の各ポートに一端がそれぞれ接続され、三種以上の異なる導波路長を有するN本の光導波路からなる第2の光導波路群と、
前記第2の光導波路群の各光導波路の他端が入力側の各ポートにそれぞれ接続されるN(Nは3以上の整数)入力かつ1出力型であるN×1型マルチモード干渉導波路と、
前記N×1型マルチモード干渉導波路の出力側のポートに一端が接続され、他端を出射面とする1本の光導波路からなる第3の光導波路群と、
を備え、
前記第1の光導波路群の1本の光導波路の他端を入射面とし、
前記第2の光導波路群のうち、一の光導波路の導波路長が、二種以上の異なる導波路長を有する複数本の他の光導波路の導波路長と異なり、
前記第2の光導波路群の一の光導波路の導波路長に対する、前記第2の光導波路群の複数本の他の導波路の各導波路長の差に基づく、前記出射面からの透過光の繰り返しピークの間隔である波長ピーク周期Δλが、複数存在し、
下記式3を満たす各整数をmとし、前記第2の光導波路群の一の光導波路の導波路長に対する、前記第2の光導波路群の複数本の他の光導波路の各導波路長との差をΔdとすると、下記式4を満たすことを特徴とする光導波型フィルター。
[式3]
m=λ0/Δλ
(但し、λ0:入射光波長、Δλ:波長ピーク周期)
[式4]
Δd=λ0(Φ0+2π(m−1))/2πneq
(但し、neq:第2の光導波路群の光導波路の等価屈折率、Φ0:初期整合位相) - 前記請求項1又は2に記載の導波路型光フィルターにおいて、
前記第2の光導波路群の一の光導波路及び/又は他の光導波路が、曲線領域を含む曲線導波路であることを特徴とする導波路型光フィルター。 - 1入力かつN(Nは3以上の整数)出力型である1×N型マルチモード干渉導波路と、
前記1×N型マルチモード干渉導波路の入力側のポートに一端が接続される1本の光導波路からなる第1の光導波路群と、
前記1×N型マルチモード干渉導波路の出力側の各ポートに一端がそれぞれ接続され、三種以上の異なる導波路長を有するN本の光導波路からなる第2の光導波路群と、
を備え、
前記第1の光導波路群の1本の光導波路の他端を出射面とし、
前記第2の光導波路群の各光導波路の他端を反射面とし、
前記1×N型マルチモード干渉導波路、第1の光導波路群及び第2の光導波路群が、活性層を有する層構造であり、
前記第2の光導波路群のうち、一の光導波路の導波路長が、二種以上の異なる導波路長を有する複数本の他の光導波路の導波路長と異なり、
前記第2の光導波路群の一の光導波路の導波路長に対する、前記第2の光導波路群の複数本の他の導波路の各導波路長の差に基づく、前記出射面からの透過光の繰り返しピークの間隔である波長ピーク周期Δλが、複数存在し、
下記式5を満たす各整数をmとし、前記第2の光導波路群の一の光導波路の導波路長に対する、前記第2の光導波路群の複数本の他の光導波路の各導波路長との差をΔd/2とすると、下記式6を満たすことを特徴とする半導体レーザー。
[式5]
m=λ 0 /Δλ
(但し、λ 0 :入射光波長、Δλ:波長ピーク周期)
[式6]
Δd=λ 0 (Φ 0 +2π(m−1))/2πn eq
(但し、n eq :第2の光導波路群の光導波路の等価屈折率、Φ 0 :初期整合位相) - 前記請求項4に記載の半導体レーザーにおいて、
前記第1の光導波路群の光導波路が、外部電極に接続するコンタクト層を有しており、
前記第1の光導波路群の1本の光導波路の長さ方向を横断するように、前記コンタクト層の一部を除去しており、当該除去した領域を介して前記1×N型マルチモード干渉導波路から分離された前記第1の光導波路群の光導波路に変調信号を加えることを特徴とする半導体レーザー。 - 1入力かつN(Nは3以上の整数)出力型である1×N型マルチモード干渉導波路と、
前記1×N型マルチモード干渉導波路の入力側のポートに一端が接続される1本の光導波路からなる第1の光導波路群と、
前記1×N型マルチモード干渉導波路の出力側の各ポートに一端がそれぞれ接続され、三種以上の異なる導波路長を有するN本の光導波路からなる第2の光導波路群と、
前記第2の光導波路群の各光導波路の他端が入力側の各ポートにそれぞれ接続されるN(Nは3以上の整数)入力かつ1出力型であるN×1型マルチモード干渉導波路と、
前記N×1型マルチモード干渉導波路の出力側のポートに一端が接続され、他端を出射面とする1本の光導波路からなる第3の光導波路群と、
を備え、
前記第1の光導波路群の1本の光導波路の他端を反射面とし、
前記1×N型マルチモード干渉導波路、第1の光導波路群及び第2の光導波路群が、活性層を有する層構造であり、
前記第2の光導波路群のうち、一の光導波路の導波路長が、二種以上の異なる導波路長を有する複数本の他の光導波路の導波路長と異なり、
前記第2の光導波路群の一の光導波路の導波路長に対する、前記第2の光導波路群の複数本の他の導波路の各導波路長の差に基づく、前記出射面からの透過光の繰り返しピークの間隔である波長ピーク周期Δλが、複数存在し、
下記式7を満たす各整数をmとし、前記第2の光導波路群の一の光導波路の導波路長に対する、前記第2の光導波路群の複数本の他の光導波路の各導波路長との差をΔdとすると、下記式8を満たすことを特徴とする半導体レーザー。
[式7]
m=λ 0 /Δλ
(但し、λ 0 :入射光波長、Δλ:波長ピーク周期)
[式8]
Δd=λ 0 (Φ 0 +2π(m−1))/2πn eq
(但し、n eq :第2の光導波路群の光導波路の等価屈折率、Φ 0 :初期整合位相) - 前記請求項6に記載の半導体レーザーにおいて、
前記第3の光導波路群の光導波路が、外部電極に接続するコンタクト層を有しており、
前記第3の光導波路群の1本の光導波路の長さ方向を横断するように、前記コンタクト層の一部を除去しており、当該除去した領域を介して前記1×N型マルチモード干渉導波路から分離された前記第3の光導波路群の光導波路に変調信号を加えることを特徴とする半導体レーザー。 - 前記請求項4乃至7のいずれかに記載の半導体レーザーにおいて、
前記第2の光導波路群のうち、少なくとも1本の光導波路が、曲線領域を含む曲線導波路であることを特徴とする半導体レーザー。
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