JP5709737B2 - Method for producing silicon single crystal - Google Patents

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Description

本発明は、シリコン単結晶の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a silicon single crystal.

シリコン単結晶の製造にはシリカガラスルツボを用いたチョクラルスキー法(CZ法)が採用されている。具体的には、シリカガラスルツボの内部にシリコン多結晶原料を熔融したシリコン融液を貯留し、シリコン単結晶の種結晶を接触させ、回転させながら徐々に引上げ、シリコン単結晶の種結晶を核として成長させてシリコン単結晶を製造する。   A Czochralski method (CZ method) using a silica glass crucible is employed for producing a silicon single crystal. Specifically, a silicon melt obtained by melting a silicon polycrystal raw material is stored inside a silica glass crucible, and a silicon single crystal seed crystal is brought into contact with the silicon crystal crucible and is gradually pulled up to rotate the silicon single crystal seed crystal as a nucleus. To produce a silicon single crystal.

CZ法を実施するに際しては、初期液面の検出が重要であり、従来は、種結晶の先端がシリコン融液に接触したときの電気的導通を検出することによって初期液面の検出を行なってきた。例えば、特許文献1に記載されているように、先端の尖った種結晶を用いる場合、種結晶の先端がシリコン融液に接触するとすぐに熔けてしまうため、液面の正確な検出が困難である。   In carrying out the CZ method, it is important to detect the initial liquid level. Conventionally, the initial liquid level has been detected by detecting electrical continuity when the tip of the seed crystal contacts the silicon melt. It was. For example, as described in Patent Document 1, when using a seed crystal with a sharp tip, the tip of the seed crystal melts as soon as it comes into contact with the silicon melt, so that accurate detection of the liquid level is difficult. is there.

特許文献1では、先端の尖った種結晶以外に別の結晶片を準備し、この結晶片がシリコン融液に接触したときの電気的導通を検出することによって初期液面の検出を行なっているが、この方法だと装置構成が複雑になってしまう。   In Patent Document 1, in addition to a seed crystal having a sharp tip, another crystal piece is prepared, and the initial liquid level is detected by detecting electrical continuity when this crystal piece comes into contact with the silicon melt. However, this method complicates the device configuration.

特開2005−97050号公報JP-A-2005-97050

また、先端の尖っていない種結晶を用いた場合でも、シリコン融液に接触したときにわずかに熔解することは避けられず、初期液面を正確に検出することは非常に困難である。   Even when a seed crystal having no sharp tip is used, it is unavoidable to slightly melt when it comes into contact with the silicon melt, and it is very difficult to accurately detect the initial liquid level.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、初期液面を高精度に特定して、高精度なシリコン単結晶の引き上げを可能にするシリコン単結晶の製造方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a method for manufacturing a silicon single crystal that enables the initial liquid surface to be specified with high accuracy and enables the pulling of the silicon single crystal with high accuracy. is there.

本発明によれば、シリカガラスルツボ内に多結晶シリコンを充填し、前記多結晶シリコンを熔融させ、前記熔融によって得られたシリコン融液に種結晶を接触させた後に前記種結晶を引き上げる工程を備え、前記種結晶を前記シリコン融液に接触させる前の前記シリコン融液の液面の高さ位置は、前記多結晶シリコンの質量と前記シリカガラスルツボの内表面の三次元形状に基づいて決定され、前記内表面の三次元形状は、前記シリカガラスルツボの内表面に沿って非接触で内部測距部を移動させ、移動経路上の複数の測定点において、内部測距部から前記シリカガラスルツボの内表面に対して斜め方向にレーザー光を照射し、前記内表面からの内表面反射光を検出することによって、内部測距部と前記内表面の間の内表面距離を測定し、各測定点の三次元座標と、前記内表面距離を関連付けることによって、前記シリカガラスルツボの内表面の三次元形状を求める工程を備える方法によって決定される、シリコン単結晶の製造方法が提供される。   According to the present invention, the step of filling the silica glass crucible with polycrystalline silicon, melting the polycrystalline silicon, bringing the seed crystal into contact with the silicon melt obtained by the melting, and then pulling up the seed crystal. And the height position of the liquid surface of the silicon melt before contacting the seed crystal with the silicon melt is determined based on the mass of the polycrystalline silicon and the three-dimensional shape of the inner surface of the silica glass crucible. And the three-dimensional shape of the inner surface moves the internal distance measuring unit in a non-contact manner along the inner surface of the silica glass crucible, and from the internal distance measuring unit to the silica glass at a plurality of measurement points on the moving path. By irradiating laser light obliquely to the inner surface of the crucible and detecting the inner surface reflected light from the inner surface, the inner surface distance between the inner distance measuring unit and the inner surface is measured, And three-dimensional coordinates of a fixed point, by associating the inner surface distance, the determined by a method comprising the step of obtaining a three-dimensional shape of the inner surface of the silica glass crucible, the method for manufacturing a silicon single crystal is provided.

シリコン単結晶の引き上げは、種結晶をシリコン融液に接触させるところから始まるので、種結晶を接触させる前の初期液面を特定することは極めて重要なプロセスである。しかし、従来技術で説明したように、種結晶とシリコン融液との電気的導通に基づいて初期液面を正確に特定することは困難である。   Since the pulling of the silicon single crystal starts from bringing the seed crystal into contact with the silicon melt, it is an extremely important process to specify the initial liquid surface before bringing the seed crystal into contact. However, as explained in the prior art, it is difficult to accurately specify the initial liquid level based on the electrical conduction between the seed crystal and the silicon melt.

そこで、本発明者らは、従来とは発想を転換し、多結晶シリコンの質量とルツボの内表面の三次元形状に基づいて初期液面を特定するという発明を完成させた。   Therefore, the present inventors changed the way of thinking from the prior art and completed the invention of specifying the initial liquid level based on the mass of polycrystalline silicon and the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible.

多結晶シリコンの質量が定まれば、その密度からシリコン融液の体積が特定される。そして、ルツボの内表面の三次元形状が定まれば、ルツボの任意の高さ位置までの容積が特定されるので、シリコン融液の高さ位置(すなわち初期液面)が決定される。
本発明の利点の1つは、多結晶シリコンを熔融させる前の段階でシリコン融液の初期液面が決定されることである。従って、例えば、シリコン融液の初期液面を特定の位置にするために、多結晶シリコンの質量を適宜調節することができ、シリコン融液の初期液面位置のバラツキを低減することができる。
また、内表面の三次元形状に基づいて、シリコン単結晶の引き上げ条件(引き上げ速度等)を決定することができるという利点もある。
また、本発明は、外径28インチ以上の大型ルツボや、40インチ以上の超大型ルツボにおいて特に利点がある。なぜなら、このようなルツボにおいては、引き上げに失敗した場合の損失が非常に大きいので、初期液面を含む引き上げ条件の最適設定の重要性が特に高いからである。
If the mass of polycrystalline silicon is determined, the volume of the silicon melt is specified from the density. When the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible is determined, the volume up to an arbitrary height position of the crucible is specified, so that the height position of the silicon melt (that is, the initial liquid level) is determined.
One of the advantages of the present invention is that the initial liquid level of the silicon melt is determined before the polycrystalline silicon is melted. Therefore, for example, in order to set the initial liquid level of the silicon melt to a specific position, the mass of the polycrystalline silicon can be appropriately adjusted, and variations in the initial liquid level position of the silicon melt can be reduced.
There is also an advantage that the pulling condition (pulling speed, etc.) of the silicon single crystal can be determined based on the three-dimensional shape of the inner surface.
The present invention is particularly advantageous in a large crucible having an outer diameter of 28 inches or more and a super large crucible having a diameter of 40 inches or more. This is because, in such a crucible, the loss when the pulling up fails is very large, and therefore the importance of the optimum setting of the pulling conditions including the initial liquid level is particularly high.

全てのルツボの内表面形状が設計図通りになるのであれば、ルツボの内表面の三次元形状は設計図面を見るだけで特定することができるが、実際には、シリカガラスルツボの内表面形状は、ルツボ毎に異なるので、1つ1つのルツボについてルツボの内表面の三次元形状を特定することが必須である。   If the inner surface shape of all the crucibles is as shown in the design drawing, the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible can be specified only by looking at the design drawing, but in reality, the inner surface shape of the silica glass crucible. Therefore, it is essential to specify the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible for each crucible.

本発明者らは、通常の三次元レーザースキャナを用いて、内表面の三次元形状を特定しようとしたが、ルツボが透明体であるので、測定はうまくいかなかった。ルツボ内表面に光を照射して画像を取得し、その画像を解析する方法も試してみたが、この方法では、画像の解析に非常に長い時間がかかるため、ルツボの内表面全体の三次元形状の測定には到底使えるものではなかった。   The present inventors tried to specify the three-dimensional shape of the inner surface using a normal three-dimensional laser scanner, but the measurement was not successful because the crucible was a transparent body. I tried to illuminate the inner surface of the crucible to acquire an image and analyze the image, but this method takes a very long time to analyze the image. It could not be used to measure the shape.

このような状況において、本発明者らは、ルツボの内表面に対して斜め方向からレーザー光を照射したところ、ルツボ内表面からの反射光(内表面反射光)の検出が可能であり、この反射光に基づいて内部測距部と内表面の間の内表面距離が測定可能であることを見出した。   In such a situation, the present inventors can detect the reflected light (inner surface reflected light) from the inner surface of the crucible when the inner surface of the crucible is irradiated with laser light from an oblique direction. It was found that the inner surface distance between the inner distance measuring unit and the inner surface can be measured based on the reflected light.

また、ルツボの内表面に沿った複数の測定点において測定が行われるが、各測定点での内部測距部の座標と内表面距離を関連付けることによって、各測定点に対応するルツボ内表面座標が得られる。   In addition, the measurement is performed at a plurality of measurement points along the inner surface of the crucible. By associating the inner surface distance with the coordinates of the internal distance measuring unit at each measurement point, the inner surface coordinates of the crucible corresponding to each measurement point. Is obtained.

そして、ルツボの内表面に沿って、例えば2mm間隔のメッシュ状に多数の測定点を配置して測定を行うことによって、メッシュ状の内表面座標が得られ、これによって、ルツボの内表面の三次元形状を求めることができる。
この方法が優れているのは、画像解析による方法に比べて、データのサンプリングレートが格段に大きいことであり、予備実験によると、直径1mのルツボで10万点の測定をする場合であっても、10分程度で内表面全体の三次元形状の測定を終えることができた。
Then, along the inner surface of the crucible, for example, by arranging a large number of measurement points in a mesh shape with an interval of 2 mm and performing measurement, the mesh-like inner surface coordinates are obtained, thereby obtaining the tertiary of the inner surface of the crucible. The original shape can be obtained.
The superiority of this method is that the data sampling rate is much higher than that of the image analysis method. According to a preliminary experiment, 100,000 points are measured with a 1 m diameter crucible. However, the measurement of the three-dimensional shape of the entire inner surface was completed in about 10 minutes.

以下、本発明の種々の実施形態を例示する。以下の実施形態は、互いに組み合わせ可能である。
好ましくは、前記シリカガラスルツボの外表面に沿って外部測距部を移動させ、移動経路上の複数の測定点において、外部測距部からシリカガラスルツボの外表面に対してレーザー光を照射し、前記外表面からの外表面反射光を検出スルことによって、外部測距部と前記外表面の間の外表面距離を測定し、各測定点の三次元座標と、外表面距離を関連付けることによって、前記シリカガラスルツボの外表面の三次元形状を求める工程をさらに備える。
Hereinafter, various embodiments of the present invention will be exemplified. The following embodiments can be combined with each other.
Preferably, the external distance measuring unit is moved along the outer surface of the silica glass crucible, and laser light is irradiated from the external distance measuring unit to the outer surface of the silica glass crucible at a plurality of measurement points on the moving path. By detecting the outer surface reflected light from the outer surface, the outer surface distance between the outer distance measuring unit and the outer surface is measured, and the three-dimensional coordinates of each measuring point are associated with the outer surface distance. And a step of obtaining a three-dimensional shape of the outer surface of the silica glass crucible.

好ましくは、内部測距部からのレーザー光は、前記内表面に対して30〜60度の入射角で照射される。   Preferably, the laser beam from the internal distance measuring unit is irradiated at an incident angle of 30 to 60 degrees with respect to the inner surface.

好ましくは、内部測距部は、内部測距部を三次元的に移動させることができるように構成された内部ロボットアームに固定され、前記シリカガラスルツボは、内部ロボットアームを覆うように配置される。   Preferably, the internal distance measuring unit is fixed to an internal robot arm configured to be able to move the internal distance measuring unit three-dimensionally, and the silica glass crucible is disposed so as to cover the internal robot arm. The

図1(a)及び(b)は、それぞれ、シリカガラスルツボに多結晶シリコンを充填した状態、及び多結晶シリコンを熔融させた状態を示す。FIGS. 1A and 1B show a state in which a silica glass crucible is filled with polycrystalline silicon and a state in which polycrystalline silicon is melted, respectively. 図2は、シリカガラスルツボの三次元形状測定方法の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a method for measuring the three-dimensional shape of a silica glass crucible. 図3は、図2の内部測距部及びその近傍のシリカガラスルツボの拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of the internal distance measuring unit of FIG. 2 and the silica glass crucible in the vicinity thereof. 図4は、図2の内部測距部の測定結果を示す。FIG. 4 shows a measurement result of the internal distance measuring unit of FIG. 図5は、図2の外部測距部の測定結果を示す。FIG. 5 shows a measurement result of the external distance measuring unit of FIG.

以下、図1〜図5を用いて、本発明の一実施形態のシリコン単結晶の製造方法を説明する。   Hereinafter, a method for manufacturing a silicon single crystal according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

<1.シリカガラスルツボ>
本発明の一実施形態のシリコン単結晶の製造方法で使用されるシリカガラスルツボ11は、一例では、回転モールドの内表面に平均粒径300μm程度のシリカ粉を堆積させてシリカ粉層を形成するシリカ粉層形成工程と、モールド側からシリカ粉層を減圧しながら、シリカ粉層をアーク熔融させることによってシリカガラス層を形成するアーク熔融工程を備える(この方法を「回転モールド法」と称する)方法によって製造される。
<1. Silica glass crucible>
In one example, the silica glass crucible 11 used in the method for producing a silicon single crystal according to an embodiment of the present invention forms a silica powder layer by depositing silica powder having an average particle size of about 300 μm on the inner surface of a rotary mold. A silica powder layer forming step and an arc melting step of forming a silica glass layer by arc melting the silica powder layer while decompressing the silica powder layer from the mold side (this method is referred to as a “rotary molding method”) Manufactured by the method.

アーク熔融工程の初期にはシリカ粉層を強く減圧することによって気泡を除去して透明シリカガラス層(以下、「透明層」と称する。)13を形成し、その後、減圧を弱くすることによって気泡が残留した気泡含有シリカガラス層(以下、「気泡含有層」と称する。)15を形成することによって、内表面側に透明層13を有し、外表面側に気泡含有層15を有する二層構造のシリカガラスルツボを形成することができる。   At the initial stage of the arc melting process, the silica powder layer is strongly decompressed to remove bubbles to form a transparent silica glass layer (hereinafter referred to as “transparent layer”) 13, and then the decompression is weakened to reduce the bubbles. Forming a bubble-containing silica glass layer 15 (hereinafter referred to as “bubble-containing layer”) 15, thereby having two layers having a transparent layer 13 on the inner surface side and a bubble-containing layer 15 on the outer surface side. A structured silica glass crucible can be formed.

ルツボの製造に使用されるシリカ粉には、天然石英を粉砕して製造される天然シリカ粉や化学合成によって製造される合成シリカ粉があるが、特に天然シリカ粉は、天然物を原料としているので、物性・形状・サイズがばらつきやすい。物性・形状・サイズが変化すると、シリカ粉の熔融状態が変化するので、同じ条件でアーク熔融を行っても、製造されるルツボの内表面形状がばらついてしまう。従って、内表面形状は、一つ一つのルツボについて測定する必要がある。   Silica powder used for crucible production includes natural silica powder produced by pulverizing natural quartz and synthetic silica powder produced by chemical synthesis, but natural silica powder is made from natural products. Therefore, physical properties, shapes, and sizes tend to vary. When the physical properties, shape, and size change, the melting state of the silica powder changes, so that the inner surface shape of the manufactured crucible varies even when arc melting is performed under the same conditions. Therefore, the inner surface shape needs to be measured for each crucible.

シリカガラスルツボ11は、曲率が比較的大きいコーナー部11bと、上面に開口した縁部を有する円筒状の側壁部11aと、直線または曲率が比較的小さい曲線からなるすり鉢状の底部11cを有する。本発明において、コーナー部とは、側壁部11aと底部11cを連接する部分で、コーナー部の曲線の接線がシリカガラスルツボの側壁部11aと重なる点から、底部11cと共通接線を有する点までの部分のことを意味する。言い換えると、シリカガラスルツボ11の側壁部11aが曲がり始める点が側壁部11aとコーナー部11bの境界である。さらに、ルツボの底の曲率が一定の部分が底部11cであり、ルツボの底の中心からの距離が増したときに曲率が変化し始める点が底部11cとコーナー部11bとの境界である。   The silica glass crucible 11 has a corner portion 11b having a relatively large curvature, a cylindrical side wall portion 11a having an edge opened on the upper surface, and a mortar-shaped bottom portion 11c made of a straight line or a curve having a relatively small curvature. In the present invention, the corner portion is a portion connecting the side wall portion 11a and the bottom portion 11c, from the point where the tangent line of the corner portion curve overlaps the side wall portion 11a of the silica glass crucible to the point having the common tangent line with the bottom portion 11c. Means part. In other words, the point where the side wall portion 11a of the silica glass crucible 11 begins to bend is the boundary between the side wall portion 11a and the corner portion 11b. Further, the portion where the curvature of the bottom of the crucible is constant is the bottom portion 11c, and the point where the curvature starts to change when the distance from the center of the bottom of the crucible increases is the boundary between the bottom portion 11c and the corner portion 11b.

<2.多結晶シリコンの充填及び熔融>
シリコン単結晶の引き上げ時には、図1(a)に示すように、ルツボ11内に多結晶シリコン21を充填し、この状態でルツボ11の周囲に配置されたカーボンヒーターで多結晶シリコンを加熱して熔融させて、図1(b)に示すように、シリコン融液23を得る。
シリコン融液23の体積は、多結晶シリコン21の質量によって定まるので、シリコン融液23の液面23aの高さ位置Hは、多結晶シリコン21の質量とルツボ11の内表面の三次元形状によって決まる。本発明によれば、後述する方法によって、ルツボ11の内表面の三次元形状が定まるので、ルツボ11の任意の高さ位置までの容積が特定され、従って、シリコン融液23液面23aの高さ位置Hが決定される。
シリコン融液23の初期液面の高さ位置Hが決定された後は、種結晶の先端を高さ位置Hまで下降させてシリコン融液23に接触させ、その後、ゆっくりと引き上げることによって、シリコン単結晶を製造することができる。
<2. Filling and melting of polycrystalline silicon>
When pulling up the silicon single crystal, as shown in FIG. 1A, the crucible 11 is filled with the polycrystalline silicon 21, and in this state, the polycrystalline silicon is heated by a carbon heater disposed around the crucible 11. By melting, a silicon melt 23 is obtained as shown in FIG.
Since the volume of the silicon melt 23 is determined by the mass of the polycrystalline silicon 21, the height position H of the liquid surface 23 a of the silicon melt 23 depends on the mass of the polycrystalline silicon 21 and the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible 11. Determined. According to the present invention, since the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible 11 is determined by the method described later, the volume up to an arbitrary height position of the crucible 11 is specified, and accordingly, the height of the silicon melt 23 liquid surface 23a is specified. The position H is determined.
After the height position H of the initial liquid surface of the silicon melt 23 is determined, the tip of the seed crystal is lowered to the height position H to come into contact with the silicon melt 23, and then slowly pulled up to form silicon. Single crystals can be produced.

<3.ルツボの内表面の三次元形状の測定方法>
以下、図2〜図5を用いて、ルツボの内表面の三次元形状の測定方法について説明する。本実施形態では、レーザー変位計などからなる内部測距部17をルツボ内表面に沿って非接触で移動させ、移動経路上の複数の測定点において、ルツボ内表面に対してレーザー光を斜め方向に照射し、その反射光を検出することによって、ルツボの内表面の三次元形状を測定する。以下、詳細に説明する。また、内表面形状を測定する際に、透明層13と気泡含有層15の界面の三次元形状も同時に測定することができ、また、内部測距部19を用いることによってルツボの外表面の三次元形状も測定することができるので、これらの点についても合わせて説明する。
<3. Method for measuring the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible>
Hereinafter, a method for measuring the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, the internal distance measuring unit 17 including a laser displacement meter is moved in a non-contact manner along the inner surface of the crucible, and laser light is obliquely directed to the inner surface of the crucible at a plurality of measurement points on the movement path. And measuring the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible by detecting the reflected light. Details will be described below. Further, when measuring the inner surface shape, the three-dimensional shape of the interface between the transparent layer 13 and the bubble-containing layer 15 can also be measured at the same time, and by using the internal distance measuring unit 19, the tertiary of the outer surface of the crucible can be measured. Since the original shape can also be measured, these points will be described together.

<3−1.シリカガラスルツボの設置、内部ロボットアーム、内部測距部>
測定対象であるシリカガラスルツボ11は、開口部が下向きになるように回転可能な回転台9上に載置されている。ルツボ11に覆われる位置に設けられた基台1上には、内部ロボットアーム5が設置されている。内部ロボットアーム5は、複数のアーム5aと、これらのアーム5aを回転可能に支持する複数のジョイント5bと、本体部5cを備える。本体部5cには図示しない外部端子が設けられており、外部とのデータ交換が可能になっている。内部ロボットアーム5の先端にはルツボ11の内表面形状の測定を行う内部測距部17が設けられている。内部測距部17は、ルツボ11の内表面に対してレーザー光を照射し、内表面からの反射光を検出することによって内部測距部17からルツボ11の内表面までの距離を測定する。本体部5c内には、ジョイント5b及び内部測距部17の制御を行う制御部が設けられている。制御部は、本体部5c設けられたプログラム又は外部入力信号に基づいてジョイント5bを回転させてアーム5を動かすことによって、内部測距部17を任意の三次元位置に移動させる。具体的には、内部測距部17をルツボ内表面に沿って非接触で移動させる。従って、制御部には、ルツボ内表面の大まかな形状データを与え、そのデータに従って、内部測距部17の位置を移動させる。より具体的には、例えば、図2(a)に示すようなルツボ11の開口部近傍に近い位置から測定を開始し、図2(b)に示すように、ルツボ11の底部11cに向かって内部測距部17を移動させ、移動経路上の複数の測定点において測定を行う。測定間隔は、例えば、1〜5mmであり、例えば2mmである。測定は、予め内部測距部17内に記憶されたタイミングで行うか、又は外部トリガに従って行う。測定結果は、内部測距部17内の記憶部に格納されて、測定終了後にまとめて本体部5cに送られるか、又は測定の度に、逐次本体部5cに送られるようにする。内部測距部17は、本体部5cとは別に設けられた制御部によって制御するように構成してもよい。
<3-1. Installation of silica glass crucible, internal robot arm, internal distance measuring section>
The silica glass crucible 11 to be measured is placed on a turntable 9 that can be rotated so that the opening is directed downward. On the base 1 provided at a position covered with the crucible 11, an internal robot arm 5 is installed. The internal robot arm 5 includes a plurality of arms 5a, a plurality of joints 5b that rotatably support these arms 5a, and a main body 5c. The main body 5c is provided with an external terminal (not shown) so that data exchange with the outside is possible. An internal distance measuring unit 17 for measuring the inner surface shape of the crucible 11 is provided at the tip of the internal robot arm 5. The internal distance measuring unit 17 measures the distance from the internal distance measuring unit 17 to the inner surface of the crucible 11 by irradiating the inner surface of the crucible 11 with laser light and detecting reflected light from the inner surface. A control unit that controls the joint 5b and the internal distance measuring unit 17 is provided in the main body 5c. The control unit moves the internal distance measuring unit 17 to an arbitrary three-dimensional position by rotating the joint 5b and moving the arm 5 based on a program provided in the main body 5c or an external input signal. Specifically, the internal distance measuring unit 17 is moved in a non-contact manner along the inner surface of the crucible. Therefore, rough shape data of the inner surface of the crucible is given to the control unit, and the position of the internal distance measuring unit 17 is moved according to the data. More specifically, for example, the measurement is started from a position close to the vicinity of the opening of the crucible 11 as shown in FIG. 2A, and toward the bottom 11c of the crucible 11 as shown in FIG. The internal distance measuring unit 17 is moved to perform measurement at a plurality of measurement points on the movement path. The measurement interval is, for example, 1 to 5 mm, for example, 2 mm. The measurement is performed at a timing stored in the internal distance measuring unit 17 in advance or according to an external trigger. The measurement results are stored in the storage unit in the internal distance measuring unit 17, and are sent to the main body unit 5c collectively after the measurement is completed, or are sequentially sent to the main body unit 5c for each measurement. The internal distance measuring unit 17 may be configured to be controlled by a control unit provided separately from the main body 5c.

ルツボの開口部から底部11cまでの測定が終わると、回転台9を少し回転させ、同様の測定行う。この測定は、底部11cから開口部に向かって行ってもよい。回転台9の回転角は、精度と測定時間との考慮して決定されるが、例えば、2〜10度である。回転角が大きすぎると測定精度が十分でなく、小さすぎると測定時間が掛かりすぎる。回転台9の回転は、内蔵プログラム又は外部入力信号に基づいて制御される。回転台9の回転角は、ロータリーエンコーダ等によって検出可能である。回転台9の回転は、内部測距部17及び後述する外部測距部19の移動と連動してすることが好ましく、これによって、内部測距部17及び外部測距部19の3次元座標の算出が容易になる。   When the measurement from the opening of the crucible to the bottom 11c is completed, the turntable 9 is slightly rotated and the same measurement is performed. This measurement may be performed from the bottom 11c toward the opening. The rotation angle of the turntable 9 is determined in consideration of accuracy and measurement time, and is, for example, 2 to 10 degrees. If the rotation angle is too large, the measurement accuracy is not sufficient, and if it is too small, it takes too much measurement time. The rotation of the turntable 9 is controlled based on a built-in program or an external input signal. The rotation angle of the turntable 9 can be detected by a rotary encoder or the like. The rotation of the turntable 9 is preferably interlocked with the movement of the internal distance measuring unit 17 and the external distance measuring unit 19 described later. Calculation becomes easy.

後述するが、内部測距部17は、内部測距部17から内表面までの距離(内表面距離)、及び内部測距部17から透明層13と気泡含有層15の界面までの距離(界面距離)の両方を測定することができる。ジョイント5bの角度はジョイント5bに設けられたロータリーエンコーダ等によって既知であるので、各測定点での内部測距部17の位置の三次元座標及び方向が既知になるので、内表面距離及び界面距離が求まれば、内表面での三次元座標、及び界面での三次元座標が既知となる。そして、ルツボ11の開口部から底部11cまでの測定が、ルツボ11の全周に渡って行われるので、ルツボ11の内表面の三次元形状、及び界面の三次元形状が既知になる。また、内表面と界面の間の距離が既知になるので、透明層13の厚さも既知になり、透明層の厚さの三次元分布が求められる。   As will be described later, the internal distance measuring unit 17 includes a distance from the internal distance measuring unit 17 to the inner surface (inner surface distance) and a distance from the inner distance measuring unit 17 to the interface between the transparent layer 13 and the bubble-containing layer 15 (interface). Both distances can be measured. Since the angle of the joint 5b is known by a rotary encoder or the like provided in the joint 5b, the three-dimensional coordinates and direction of the position of the internal distance measuring unit 17 at each measurement point are known. Is obtained, the three-dimensional coordinates on the inner surface and the three-dimensional coordinates on the interface are known. And since the measurement from the opening part of the crucible 11 to the bottom part 11c is performed over the perimeter of the crucible 11, the three-dimensional shape of the inner surface of the crucible 11 and the three-dimensional shape of the interface become known. Further, since the distance between the inner surface and the interface is known, the thickness of the transparent layer 13 is also known, and a three-dimensional distribution of the thickness of the transparent layer is obtained.

<3−2.外部ロボットアーム、外部測距部>
ルツボ11の外部に設けられた基台3上には、外部ロボットアーム7が設置されている。外部ロボットアーム7は、複数のアーム7aと、これらのアームを回転可能に支持する複数のジョイント7bと、本体部7cを備える。本体部7cには図示しない外部端子が設けられており、外部とのデータ交換が可能になっている。外部ロボットアーム7の先端にはルツボ11の外表面形状の測定を行う外部測距部19が設けられている。外部測距部19は、ルツボ11の外表面に対してレーザー光を照射し、外表面からの反射光を検出することによって外部測距部19からルツボ11の外表面までの距離を測定する。本体部7c内には、ジョイント7b及び外部測距部19の制御を行う制御部が設けられている。制御部は、本体部7c設けられたプログラム又は外部入力信号に基づいてジョイント7bを回転させてアーム7を動かすことによって、外部測距部19を任意の三次元位置に移動させる。具体的には、外部測距部19をルツボ外表面に沿って非接触で移動させる。従って、制御部には、ルツボ外表面の大まかな形状データを与え、そのデータに従って、外部測距部19の位置を移動させる。より具体的には、例えば、図2(a)に示すようなルツボ11の開口部近傍に近い位置から測定を開始し、図2(b)に示すように、ルツボ11の底部11cに向かって外部測距部19を移動させ、移動経路上の複数の測定点において測定を行う。測定間隔は、例えば、1〜5mmであり、例えば2mmである。測定は、予め外部測距部19内に記憶されたタイミングで行うか、又は外部トリガに従って行う。測定結果は、外部測距分19内の記憶部に格納されて、測定終了後にまとめて本体部7cに送られるか、又は測定の度に、逐次本体部7cに送られるようにする。外部測距部19は、本体部7cとは別に設けられた制御部によって制御するように構成してもよい。
<3-2. External robot arm, external distance measuring unit>
An external robot arm 7 is installed on a base 3 provided outside the crucible 11. The external robot arm 7 includes a plurality of arms 7a, a plurality of joints 7b that rotatably support these arms, and a main body portion 7c. The main body 7c is provided with an external terminal (not shown) so that data exchange with the outside is possible. An external distance measuring unit 19 that measures the outer surface shape of the crucible 11 is provided at the tip of the external robot arm 7. The external distance measuring unit 19 measures the distance from the external distance measuring unit 19 to the outer surface of the crucible 11 by irradiating the outer surface of the crucible 11 with laser light and detecting the reflected light from the outer surface. A control unit that controls the joint 7b and the external distance measuring unit 19 is provided in the main body 7c. The control unit moves the external distance measuring unit 19 to an arbitrary three-dimensional position by rotating the joint 7b and moving the arm 7 based on a program provided in the main body unit 7c or an external input signal. Specifically, the external distance measuring unit 19 is moved in a non-contact manner along the outer surface of the crucible. Therefore, rough shape data of the outer surface of the crucible is given to the control unit, and the position of the external distance measuring unit 19 is moved according to the data. More specifically, for example, the measurement is started from a position close to the vicinity of the opening of the crucible 11 as shown in FIG. 2A, and toward the bottom 11c of the crucible 11 as shown in FIG. The external distance measuring unit 19 is moved to perform measurement at a plurality of measurement points on the movement path. The measurement interval is, for example, 1 to 5 mm, for example, 2 mm. The measurement is performed at a timing stored in advance in the external distance measuring unit 19 or according to an external trigger. The measurement results are stored in the storage unit in the external distance measuring unit 19 and are collectively sent to the main unit 7c after the measurement is completed, or are sequentially sent to the main unit 7c every measurement. The external distance measuring unit 19 may be configured to be controlled by a control unit provided separately from the main body unit 7c.

内部測距部17と外部測距部19は、同期させて移動させてもよいが、内表面形状の測定と外表面形状の測定は独立して行われるので、必ずしも同期させる必要はない。   The internal distance measuring unit 17 and the external distance measuring unit 19 may be moved in synchronization. However, since the measurement of the inner surface shape and the measurement of the outer surface shape are performed independently, it is not always necessary to synchronize.

外部測距部19は、外部測距部19から外表面までの距離(外表面距離)を測定することができる。ジョイント7bの角度はジョイント7bに設けられたロータリーエンコーダ等によって既知であるので、外部測距部19の位置の三次元座標及び方向が既知になるので、外表面距離が求まれば、外表面での三次元座標が既知となる。そして、ルツボ11の開口部から底部11cまでの測定が、ルツボ11の全周に渡って行われるので、ルツボ11の外表面の三次元形状が既知になる。
以上より、ルツボの内表面及び外表面の三次元形状が既知になるので、ルツボの壁厚の三次元分布が求められる。
The external distance measuring unit 19 can measure the distance (outer surface distance) from the external distance measuring unit 19 to the outer surface. Since the angle of the joint 7b is known by a rotary encoder or the like provided in the joint 7b, the three-dimensional coordinates and direction of the position of the external distance measuring unit 19 are known. The three-dimensional coordinates are known. And since the measurement from the opening part of the crucible 11 to the bottom part 11c is performed over the perimeter of the crucible 11, the three-dimensional shape of the outer surface of the crucible 11 becomes known.
From the above, since the three-dimensional shape of the inner surface and the outer surface of the crucible becomes known, a three-dimensional distribution of the wall thickness of the crucible is obtained.

<3−3.距離測定の詳細>
次に、図3を用いて、内部測距部17及び外部測距部19による距離測定の詳細を説明する。
図3に示すように、内部測距部17は、ルツボ11の内表面側(透明層13側)に配置され、外部測距部19は、ルツボ11の外表面側(気泡含有層15側)に配置される。内部測距部17は、出射部17a及び検出部17bを備える。外部測距部19は、出射部19a及び検出部19bを備える。また、内部測距部17及び外部測距部19は、図示しない制御部及び外部端子を備える。出射部17a及び19aは、レーザー光を出射するものであり、例えば、半導体レーザーを備えるものである。出射されるレーザー光の波長は、特に限定されないが、例えば、波長600〜700nmの赤色レーザー光である。検出部17b及び19bは、例えばCCDで構成され、光が当たった位置に基づいて三角測量法の原理に基づいてターゲットまでの距離が決定される。
<3-3. Details of distance measurement>
Next, details of distance measurement by the internal distance measuring unit 17 and the external distance measuring unit 19 will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 3, the internal distance measuring unit 17 is arranged on the inner surface side (transparent layer 13 side) of the crucible 11, and the external distance measuring unit 19 is arranged on the outer surface side (bubble containing layer 15 side) of the crucible 11. Placed in. The internal distance measuring unit 17 includes an emitting unit 17a and a detecting unit 17b. The external distance measuring unit 19 includes an emitting unit 19a and a detecting unit 19b. The internal distance measuring unit 17 and the external distance measuring unit 19 include a control unit and an external terminal (not shown). The emitting portions 17a and 19a emit laser light, and include, for example, a semiconductor laser. The wavelength of the emitted laser light is not particularly limited, but is, for example, red laser light having a wavelength of 600 to 700 nm. The detectors 17b and 19b are composed of, for example, a CCD, and the distance to the target is determined based on the principle of triangulation based on the position where the light hits.

内部測距部17の出射部17aから出射されたレーザー光は、一部が内表面(透明層13の表面)で反射し、一部が透明層13と気泡含有層15の界面で反射し、これらの反射光(内表面反射光、界面反射光)が検出部17bに当たって検出される。図3から明らかなように、内表面反射光と界面反射光は、検出部17bの異なる位置に当たっており、この位置の違いによって、内部測距部17から内表面までの距離(内表面距離)及び界面までの距離(界面距離)がそれぞれ決定される。好適な入射角θは、内表面の状態、透明層13の厚さ、気泡含有層15の状態等によって、変化しうるが例えば30〜60度である。   A part of the laser light emitted from the emitting part 17a of the internal distance measuring part 17 is reflected by the inner surface (the surface of the transparent layer 13), and partly reflected by the interface between the transparent layer 13 and the bubble-containing layer 15, These reflected lights (inner surface reflected light and interface reflected light) strike the detection unit 17b and are detected. As is clear from FIG. 3, the inner surface reflected light and the interface reflected light hit different positions of the detection unit 17b, and due to the difference in position, the distance from the inner distance measuring unit 17 to the inner surface (inner surface distance) and The distance to the interface (interface distance) is determined. A suitable incident angle θ may vary depending on the state of the inner surface, the thickness of the transparent layer 13, the state of the bubble-containing layer 15, etc., but is, for example, 30 to 60 degrees.

図4は、市販のレーザー変位計を用いて測定された実際の測定結果を示す。図4に示すように、2つのピークが観察されており、内表面側のピークが内表面反射光によるピークであり、外表面側のピークが界面反射光によるピークに対応する。このように、透明層13と気泡含有層15の界面からの反射光によるピークもクリアに検出されている。従来は、このような方法で界面の特定がなされたことがなく、この結果は非常に斬新である。   FIG. 4 shows the actual measurement results measured using a commercially available laser displacement meter. As shown in FIG. 4, two peaks are observed, the peak on the inner surface side corresponds to the peak due to the inner surface reflected light, and the peak on the outer surface side corresponds to the peak due to the interface reflected light. Thus, the peak due to the reflected light from the interface between the transparent layer 13 and the bubble-containing layer 15 is also clearly detected. Conventionally, the interface has not been specified in this way, and this result is very novel.

内部測距部17から内表面までの距離が遠すぎる場合や、内表面又は界面が局所的に傾いている場合には、2つのピークが観測されない場合がある。その場合には、内部測距部17を内表面に近づけたり、内部測距部17の傾けてレーザー光の出射方向を変化させて、2つのピークが観測される位置及び角度を探索することが好ましい。また、2つのピークが同時に観測されなくても、ある位置及び角度において内表面反射光によるピークを観測し、別の位置及び角度において界面反射光によるピークを観測するようにしてもよい。また、内部測距部17が内表面に接触することを避けるために、最大近接位置を設定しておいて、ピークが観測されない場合でも、その位置よりも内表面に近づけないようにすることが好ましい。
また、透明層13中に独立した気泡が存在する場合、この気泡からの反射光を内部測距部17が検出してしまい、透明層13と気泡含有層15の界面を適切に検出できない場合がある。従って、ある測定点Aで測定された界面の位置が前後の測定点で測定された界面の位置から大きく(所定の基準値を超えて)ずれている場合には、測定点Aでのデータを除外してもよい。また、その場合、測定点Aからわずかにずれた位置で再度測定を行って、得られたデータを採用してもよい。
If the distance from the internal distance measuring unit 17 to the inner surface is too far, or if the inner surface or interface is locally inclined, two peaks may not be observed. In this case, the position and angle at which two peaks are observed can be searched by moving the internal distance measuring unit 17 closer to the inner surface or by tilting the internal distance measuring unit 17 to change the laser beam emission direction. preferable. Further, even if the two peaks are not observed simultaneously, the peak due to the inner surface reflected light may be observed at a certain position and angle, and the peak due to the interface reflected light may be observed at another position and angle. In order to prevent the internal distance measuring unit 17 from coming into contact with the inner surface, a maximum proximity position is set so that even if no peak is observed, the inner distance measuring unit 17 cannot be closer to the inner surface than that position. preferable.
In addition, when there are independent bubbles in the transparent layer 13, the internal distance measuring unit 17 may detect the reflected light from the bubbles, and the interface between the transparent layer 13 and the bubble-containing layer 15 may not be detected properly. is there. Therefore, when the position of the interface measured at a certain measurement point A is greatly deviated (exceeding a predetermined reference value) from the position of the interface measured at the preceding and following measurement points, the data at the measurement point A is It may be excluded. In that case, data obtained by performing measurement again at a position slightly deviated from the measurement point A may be employed.

また、外部測距部19の出射部19aから出射されたレーザー光は、外表面(気泡含有層15)の表面で反射し、その反射光(外表面反射光)が検出部19bに当たって検出され、検出部19b上での検出位置に基づいて外部測距部19と外表面の間の距離が決定される。図5は、市販のレーザー変位計を用いて測定された実際の測定結果を示す。図5に示すように、1つのピークのみが観察される。ピークが観測されない場合には、外部測距部19を内表面に近づけたり、外部測距部19の傾けてレーザー光の出射方向を変化させて、ピークが観測される位置及び角度を探索することが好ましい。   The laser light emitted from the emitting portion 19a of the external distance measuring section 19 is reflected by the surface of the outer surface (bubble-containing layer 15), and the reflected light (outer surface reflected light) strikes the detecting portion 19b and is detected. The distance between the external distance measuring unit 19 and the outer surface is determined based on the detection position on the detection unit 19b. FIG. 5 shows the actual measurement results measured using a commercially available laser displacement meter. As shown in FIG. 5, only one peak is observed. When the peak is not observed, the external distance measuring unit 19 is brought closer to the inner surface, or the external distance measuring unit 19 is tilted to change the emission direction of the laser light to search for the position and angle at which the peak is observed. Is preferred.

Claims (3)

シリカガラスルツボ内に多結晶シリコンを充填し、
前記多結晶シリコンを熔融させ、
前記熔融によって得られたシリコン融液に種結晶を接触させた後に前記種結晶を引き上げる工程を備え、
前記種結晶を前記シリコン融液に接触させる前の前記シリコン融液の液面の高さ位置は、前記多結晶シリコンの質量と前記シリカガラスルツボの内表面の三次元形状に基づいて決定され、
前記内表面の三次元形状は、
前記シリカガラスルツボの内表面に沿って非接触で内部測距部を移動させ、
移動経路上の複数の測定点において、内部測距部から前記シリカガラスルツボの内表面に対して斜め方向にレーザー光を照射し、前記内表面からの内表面反射光を検出することによって、内部測距部と前記内表面の間の内表面距離を測定し、
各測定点の三次元座標と、前記内表面距離を関連付けることによって、前記シリカガラスルツボの内表面の三次元形状を求める工程を備える方法によって決定される、シリコン単結晶の製造方法。
Fill the silica glass crucible with polycrystalline silicon,
Melting the polycrystalline silicon;
A step of pulling up the seed crystal after bringing the seed crystal into contact with the silicon melt obtained by the melting,
The height position of the liquid surface of the silicon melt before contacting the seed crystal with the silicon melt is determined based on the mass of the polycrystalline silicon and the three-dimensional shape of the inner surface of the silica glass crucible,
The three-dimensional shape of the inner surface is
Move the internal distance measuring unit in a non-contact manner along the inner surface of the silica glass crucible,
By irradiating laser light obliquely to the inner surface of the silica glass crucible from the internal distance measuring unit at a plurality of measurement points on the moving path, and detecting the inner surface reflected light from the inner surface, Measure the inner surface distance between the distance measuring unit and the inner surface,
A method for producing a silicon single crystal, comprising: determining a three-dimensional shape of an inner surface of the silica glass crucible by associating a three-dimensional coordinate of each measurement point with the inner surface distance.
内部測距部からのレーザー光は、前記内表面に対して30〜60度の入射角で照射される、請求項1に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the laser beam from the internal distance measuring unit is irradiated at an incident angle of 30 to 60 degrees with respect to the inner surface. 内部測距部は、内部測距部を三次元的に移動させることができるように構成された内部ロボットアームに固定され、
前記シリカガラスルツボは、内部ロボットアームを覆うように配置される、請求項1又は2に記載の方法。
The internal ranging unit is fixed to an internal robot arm configured to be able to move the internal ranging unit three-dimensionally,
The method according to claim 1 or 2, wherein the silica glass crucible is arranged to cover an internal robot arm.
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JP3322330B2 (en) * 1995-02-06 2002-09-09 三菱マテリアル株式会社 Work implement attitude control device with respect to work target surface, crucible measuring device and coating device having the same
JPH09196646A (en) * 1996-01-23 1997-07-31 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Method and apparatus for measuring surface nature
JPH10185545A (en) * 1996-12-27 1998-07-14 Shinetsu Eng Kk Shape measuring instrument for quartz crucible
JP2001048693A (en) * 1999-08-06 2001-02-20 Hitachi Chem Co Ltd Glassy carbon crucible having inner face being polygonal form
JP4157919B2 (en) * 2003-03-06 2008-10-01 ジャパンスーパークォーツ株式会社 Method and apparatus for measuring thickness of glass layer
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