JP5703601B2 - ナノインプリント方法 - Google Patents
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Description
2、22、32・・・樹脂
3・・・気体
42・・・液体
Claims (2)
- モールドに形成された凹凸の転写パターンを、被転写基板上に形成された硬化性樹脂に転写するナノインプリント方法であって、
前記硬化性樹脂の硬化前の表面自由エネルギーが、前記モールドの表面自由エネルギーよりも小さい値であり、
前記モールドと前記硬化前の硬化性樹脂との付着エネルギーをW mold/resist とし、前記硬化性樹脂の硬化前の表面自由エネルギーをγ resist とした場合に、
前記硬化性樹脂の硬化前の表面自由エネルギーの極性成分(γ p resist )の値が、
W mold/resist /γ resist −1>0.996
の範囲を満たす値であることを特徴とするナノインプリント方法。 - 前記硬化性樹脂の硬化前の表面自由エネルギーが、10mJ/m2以上であることを特徴とする請求項1に記載のナノインプリント方法。
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