JP5699463B2 - 窒化ケイ素のエッチング液及びエッチング方法 - Google Patents
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高純度リン酸0.1Lを石英でできたエッチング槽に入れ、加熱し、内温が155℃になるように、水を連続的に供給した。1時間後、窒化ケイ素を300nmの厚みにCVD成膜した15mm角のシリコンウエハをエッチング槽に入れた。10分後、シリコンウエハをエッチング槽から取り出し、水洗した後、窒素気流下で乾燥し、光干渉式膜厚計で膜厚を測定した。処理前後の膜厚の差から算出したエッチング速度は、3.50nm/分だった。エッチング液を一部抜き取り25℃の表面張力を測定したところ75.6dyne/cmであった。
表1記載のアルコールを使用し、表1記載の濃度及び温度に代えた以外は実施例1と同様の方法で表面張力を測定した。
高純度リン酸0.1Lを石英でできたエッチング槽に入れ、加熱し、内温が155℃になるように、10重量%の1−ブタノールを含有する水を連続的に供給した。2時間後、4インチのパターンウエハをエッチングした後、表面観察した結果、パターンの倒壊、破損は全くみられなかった。
実施例9において水のみを供給した以外は同様の方法でエッチングを行い、表面観察した結果、約2重量%のパターンに倒壊がみられた。
Claims (9)
- リン酸、水及び炭素数2以上6以下のアルコールのみからなる窒化ケイ素のエッチング液。
- 炭素数2以上6以下のアルコールが、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、2−メチル−2−プロパノール、1−ブタノール、1−メチル−1−ブタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、2,2−ジメチル−1−ブタノール、2,3−ジメチル−1−ブタノール、2,3−ジメチル−2−ブタノール、1−ペンタノール、1−メチル−1−ペンタノール、2−メチル−1−ペンタノール、3−メチル−1−ペンタノール、4−メチル−1−ペンタノール、2−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−2−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−メチル−3−ペンタノール、3−メチル−3−ペンタノール、シクロペンタノール、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール、及び3−ヘキサノールからなる群より選ばれる一種又は二種以上の化合物であることを特徴とする請求項1に記載のエッチング液。
- エッチング液中の炭素数2以上6以下のアルコールの濃度が、1重量ppm〜10重量%であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のエッチング液。
- エッチング液の25℃における表面張力が70dyne/cm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のエッチング液。
- 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のエッチング液により、窒化ケイ素をエッチングすることを特徴とするエッチング方法。
- 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のエッチング液を入れたエッチング槽に、炭素数2以上6以下のアルコール及び水を連続的又は断続的に供給しながら、エッチング槽内のエッチング液で窒化ケイ素をエッチングすることを特徴とする請求項5に記載のエッチング方法。
- リン酸及び水を入れたエッチング槽に、炭素数2以上6以下のアルコール及び水を連続的又は断続的に供給しながら、エッチング槽内のエッチング液で窒化ケイ素をエッチングすることを特徴とする請求項5に記載のエッチング方法。
- エッチング槽内のエッチング液中の炭素数2以上6以下のアルコール濃度が、1重量ppm〜10重量%の範囲内になるように、炭素数2以上6以下のアルコール及び水を連続的又は断続的に供給することを特徴とする請求項5又は請求項6に記載のエッチング方法。
- エッチング槽内のエッチング液の温度が、120〜170℃の範囲内になるように、炭素数2以上6以下のアルコール及び水を連続的又は断続的に供給することを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれかに記載のエッチング方法。
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