JP5686185B2 - 薄膜蒸着装置 - Google Patents
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Description
反応空間が形成されたチャンバと、
基板が収容されるように形成されて前記チャンバの内部に互いに離隔して配置され、基板を地面に対して垂直な状態に支持し、基板を支持する支持台と、前記支持台上に安着した基板を固定するクランプと、前記支持台を垂直状態に立てたり、水平状態に横にする駆動部と、を備える第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーと、
前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーの間に配置されて前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーに蒸着原料を供給し、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーの間に回転可能に形成される蒸着源と、
前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーに基板が収容された状態で、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーを前記チャンバ内部の特定位置に一定時間位置させ、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーの底面から上方に引き込まれるように形成された固定部と、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーが特定位置に配置された状態で、少なくとも一部が前記固定部に出入りできるように形成された昇降部と、を備える固定ユニットと、
前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーが一方向に移動されることを制限する移動制限ユニットと、
を含むことを特徴とする。
前記ガイド部は、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーのそれぞれの両側面に配置された複数のローラーであっても良い。
そして、前記蒸着源は、点型、線型及び面型蒸着源から選択されるいずれか一つであっても良い。
また、前記チャンバには、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーのそれぞれに蒸着マスクを提供したり、又は蒸着マスクを入れ換えるためのマスクチャンバが連結されても良い。
Claims (5)
- 反応空間が形成されたチャンバと、
基板が収容されるように形成されて前記チャンバの内部に互いに離隔して配置され、基板を地面に対して垂直な状態に支持し、基板を支持する支持台と、前記支持台上に安着した基板を固定するクランプと、前記支持台を垂直状態に立てたり、水平状態に横にする駆動部と、を備える第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーと、
前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーの間に配置されて前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーに蒸着原料を供給し、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーの間に回転可能に形成される蒸着源と、
前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーに基板が収容された状態で、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーを前記チャンバ内部の特定位置に一定時間位置させ、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーの底面から上方に引き込まれるように形成された固定部と、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーが特定位置に配置された状態で、少なくとも一部が前記固定部に出入りできるように形成された昇降部と、を備える固定ユニットと、
前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーが一方向に移動されることを制限する移動制限ユニットと、
を含むことを特徴とする薄膜蒸着装置。 - 前記移動制限ユニットは、
前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーのそれぞれの一面に隣接して配置されて前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーの移動をガイドするガイド部と、
前記ガイド部を前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーに近づいたり、前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーから遠ざかる方向に移動させる動力部と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。 - 前記ガイド部は、
前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーのそれぞれの両側面に配置された複数のローラーであることを特徴とする請求項2に記載の薄膜蒸着装置。 - 前記蒸着源は、点型、線型及び面型蒸着源から選択されるいずれか一つであることを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 前記チャンバには、
前記第1基板ホルダー及び第2基板ホルダーのそれぞれに蒸着マスクを提供したり、又は蒸着マスクを入れ換えるためのマスクチャンバが連結される請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
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