JP5681303B2 - 弾性波デバイス - Google Patents
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Description
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および上部電極が対向する共振領域と、
前記圧電薄膜と上部電極との間の前記共振領域に設けられ、前記共振領域とは異なる形状である第1付加膜と、
を備える圧電薄膜共振器を具備することを特徴とする弾性波デバイス。
前記第1付加膜は、前記上部電極と同じ材料を含むことを特徴とする付記1記載の弾性波デバイス。
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および上部電極が対向する共振領域と、
前記圧電薄膜と前記下部電極との間、前記圧電薄膜と前記上部電極との間、前記下部電極内の複数の層の間、前記上部電極内の複数の層の間、前記上部電極上、前記下部電極下、前記上部電極上に設けられた絶縁膜上の少なくとも2つの前記共振領域に設けられ、各々が前記共振領域とは異なる形状である少なくとも2層の第1付加膜と、
を備える圧電薄膜共振器を具備することを特徴とする弾性波デバイス。
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および上部電極が対向する共振領域と、
前記下部電極および上部電極の少なくとも一方は、複数の層を備え、前記複数の層の間の前記共振領域に設けられ、前記共振領域とは異なる形状である第1付加膜と、
を備える圧電薄膜共振器を具備することを特徴とする弾性波デバイス。
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および上部電極が対向する共振領域と、
前記下部電極下の前記共振領域に設けられ、前記共振領域とは異なる形状である第1付加膜と、
を備える圧電薄膜共振器を具備することを特徴とする弾性波デバイス。
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記上部電極上に形成された絶縁膜と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および上部電極が対向する共振領域と、
前記絶縁膜上の前記共振領域に設けられ、前記共振領域とは異なる形状である第1付加膜と、
を備える圧電薄膜共振器を具備することを特徴とする弾性波デバイス。
前記共振領域における前記第1付加膜の面積が異なる複数の前記圧電薄膜共振器を具備することを特徴とする付記1から6のいずれか一項記載の弾性波デバイス。
前記圧電薄膜共振器は、
前記共振領域に第2付加膜を備えない直列共振器と、
前記共振領域に第2付加膜を備える並列共振器と、を含むことを特徴とする付記1から7のいずれか一項記載の弾性波デバイス。
前記直列共振器および前記並列共振器の少なくとも一方は、前記共振領域における前記第1付加膜の面積が異なる複数の前記圧電薄膜共振器を含むことを特徴とする付記8記載の弾性波デバイス。
前記弾性波デバイスは、ラダー型フィルタまたはラティス型フィルタであることを特徴とする付記8または9記載の弾性波デバイス。
前記第1付加膜は前記共振領域内に複数の島状に形成されていることを特徴とする付記1から10のいずれか一項記載の弾性波デバイス。
前記第1付加膜は前記共振領域内に複数の開口を有するように形成されていることを特徴とする付記1から10のいずれか一項記載の弾性波デバイス。
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および上部電極が対向する共振領域と、
を具備し、
前記下部電極および上部電極の少なくとも一方は、前記共振領域に前記共振領域とは異なる形状の空隙が形成されるように設けられている圧電薄膜共振器を具備することを特徴とする弾性波デバイス。
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および上部電極が対向する共振領域と、
を具備し、
前記下部電極および上部電極の少なくとも一方は、複数の層を備え、前記複数の層の間の前記共振領域に前記共振領域とは異なる形状の空隙が形成されるように設けられている圧電薄膜共振器を具備することを特徴とする弾性波デバイス。
前記共振領域における前記空隙の面積が異なる複数の前記圧電薄膜共振器を具備することを特徴とする付記13または14記載の弾性波デバイス。
前記圧電薄膜共振器は、
前記共振領域に第2付加膜を備えない直列共振器と、
前記共振領域に第2付加膜を備える並列共振器と、を含むことを特徴とする付記13から15のいずれか一項記載の弾性波デバイス。
前記直列共振器および前記並列共振器の少なくとも一方は、前記共振領域における前記空隙の面積が異なる複数の前記圧電薄膜共振器を含むことを特徴とする付記16記載の弾性波デバイス。
前記弾性波デバイスは、ラダー型フィルタまたはラティス型フィルタであることを特徴とする付記16または17記載の弾性波デバイス。
基板上に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に圧電薄膜を形成する工程と、
前記圧電薄膜上に第1付加膜を形成する工程と、
前記第1付加膜上に上部電極を形成する工程と、
を備え、
前記第1付加膜を形成する工程は、前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および上部電極が対向する共振領域に設けられ、前記共振領域とは異なる形状である前記第1付加膜を形成する工程であることを特徴とする弾性波デバイスの製造方法。
前記第1付加膜は、前記上部電極と同じ材料を含むことを特徴とする付記19記載の弾性波デバイスの製造方法。
12 下部電極
14 圧電薄膜
16 上部電極
16a Ru層
16b Cr層
18 積層膜
20 第2付加膜
24 周波数調整膜
28 第1付加膜
50 共振領域
Claims (6)
- 直列共振器と並列共振器とを備えるラダー型フィルタまたはラティス型フィルタを有する弾性波デバイスであって、
前記直列共振器および前記並列共振器は、それぞれ、
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および前記上部電極が対向する共振領域と、
前記圧電薄膜と前記下部電極との間の位置、前記圧電薄膜と前記上部電極との間の位置、前記下部電極内の複数の層の間の位置、前記上部電極内の複数の層の間の位置、前記上部電極上の位置、前記下部電極下の位置、および、前記上部電極上に設けられた絶縁膜上の位置のうち、異なる少なくとも2つの位置の前記共振領域に設けられ、前記共振領域とは異なる形状である少なくとも2層の第1付加膜と、
を備える圧電薄膜共振器であり、
前記並列共振器は、前記共振領域に第2付加膜を備えることを特徴とする弾性波デバイス。 - 直列共振器と並列共振器とを備えるラダー型フィルタまたはラティス型フィルタを有する弾性波デバイスであって、
前記直列共振器および前記並列共振器は、それぞれ、
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および前記上部電極が対向する共振領域と、
前記圧電薄膜と前記下部電極との間の位置、前記圧電薄膜と前記上部電極との間の位置、前記下部電極内の複数の層の間の位置、前記上部電極内の複数の層の間の位置、前記上部電極上の位置、前記下部電極下の位置、および、前記上部電極上に設けられた絶縁膜上の位置のうち、少なくとも2つの位置の前記共振領域に設けられ、前記共振領域とは異なる形状である少なくとも2層の第1付加膜と、
を備える圧電薄膜共振器であり、
前記並列共振器は、前記共振領域に第2付加膜を備え、
前記第1付加膜の少なくとも1つは、前記下部電極内の複数の層の間に設けられていることを特徴とする弾性波デバイス。 - 直列共振器と並列共振器とを備えるラダー型フィルタまたはラティス型フィルタを有する弾性波デバイスであって、
前記直列共振器および前記並列共振器は、それぞれ、
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および前記上部電極が対向する共振領域と、
前記圧電薄膜と前記下部電極との間の位置、前記圧電薄膜と前記上部電極との間の位置、前記下部電極内の複数の層の間の位置、前記上部電極内の複数の層の間の位置、前記上部電極上の位置、前記下部電極下の位置、および、前記上部電極上に設けられた絶縁膜上の位置のうち、少なくとも2つの位置の前記共振領域に設けられ、前記共振領域とは異なる形状である少なくとも2層の第1付加膜と、
を備える圧電薄膜共振器であり、
前記並列共振器は、前記共振領域に第2付加膜を備え、
前記第1付加膜の少なくとも1つは、前記上部電極内の複数の層の間に設けられていることを特徴とする請求項1記載の弾性波デバイス。 - 直列共振器と並列共振器とを備えるラダー型フィルタまたはラティス型フィルタを有する弾性波デバイスであって、
前記直列共振器および前記並列共振器は、それぞれ、
基板と、
前記基板上に設けられた圧電薄膜と、
前記圧電薄膜の少なくとも一部を挟んで設けられた下部電極および上部電極と、
前記圧電薄膜を挟み前記下部電極および前記上部電極が対向する共振領域と、
前記圧電薄膜と前記下部電極との間の位置、前記圧電薄膜と前記上部電極との間の位置、前記下部電極内の複数の層の間の位置、前記上部電極内の複数の層の間の位置、前記上部電極上の位置、前記下部電極下の位置、および、前記上部電極上に設けられた絶縁膜上の位置のうち、少なくとも2つの位置の前記共振領域に設けられ、前記共振領域とは異なる形状である少なくとも2層の第1付加膜と、
を備える圧電薄膜共振器であり、
前記並列共振器は、前記共振領域に第2付加膜を備え、
前記少なくとも2層の第1付加膜は、前記圧電薄膜と前記上部電極との間と、前記下部電極より下と、に設けられていることを特徴とする弾性波デバイス。 - 前記直列共振器および前記並列共振器の少なくとも一方の前記共振領域における前記第1付加膜の少なくとも1層は、面積が異なる複数の前記圧電薄膜共振器を含むことを特徴とする1から4のいずれか一項記載の弾性波デバイス。
- 前記直列共振器は、前記共振領域に第2付加膜を備えないことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項記載の弾性波デバイス。
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