JP5680008B2 - イオン源、重粒子線照射装置、イオン源の駆動方法、および、重粒子線照射方法 - Google Patents
イオン源、重粒子線照射装置、イオン源の駆動方法、および、重粒子線照射方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5680008B2 JP5680008B2 JP2012051577A JP2012051577A JP5680008B2 JP 5680008 B2 JP5680008 B2 JP 5680008B2 JP 2012051577 A JP2012051577 A JP 2012051577A JP 2012051577 A JP2012051577 A JP 2012051577A JP 5680008 B2 JP5680008 B2 JP 5680008B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- target
- ions
- ion source
- laser ablation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32917—Plasma diagnostics
- H01J37/3299—Feedback systems
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/10—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
- A61N5/1048—Monitoring, verifying, controlling systems and methods
- A61N5/1064—Monitoring, verifying, controlling systems and methods for adjusting radiation treatment in response to monitoring
- A61N5/1065—Beam adjustment
- A61N5/1067—Beam adjustment in real time, i.e. during treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/24—Ion sources; Ion guns using photo-ionisation, e.g. using laser beam
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32917—Plasma diagnostics
- H01J37/32935—Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
- H01J37/32972—Spectral analysis
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61N—ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
- A61N5/00—Radiation therapy
- A61N5/10—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
- A61N2005/1085—X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy characterised by the type of particles applied to the patient
- A61N2005/1087—Ions; Protons
- A61N2005/1088—Ions; Protons generated by laser radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/08—Ion sources
- H01J2237/0815—Methods of ionisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32917—Plasma diagnostics
- H01J37/32935—Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/16—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission
- H01J49/161—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission using photoionisation, e.g. by laser
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
図1は、第1実施形態に係るイオン源15の構成を示す模式的断面図である。
第2実施形態に係るイオン源について、第1実施形態からの変更点のみ説明する。図1と同一部分には同一符号を付し、特に記載していない部分は第1実施形態と同様である。
第3実施形態に係るイオン源について、第1および第2実施形態からの変更点のみ説明する。図1と同一部分には同一符号を付し、特に記載していない部分は第1および第2実施形態と同様である。
第4実施形態に係るイオン源について、第3実施形態からの変更点のみ説明する。図1、図3と同一部分には同一符号を付し、特に記載していない部分は第3実施形態と同様である。
イオン源15の応用例について、前述の実施形態からの変更点のみ説明する。特に記載していない部分は前述の実施形態と同様である。
イオン源15の応用例について、第1応用例からの変更点のみ説明する。図7と同一部分には同一符号を付し、特に記載していない部分は第1応用例と同様である。
イオン源15の応用例について、第1応用例からの変更点のみ説明する。特に記載していない部分は第1応用例と同様である。
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、また各実施形態の特徴を組み合わせることができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1a … 入射窓
1b … イオン引出用貫通孔
1c … イオン検出用貫通孔
1d … ノズル
2 … ターゲット
3 … レーザ光
4 … レーザアブレーションプラズマ
5 … イオンビーム
6 … 引き出し電極
7a … 中間電極
7b … 中間電極
8 … 加速電極
9 … イオン検出器
9a … イオン検出器収容容器
10 … イオン検出用ゲートバルブ
10a … フランジ
10b … フランジ
11 … 運転制御用信号処理回路
12a … 運転指示信号
12b … 停止指示信号
13 … 照射装置
13a … レーザ電源
13b … レーザ発振器
13c … レーザミラー
13d … レーザミラー
14 … 検出信号
15 … イオン源
15a … 第1のイオン源
15b … 第2のイオン源
16 … 高圧電源
17 … 筐体
18 … イオンビーム引き出し部
19 … イオンビーム加速装置
19a … RFQ線形加速器
19b … DTL
19c … 円形加速器
20 … 重粒子線照射装置
21 … 出力停止用ゲートバルブ
22 … 出力停止用信号処理回路
23a … 開指示信号
23b … 閉指示信号
24 … 重粒子線
25 … 運転切替用信号処理回路
26a … 第1制御信号
26b … 第2制御信号
27 … レーザアブレーションプラズマ発生装置
28 … 切替要求信号
29 … 外部装置
Claims (14)
- 重粒子線照射装置のイオンビーム加速装置にイオンビームを供給するイオン源であって、
真空容器内のターゲットからレーザアブレーションプラズマを発生させるレーザアブレーションプラズマ発生装置と、
前記レーザアブレーションプラズマに含まれるイオンを前記真空容器内から引き出すことによりイオンビームを生成するイオンビーム引き出し部と、
前記真空容器内の前記イオンのうちの、前記ターゲットを構成する元素がイオン化された目的イオンとは異なる目的外イオンを検出し、検出結果として前記目的外イオンの数、または、前記目的イオンに対する前記目的外イオンの混合比である値を表す検出信号を出力するものであって、前記ターゲットから前記イオンビーム引き出し部に向かうイオンの方向から逸れた位置に配置されたイオン検出器と、
を具備することを特徴とするイオン源。 - 前記イオン検出器は、前記ターゲットの表面で前記レーザアブレーションプラズマが発生する部分に対して電場および磁場の少なくとも一方を与えることにより前記目的外イオンを検出し、検出結果として前記検出信号を出力する、
ことを特徴とする請求項1に記載のイオン源。 - 前記真空容器に連結され、前記イオン検出器が収容されたイオン検出器収容容器と、
前記真空容器と前記イオン検出器収容容器との間に設けられ、開閉可能なイオン検出用ゲートバルブと、
をさらに具備することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のイオン源。 - 運転指示信号を前記レーザアブレーションプラズマ発生装置に出力し、前記イオン検出器から出力された前記検出信号の値が閾値を超えた場合に停止指示信号を前記レーザアブレーションプラズマ発生装置に出力する運転制御用信号処理回路、
をさらに具備し、
前記レーザアブレーションプラズマ発生装置は、前記運転指示信号に応じて前記レーザアブレーションプラズマを発生させ、前記停止指示信号に応じて前記レーザアブレーションプラズマの発生を停止させる、
ことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のイオン源。 - 前記レーザアブレーションプラズマ発生装置は、
前記運転指示信号に応じて、レーザ光を前記真空容器内の前記ターゲットの表面に照射して前記レーザアブレーションプラズマを発生させ、前記停止指示信号に応じて前記レーザ光の照射を停止する照射装置、
を含み、
前記運転制御用信号処理回路は、前記運転指示信号を前記照射装置に出力し、前記イオン検出器から出力された前記検出信号の値が前記閾値を超えた場合に前記停止指示信号を前記照射装置に出力する、
ことを特徴とする請求項4に記載のイオン源。 - 前記照射装置は、
電力を供給するレーザ電源と、
前記レーザ電源から供給される電力により前記レーザ光を発生するレーザ発振器と、
前記レーザ光を反射させることにより集光して前記真空容器内の前記ターゲットの表面に照射する複数のレーザミラーと、
を具備し、
前記運転制御用信号処理回路は、前記運転指示信号を前記照射装置の前記レーザ電源および前記レーザ発振器の少なくとも1つの装置に出力し、前記イオン検出器から出力された前記検出信号の値が前記閾値を超えた場合に前記停止指示信号を前記照射装置の前記少なくとも1つの装置に出力する、
ことを特徴とする請求項5に記載のイオン源。 - 前記レーザアブレーションプラズマ発生装置は、
前記運転指示信号に応じて前記真空容器内の前記ターゲットに電圧を印加し、前記停止指示信号に応じて前記ターゲットへの電圧の印加を停止する高圧電源、
を含み、
前記運転制御用信号処理回路は、前記運転指示信号を前記高圧電源に出力し、前記イオン検出器から出力された前記検出信号の値が前記閾値を超えた場合に前記停止指示信号を前記高圧電源に出力する、
ことを特徴とする請求項4ないし請求項6のいずれか1項に記載のイオン源。 - イオン源と、前記イオン源からのイオンビームを加速させて、照射対象の部位に照射するための重粒子線として出力するイオンビーム加速装置と、を具備する重粒子線照射装置であって、
前記イオン源は、
運転指示信号に応じて、真空容器内のターゲットからレーザアブレーションプラズマを発生させ、停止指示信号に応じて前記レーザアブレーションプラズマの発生を停止させるレーザアブレーションプラズマ発生装置と、
前記レーザアブレーションプラズマに含まれるイオンを前記真空容器内から引き出すことにより前記イオンビームを生成するイオンビーム引き出し部と、
前記真空容器内の前記イオンのうちの、前記ターゲットを構成する元素がイオン化された目的イオンとは異なる目的外イオンを検出し、検出結果として前記目的外イオンの数、または、前記目的イオンに対する前記目的外イオンの混合比である値を表す検出信号を出力するものであって、前記ターゲットから前記イオンビーム引き出し部に向かうイオンの方向から逸れた位置に配置されたイオン検出器と、
前記運転指示信号を前記レーザアブレーションプラズマ発生装置に出力し、前記イオン検出器から出力された前記検出信号の値が閾値を超えた場合に前記停止指示信号を前記レーザアブレーションプラズマ発生装置に出力する運転制御用信号処理回路と、
を具備することを特徴とする重粒子線照射装置。 - 前記イオン源である第1および第2のイオン源の前記運転制御用信号処理回路を制御して、運転させるイオン源を前記第1のイオン源または前記第2のイオン源に切り替える運転切替用信号処理回路、
をさらに具備することを特徴とする請求項8に記載の重粒子線照射装置。 - 前記第1および第2のイオン源において、前記運転制御用信号処理回路は、第1制御信号に応じて、前記運転指示信号を前記レーザアブレーションプラズマ発生装置に出力し、第2制御信号に応じて、前記停止指示信号を前記レーザアブレーションプラズマ発生装置に出力し、
前記運転切替用信号処理回路は、
前記第1制御信号を前記第1のイオン源の前記運転制御用信号処理回路に出力するとともに、前記第2制御信号を前記第2のイオン源の前記運転制御用信号処理回路に出力し、
前記第1のイオン源の前記イオン検出器から出力された前記検出信号の値が前記閾値を超えた場合、前記第2制御信号を前記第1のイオン源の前記運転制御用信号処理回路に出力するとともに、前記第1制御信号を前記第2のイオン源の前記運転制御用信号処理回路に出力する、
ことを特徴とする請求項9に記載の重粒子線照射装置。 - イオン源と、前記イオン源からのイオンビームを加速させて、照射対象の部位に照射するための重粒子線として出力するイオンビーム加速装置と、を具備する重粒子線照射装置であって、
前記イオン源は、
真空容器内のターゲットからレーザアブレーションプラズマを発生させるレーザアブレーションプラズマ発生装置と、
前記レーザアブレーションプラズマに含まれるイオンを前記真空容器内から引き出すことにより前記イオンビームを生成するイオンビーム引き出し部と、
前記真空容器内の前記イオンのうちの、前記ターゲットを構成する元素がイオン化された目的イオンとは異なる目的外イオンを検出し、検出結果として前記目的外イオンの数、または、前記目的イオンに対する前記目的外イオンの混合比である値を表す検出信号を出力するものであって、前記ターゲットから前記イオンビーム引き出し部に向かうイオンの方向から逸れた位置に配置されたイオン検出器と、
を具備し、
前記重粒子線照射装置は、
開指示信号に応じて前記イオンビームを出力し、閉指示信号に応じて前記イオンビームの出力を停止する出力停止用ゲートバルブと、
前記開指示信号を前記出力停止用ゲートバルブに出力し、前記イオン検出器から出力された前記検出信号の値が閾値を超えた場合に前記閉指示信号を前記出力停止用ゲートバルブに出力する出力停止用信号処理回路と、
をさらに具備することを特徴とする重粒子線照射装置。 - 重粒子線照射装置のイオンビーム加速装置にイオンビームを供給するイオン源の駆動方法であって、
真空容器内のターゲットからレーザアブレーションプラズマを発生させる工程と、
前記レーザアブレーションプラズマに含まれるイオンを前記真空容器内からイオンビーム引き出し部に引き出すことによりイオンビームを生成する工程と、
前記ターゲットから前記イオンビーム引き出し部に向かうイオンの方向から逸れた位置に配置されたイオン検出器により、前記真空容器内の前記イオンのうちの、前記ターゲットを構成する元素がイオン化された目的イオンとは異なる目的外イオンを検出し、検出結果として前記目的外イオンの数、または、前記目的イオンに対する前記目的外イオンの混合比である値を表す検出信号を出力する工程と、
を具備することを特徴とするイオン源の駆動方法。 - 真空容器内のターゲットからレーザアブレーションプラズマを発生させる工程と、
前記レーザアブレーションプラズマに含まれるイオンを前記真空容器内からイオンビーム引き出し部に引き出すことによりイオンビームを生成する工程と、
前記イオンビームを加速させて、照射対象の部位に照射するための重粒子線として出力する工程と、
前記ターゲットから前記イオンビーム引き出し部に向かうイオンの方向から逸れた位置に配置されたイオン検出器により、前記真空容器内の前記イオンのうちの、前記ターゲットを構成する元素がイオン化された目的イオンとは異なる目的外イオンを検出し、検出結果として前記目的外イオンの数、または、前記目的イオンに対する前記目的外イオンの混合比である値を表す検出信号を出力する工程と、
前記イオン検出器から出力された前記検出信号の値が閾値を超えた場合に前記レーザアブレーションプラズマの発生を停止させる工程と、
を具備することを特徴とする重粒子線照射方法。 - 真空容器内のターゲットからレーザアブレーションプラズマを発生させる工程と、
前記レーザアブレーションプラズマに含まれるイオンを前記真空容器内からイオンビーム引き出し部に引き出すことによりイオンビームを生成する工程と、
前記イオンビームを出力する工程と、
前記イオンビームを加速させて、照射対象の部位に照射するための重粒子線として出力する工程と、
前記ターゲットから前記イオンビーム引き出し部に向かうイオンの方向から逸れた位置に配置されたイオン検出器により、前記真空容器内の前記イオンのうちの、前記ターゲットを構成する元素がイオン化された目的イオンとは異なる目的外イオンを検出し、検出結果として前記目的外イオンの数、または、前記目的イオンに対する前記目的外イオンの混合比である値を表す検出信号を出力する工程と、
前記イオン検出器から出力された前記検出信号の値が閾値を超えた場合に前記イオンビームの出力を停止する工程と、
を具備することを特徴とする重粒子線照射方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012051577A JP5680008B2 (ja) | 2012-03-08 | 2012-03-08 | イオン源、重粒子線照射装置、イオン源の駆動方法、および、重粒子線照射方法 |
US13/771,818 US9087678B2 (en) | 2012-03-08 | 2013-02-20 | Ion source, heavy particle beam irradiation apparatus, ion source driving method, and heavy particle beam irradiation method |
CN201310070318.2A CN103313502B (zh) | 2012-03-08 | 2013-03-06 | 离子源、重粒子线照射装置及方法、离子源的驱动方法 |
DE102013203803.8A DE102013203803B8 (de) | 2012-03-08 | 2013-03-06 | Ionenquelle, schwerpartikelstrahl-bestrahlungsvorrichtung, ionenstrahl-antriebsverfahren und schwerpartikelstrahlen-bestrahlungsverfahren |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012051577A JP5680008B2 (ja) | 2012-03-08 | 2012-03-08 | イオン源、重粒子線照射装置、イオン源の駆動方法、および、重粒子線照射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013187057A JP2013187057A (ja) | 2013-09-19 |
JP5680008B2 true JP5680008B2 (ja) | 2015-03-04 |
Family
ID=49029768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012051577A Active JP5680008B2 (ja) | 2012-03-08 | 2012-03-08 | イオン源、重粒子線照射装置、イオン源の駆動方法、および、重粒子線照射方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9087678B2 (ja) |
JP (1) | JP5680008B2 (ja) |
CN (1) | CN103313502B (ja) |
DE (1) | DE102013203803B8 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5801144B2 (ja) * | 2011-08-30 | 2015-10-28 | 株式会社東芝 | イオン源 |
JP6021454B2 (ja) | 2011-10-05 | 2016-11-09 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置および極端紫外光生成方法 |
JP6257994B2 (ja) * | 2013-10-22 | 2018-01-10 | 株式会社東芝 | 中性子発生装置及び医療用加速器システム |
JP6189198B2 (ja) * | 2013-12-06 | 2017-08-30 | 株式会社東芝 | レーザイオン源、イオン加速器及び重粒子線治療装置 |
JP6211962B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2017-10-11 | 株式会社東芝 | イオンビームの純度監視装置、方法及びプログラム |
JP6211964B2 (ja) * | 2014-03-19 | 2017-10-11 | 株式会社東芝 | イオン源 |
CN104347343A (zh) * | 2014-09-30 | 2015-02-11 | 聚光科技(杭州)股份有限公司 | 一种分析装置及方法 |
JP6758958B2 (ja) * | 2016-07-01 | 2020-09-23 | 株式会社東芝 | 重イオンビーム生成装置及び方法 |
CN107359104B (zh) * | 2017-06-14 | 2018-07-20 | 中国科学院地质与地球物理研究所 | 一种磁质谱分析器与双离子源的联接转换装置 |
US10847340B2 (en) * | 2017-10-11 | 2020-11-24 | HIL Applied Medical, Ltd. | Systems and methods for directing an ion beam using electromagnets |
CN108511314B (zh) * | 2018-03-23 | 2020-01-24 | 中国科学院近代物理研究所 | 固态氢靶***和使用它的激光离子源 |
CN109819573A (zh) * | 2019-03-08 | 2019-05-28 | 北京中百源国际科技创新研究有限公司 | 激光离子加速装置及应用其的医用激光离子治疗装置 |
WO2021039647A1 (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-04 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | イオンビーム照射システム、イオンビーム純度測定方法、イオンビーム純度測定装置、およびイオンビーム純度測定プログラム |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1252569A (ja) * | 1968-12-17 | 1971-11-10 | ||
US3919664A (en) * | 1973-01-22 | 1975-11-11 | Northrop Corp | Optical oscillator-amplifier laser configuration |
JPS6261258A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-17 | Tokyo Electron Ltd | イオン注入装置 |
JP2564404B2 (ja) | 1989-09-20 | 1996-12-18 | 株式会社日立製作所 | 質量分析方法 |
JPH03241646A (ja) * | 1990-02-19 | 1991-10-28 | Seiko Instr Inc | 液体金属イオン源のコントロール方法 |
JPH04337232A (ja) * | 1991-05-15 | 1992-11-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | イオン電流経時変化検出方法 |
JP3489294B2 (ja) * | 1995-10-09 | 2004-01-19 | 日新電機株式会社 | イオンビーム中のイオン種割合測定装置 |
US6770874B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-08-03 | Epion Corporation | Gas cluster ion beam size diagnostics and workpiece processing |
JP3713524B2 (ja) | 2001-08-08 | 2005-11-09 | 独立行政法人理化学研究所 | イオン加速装置 |
US7109474B2 (en) * | 2003-06-05 | 2006-09-19 | Thermo Finnigan Llc | Measuring ion number and detector gain |
JP4200092B2 (ja) * | 2003-12-24 | 2008-12-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 質量分析装置及びそのキャリブレーション方法 |
US7402798B2 (en) * | 2005-01-18 | 2008-07-22 | Phoenix S&T, Inc. | Apparatus and method for controlling an electrostatically induced liquid spray |
JP2007057432A (ja) * | 2005-08-25 | 2007-03-08 | Institute Of Physical & Chemical Research | イオンの抽出方法およびその装置 |
US7564025B2 (en) * | 2007-02-28 | 2009-07-21 | Agilent Technologies, Inc. | Multipole devices and methods |
US7564028B2 (en) * | 2007-05-01 | 2009-07-21 | Virgin Instruments Corporation | Vacuum housing system for MALDI-TOF mass spectrometry |
US7964843B2 (en) * | 2008-07-18 | 2011-06-21 | The George Washington University | Three-dimensional molecular imaging by infrared laser ablation electrospray ionization mass spectrometry |
JP4771230B2 (ja) | 2007-07-31 | 2011-09-14 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 | イオンビーム引出加速方法及び装置 |
DE102009029899A1 (de) * | 2009-06-19 | 2010-12-23 | Thermo Fisher Scientific (Bremen) Gmbh | Massenspektrometer und Verfahren zur Isotopenanalyse |
WO2011146269A1 (en) * | 2010-05-21 | 2011-11-24 | Waters Technologies Corporation | Techniques for automated parameter adjustment using ion signal intensity feedback |
EP2405463A1 (en) * | 2010-07-06 | 2012-01-11 | ETH Zurich | Laser-ablation ion source with ion funnel |
JP5801144B2 (ja) * | 2011-08-30 | 2015-10-28 | 株式会社東芝 | イオン源 |
GB2511840B (en) * | 2013-03-15 | 2017-07-05 | Thermo Electron Mfg Ltd | Method and apparatus for control of a plasma for spectrometry |
-
2012
- 2012-03-08 JP JP2012051577A patent/JP5680008B2/ja active Active
-
2013
- 2013-02-20 US US13/771,818 patent/US9087678B2/en active Active
- 2013-03-06 CN CN201310070318.2A patent/CN103313502B/zh active Active
- 2013-03-06 DE DE102013203803.8A patent/DE102013203803B8/de active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103313502B (zh) | 2016-01-20 |
US9087678B2 (en) | 2015-07-21 |
DE102013203803B8 (de) | 2022-12-01 |
DE102013203803A1 (de) | 2013-09-12 |
JP2013187057A (ja) | 2013-09-19 |
US20130234036A1 (en) | 2013-09-12 |
CN103313502A (zh) | 2013-09-18 |
DE102013203803B4 (de) | 2022-09-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5680008B2 (ja) | イオン源、重粒子線照射装置、イオン源の駆動方法、および、重粒子線照射方法 | |
JP6717990B2 (ja) | イオン化装置およびそれを有する質量分析計 | |
US8742362B2 (en) | Laser ion source | |
US8878148B2 (en) | Method and apparatus of pretreatment of an electron gun chamber | |
WO2015166787A1 (ja) | 計測装置を備えたプラズマ発生装置及びプラズマ推進器 | |
WO2012165053A1 (ja) | 質量分析装置 | |
CN104103480A (zh) | 低能量离子铣削或沉积 | |
US20220384138A1 (en) | Electron beam welding systems employing a plasma cathode | |
JP5568047B2 (ja) | イオン源およびその動作方法 | |
JP2008234880A (ja) | イオン源 | |
JP2014207131A (ja) | レーザイオン源、イオン加速器及び重粒子線治療装置 | |
Gambino et al. | Impact of ion source stability for a medical accelerator | |
US9859086B2 (en) | Ion source | |
Huse et al. | Analysis of undulator radiation with an electromagnet undulator | |
Matsumoto et al. | Study of low-energy electron transport at extraction region in hydrogen negative ion source with an additional electron source | |
KR102305099B1 (ko) | 혼합 가스 클러스터 이온 빔 생성 장치 및 이를 포함하는 질량 분석기 | |
Saini et al. | Design of PIP-II medium energy beam transport | |
JP6189198B2 (ja) | レーザイオン源、イオン加速器及び重粒子線治療装置 | |
KR20180019475A (ko) | 플라즈마 세정기에 사용되는 자석 | |
US20210183608A1 (en) | Photon-induced ion source | |
JP2017103247A (ja) | レーザイオン源、イオン加速器及び重粒子線治療装置 | |
JP3449473B2 (ja) | 低速多価イオンビームの発生装置 | |
US20190341242A1 (en) | Mass spectrometer and mass spectrometry method | |
JP2016009676A (ja) | イオン発生装置およびガス分析器 | |
JPH065239A (ja) | イオン加速装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20140110 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140421 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140430 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140611 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141209 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150106 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5680008 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |