JP5678846B2 - シリコン単結晶中窒素濃度算出方法および抵抗シフト量算出方法 - Google Patents
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Description
この中で簡便な方法ではないが極低温(液体He温度)の遠赤外吸収により窒素酸素ドナー量を測定している。窒素濃度が1×1014/cm3以下では窒素濃度と窒素酸素ドナーが1:1となっているので、この技術を応用すれば窒素濃度を定量測定できる可能性が考えられる。
しかし、V.V.Voronkov et al. J.Appl.Phys.89(2001)4289などに示されている様に、窒素起因ドナーは、酸素とも関連した窒素酸素ドナー(以下、NOドナーと表記することがある)であることが知られている。従って窒素酸素ドナーの濃度は窒素だけでなく、酸素濃度にも依存するはずである。
したがって、特許文献2の方法では酸素濃度が異なる場合にはそのまま利用できず、特許文献2中に記載されているように別個に酸素濃度ごとの検量線が必要となるはずであり、汎用性があるとはいえない。
これらの文献で、窒素濃度が1×1014/cm3以上で、窒素濃度と窒素酸素ドナーが1:1の相関からずれるのは、窒素酸素ドナーを形成できない窒素が前述のNN等を形成するためと想像される。つまりここで開示されている技術を応用したとしても、酸素濃度が異なると正確な窒素濃度を求めることができないと推定される。
しかしながら、これらの従来技術の中では酸素濃度の影響度に関する言及がなかったり、酸素濃度が異なるとすぐには対応できないという問題点があった。
このように、上記相関関係式を用いて簡単に算出することができる。なお、定数α、βは酸素濃度等の測定条件に応じて適宜決定することができる。
CZ結晶においては、例えば1×1014/cm3以下というSIMSやFT−IR法での測定が困難な低窒素濃度であっても、窒素ドープの効果が十分に得られるとされている。SIMS等で測定可能な窒素濃度を有するCZ結晶はもちろんのこと、窒素濃度が低濃度であっても有用とされるCZ結晶の窒素濃度を求める際に本発明は有効である。また、CZ結晶は大量に酸素を含有するので、その影響を排除して測定できる本発明が有効である。
このように、上記相関関係式を用いて簡単に算出することができる。なお、定数α、βは酸素濃度等の測定条件に応じて適宜決定することができる。
本発明では、大量に酸素を含有するとともに、たとえ窒素濃度が測定が困難な低濃度であっても有用とされるCZ結晶の窒素濃度を求めることができて有効である。
上記のように、酸素ドナーを消去する熱処理後の抵抗率と窒素酸素ドナーを消去する熱処理後の抵抗率との差から求められるキャリア濃度差分(以下、単にキャリア濃度差分ということがある)を用いて窒素ドープシリコン単結晶中の未知の窒素濃度を求めるとき、窒素酸素ドナーは酸素濃度に依存しているため、酸素濃度が変化すると、特許文献2のような方法では酸素濃度ごとに検量線を求める必要がある。
そこで、まず、予め、窒素ドープシリコン単結晶における上記キャリア濃度差分、酸素濃度、窒素濃度の三者の相関関係を求めておく。そして、窒素濃度が未知で測定対象の単結晶における上記キャリア濃度差分、酸素濃度を測定等により求め、上記相関関係に基づき窒素濃度を算出するのであれば、様々な酸素濃度に対応して窒素濃度を簡単に求めることができることを本発明者らは見出し、本発明を完成させた。
図1は工程の一例を示すフローチャートである。工程は、予備試験と本試験とに大きく分かれている。予備試験によって、予備試験用のサンプルから、窒素ドープシリコン単結晶におけるキャリア濃度差分、酸素濃度、窒素濃度の相関関係を調査して求める。そして、本試験では、評価対象の窒素ドープシリコン単結晶(窒素濃度が未知)について、キャリア濃度差分、酸素濃度を求め、それらの値を、予備試験で求めた相関関係に当てはめて窒素濃度を算出する。
(予備試験)
(相関関係を求めるためのサンプルを用意する:図1(A))
最初に、窒素ドープシリコン単結晶におけるキャリア濃度差分、酸素濃度、窒素濃度の相関関係を求めるためのサンプルを用意する。
サンプル数は特に限定されず、その都度決定することができる。また、各サンプルにおけるキャリア濃度差分、酸素濃度、窒素濃度の範囲も特に限定されないが、例えば本試験で実際に評価する単結晶中の予想される窒素濃度の値に応じて決定することができる。本試験において、より正確に窒素濃度を得られるように適切な数、各要素の範囲のサンプルを用意することができる。
次に、用意したサンプルについてのキャリア濃度差分、酸素濃度、窒素濃度を求める。
まず、キャリア濃度差分の求め方について説明する。
この工程においては、主に、酸素ドナーを消去する熱処理、その後の抵抗率の測定、さらに窒素酸素ドナーを消去する熱処理、その後の抵抗率の測定からなる。すなわち、CZ法により育成した窒素ドープシリコン単結晶の結晶中には酸素ドナーと窒素酸素ドナーとが存在しているが、酸素ドナーを消去する熱処理は後述するように比較的低温であり、該熱処理によって、結晶中から酸素ドナーを消去し、抵抗率を測定する。このとき、窒素酸素ドナーはまだ結晶中に残存しているので、ここでの抵抗率は、酸素ドナーは存在せず、窒素酸素ドナーが存在する状態における抵抗率となる。
そして、これらの抵抗率の差から窒素酸素ドナー起因のキャリア濃度差分を求めることができる。
酸素ドナーは450℃前後の比較的低温領域で生成されるため、CZ結晶のボトム側ではこのような低温熱履歴を受けず、ほとんど酸素ドナーが発生しない。逆に結晶のトップ側では充分にこの熱履歴領域を通過するため多くの酸素ドナーが生成される。近年の結晶長尺化に伴い、この傾向は一層顕著となり、トップ側では大量の酸素ドナーが存在し、ボトム側には酸素ドナーがほとんど存在しない、と言うような状況となっている。
なお、抵抗率の測定方法は特に限定されず、例えば四探針法等により行うことができる。
酸素濃度[Oi]は、例えば、室温のFT−IR法によって求めることが可能である。[Oi]でOiと記載しているのは酸素原子がシリコン結晶中ではインタースティシャルの位置に存在しているためであり、その位置での赤外吸収を測定して酸素濃度と表記しているためである。酸素析出熱処理を行い、酸素原子が酸素析出物(BMD)を形成した酸素は、[Oi]としての吸収を起こさないが、ここで言及している酸素濃度は当然析出熱処理をしていない状態のものである。
CZシリコン単結晶製造における窒素ドープは、窒素ドープ剤をルツボに投入し、シリコン原料とともに溶解する方法が一般的である。初期のドープ剤の量さえ明確になっていれば、あとは偏析現象に従ってシリコン結晶中に導入されていくので、窒素濃度を計算で求めることが可能である。
以上のようにして、サンプルに関してキャリア濃度差分、酸素濃度、窒素濃度を求めた後、これらの相関関係を求める。相関関係の求め方は特に限定されず、上記三者の相関関係を適切に求めることができれば良い。
本発明者らは、調査・解析により、特に重要な傾向として、Δ[n]が、[N]の一乗、[Oi]のおよそ3乗に比例する点を見いだした。
上述した工程のように、窒素濃度[N]及び酸素濃度[Oi]を振った様々なサンプルを用意して、酸素ドナーを消去し、その窒素酸素ドナー消去前後の抵抗率からキャリア濃度差分Δ[n]を求めた。それらのデータを解析したところ、酸素濃度[Oi]を固定した場合にはキャリア濃度差分Δ[n]は窒素濃度[N]の1乗に比例し、窒素濃度を固定した場合にはキャリア濃度差分Δ[n]は酸素濃度[Oi]のおよそ3乗に比例していることを突き止めた。これは窒素酸素ドナーが窒素原子1つと酸素原子3つから形成されているのではないかということを示唆する結果である。さらに種々のデータを取って解析したところ、キャリア濃度差分Δ[n]は酸素濃度[Oi]の2.5乗から3.5乗の範囲で比例していることが分かった。この2.5〜3.5乗のうち、どの乗数とするかは、予備試験でのデータ(キャリア濃度差分Δ[n]、酸素濃度[Oi]、窒素濃度[N])を基にして求めれば良い。
Δ[n]=α[N]×[Oi]2.5〜3.5+β (ここでα、βは定数)
である。そして、その相関関係式の変形から窒素濃度[N]を求める式を完成させた。すなわち、
[N]=(Δ[n]−β)/α[Oi]2.5〜3.5 (ここでα、βは定数)
である。
またβは、NOドナーが窒素原子一つと酸素原子三つからなるという仮説に基づけば、0であることが好ましい。しかし実際には種々の測定上のエラー、例えばある熱処理ではNOドナーが完全に消去できない、といった誤差要因を含んだ関係式であるので、ここではβ=0でない場合も想定した式としている。
換算係数の変更など、一連のプロセス条件が大きく変わった場合には、改めて相関関係を求め、必要に応じて決め直したり、補正係数を用いたりすることができる。
(評価対象のキャリア濃度差分、酸素濃度を求める:図1(D))
評価対象である、窒素濃度が未知のCZ法により育成された窒素ドープシリコン単結晶を用意し、キャリア濃度差分、酸素濃度を測定等により求める。
ここでの求め方は予備試験と同様の方法により行うことができる。後の工程で、予備試験から求めたキャリア濃度差分、酸素濃度、窒素濃度の相関関係に基づいて、本試験での窒素濃度を算出するので、キャリア濃度差分や酸素濃度は予備試験と同様のプロセスを経て求めるのが良い。これにより、より正確な窒素濃度を算出して求めることができる。
予備試験で求めた相関関係、ここでは、上記相関関係式の
[N]=(Δ[n]−β)/α[Oi]2.5〜3.5 (ここでα、βは定数)
を用い、前工程で求めたキャリア濃度差分Δ[n]、酸素濃度[Oi]を代入することによって未知であった窒素濃度[N]を算出して求めることができる。
評価対象が、窒素濃度が未知のものである場合について、該未知の窒素濃度を求める方法については上記の通り説明した。ここでは、窒素濃度が既知である窒素ドープシリコン単結晶の場合に、窒素酸素ドナーを消去する熱処理による抵抗率のシフト量を求める方法について説明する。
本発明の方法では、窒素濃度が既知であれば、シリコン単結晶中の酸素濃度を求めれば、育成された結晶中の窒素酸素ドナー起因のキャリア濃度差分を算出することができ、さらには抵抗シフト量を求めることができる。
しかしながら窒素ドープ結晶(ウェーハ)においては、窒素酸素ドナーの存在は知られているがその保証方法に関しては明確な決まりが無く、酸素ドナーを消去しただけで測定した抵抗率を、保証値として用いている場合もあるようである。
そこで窒素濃度が既知のシリコン結晶であれば、酸素濃度を測定するだけでデバイス後の抵抗率シフト量を試算することが可能である。
予備試験における、(相関関係を求めるためのサンプルを用意する:図2(A))、(キャリア濃度差分、酸素濃度、窒素濃度を求める:図2(B))、(相関関係を求める:図2(C))は、図1を参照して説明した本発明のシリコン単結晶中の窒素濃度を算出する方法と同様にして行うことができる。すなわち、説明したように、例えば
Δ[n]=α[N]×[Oi]2.5〜3.5+β (ここでα、βは定数)
の相関関係式を得ることができる。
(評価対象の酸素濃度、窒素濃度を求める:図2(D))
評価対象である、CZ法により育成された窒素ドープシリコン単結晶を用意し、酸素濃度、窒素濃度を求める。ここでの求め方は、予備試験と同様の方法により行うことができる。
予備試験で求めた相関関係、ここでは、上記相関関係式の
Δ[n]=α[N]×[Oi]2.5〜3.5+β (ここでα、βは定数)
を用い、前工程で求めた酸素濃度[Oi]、窒素濃度[N]を代入することによって、窒素酸素ドナーを消去する熱処理を起因とするキャリア濃度差分Δ[n]を算出することができる。
(実施例1)
本発明におけるシリコン単結晶中の窒素濃度の算出方法を実施した。
まず、予備試験を行って、キャリア濃度差分、酸素濃度、窒素濃度の相関関係を求めた。
狙いの窒素濃度の水準を3×1013〜12×1013/cm3と振り、また酸素濃度の水準を2.5×1017〜12×1017atoms/cm3(ASTM’79)と振った種々の窒素ドープシリコン単結晶のサンプルを用意した。
CZ法では融液が充填された石英ルツボと、該ルツボを取り囲むように配置されたヒーターを有する。このルツボ中に種結晶を浸漬した後、溶融液から棒状の単結晶が引き上げられる。
ルツボは結晶成長軸方向に昇降可能であり、結晶成長中に結晶化して減少した融液の液面下降分を補うように該ルツボを上昇させる。結晶の側方にはシリコン溶融液から発する酸化性蒸気を整流するために不活性ガスが流されている。融液が入った石英ルツボはシリコンと酸素から成っているので、酸素原子がシリコン溶融液内へと溶出する。この酸素原子はシリコン溶融液内を対流等に乗って移動し、最終的には融液の表面から蒸発していく。この時ほとんどの酸素は蒸発するが、一部の酸素は結晶に取り込まれ、格子間酸素Oiとなる。
このサンプルにおいて、先ず、酸素ドナー消去熱処理として650℃で20分の熱処理を行った後に、p/n判定及び抵抗率測定を行った。抵抗率測定は四探針法を用いて行った。この抵抗率からアービンカーブを用いてキャリア濃度を算出した。また、同じサンプルを用いてFT−IR法により酸素濃度[Oi]の測定を行った。
このあたりの真偽が不明であるので、ここでは特許文献2、3、国際公開公報第2009/025337号などで記載されている窒素酸素ドナーの消去条件よりも充分に時間の長い16時間を採用し、確実に窒素酸素ドナーが消去する条件を選んだ。この熱処理後に再度抵抗率の測定を行い、キャリア濃度を算出した。
これを熱処理前のキャリア濃度と差し引きすることで、キャリア濃度差分Δ[n](/cm3)を算出した。
図3から判るように酸素濃度が一定水準であればキャリア濃度差分Δ[n](/cm3)は窒素濃度[N](/cm3)に比例することがわかる。
[N]=(Δ[n]−1.18×1012)/2.76×10−55×[Oi]3
として表された。
すなわち、前述した、[N]=(Δ[n]−β)/α[Oi]3 (ここでα、βは定数)の相関関係式において、α=2.76×10−55、β=1.18×1012であった。
窒素ドープシリコン単結晶から切り出したものを本試験の評価対象として用意した。
このサンプルを用いて、先ず650℃で20分の酸素ドナー消去の熱処理を施した後の抵抗率と、更に1000℃で16時間の窒素酸素ドナー消去の熱処理を施した後の抵抗率とを四探針法により測定し、窒素酸素ドナー起因のキャリア濃度差分を求めた。その結果、キャリア濃度差分Δ[n]=7.8×1012(/cm3)であった。
一方でFT−IR法によって求めた酸素濃度は[Oi]=8.1×1017(atoms/cm3(ASTM’79))であった。
この値は、先に本発明の方法により算出した窒素濃度の値(4.5×1013(/cm3))とほぼ一致していた。
従って、本発明を用いた窒素濃度の評価結果は妥当であったといえる。
CZ法による窒素ドープシリコン単結晶から切り出したものを評価対象として用意した。
この評価対象を用いて、先ず650℃で20分の酸素ドナー消去の熱処理を施した後の抵抗率と、更に1000℃で16時間の窒素酸素ドナー消去の熱処理を施した後の抵抗率とを四探針法により測定し、窒素酸素ドナー起因のキャリア濃度差分を求めた。その結果、キャリア濃度差分Δ[n]=15.4×1012(/cm3)であった。
一方、比較例1の評価対象の酸素濃度をFT−IR法によって測定したところ、酸素濃度は[Oi]=10.5×1017(atoms/cm3(ASTM’79))であり、実施例1より高い値であった。
窒素濃度が同じであっても、酸素濃度が異なれば、その酸素濃度の差があまり大きくなくとも、求められるキャリア濃度差分が大きく異なってしまう例といえる。
本試験の評価対象として、比較例1と同様の評価対象を用意してキャリア濃度差分や酸素濃度を測定したところ、キャリア濃度差分Δ[n]=15.4×1012(/cm3)、酸素濃度[Oi]=10.5×1017(atoms/cm3(ASTM’79))であり、実施例1と同様の相関関係式(1)から窒素濃度を算出したところ、窒素濃度[N]=4.5×1013(/cm3)が得られた。
上述のように、結晶の当該評価対象の採取位置での狙い窒素濃度は4.3×1013(/cm3)であることから、比較例1とは異なって、ほぼ一致した結果を得ることができた。
窒素ドープシリコン単結晶から切り出したものを本試験の評価対象として用意した。
このサンプルを用いて、先ず650℃で20分の酸素ドナー消去の熱処理を施した後の抵抗率と、更に1000℃で16時間の窒素酸素ドナー消去の熱処理を施した後の抵抗率とを四探針法により測定し、窒素酸素ドナー起因のキャリア濃度差分を求めた。その結果、キャリア濃度差分Δ[n]=8.3×1012(/cm3)であった。
一方でFT−IR法によって求めた酸素濃度は[Oi]=4.2×1017(atoms/cm3(ASTM’79))であった。
この値は、先に本発明の方法により算出した窒素濃度の値(3.5×1014(/cm3))とほぼ一致していた。
従って、窒素濃度が高く、酸素濃度が低い場合でも本発明の手法の妥当性が確認できた。
本発明における抵抗シフト量の算出方法を実施した。
予備試験に関しては実施例1と同じであり、同じ相関関係式(1)が使え、これを変形したものが下記相関関係式(1)’である。
Δ[n]=2.76×10−55×[N]×[Oi]3+1.18×1012
狙い窒素濃度窒素[N]=3.5×1013(/cm3)、酸素濃度[Oi]=10.5×1017(atoms/cm3(ASTM’79))であるP型ボロンドープウェーハを用意した。
このウェーハの酸素ドナー消去の熱処理後の抵抗率は156Ωcmであった。このウェーハにデバイス工程を模した熱シミュレーションを施した。この熱シミュレーションはデバイスを作製する際の熱履歴を模したものであり温度が750℃から1000℃、処理時間がトータルで約30時間である。最高温度が1000℃であるので窒素酸素ドナーがあれば抵抗率が変化してしまうことが推定される。
P型であるので156Ωcmに相当するキャリア量にキャリア濃度差分を加えた値から、熱シミュレーション後の抵抗率を計算した。その結果、抵抗率は135Ωcmに低下し、抵抗シフト量は−21Ωcmであることが予想された。
Claims (4)
- 窒素をドープしたシリコン単結晶中の窒素濃度を算出する方法であって、
前記窒素ドープシリコン単結晶における、酸素ドナーを消去する熱処理後の抵抗率と窒素酸素ドナーを消去する熱処理後の抵抗率との差から求められるキャリア濃度差分Δ[n]と、酸素濃度[Oi]と、窒素濃度[N]とから予め求めておいた相関関係式
[N]=(Δ[n]−β)/α[Oi] 2.5〜3.5 (ここでα、βは定数)
を用いて、前記キャリア濃度差分Δ[n]と前記酸素濃度[Oi]とから、窒素ドープシリコン単結晶中の未知の窒素濃度[N]を算出して求めることを特徴とするシリコン単結晶中窒素濃度算出方法。 - 前記窒素ドープシリコン単結晶をチョクラルスキー法により育成したものとすることを特徴とする請求項1に記載のシリコン単結晶中窒素濃度算出方法。
- 窒素をドープしたシリコン単結晶における抵抗のシフト量を算出する方法であって、
前記窒素ドープシリコン単結晶における、酸素ドナーを消去する熱処理後の抵抗率と窒素酸素ドナーを消去する熱処理後の抵抗率との差から求められるキャリア濃度差分Δ[n]と、酸素濃度[Oi]と、窒素濃度[N]とから予め求めておいた相関関係式
Δ[n]=α[N]×[Oi] 2.5〜3.5 +β (ここでα、βは定数)
を用いて、前記窒素濃度[N]と前記酸素濃度[Oi]とから、窒素ドープシリコン単結晶における未知のキャリア濃度差分Δ[n]を算出し、該算出したキャリア濃度差分Δ[n]から、前記窒素酸素ドナーを消去する熱処理による抵抗シフト量を求めることを特徴とする抵抗シフト量算出方法。 - 前記窒素ドープシリコン単結晶をチョクラルスキー法により育成したものとすることを特徴とする請求項3に記載の抵抗シフト量算出方法。
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