JP5678747B2 - Euv光露光用レジスト組成物並びにこれを用いたレジストパターン形成方法 - Google Patents
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Description
すなわち、線幅20nmのパターンを形成しようとした場合、膜厚は50nm前後と極めて薄膜でパターンを形成する事が必要となる。このレジスト膜の薄膜化は、レジスト材料のエッチング耐性がより重要となることを意味している。当然のことながら、線幅20nm以下のパターン形成においては、レジスト膜はより薄膜化することから、レジスト材料のエッチング耐性向上は微細パターンの形成においては必須項目であると言える。
本発明のEUV光露光用レジスト組成物(以下、「本発明のレジスト組成物」と称す場合がある。)は、下記一般式(1)で表される部分構造を、フラーレン骨格内に1箇所又は2箇所有するフラーレン誘導体(A)、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する基材成分(B)、露光により酸を発生する酸発生剤(C)、含窒素有機化合物(D)及び有機溶媒(E)を含有する。
本発明で用いるフラーレン誘導体(A)は、特定の部分構造を有するフラーレン誘導体である。ここで、「フラーレン」とは、閉殻構造を有する炭素クラスターであり、フラーレンの炭素原子数は、通常60〜130の偶数である。
また、下記一般式(2)で表される基を、適宜「R20」という。
一般式(1)中、C1は水素原子又は任意の置換基(即ち、R10)と結合している。置換基R10は、本発明で用いるフラーレン誘導体(A)として優れた物性を大幅に損ねるものでなければ、その種類に制限は無い。
これらの中で、原料調達の観点からフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナレニル基、ピレニル基が好ましく、合成の容易さからフェニル基、ナフチル基が特に好ましい。
・フラーレン骨格上に5重付加部分構造を1つ有する、一般式Ci(R20)5(R10)で表される5重付加フラーレン誘導体。
・フラーレン骨格上に3重付加部分構造を1つ、5重付加部分構造を1つ有する、一般式Ci(R20)8(R10)2で表される8重付加フラーレン誘導体。
・フラーレン骨格上に5重付加部分構造を2つ有する、一般式Ci(R20)10(R10)2で表される10重付加フラーレン誘導体。
本発明のEUV光露光用レジスト組成物が、EUV光露光用ポジ型レジスト組成物である場合、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する基材成分(B)は、酸解離性基で保護されたアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶性となる樹脂(以下、「酸解離性基含有樹脂」という。)であり、レジストパターン形成時にEUV露光により酸が発生すると、基材成分(B)に当該酸が作用して酸解離性基が反応し、解離することによって、レジスト組成物がEUV露光部においてアルカリ現像液不溶性から可溶性へと変化し、アルカリ現像が可能となる。
アルカリ可溶性樹脂のMwは、EUV光露光用ネガ型レジスト組成物の要求特性に応じて変わるが、好ましくは1,000〜150,000、さらに好ましくは3,000〜100,000である。
酸発生剤(C)は、EUV露光により酸を発生させて、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する基材成分(B)のアルカリ溶解性を変化させるものである。
本発明のレジスト組成物は、ポジ型及びネガ型のいずれの場合においても、レジストパターン形状、引き置き経時安定性等を向上させるために、含窒素有機化合物(D)を含有する。この含窒素有機化合物(D)はこれまでに報告されている任意のものを使用すれば良いが、環状アミン、脂肪族アミンが好ましい。特に、第2級脂肪族アミン、第3級脂肪族アミンが好ましく、第3級脂肪族アミンが最も好ましい。ここで脂肪族アミンとは、1つ以上の脂肪族基を有するアミンであり、炭素数は1〜15が好ましい。
本発明のレジスト組成物は、ポジ型及びネガ型のいずれの場合においても、有機溶媒(E)を含有する。この有機溶媒(E)は使用する各成分を溶解させ、均一な溶液になればよく、従来の化学増幅型レジスト組成物の有機溶媒としてこれまでに報告されている任意のものを使用することができる。
本発明のレジスト組成物は、ネガ型レジスト組成物として用いる場合には、架橋剤成分(F)を含有することが好ましい。この架橋剤成分(F)は特に限定されず、従来の化学増幅型ネガレジスト組成物に用いられている架橋剤の中から任意のものを使用することができる。
本発明のレジスト組成物の作製方法に制限はないが、通常フラーレン誘導体(A)、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する基材成分(B)、露光により酸を発生する酸発生剤(C)、含窒素有機化合物(D)及び有機溶媒(E)、更に、ネガ型レジスト組成物の場合には架橋剤成分(F)を所定の装置で攪拌しながら溶解させる手法、超音波を照射する手法等により調製することができる。
本発明のEUVレジストパターン形成方法は、上記本発明のレジスト組成物を基板上に塗布しレジスト膜を形成する工程、形成されたレジスト膜を加熱処理する工程、加熱処理後のレジスト膜を選択的にEUV露光する工程、及びEUV露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含む。なお、EUV露光後のレジスト膜は、現像前に必要に応じて再度加熱処理してもよい。
本発明のレジスト組成物を、基板上に、スプレー法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法などの任意の塗布方法を用いてレジスト膜を形成することができるが、均一な薄膜が形成できる観点でスピンコート法が好ましい。
レジスト膜厚が、薄すぎるとレジストパターンの寸法が所望の寸法から大きく変動する傾向があり、厚すぎると解像不良となる傾向がある。
上記の本発明のレジスト組成物により形成した膜は、加熱することによりレジスト膜に含まれる有機溶媒を除去する。加熱温度は、通常70〜250℃で、好ましくは90〜150℃の範囲で、10〜300秒間、好ましくは30〜150秒間、更に好ましくは60〜100秒間加熱する。加熱時間が長すぎると製造時の生産性が低下する傾向にあり、短すぎると熱が十分に伝わらず、加熱効果にばらつきが生じる虞がある。
該レジスト膜に対して、LPPと呼ばれる、レーザー光をSnやその化合物、Xeなどのターゲットに照射し発生したプラズマからEUV光を取り出すEUV露光源;DPPと呼ばれる、WやSiCなどからなる電極に、Snやその化合物、Xeをその電極近傍に存在させて、高電圧をかけて放電により発生したプラズマからEUV光を取り出すEUV露光源;レーザー光をターゲットに照射しかつ放電させて生したプラズマからEUV光を取り出すEUV露光源;又は、放射光光源からEUV光を取り出すEUV露光源;を用いて、所望のマスクパターンを介して露光する。上記各EUV露光源の発生もとからEUV光を取り出すには反射型又は透過型のフィルターが使用される。
この際、露光量により、現像後形成されるレジストパターンの寸法が変動する。露光量は所望の寸法となる露光量が望ましいが、所望の寸法に対してプラスマイナス10%以内にする露光量が好ましく、プラスマイナス5%以内にする露光量が特に好ましい。このとき、所望の寸法となる露光量を、各パターン寸法における感度と称することがある。
選択的EUV露光後の膜に対して、必要に応じて露光により発生した酸をレジスト膜中に効果的に拡散させるために加熱してもよい。この場合の加熱温度は、通常70〜200℃、好ましくは80〜150℃の範囲で、10〜300秒間、好ましくは30〜150秒間、更に好ましくは60〜100秒間加熱する。加熱時間が長すぎると製造時の生産性が低下する傾向にあり、短すぎると熱が十分に伝わらず、加熱効果にばらつきが生じる虞がある。
上記工程を施した膜に対して、アルカリ現像液を用いて現像処理することにより、レジストパターンを形成することができる。
本発明のレジストパターン形成方法が有する優れた特性を大幅に損ねるものでなければ、現像液の中に界面活性剤などの他の任意の化合物が含有されていてもかまわない。
なお、以下において、THFはテトラヒドロフランを表し、ODCBはオルトジクロロベンゼンを表し、DMSOはジメチルスルホキシドを表し、PGMEAはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを表し、CHNはシクロヘキサノンを表し、ELは乳酸エチルを表し、TMAHはテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを表す。さらに、Meはメチル基、Buはブトキシ基を表し、Npはナフチル基、THPはテトラヒドロピラニル基を(従って、OTHPはオキシテトラヒドロピラニル基を)表す。
<合成例1:フラーレン誘導体A1 C60(4−OH−C6H4)10(−CH3)2の製造>
カラムサイズ:150mm×4.6mmφ
溶離液:トルエン/メタノール=5/95
検出器:UV290nm
1H−NMR(DMSO−d6,400MHz):9.20〜7.80ppm(brs,OH,10H),7.80〜6.0ppm(m,Np,40H),1.82ppm(s,C60Me2,6H)
1H−NMR(DMSO−d6,270MHz):9.60ppm(s,OH,4H),9.48ppm(s,OH,1H),7.58ppm(m,Ph,8H),6.96ppm(d,Ph,2H),6.77ppm(m,Ph,8H),6.49ppm(d,Ph,2H),1.47ppm(s,Me,3H)
以下の合成例中、「部」とあるのは、特に断りのない限り「重量部」を示す。
窒素導入口、攪拌機、コンデンサー、滴下漏斗2個、及び温度計を備えたフラスコに、窒素雰囲気下で、乳酸エチル243.6部を入れた。このフラスコを湯浴に入れ、フラスコ内を攪拌しながら湯浴の温度を80℃に上げた。
その後、下記混合物1を滴下漏斗より4時間かけてフラスコ内に滴下し、さらに80℃の温度を3時間保持した。また、混合物1の滴下開始と同時に、下記混合物2を別の滴下漏斗より0.1時間かけてフラスコ内に滴下した。なお、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレートとしては和光純薬工業(株)製 商品名「V601」を用いた。
以下に示すα−メタクリロイルオキシ−γ−ブチロラクトンの単量体:95.20部
以下に示す2−メタクリロイルオキシ−2−メチルアダマンタンの単量体:131.04部
以下に示す3−メタクリロイルオキシ−1−ヒドロキシアダマンタンの単量体:66.08部
乳酸エチル:430.5部
ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート:2.14部
乳酸エチル:8.0部
ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート:4.30部
濾液を減圧下で加熱してメタノール及び水を留去し、さらにPGMEAを留去し、重合体の濃度が25重量%の重合体B1溶液を得た。この際、最高到達真空度は0.7kPa、最高溶液温度は65℃、留去時間は8時間であった。
得られた生成物をGPCにて測定した。
重合体の重量平均分子量(Mw)は、下記の条件(GPC条件)でゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより、ポリスチレン換算で求めた。
〈GPC条件〉
装置:東ソー(株)製、東ソー高速GPC装置 HLC−8220GPC(商品名)
分離カラム:昭和電工(株)製、Shodex GPC K−805L(商品名)を3本直列に連結
測定温度:40℃
溶離液:THF
試料:重合体の約20mgを5mLのTHFに溶解し、0.5μmメンブレンフィルターで濾過した溶液
流量:1mL/分
注入量:0.1mL
検出器:示差屈折計
F−80(Mw=706,000)
F−20(Mw=190,000)
F−4(Mw=37,900)
F−1(Mw=10,200)
A−2500(Mw=2,630)
A−500(Mw=682、578、474、370、260の混合物)
<実施例1:フラーレン誘導体A1を添加成分(1重量%)として含有するポジ型レジスト組成物のパターニング評価>
193nmレジスト用ポリマーの重合体B1、該重合体B1に対して、上記合成例1で製造したフラーレン誘導体A1を1重量%、光酸発生剤(C)として以下に示すトリフェニルスルフォニウムノナフレート(みどり化学(株)製「TPS−109」)を10重量%、含窒素有機化合物(D)としてトリ−n−オクチルアミンを1.25重量%、界面活性剤としてDIC(株)製「メガファックR−30」(パーフルオロ基含有アクリルオリゴマー)を0.1重量%混合したポジ型レジスト感光組成物を、有機溶媒(E)である混合溶媒PGMEA/CHN/EL(重量比85/5/10)に対して、合計2.40重量%溶解し、0.1μmのフィルターを通すことでポジ型レジスト組成物を作成した。
フラーレン誘導体A1の添加量を重合体B1に対して5重量%としたこと以外は実施例1と同じ条件でレジスト組成物を作成し、微細パターンの露光、露光後ベーク、現像、リンス、乾燥を行った。露光はステップアンドリピート方式で9ショット実施し、露光量は13〜21mJ/cm2であった。
フラーレン誘導体A1の添加量を重合体B1に対して10重量%としたこと以外は実施例1と同じ条件でレジスト組成物を作成し、微細パターンの露光、露光後ベーク、現像、リンス、乾燥を行った。露光はステップアンドリピート方式で9ショット実施し、露光量は12〜20mJ/cm2であった。
フラーレン誘導体をA2とし、混合溶媒をPGMEA/CHN=60/40(重量比)としたこと以外は実施例1と同じ条件でレジスト組成物を作成し、微細パターンの露光、露光後ベーク、現像、リンス、乾燥を行った。露光はステップアンドリピート方式で9ショット実施し、露光量は9.8〜16.2mJ/cm2であった。
フラーレン誘導体A1を添加しなかったこと以外は実施例1と同じ条件でレジスト組成物を作成し、微細パターンの露光、露光後ベーク、現像、リンス、乾燥を行った。露光はステップアンドリピート方式で9ショット実施し、露光量は11〜16mJ/cm2であった。
実施例1〜3、比較例1のレジスト組成物を用いて以下の手順でレジストパターンを形成した後、以下の方法でエッチング耐性の評価を行った。
(1)実施例1〜3、比較例1のレジスト組成物を、それぞれSi基板上に厚さ80nmとなるように600rpmで4秒間、2000rpmで30秒間回転塗布し(塗布工程)、110℃で90秒間、加熱処理を行った(プレベーク)。
(2)EB露光装置:JBX−6000FS(日本電子(株)製)を用い、加速電圧50kVで80μC/cm2の露光を行った(露光工程)。
(3)EB露光した膜を110℃で90秒間、加熱処理を行った(ポストエクスポージャーベーク)。
(4)現像液として、アルカリ現像液のMF622(シプレイ製)を用い、30秒間浸漬した(現像工程)。その後、リンス液として純水を用い、これに30秒間浸漬して現像液をすすぎ落とした(洗浄工程)。
(i)パターン形成後、パターンとSi基板との段差を測定した。測定された段差の大きさを膜厚A(レジスト膜厚)とした。なお、以下において、膜減り量の測定はKLAテンコール社製「アルファステップ500」を用いて行った。
(ii)以下の要領で、それぞれの所要時間ごとにサンプルを準備して、各々エッチング処理を行ない、エッチング後のパターンとSi基板との段差を測定した。測定された段差の大きさを膜厚Bとした。
<CF4ガスによるRIEエッチング>
装置:サムコインターナショナル製RIE−10NR
エッチング条件:CF4、50W、70sccm、20Pa
エッチング時間:0秒、60秒、120秒、180秒、
240秒、300秒、360秒
(iii)次に、以下の条件でO2アッシングによるレジスト剥離を行い、アッシング後にパターン形成されていたSi基板と無パターン部のSi基板の段差を測定した。測定された段差の大きさを膜厚Cとした。
なお、アッシングは以下の要領で行なった。
<O2アッシングによるレジスト剥離>
装置:サムコインターナショナル製RIE−10NR
アッシング条件:O2=20sccm、50W、20Pa、5分
(iv)以下の計算式により、レジスト膜及びSi基板の膜減り量を求めた。
レジスト膜の膜減り量=膜厚A+膜厚C−膜厚B
Si基板の膜減り量=膜厚C
(v)エッチング時間と膜減り量のグラフの傾きからレジスト膜とSi基板のエッチング速度を算出した。
(vi)レジスト膜のエッチング速度をSi基板のエッチング速度で除し、規格化した(この値を「規格化エッチング速度」と称す。)。また、規格化エッチング速度について、フラーレン誘導体無添加の比較例1に対する比を求めた(この値を「規格化エッチング速度比」と称す。)。
以上の結果を、表2に示す。
さらに、前掲の表1より、実施例1の全てのパターン寸法において比較例1よりもK値が低く、フラーレン誘導体の添加量を最適化することでK値を低減すること、すなわちLWRの改善が可能であることが分かる。
このLWR改善効果は、フラーレン誘導体の電子受容性によって、EUV露光時の電子の拡散が制御されることが、その要因の一つと考えられる。
実施例3と比較例1のレジスト組成物を用いて形成したレジストパターンについて、以下の方法でアウトガス発生量の評価を行った。
(株)半導体先端テクノロジーズ所有の、アウトガス捕集装置を使用して、上記ポジ型レジスト組成物の、EUV光照射で発生するレジストアウトガスを捕集し、市販のガスクロマトグラフィ―質量分析装置(GC−MS法)にてアウトガスに含まれる成分の定量分析を行った。
このアウトガス捕集装置は、ターボ分子ポンプで排気されている、ロードロックチャンバ、露光チャンバ、加熱チャンバの3のチャンバから構成されている。
サンプルの装入に先立って、アウトガス捕集装置を、常にターボ分子ポンプで真空排気をしながら、200℃で48時間ベーキングを行い、さらに36時間以上冷却した。冷却後、露光チャンバの試料台に備えられているクライオスタットを動作させ、試料台をあらかじめ冷却した。このクライオスタットはHeガスの断熱膨張によって−200℃まで冷却可能である。
(1)ブランク測定
新品のシリコンウエハを使用して、EUV光で発生するアウトガスのバックグランド成分の捕集を行った。
新品のシリコンウエハをアウトガス捕集装置のロードロックチャンバに設置し、真空度が3×10−5Pa以下になるまで排気を行なった。次いで、真空排気を行いながら、真空をブレークすることなく、シリコンウエハを露光チャンバの試料台に移動させた。露光チャンバの真空度が6×10-8Pa以下になったら、加熱チャンバから露光チャンバ内の試料台へ、無酸素銅で形成されたトラップボックスを移動させた。トラップボックスの上部には開口部があり、この開口部からEUV光がシリコンウエハに照射できる構造になっている。
次に、露光チャンバを60分以上真空排気した後、真空排気しているターボ分子ポンプとの間のゲートバルブを閉止して、露光チャンバの真空排気を停止し、その直後からDPP光源(エナジージェティック社製)によるXeガスプラズマから発生したバンド光を、SiおよびZrフィルター、45度Mo/Si多層膜(周期長7.5 nm)ミラーを介することにより、選択的に波長13.5nm近傍のEUVとなった光を、該トラップボックスの上部からシリコンウエハに照射した。EUV光の強度は0.025
mW/cm2、照射面積1.0385cm2である。EUV光照射により発生したアウトガス成分は、クライオスタットで冷却されているトラップボックスに吸着される。
積算露光量が30mJ/cm2になったら、シリコンウエハを2cm動かして、同様にEUV光を積算露光量が30mJ/cm2になるまで照射した。これを合計4回繰り返し、シリコンウエハの合計面積4.154cm2にEUV光を照射した。
照射終了後、トラップボックスを加熱チャンバに移動させ、加熱チャンバを高純度窒素ガスを用いて大気圧まで復圧した。大気圧になったら加熱チャンバおよびトラップボックスを150℃に加熱し、加熱チャンバからその下部に設置された捕集管(「捕集管1」とする。)に窒素ガスを60分間送った。これによりトラップボックスに吸着されていた、EUV光照射によりシリコンウエハから発生したアウトガス成分が窒素ガスに同伴されて捕集管1に捕集される。
ブランク測定後、ロードロックチャンバ、露光チャンバ、加熱チャンバを再度、12時間以上真空排気した。また加熱チャンバ下部には別の捕集管(「捕集管2」とする。)を設置した。
実施例3のレジスト組成物を、直前にヘキサメチルジシラザンによる表面処理を行った12インチシリコンウエハ上に3cc滴下し、850rpmにてスピンコートした。スピンコーター&デベロッパー装置はアクト12(東京エレクトロン社製)である。次に110℃×90秒のプリベークを行った後冷却し、シリコンウエハ上に膜厚60nmのレジスト薄膜を形成した。
次にレジスト薄膜が形成されたシリコンウエハを前記のアウトガス捕集装置のロードロックチャンバに設置し、上記手順と全く同様にして、真空排気−EUV照射−復圧−加熱−窒素パージを行い、EUV光照射により発生した該レジスト薄膜のアウトガス成分を捕集管2に捕集した。
上記と同様にしてブランク及び比較例1のレジスト組成物のアウトガスをそれぞれ別の捕集管(それぞれ、「捕集管3」、「捕集管4」とする。)に捕集した。
市販の加熱脱離式ガスクロマトグラフィ―質量分析装置(GC−MS)を用いて、捕集管1および2に捕集されているアウトガス成分の定量分析を行ったところ、以下のような成分が検出された(但し、トルエン換算値)。
ヘキサメチルシクロトリシロキサン:8.5×1011分子/cm2
オクタメチルシクロテトラシロキサン:1.9×1012分子/cm2、
(ii)アウトガス成分を吸着した捕集管2
ベンゼン:8.9×1013分子/cm2
ヘキサメチルシクロトリシロキサン:7.2×1011分子/cm2
オクタメチルシクロテトラシロキサン:1.2×1012分子/cm2
メチレンアダマンタン:5.3×1013分子/cm2
2−メチルアダマンタン:2.0×1012分子/cm2
ビフェニル:7.2×1012分子/cm2
ジフェニルスルフィド:5.9×1012分子/cm2
(iii)実施例3のレジスト組成物から発生したアウトガス
上記成分の内、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンは捕集管1と2の双方(即ちバックグラウンドおよびレジストの両方)から同量程度検出されているので、レジストから発生した主なアウトガスではないと考えられる。
したがって、EUV光照射により実施例3のレジスト組成物から発生したアウトガスの主成分は、ベンゼン、メチレンアダマンタン、2−メチルアダマンタン、ビフェニル、ジフェニルスルフィドであると考えられる。
市販の加熱脱離式ガスクロマトグラフィ―質量分析装置(GC−MS)を用いて、捕集管3および4に捕集されているアウトガス成分の定量分析を行ったところ、以下のような成分が検出された(但し、トルエン換算値)。
(i)ブランクの捕集管3
イソブテン:4.5×1012分子/cm2
ヘキサメチルシクロトリシロキサン:1.1×1012分子/cm2
オクタメチルシクロテトラシロキサン:5.5×1012分子/cm2
(ii)比較例1の捕集管4
イソブテン:5.5×1012分子/cm2
ベンゼン:1.3×1014分子/cm2
オクタメチルシクロテトラシロキサン:1.7×1012分子/cm2
γ−ブチルラクトン:1.7×1012分子/cm2
メチレンアダマンタン:6.6×1013分子/cm2
2−メチルアダマンタン:3.4×1012分子/cm2
ビフェニル:7.9×1012分子/cm2
ジフェニルスルフィド:7.7×1012分子/cm2
(iii)比較例1のレジスト組成物から発生したアウトガス
ヘキサメチルシクロトリシロキサンは捕集管3のみから、またイソブテン、オクタメチルシクロテトラシロキサンは捕集管3および4、即ちバックグラウンドおよびレジストの両方から同量程度検出されているので、レジストから発生した主なアウトガスではない。
したがって、EUV光照射により比較例1のレジスト組成物から発生したアウトガスの主成分は、ベンゼン、γ−ブチルラクトン、メチレンアダマンタン、2−メチルアダマンタン、ビフェニル、ジフェニルスルフィドであると考えられる。
以上の結果をまとめて表3に示す。
従って、本発明のレジスト組成物を用いるとアウトガス発生を抑制することが期待できることが分かる。
Claims (10)
- 下記一般式(1)で表される部分構造を、フラーレン骨格内に1箇所又は2箇所有するフラーレン誘導体(A)、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する基材成分(B)、露光により酸を発生する酸発生剤(C)、含窒素有機化合物(D)及び有機溶媒(E)を含有し、該フラーレン誘導体(A)の含有量が、該基材成分(B)の0.01〜30重量%であることを特徴とするEUV(極紫外線)光露光用レジスト組成物。
- 前記フラーレン誘導体(A)の含有量が、前記基材成分(B)の0.01〜10重量%であることを特徴とする請求項1に記載のEUV(極紫外線)光露光用レジスト組成物。
- 前記基材成分(B)として、酸解離性基で保護されたアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基の解離によりアルカリ可溶性となる樹脂を含むEUV(極紫外線)光露光用ポジ型レジスト組成物であることを特徴とする請求項1又は2に記載のEUV(極紫外線)光露光用レジスト組成物。
- 前記基材成分(B)が、ポリヒドロキシスチレン樹脂であることを特徴とする請求項3に記載のEUV(極紫外線)光露光用レジスト組成物。
- 前記基材成分(B)がメタクリル樹脂であることを特徴とする請求項3に記載のEUV(極紫外線)光露光用レジスト組成物。
- さらに架橋剤成分(F)を含有する、EUV(極紫外線)光露光用ネガ型レジスト組成物であることを特徴とする請求項1又は2に記載のEUV(極紫外線)光露光用レジスト組成物。
- 前記酸発生剤(C)がオニウム塩系酸発生剤であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載のEUV(極紫外線)光露光用レジスト組成物。
- 前記含窒素有機化合物(D)が第3級脂肪族アミンであることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載のEUV(極紫外線)光露光用レジスト組成物。
- 請求項1ないし9のいずれか1項に記載のEUV(極紫外線)光露光用レジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、形成されたレジスト膜を加熱処理する工程、加熱処理後のレジスト膜を選択的にEUV露光する工程、及びEUV露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。
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