JP5660774B2 - Colored photosensitive resin composition, coating film, pattern and display device - Google Patents

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Description

本発明は、着色感光性樹脂組成物、この組成物から得られる塗膜及びパターン、並びに前記塗膜及び／又はパターンを含む表示装置に関する。   The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a coating film and a pattern obtained from the composition, and a display device including the coating film and / or pattern.

有機ＥＬ表示装置の製造では、有機物質の画素が互いに接触しないようにするため、まず隔壁が形成され、その隔壁の間に有機物質の画素が形成される。この隔壁は、一般に、感光性樹脂組成物を用いるフォトリソグラフ法（フォトリソグラフィ）によって形成される。詳しくは、塗布装置を用いて感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、揮発成分を加熱等の手段で除去したのち、マスクを介して露光し、次いでネガ型の場合は未露光部分を、ポジ型の場合は露光部分をアルカリ水溶液等の現像液で除去することによって現像し、得られたパターンを加熱処理して、隔壁を形成する。次いで蒸着法又はインクジェット法などによって、赤、緑及び青の３色の光を発する有機物質を隔壁の間に成膜して、有機ＥＬ表示装置の画素を形成する。該分野では、感光性樹脂組成物の解像度を向上させることが絶えず求められている。   In the manufacture of the organic EL display device, in order to prevent the pixels of the organic material from coming into contact with each other, first, a partition is formed, and the pixel of the organic material is formed between the partitions. This partition is generally formed by a photolithography method (photolithography) using a photosensitive resin composition. Specifically, the photosensitive resin composition is applied onto a substrate using a coating apparatus, and after removing volatile components by means of heating or the like, it is exposed through a mask. In the case of the positive type, development is performed by removing the exposed portion with a developer such as an alkaline aqueous solution, and the resulting pattern is heat-treated to form partition walls. Next, an organic material that emits light of three colors of red, green, and blue is formed between the partition walls by an evaporation method or an inkjet method, so that a pixel of the organic EL display device is formed. In the field, there is a constant demand for improving the resolution of the photosensitive resin composition.

ネガ型の感光性樹脂組成物としては、樹脂、重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含有するものが知られている。例えば特許文献１の実施例では、樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、重合開始助剤、酸化防止剤及び溶剤からなる感光性樹脂組成物が開示され、前記重合開始助剤の一部として多官能チオールが使用されている。なお特許文献１は、その感光性樹脂組成物を用いてカラーフィルタ基板とアレイ基板との間のスペーサを製造することを開示しているが、隔壁の製造については何ら開示していない。また特許文献１は、組成物中で着色剤を使用することも開示していない。   As a negative photosensitive resin composition, what contains resin, a polymeric compound, a photoinitiator, and a solvent is known. For example, in Example of Patent Document 1, a photosensitive resin composition comprising a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a polymerization initiation assistant, an antioxidant and a solvent is disclosed, and as a part of the polymerization initiation assistant. Multifunctional thiols are used. Patent Document 1 discloses manufacturing a spacer between the color filter substrate and the array substrate using the photosensitive resin composition, but does not disclose any manufacturing of the partition wall. Further, Patent Document 1 does not disclose the use of a colorant in the composition.

特開２００８−１８１０８７号公報JP 2008-181087 A

本発明の目的は、従来物（例えば特許文献１に記載の感光性樹脂組成物）よりも高い解像度を示す着色感光性樹脂組成物を提供することにある。   The objective of this invention is providing the colored photosensitive resin composition which shows the resolution higher than a conventional product (for example, photosensitive resin composition of patent document 1).

上記目的を達成し得た本発明の着色感光性樹脂組成物は、樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、３つ以上のスルファニル基を有する化合物、酸化防止剤、着色剤、及び溶剤を含み、前記樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体に由来する構造単位と；炭素−炭素二重結合（即ちオレフィン性二重結合）及びエポキシ構造を有する単量体に由来する構造単位と；を含む共重合体であることを特徴とする。   The colored photosensitive resin composition of the present invention that has achieved the above object includes a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a compound having three or more sulfanyl groups, an antioxidant, a colorant, and a solvent. A structural unit derived from at least one monomer selected from the group consisting of an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride; a carbon-carbon double bond (ie, an olefinic double bond) And a structural unit derived from a monomer having an epoxy structure.

着色剤の含有量は、着色感光性樹脂組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは３〜１０質量部である。着色剤が、黄色顔料及び緑色顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。本発明の着色感光性組成物の中でも、着色感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターンの光の透過率が、波長４００ｎｍにおいて膜厚３μｍあたり０．１％以上３０％以下であるものが好ましい。   The content of the colorant is preferably 3 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the colored photosensitive resin composition. It is preferable that the colorant contains at least one selected from the group consisting of a yellow pigment and a green pigment. Among the colored photosensitive compositions of the present invention, those having a light transmittance of a pattern formed using the colored photosensitive resin composition of 0.1% or more and 30% or less per 3 μm film thickness at a wavelength of 400 nm. preferable.

炭素−炭素二重結合及びエポキシ構造を有する単量体は、好ましくは、式（ｂ１）で表される化合物及び式（ｂ２）で表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である。なお以下では「式（ｂ１）で表される化合物」を「単量体（ｂ１）」と略称することがある。他の化学式で表される化合物等も同様に略称することがある。   The monomer having a carbon-carbon double bond and an epoxy structure is preferably at least one selected from the group consisting of a compound represented by formula (b1) and a compound represented by formula (b2). Hereinafter, the “compound represented by the formula (b1)” may be abbreviated as “monomer (b1)”. Similarly, compounds represented by other chemical formulas may be abbreviated.

式（ｂ１）及び式（ｂ２）中、Ｒ1は、水素原子又はＣ1-4飽和脂肪族炭化水素基を表し、前記の飽和脂肪族炭化水素基の水素原子は−ＯＨで置換されていてもよい。
Ｌ1は、単結合又は２価のＣ1-6飽和脂肪族炭化水素基を表し、前記２価の飽和脂肪族炭化水素基の−ＣＨ2−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ2−で置換されていてもよく、前記Ｒ2は、水素原子又はＣ1-10飽和脂肪族炭化水素基を表す。 In Formula (b1) and Formula (b2), R 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 saturated aliphatic hydrocarbon group, and the hydrogen atom of the saturated aliphatic hydrocarbon group is substituted with —OH. Also good.
L 1 represents a single bond or a divalent C 1-6 saturated aliphatic hydrocarbon group, and —CH 2 — of the divalent saturated aliphatic hydrocarbon group represents —O—, —S— or —NR. 2 - may be substituted with, said R 2 represents a hydrogen atom or a C 1-10 saturated aliphatic hydrocarbon group.

なお式（ｂ１）のＲ1及びＬ1は、それぞれ、式（ｂ２）のＲ1及びＬ1と同じものでもよく、異なっていてもよい。同様に本明細書の他の式で共通する記号も、各式同士で、同じものでもよく、異なっていてもよい。また「−ＣＨ2−が−Ｏ−等で置換されている２価の飽和脂肪族炭化水素基」等とは、「見掛け上、２価の飽和脂肪族炭化水素基の−ＣＨ2−が−Ｏ−等で置換されたとみなされる基」等を意味し、「実際上、２価の飽和脂肪族炭化水素基を合成した後に、−ＣＨ2−を−Ｏ−等で置換して得られる基」等を意味しない。「水素原子が−ＯＨで置換されている飽和脂肪族炭化水素基」等の表現も同様の意味である。 R 1 and L 1 in formula (b1) may be the same as or different from R 1 and L 1 in formula (b2), respectively. Similarly, symbols common to other formulas in the present specification may be the same or different from each other. Further, “a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group in which —CH 2 — is substituted with —O—” or the like means “apparently, —CH 2 — of a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group is — A group obtained by, for example, synthesizing a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group and then substituting —CH 2 — with —O— or the like. Is not meant. Expressions such as “saturated aliphatic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with —OH” have the same meaning.

光重合開始剤は、好ましくはビイミダゾール化合物である。   The photopolymerization initiator is preferably a biimidazole compound.

本発明は、前記着色感光性樹脂組成物を用いて形成される塗膜及びパターンも提供する。本発明のパターンは、好ましくは、有機ＥＬ表示装置の画素の隔壁として使用される。本発明は、前記塗膜及びパターンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置も提供する。   The present invention also provides a coating film and a pattern formed using the colored photosensitive resin composition. The pattern of the present invention is preferably used as a partition wall of a pixel of an organic EL display device. The present invention also provides an organic EL display device and a liquid crystal display device including at least one selected from the group consisting of the coating film and the pattern.

本発明の着色感光性樹脂組成物によれば、より高い解像度でパターンを得ることができる。   According to the colored photosensitive resin composition of the present invention, a pattern can be obtained with higher resolution.

本発明の組成物は、樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、３つ以上のスルファニル基を有する化合物（Ｅ）（以下、「３官能以上のチオール（Ｅ）」と略称する）、酸化防止剤（Ｆ）、着色剤（Ｇ）及び溶剤（Ｊ）を含有し、必要に応じて重合開始助剤（Ｄ）及びその他の添加剤（Ｈ）を含有していてもよい。前記各成分は、特に断りが無い限り、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。   The composition of the present invention comprises a resin (A), a polymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a compound (E) having three or more sulfanyl groups (hereinafter referred to as “trifunctional or higher thiol (E ) "), An antioxidant (F), a colorant (G), and a solvent (J), and if necessary, a polymerization initiation assistant (D) and other additives (H). It may be. As long as there is no notice in particular, said each component may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

３官能以上のチオール（Ｅ）は、組成物の光に対する感度を向上させる。酸化防止剤（Ｆ）は、光重合開始剤（Ｃ）から発生するラジカルを捕捉することによって、非露光部での余分な硬化を防止し、解像度の向上に寄与する。着色剤（Ｇ）は、組成物中への光の透過を抑制することによって、非露光部での余分な硬化を防止し、解像度の向上に寄与する。このような作用を有する３官能以上のチオール（Ｅ）、酸化防止剤（Ｆ）及び着色剤（Ｇ）の組合せを使用することによって、本発明の組成物は、優れた解像度を達成できる。
以下、本発明の組成物に含まれる各成分を順に説明する。 Trifunctional or higher thiol (E) improves the sensitivity of the composition to light. The antioxidant (F) captures radicals generated from the photopolymerization initiator (C), thereby preventing excessive curing in the non-exposed portion and contributing to improvement in resolution. The colorant (G) prevents excessive curing in the non-exposed area by suppressing the transmission of light into the composition and contributes to the improvement of the resolution. By using a combination of tri- or higher functional thiol (E), antioxidant (F) and colorant (G) having such an action, the composition of the present invention can achieve excellent resolution.
Hereinafter, each component contained in the composition of this invention is demonstrated in order.

〈樹脂（Ａ）〉
樹脂（Ａ）は、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体（ａ）に由来する構造単位と；炭素−炭素二重結合及びエポキシ構造を有する単量体（ｂ）に由来する構造単位と；を含む共重合体である。単量体（ａ）及び単量体（ｂ）は、それぞれ、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。 <Resin (A)>
The resin (A) comprises a structural unit derived from at least one monomer (a) selected from the group consisting of an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride; a carbon-carbon double bond and an epoxy structure And a structural unit derived from the monomer (b). A monomer (a) and a monomer (b) may be used individually by 1 type, respectively, and may use 2 or more types together, respectively.

単量体（ａ）としては、例えば、
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、コハク酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３−ビニルフタル酸、４−ビニルフタル酸、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１，４−シクロヘキセンジカルボン酸、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）等の不飽和ジカルボン酸類無水物；
などが挙げられる。 As the monomer (a), for example,
(Meth) acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, o-, m-, p-vinylbenzoic acid, succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl) ], Ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, 5-carboxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept Unsaturation such as 2-ene, 5-carboxy-6-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene Monocarboxylic acids;
Maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, 3-vinylphthalic acid, 4-vinylphthalic acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic acid, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, dimethyl Unsaturated dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid, 1,4-cyclohexene dicarboxylic acid, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid;
Maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,3,6- Unsaturated dicarboxylic acid anhydrides such as tetrahydrophthalic anhydride, dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene anhydride (hymic acid anhydride);
Etc.

なお本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。「（メタ）アクリロイル」及び「（メタ）アクリレート」等の表記も、同様の意味を有する。   In the present specification, “(meth) acrylic acid” represents at least one selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid. Notations such as “(meth) acryloyl” and “(meth) acrylate” have the same meaning.

共重合反応性やアルカリ溶解性などの点から、単量体（ａ）は、好ましくは、（メタ）アクリル酸及び無水マレイン酸よりなる群から選ばれる少なくとも１種、より好ましくはメタクリル酸である。   From the viewpoints of copolymerization reactivity and alkali solubility, the monomer (a) is preferably at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid and maleic anhydride, more preferably methacrylic acid. .

単量体（ｂ）中のエポキシ構造は、
（１）単環のオキシラン環を有する構造（以下「脂肪族エポキシ構造」と略称する）、及び
（２）脂肪族炭化水素の環とオキシラン環とが縮合した構造（以下「脂環型エポキシ構造」と略称する）
に分類できる。さらに脂環型エポキシ構造は、
（２−１）脂肪族炭化水素の環が単環であるもの（以下「脂肪族単環式エポキシ構造」と略称する）、及び
（２−２）脂肪族炭化水素の環が多環であるもの（以下「脂肪族多環式エポキシ構造」と略称する）
に分類できる。これらの中でも、脂環型エポキシ構造が好ましく、脂肪族多環式エポキシ構造がより好ましい。 The epoxy structure in monomer (b) is
(1) a structure having a monocyclic oxirane ring (hereinafter abbreviated as “aliphatic epoxy structure”), and (2) a structure in which an aliphatic hydrocarbon ring and an oxirane ring are condensed (hereinafter referred to as “alicyclic epoxy structure”). For short)
Can be classified. Furthermore, the alicyclic epoxy structure
(2-1) The aliphatic hydrocarbon ring is monocyclic (hereinafter referred to as “aliphatic monocyclic epoxy structure”), and (2-2) the aliphatic hydrocarbon ring is polycyclic. (Hereinafter abbreviated as “aliphatic polycyclic epoxy structure”)
Can be classified. Among these, an alicyclic epoxy structure is preferable, and an aliphatic polycyclic epoxy structure is more preferable.

脂肪族エポキシ構造を有する単量体（ｂ）としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、特開平７−２４８６２５号公報に記載の式（ｂ３）で表される化合物などが挙げられる｛式（ｂ３）中、Ｒ3〜Ｒ5は、それぞれ独立に、水素原子又はＣ1-10アルキル基を表す。ｍ１は１〜５の整数を表す。｝。 Examples of the monomer (b) having an aliphatic epoxy structure include glycidyl (meth) acrylate, β-methylglycidyl (meth) acrylate, β-ethylglycidyl (meth) acrylate, glycidyl vinyl ether, and JP-A-7-248625. Examples include compounds represented by the formula (b3) described in the publication {in the formula (b3), R 3 to R 5 each independently represent a hydrogen atom or a C 1-10 alkyl group. m1 represents an integer of 1 to 5. }.

脂肪族エポキシ構造を有する単量体（ｂ３）としては、例えば、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、及び２，４，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレンなどが挙げられる。   Examples of the monomer (b3) having an aliphatic epoxy structure include o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-o-vinylbenzyl glycidyl ether, α -Methyl-m-vinylbenzylglycidyl ether, α-methyl-p-vinylbenzylglycidyl ether, 2,3-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,4-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,5-bis (Glycidyloxymethyl) styrene, 2,6-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,4-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3 , 6-Tris (glycidyloxymethyl) Ren, 3,4,5-tris (glycidyloxy) styrene, and 2,4,6-tris (glycidyloxy-methyl) styrene and the like.

脂肪族単環式エポキシ構造を有する単量体（ｂ）としては、例えば、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；ダイセル化学工業（株）製）、２，３−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；ダイセル化学工業（株）製）などが挙げられる。   Examples of the monomer (b) having an aliphatic monocyclic epoxy structure include 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (for example, Celoxide 2000; manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 2,3-epoxy. Cyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (for example, Cyclomer A400; manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (for example, Cyclomer M100; Daicel Chemical Industry ( Etc.).

脂肪族多環式エポキシ構造を有する単量体（ｂ）は、炭素−炭素二重結合を、多環式の脂肪族炭化水素基中に有していてもよく、環に結合する側鎖中に有していてもよい。多環としては、例えばノルボルナン環、トリシクロデカン環などが挙げられ、これらの中でもトリシクロデカン環が好ましい。   The monomer (b) having an aliphatic polycyclic epoxy structure may have a carbon-carbon double bond in a polycyclic aliphatic hydrocarbon group, and in a side chain bonded to the ring. You may have. Examples of the polycycle include a norbornane ring and a tricyclodecane ring. Among these, a tricyclodecane ring is preferable.

脂肪族多環式エポキシ構造を有する単量体（ｂ）としては、例えば、エポキシノルボルニル（メタ）アクリレート｛例えば３，４−エポキシノルボルニル（メタ）アクリレート｝、式（ｂ１）で表される化合物、及び式（ｂ２）で表される化合物が挙げられる。   Examples of the monomer (b) having an aliphatic polycyclic epoxy structure include epoxy norbornyl (meth) acrylate {for example, 3,4-epoxynorbornyl (meth) acrylate}, represented by the formula (b1). And a compound represented by the formula (b2).

式（ｂ１）及び式（ｂ２）中、Ｒ1は、水素原子又はＣ1-4飽和脂肪族炭化水素基を表し、前記の飽和脂肪族炭化水素基の水素原子は−ＯＨで置換されていてもよい。Ｌ1は、単結合又は２価のＣ1-6飽和脂肪族炭化水素基を表し、前記２価の飽和脂肪族炭化水素基の−ＣＨ2−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ2−で置換されていてもよく、前記Ｒ2は、水素原子又はＣ1-10飽和脂肪族炭化水素基を表す。 In Formula (b1) and Formula (b2), R 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 saturated aliphatic hydrocarbon group, and the hydrogen atom of the saturated aliphatic hydrocarbon group is substituted with —OH. Also good. L 1 represents a single bond or a divalent C 1-6 saturated aliphatic hydrocarbon group, and —CH 2 — of the divalent saturated aliphatic hydrocarbon group represents —O—, —S— or —NR. 2 - may be substituted with, said R 2 represents a hydrogen atom or a C 1-10 saturated aliphatic hydrocarbon group.

Ｒ1のヒドロキシ基で置換されていてもよい飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基などが挙げられる。Ｒ1は、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、又は２−ヒドロキシエチル基であり、より好ましくは水素原子又はメチル基である。 Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group which may be substituted with the hydroxy group of R 1 include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, hydroxymethyl Group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 1-hydroxy-1-methylethyl group, 2-hydroxy-1-methylethyl Group, 1-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, 4-hydroxybutyl group and the like. R 1 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group, or a 2-hydroxyethyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

Ｌ1の−Ｏ−等で置換されていてもよい２価の飽和脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、メチレンオキシ基（−ＣＨ2−Ｏ−）、エチレンオキシ基｛−（ＣＨ2）2−Ｏ−｝、プロパンジイルオキシ基｛−（ＣＨ2）3−Ｏ−等｝、メチレンスルファンジイル基（−ＣＨ2−Ｓ−）、エチレンスルファンジイル基｛−（ＣＨ2）2−Ｓ−｝、プロパンジイルスルファンジイル基｛−（ＣＨ2）3−Ｓ−等｝、メチレンイミノ基（−ＣＨ2−ＮＨ−）、エチレンイミノ基｛−（ＣＨ2）2−ＮＨ−｝、プロパンジイルイミノ基｛−（ＣＨ2）3−ＮＨ−等｝などが挙げられる。Ｌ1は、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、エチレンスルファンジイル基、又はエチレンイミノ基であり、より好ましくは単結合又はエチレンオキシ基である。 Examples of the divalent saturated aliphatic hydrocarbon group optionally substituted by L 1 —O— or the like include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, Butane-1,4-diyl group, butane-1,3-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, methyleneoxy group (—CH 2 —O—), ethyleneoxy Group {— (CH 2 ) 2 —O—}, propanediyloxy group {— (CH 2 ) 3 —O— etc.}, methylenesulfanediyl group (—CH 2 —S—), ethylenesulfanediyl group { — (CH 2 ) 2 —S—}, propanediylsulfanediyl group {— (CH 2 ) 3 —S— etc.}, methyleneimino group (—CH 2 —NH—), ethyleneimino group {— (CH 2 ) 2 -NH-}, pro Panjii Louis amino group {- (CH 2) 3 NH- and the like} and the like. L 1 is preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, a methyleneoxy group, an ethyleneoxy group, an ethylenesulfanediyl group, or an ethyleneimino group, and more preferably a single bond or an ethyleneoxy group.

単量体（ｂ１）及び単量体（ｂ２）は、それぞれ、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。さらに単量体（ｂ１）及び単量体（ｂ２）の混合物を使用してもよい。これらの混合物を使用する場合、単量体（ｂ１）：単量体（ｂ２）のモル比は、好ましくは５：９５〜９５：５、より好ましくは１０：９０〜９０：１０、さらに好ましくは２０：８０〜８０：２０である。   As the monomer (b1) and the monomer (b2), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. Further, a mixture of the monomer (b1) and the monomer (b2) may be used. When these mixtures are used, the molar ratio of monomer (b1): monomer (b2) is preferably 5:95 to 95: 5, more preferably 10:90 to 90:10, still more preferably 20:80 to 80:20.

好ましい単量体（ｂ１）は、式（ｂ１−１）〜式（ｂ１−１５）のいずれかで表される。これらの中でも、単量体（ｂ１−１）、単量体（ｂ１−３）、単量体（ｂ１−５）、単量体（ｂ１−７）、単量体（ｂ１−９）、及び単量体（ｂ１−１１）〜単量体（ｂ１−１５）がより好ましく、単量体（ｂ１−１）、単量体（ｂ１−７）、単量体（ｂ１−９）、及び単量体（ｂ１−１５）がさらに好ましい。   A preferred monomer (b1) is represented by any one of formulas (b1-1) to (b1-15). Among these, monomer (b1-1), monomer (b1-3), monomer (b1-5), monomer (b1-7), monomer (b1-9), and Monomer (b1-11) to monomer (b1-15) are more preferred, and monomer (b1-1), monomer (b1-7), monomer (b1-9), and monomer The monomer (b1-15) is more preferable.

好ましい単量体（ｂ２）は、式（ｂ２−１）〜式（ｂ２−１５）のいずれかで表される。これらの中でも、単量体（ｂ２−１）、単量体（ｂ２−３）、単量体（ｂ２−５）、単量体（ｂ２−７）、単量体（ｂ２−９）、及び単量体（ｂ２−１１）〜単量体（ｂ２−１５）がより好ましく、単量体（ｂ２−１）、単量体（ｂ２−７）、単量体（ｂ２−９）、及び単量体（ｂ２−１５）がさらに好ましい。   A preferred monomer (b2) is represented by any one of formulas (b2-1) to (b2-15). Among these, monomer (b2-1), monomer (b2-3), monomer (b2-5), monomer (b2-7), monomer (b2-9), and Monomer (b2-11) to monomer (b2-15) are more preferred, and monomer (b2-1), monomer (b2-7), monomer (b2-9), and monomer The monomer (b2-15) is more preferable.

樹脂（Ａ）は、単量体（ａ）及び単量体（ｂ）とは異なる単量体（ｃ）に由来する構造単位を含んでいてもよい。単量体（ｃ）は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。   The resin (A) may contain a structural unit derived from the monomer (c) different from the monomer (a) and the monomer (b). A monomer (c) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

単量体（ｃ）としては、例えば、炭素−炭素二重結合を有するカルボン酸エステル類、炭素−炭素二重結合を有するアミド類、側鎖に重合性の不飽和結合（炭素−炭素二重結合又は三重結合）を有する芳香族化合物、置換ビニル化合物、Ｎ−置換マレイミド類、ジエン類、多環式不飽和化合物などが挙げられる。詳しくは；
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（該分野では「ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート」との慣用名で呼ばれることもある）、４−トリシクロ［５．２．１．０2,6］デセン−８−イル（メタ）アクリレート、５−トリシクロ［５．２．１．０2,6］デセン−８−イル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、アミノエチル（メタ）アクリレート、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸エステル類；
酢酸ビニル又はプロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル類；
ジメチル（メタ）アクリルアミド、イソプロピル（メタ）アクリルアミドなどの炭素−炭素二重結合を有するアミド類；
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレンなどの側鎖に重合性の不飽和結合を有する芳香族化合物；
アクリロニトリル、メタクリロニトリル又はα−クロロ（メタ）アクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物；
クロロエチレン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、フルオロエチレン、ジフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンなどのハロゲン化ビニル化合物；
Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなどのＮ−置換マレイミド類；
１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンなどのジエン類；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンなどの多環式不飽和化合物；
などが挙げられる。これらの中でも、ベンジルアクリレート、スチレン、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンが好ましい。 Examples of the monomer (c) include carboxylic acid esters having a carbon-carbon double bond, amides having a carbon-carbon double bond, and a polymerizable unsaturated bond (carbon-carbon double bond in the side chain). Aromatic compounds having a bond or triple bond), substituted vinyl compounds, N-substituted maleimides, dienes, polycyclic unsaturated compounds, and the like. For more information;
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl ( Meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate (sometimes referred to by the common name “dicyclopentanyl (meth) acrylate” in the art) 4-tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decen-8-yl (meth) acrylate, 5-tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decen-8-yl (meth) acrylate , Phenyl (meth) acrylate, aminoethyl (meth) acrylate, diethyl maleate, fumaric acid Ethyl, unsaturated carboxylic acid esters such as itaconic acid diethyl;
Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate or vinyl propionate;
Amides having a carbon-carbon double bond such as dimethyl (meth) acrylamide and isopropyl (meth) acrylamide;
An aromatic compound having a polymerizable unsaturated bond in the side chain, such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene;
Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile or α-chloro (meth) acrylonitrile;
Halogenated vinyl compounds such as chloroethylene, dichloroethylene, trichloroethylene, fluoroethylene, difluoroethylene, trifluoroethylene, tetrafluoroethylene;
N-substituted maleimides such as N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-butylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide;
Dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene;
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5- Hydroxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5- (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] Hept-2-ene, 5-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dihydroxybicyclo [2.2 .1] Hept-2-ene, 5,6-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2. 1] hept-2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2.2 1] hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5 -Hydroxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-cyclohexyloxycarbonylbicyclo [2] 2.1] hept-2-ene, 5-phenoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (cyclohexyloxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept-2 -Polycyclic unsaturated compounds such as ene;
Etc. Among these, benzyl acrylate, styrene, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, and bicyclo [2.2.1] hept-2-ene are preferable.

また単量体（ｃ）として、オキセタン構造を有する単量体、及びテトラヒドロフラン構造を有する単量体を挙げることができる。   Examples of the monomer (c) include a monomer having an oxetane structure and a monomer having a tetrahydrofuran structure.

オキセタン構造を有する単量体としては、例えば、３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］メチルオキセタン、３−エチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］メチルオキセタン、３−メチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］エチルオキセタン、３−エチル−３−［１−（メタ）アクリロキシ］エチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン又は２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−（メタ）アクリロキシオキセタンなどが挙げられる。これらの中でも、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタンが好ましい。   Examples of the monomer having an oxetane structure include 3- (meth) acryloxymethyl oxetane, 3-methyl-3- (meth) acryloxymethyl oxetane, 3-ethyl-3- (meth) acryloxymethyl oxetane, 3-methyl-3- [1- (meth) acryloxy] methyl oxetane, 3-ethyl-3- [1- (meth) acryloxy] methyl oxetane, 3-methyl-3- [1- (meth) acryloxy] ethyl oxetane 3-ethyl-3- [1- (meth) acryloxy] ethyl oxetane, 2-phenyl-3- (meth) acryloxymethyl oxetane, 2-trifluoromethyl-3- (meth) acryloxymethyl oxetane, 2- Pentafluoroethyl-3- (meth) acryloxymethyloxetane, 3-methyl-3- (meth) acrylo Cyethyl oxetane, 3-methyl-3- (meth) acryloxyethyl oxetane, 2-phenyl-3- (meth) acryloxyethyl oxetane, 2-trifluoromethyl-3- (meth) acryloxyethyl oxetane or 2- Examples include pentafluoroethyl-3- (meth) acryloxyethyl oxetane and 3- (meth) acryloxyoxetane. Among these, 3-ethyl-3- (meth) acryloxymethyl oxetane is preferable.

テトラヒドロフラン構造を有する単量体としては、例えば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフリルメトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフリルメトキシプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。   Examples of the monomer having a tetrahydrofuran structure include tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, tetrahydrofurylmethoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurylmethoxypropyl (meth) acrylate, and the like.

樹脂（Ａ）が、単量体（ａ）と単量体（ｂ）との共重合体である場合、共重合体の全構成単位中、単量体（ａ）に由来する構造単位は、好ましくは２〜９８モル％（より好ましくは５〜６０モル％、さらに好ましくは１０〜５０モル％）であり、単量体（ｂ）に由来する構造単位は、好ましくは２〜９８モル％（より好ましくは４０〜９５モル％、さらに好ましくは５０〜９０モル％）である。この範囲であれば、組成物の保存安定性及び現像性、並びに硬化塗膜やパターンの残膜率及び耐溶剤性が良好になる傾向がある。   When the resin (A) is a copolymer of the monomer (a) and the monomer (b), the structural unit derived from the monomer (a) among all the structural units of the copolymer is: It is preferably 2 to 98 mol% (more preferably 5 to 60 mol%, still more preferably 10 to 50 mol%), and the structural unit derived from the monomer (b) is preferably 2 to 98 mol% ( More preferably, it is 40-95 mol%, More preferably, it is 50-90 mol%. If it is this range, there exists a tendency for the storage stability and developability of a composition, the residual film rate of a cured coating film or a pattern, and solvent resistance to become favorable.

樹脂（Ａ）が、単量体（ａ）、単量体（ｂ）及び単量体（ｃ）の共重合体である場合、共重合体の全構造単位中、単量体（ａ）に由来する構造単位は２〜９７モル％であり、単量体（ｂ）に由来する構造単位は２〜９７モル％であり、単量体（ｃ）に由来する構造単位は１〜９６モル％であることが好ましい。この範囲であれば、保存安定性、耐熱性及び機械強度が良好になる傾向がある。より好ましくは、単量体（ａ）、単量体（ｂ）及び単量体（ｃ）の共重合体の全構造単位中、単量体（ａ）に由来する構造単位は１０〜５０モル％であり、単量体（ｂ）に由来する構造単位は２０〜８０モル％であり、単量体（ｃ）に由来する構造単位は１０〜７０モル％である。この範囲であれば、現像性、残膜率や耐溶剤性も良好になる傾向がある。   When the resin (A) is a copolymer of the monomer (a), the monomer (b), and the monomer (c), the monomer (a) in all the structural units of the copolymer The derived structural unit is 2 to 97 mol%, the structural unit derived from the monomer (b) is 2 to 97 mol%, and the structural unit derived from the monomer (c) is 1 to 96 mol%. It is preferable that If it is this range, there exists a tendency for storage stability, heat resistance, and mechanical strength to become favorable. More preferably, among all structural units of the copolymer of monomer (a), monomer (b) and monomer (c), the structural unit derived from monomer (a) is 10 to 50 mol. %, The structural unit derived from the monomer (b) is 20 to 80 mol%, and the structural unit derived from the monomer (c) is 10 to 70 mol%. If it is this range, there exists a tendency for developability, a residual film rate, and solvent resistance to also become favorable.

樹脂（Ａ）は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び該文献で引用されている文献を参考にして、単量体を重合することによって製造できる。より詳しくは、所定量の単量体（ａ）及び単量体（ｂ）、並びに場合により単量体（ｃ）、重合開始剤、溶剤を反応容器に仕込み、窒素置換した酸素不存在下で、攪拌、加熱、保温することによって共重合体を製造できる。この共重合の仕込方法や反応温度は、製造設備や重合による発熱量等を考慮しながら、適宜調整すればよい。   Resin (A) is, for example, a method described in the document “Experimental Methods for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu, published by Kagaku Dojin Co., Ltd., First Edition, First Edition, issued March 1, 1972) and the document Can be produced by polymerizing monomers with reference to the literature cited in the above. More specifically, a predetermined amount of the monomer (a) and the monomer (b), and optionally the monomer (c), a polymerization initiator, and a solvent are charged into a reaction vessel, and in the absence of nitrogen-substituted oxygen. The copolymer can be produced by stirring, heating and keeping warm. What is necessary is just to adjust suitably the preparation method and reaction temperature of this copolymerization, considering the production equipment, the calorific value by superposition | polymerization, etc.

得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよい。特に、後述する溶剤（Ｊ）を重合溶媒として使用すれば、重合後の共重合体溶液から溶剤を除去せずに、そのまま組成物に使用することができ、製造工程を簡略化できる。また共重合体溶液を濃縮してもよいし、希釈してもよい。さらに再沈殿などの方法で固体（粉体）として取り出した共重合体を使用してもよい。   For the obtained copolymer, the solution after the reaction may be used as it is. In particular, if the solvent (J) described later is used as a polymerization solvent, it can be used as it is in the composition without removing the solvent from the copolymer solution after polymerization, and the production process can be simplified. Further, the copolymer solution may be concentrated or diluted. Further, a copolymer taken out as a solid (powder) by a method such as reprecipitation may be used.

樹脂（Ａ）は、さらに、側鎖に炭素−炭素二重結合を有する構造単位（ｄ）を有していてもよい。構造単位（ｄ）は、式（ｄ１）又は式（ｄ２）で表されるように、好ましくは１−アルキル−１−エテンカルボニル基、より好ましくは（メタ）アクリロイル基を末端に有する。   The resin (A) may further have a structural unit (d) having a carbon-carbon double bond in the side chain. The structural unit (d) preferably has a 1-alkyl-1-ethenecarbonyl group, more preferably a (meth) acryloyl group at the end, as represented by the formula (d1) or the formula (d2).

式（ｄ１）及び式（ｄ２）中、Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立に、水素原子又はＣ1-6アルキル基（好ましくは水素原子又はメチル基）を表す。なお式（ｄ１）及び式（ｄ２）中の＊印は、それぞれ、構造単位（ｄ１）及び構造単位（ｄ２）中の結合位置を表す。他の化学式でも同様である。 In formula (d1) and formula (d2), R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group (preferably a hydrogen atom or a methyl group). In addition, * mark in a formula (d1) and a formula (d2) represents the coupling | bonding position in a structural unit (d1) and a structural unit (d2), respectively. The same applies to other chemical formulas.

側鎖に炭素−炭素二重結合を有する構造単位（ｄ）は、単量体（ａ）及び単量体（ｂ）、並びに場合により単量体（ｃ）を共重合した後、単量体（ａ）に由来するカルボキシ基又はカルボニルオキシカルボニル基（カルボン酸無水物構造）に、例えば特開２００５−１８９５７４号公報に記載の方法と同様にして、炭素−炭素二重結合及び環状エーテル構造を有する化合物（以下「環状エーテル付加化合物」と略称する）を付加させることによって形成できる。環状エーテル付加化合物としては、例えば式（ｂ４）又は式（ｂ５）で表されるようなエポキシ構造を有する単量体（ｂ）、或いはオキセタン構造又はテトラヒドロフラン構造を有する単量体（ｃ）などが挙げられる［式（ｂ４）又は式（ｂ５）中、Ｒ7は前記と同じである。］。 The structural unit (d) having a carbon-carbon double bond in the side chain is obtained by copolymerizing the monomer (a) and the monomer (b), and optionally the monomer (c). A carboxy group or a carbonyloxycarbonyl group (carboxylic acid anhydride structure) derived from (a) is subjected to a carbon-carbon double bond and a cyclic ether structure in the same manner as in, for example, the method described in JP-A-2005-189574. It can be formed by adding a compound having the same (hereinafter abbreviated as “cyclic ether addition compound”). Examples of the cyclic ether addition compound include a monomer (b) having an epoxy structure as represented by the formula (b4) or the formula (b5), or a monomer (c) having an oxetane structure or a tetrahydrofuran structure. [In formula (b4) or formula (b5), R 7 is as defined above. ].

側鎖に炭素−炭素二重結合を有する構造単位（ｄ）は、詳しくは、以下のようにして形成できる。単量体（ａ）及び単量体（ｂ）、並びに場合により単量体（ｃ）を共重合した後に、反応容器内の雰囲気を窒素から空気に置換し、共重合に用いた単量体（ａ）の量に対して５〜８０モル％の環状エーテル付加化合物を添加する。次いで共重合体に用いた単量体（ａ）及び環状エーテル付加化合物の合計量に対して、０．００１〜５質量％の反応触媒（例えばトリスジメチルアミノメチルフェノール等）及び０．００１〜５質量％の重合禁止剤（例えばハイドロキノン等）を添加し、６０〜１３０℃で１〜１０時間反応させる。なお共重合と同様に、この付加反応でも、製造設備や付加反応による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整すればよい。   Specifically, the structural unit (d) having a carbon-carbon double bond in the side chain can be formed as follows. Monomer (a), monomer (b), and optionally monomer (c), after copolymerizing the atmosphere in the reaction vessel from nitrogen to air, the monomer used for copolymerization 5-80 mol% of the cyclic ether addition compound is added to the amount of (a). Next, 0.001 to 5% by mass of a reaction catalyst (for example, trisdimethylaminomethylphenol) and 0.001 to 5% with respect to the total amount of the monomer (a) and the cyclic ether addition compound used in the copolymer A mass% polymerization inhibitor (for example, hydroquinone) is added and reacted at 60 to 130 ° C. for 1 to 10 hours. As in the case of copolymerization, in this addition reaction, the charging method and the reaction temperature may be appropriately adjusted in consideration of the production equipment, the amount of heat generated by the addition reaction, and the like.

この付加反応では、環状エーテル付加化合物の量は、共重合に用いた単量体（ａ）の量に対して、好ましくは１０〜７５モル％、より好ましくは１５〜７０モル％である。この範囲内であれば、保存安定性、現像性、耐溶剤性、耐熱性、機械強度及び感度のバランスが良好になる傾向がある。   In this addition reaction, the amount of the cyclic ether addition compound is preferably 10 to 75 mol%, more preferably 15 to 70 mol%, based on the amount of the monomer (a) used for copolymerization. Within this range, the balance of storage stability, developability, solvent resistance, heat resistance, mechanical strength and sensitivity tends to be good.

側鎖に炭素−炭素二重結合を有する構造単位（ｄ）を含む共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮又は希釈してもよい。さらに再沈殿などの方法で固体（粉体）として取り出した共重合体を使用してもよい。   As the copolymer containing the structural unit (d) having a carbon-carbon double bond in the side chain, the solution after the reaction may be used as it is, or it may be concentrated or diluted. Further, a copolymer taken out as a solid (powder) by a method such as reprecipitation may be used.

樹脂（Ａ）の酸価は、好ましくは５０〜１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、より好ましくは６０〜１３５（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、さらに好ましくは７０〜１３５（ｍｇＫＯＨ／ｇ）である。この範囲であれば、現像液に対する溶解性が向上して未露光部が溶解しやすくなる。ここで酸価はアクリル酸系重合体１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、通常は水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することによって求めることができる。   The acid value of the resin (A) is preferably 50 to 150 (mgKOH / g), more preferably 60 to 135 (mgKOH / g), and still more preferably 70 to 135 (mgKOH / g). If it is this range, the solubility with respect to a developing solution will improve, and it will become easy to melt | dissolve an unexposed part. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of the acrylic acid polymer, and is usually determined by titration using an aqueous potassium hydroxide solution. it can.

樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは２，０００〜１００，０００（より好ましくは２，０００〜５０，０００、さらに好ましくは３，０００〜３０，０００）である。この範囲であれば、組成物の塗布性が良好で、現像時の残膜率を保持しながら、高い現像速度が得られる傾向がある。なお重量平均分子量は、ポリスチレンを標準とするゲル浸透クロマトグラフィーで求められる。   The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 to 100,000 (more preferably 2,000 to 50,000, still more preferably 3,000 to 30,000). If it is this range, the applicability | paintability of a composition will be favorable and there exists a tendency for a high developing speed to be obtained, maintaining the residual film rate at the time of image development. The weight average molecular weight is determined by gel permeation chromatography using polystyrene as a standard.

樹脂（Ａ）の分子量分布｛即ち重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）｝は、好ましくは１．１〜６．０（より好ましくは１．２〜４．０）である。この範囲であれば、現像性に優れる傾向がある。   The molecular weight distribution {namely, weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)} of the resin (A) is preferably 1.1 to 6.0 (more preferably 1.2 to 4.0). Within this range, the developability tends to be excellent.

組成物中の樹脂（Ａ）の含有量は、組成物の固形分に対して、好ましくは５〜９０質量％（より好ましくは１０〜７０質量％）である。この範囲であれば、現像液への溶解性が充分であり、非露光部分（非画素部分）の基板上に現像残渣が発生しにくくなる。また現像時に露光部分（画素部分）の膜減りが生じにくく、残膜率が高くなる傾向がある。なお本明細書及び特許請求の範囲において「組成物の固形分」とは、「溶剤を除く組成物の各成分の合計」をいう。この固形分は、ガスクロマトグラフィーや液体クロマトグラフィーなどの公知の手段によって測定できる。   The content of the resin (A) in the composition is preferably 5 to 90% by mass (more preferably 10 to 70% by mass) with respect to the solid content of the composition. If it is this range, the solubility to a developing solution will be enough and it will become difficult to generate | occur | produce a development residue on the board | substrate of a non-exposed part (non-pixel part). Further, during development, the exposed portion (pixel portion) is not easily reduced in film thickness, and the remaining film ratio tends to increase. In the present specification and claims, the “solid content of the composition” means “the total of each component of the composition excluding the solvent”. This solid content can be measured by known means such as gas chromatography or liquid chromatography.

〈重合性化合物（Ｂ）〉
重合性化合物（Ｂ）は、光照射によって光重合開始剤（Ｃ）から発生した活性ラジカルや酸などによって重合する化合物であり、例えば重合性の炭素−炭素不飽和結合を有する化合物などが挙げられる。重合性化合物（Ｂ）は、好ましくは、炭素−炭素不飽和結合を３つ以上有する重合性化合物（以下「３官能以上の重合性化合物」という）である。 <Polymerizable compound (B)>
The polymerizable compound (B) is a compound that is polymerized by an active radical or an acid generated from the photopolymerization initiator (C) by light irradiation, and examples thereof include a compound having a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond. . The polymerizable compound (B) is preferably a polymerizable compound having three or more carbon-carbon unsaturated bonds (hereinafter referred to as “trifunctional or higher functional polymerizable compound”).

３官能以上の重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物などが挙げられる。   Examples of the trifunctional or higher functional polymerizable compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, and ethoxylated trimethylolpropane tri. (Meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tetra (meth) acrylate , Tripentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol hepta (meta Acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, reaction product of pentaerythritol tri (meth) acrylate and acid anhydride, reaction product of dipentaerythritol penta (meth) acrylate and acid anhydride, tripentaerythritol hepta (meta ) Reaction product of acrylate and acid anhydride, caprolactone-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, caprolactone-modified tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, caprolactone Modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol Ruhexa (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol penta (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, Caprolactone-modified tripentaerythritol octa (meth) acrylate, reaction product of caprolactone-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate and acid anhydride, reaction product of caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate and acid anhydride, caprolactone modification Examples include a reaction product of tripentaerythritol hepta (meth) acrylate and an acid anhydride.

これらの中でも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが好ましく、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートがより好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートがさらに好ましい。   Among these, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are preferable. Pentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are more preferable, and dipentaerythritol hexaacrylate is more preferable.

重合性化合物（Ｂ）の含有量は、組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは２０〜７０質量部（より好ましくは２５〜６０質量部、さらに好ましくは３０〜５０質量部）である。この範囲であれば、硬化が充分におこり、現像前後で膜厚の低下が防止されて、パターンにアンダーカットが入りにくくなり、パターンの密着性が良好になる傾向がある。またこの範囲であれば、組成物の感度、並びに塗膜及びパターンの強度、平滑性、耐熱性、耐薬品性が良好になる傾向がある。   The content of the polymerizable compound (B) is preferably 20 to 70 parts by mass (more preferably 25 to 60 parts by mass, further preferably 30 to 50 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the solid content of the composition. is there. If it is this range, hardening will fully occur, the film thickness will be prevented from decreasing before and after development, and it will be difficult for the pattern to be undercut, and the pattern will tend to have good adhesion. Moreover, if it is this range, there exists a tendency for the sensitivity of a composition and the intensity | strength of a coating film and a pattern, smoothness, heat resistance, and chemical resistance to become favorable.

〈光重合開始剤（Ｃ）〉
光重合開始剤（Ｃ）は、光照射によって活性ラジカルや酸などを発生し、重合を開始する化合物であり、公知の光重合開始剤を用いることができる。 <Photopolymerization initiator (C)>
The photopolymerization initiator (C) is a compound that initiates polymerization by generating an active radical, an acid, or the like by light irradiation, and a known photopolymerization initiator can be used.

光重合開始剤（Ｃ）として、例えば、ビイミダゾール化合物、アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物等が挙げられる。これらの中でも、ビイミダゾール化合物、アセトフェノン化合物、オキシム化合物及びトリアジン化合物が好ましく、感度に優れるビイミダゾール化合物がより好ましい。   Examples of the photopolymerization initiator (C) include biimidazole compounds, acetophenone compounds, triazine compounds, acylphosphine oxide compounds, oxime compounds, benzoin compounds, and benzophenone compounds. Among these, a biimidazole compound, an acetophenone compound, an oxime compound, and a triazine compound are preferable, and a biimidazole compound excellent in sensitivity is more preferable.

ビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報等を参照）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報等を参照）、４，４’，５，５’位のフェニル基がアルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ）により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報等を参照）等が挙げられる。   Examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4. ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole (see, for example, JP-A-6-75372 and JP-A-6-75373), 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4' , 5,5′-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (dialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2′- Bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole (for example, Japanese Patent Publication No. 48-38403, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-174204) And an imidazole compound in which the phenyl group at the 4,4 ′, 5,5 ′ position is substituted with an alkoxycarbonyl group (—COOR) (for example, see JP-A-7-10913). .

これらの中でも、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール｛特に２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール｝、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが好ましい。   Among these, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole {particularly 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5 , 5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole}, 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′- Bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole is preferred.

アセトフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（２−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−エチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−プロピルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２，３−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２、４−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモ−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。   Examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2- Methylpropan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 1-hydroxy Cyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2 -(2-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2 (3-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-ethylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-propylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-butylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2,3-dimethylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2,4-Dimethylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-chlorobenzyl) 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (3-chlorobenzyl) 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (4-chlorobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (3-bromobenzyl) 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (4-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-methoxybenzyl) 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (3-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- (4- Morpholinophenyl) -butanone, 2- (4-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-methyl-4-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1 -(4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-methyl-4-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- (2-bromo-4-methoxybenzyl) ) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one oligomers, and the like. .

トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。   As triazine compounds, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl)- 1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis ( Trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methyl) Phenyl) etheni ] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。   Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, and the like.

オキシム化合物としては、Ｏ−アシルオキシム系化合物が挙げられ、その具体例としては、１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−ブタン−１，２−ジオン ２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−オクタン−１，２−ジオン ２−オキシム−Ｏ−ベンゾアート、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン １−Ｏ−アセテート、１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−（３，３−ジメチル−２，４−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン １−Ｏ−アセテート等が挙げられる。   Examples of the oxime compound include O-acyloxime compounds, and specific examples thereof include 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butane-1,2-dione 2-oxime-O-benzoate, 1- ( 4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1,2-dione 2-oxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone 1- O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4- (3,3-dimethyl-2,4-dioxacyclopentanylmethyloxy) benzoyl) -9H-carbazol-3-yl] And ethanone 1-O-acetate.

ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。   Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and the like.

ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。   Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl). ) Benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone and the like.

さらに光重合開始剤（Ｃ）として、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等を使用してもよい。   Furthermore, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compound, etc. are used as the photopolymerization initiator (C). May be.

また光重合開始剤（Ｃ）として、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されているような、連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤を使用してもよい。尚、連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤は、樹脂（Ａ）の共重合に使用して、樹脂（Ａ）の構造単位として組み込むこともできる。   Further, as the photopolymerization initiator (C), a polymerization initiator having a group capable of causing chain transfer as described in JP-T-2002-544205 may be used. In addition, the polymerization initiator which has the group which can raise | generate a chain transfer can also be used for the copolymerization of resin (A), and can be integrated as a structural unit of resin (A).

連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤としては、例えば、式（Ｃ１）〜（Ｃ６）で表される重合開始剤が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator having a group capable of causing chain transfer include polymerization initiators represented by formulas (C1) to (C6).

光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部（より好ましくはましくは０．５〜１５質量部、さらに好ましくは１〜１０質量部）である。この範囲であれば、組成物が光に対して高感度となり、この組成物を用いて形成した塗膜やパターンの強度や平滑性が良好になる傾向がある。   The content of the photopolymerization initiator (C) is preferably 0.1 to 20 parts by mass (more preferably 0.5 to 15 parts by mass, further preferably 100 parts by mass of the solid content of the composition). Is 1-10 parts by mass). If it is this range, a composition will become highly sensitive with respect to light, and there exists a tendency for the intensity | strength and smoothness of the coating film and pattern which were formed using this composition to become favorable.

〈重合開始助剤（Ｄ）〉
本発明の組成物は、必要に応じて、重合開始助剤（Ｄ）を含有していてもよい。重合開始助剤（Ｄ）は、通常、光重合開始剤（Ｃ）と組み合わせて用いられ、光重合開始剤（Ｃ）によって開始された重合を促進するために用いられる。 <Polymerization initiation aid (D)>
The composition of the present invention may contain a polymerization initiation assistant (D) as necessary. The polymerization initiation assistant (D) is usually used in combination with the photopolymerization initiator (C), and is used to accelerate the polymerization initiated by the photopolymerization initiator (C).

重合開始助剤（Ｄ）を使用する場合、その含有量は、樹脂（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）の合計１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜５０質量部（より好ましくは０．１〜４０質量部）である。この範囲の重合開始助剤（Ｄ）を用いれば、得られる組成物の光に対する感度がさらに高まり、この組成物を用いて形成する塗膜やパターンの生産性が向上する傾向がある。   When the polymerization initiation assistant (D) is used, the content thereof is preferably 0.01 to 50 parts by mass (more preferably, relative to 100 parts by mass of the resin (A) and the polymerizable compound (B). 0.1 to 40 parts by mass). If the polymerization initiation aid (D) in this range is used, the sensitivity of the resulting composition to light is further increased, and the productivity of a coating film or pattern formed using this composition tends to be improved.

重合開始助剤（Ｄ）としては、アミン化合物、チオキサントン化合物、カルボン酸化合物などが挙げられる。   Examples of the polymerization initiation aid (D) include amine compounds, thioxanthone compounds, and carboxylic acid compounds.

アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどの脂肪族アミン類；４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称：ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどの芳香族アミン類；が挙げられる。またアミン化合物として、商品名「ＥＡＢ−Ｆ」（保土谷化学工業（株）製）などの市販品を用いてもよい。   Examples of amine compounds include aliphatic amines such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine; methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino 2-ethylhexyl benzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michler's ketone), 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, etc. And aromatic amines. Moreover, as an amine compound, you may use commercial items, such as brand name "EAB-F" (Hodogaya Chemical Co., Ltd. product).

チオキサントン化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。   Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like.

カルボン酸化合物としては、（フェニルチオ）酢酸、（メチルフェニルチオ）酢酸、（エチルフェニルチオ）酢酸、（メチルエチルフェニルチオ）酢酸、（ジメチルフェニルチオ）酢酸、（メトキシフェニルチオ）酢酸、（ジメトキシフェニルチオ）酢酸、（クロロフェニルチオ）酢酸、（ジクロロフェニルチオ）酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、（ナフチルチオ）酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等の芳香族ヘテロ酢酸類などが挙げられる。   Carboxylic acid compounds include (phenylthio) acetic acid, (methylphenylthio) acetic acid, (ethylphenylthio) acetic acid, (methylethylphenylthio) acetic acid, (dimethylphenylthio) acetic acid, (methoxyphenylthio) acetic acid, (dimethoxyphenyl) Aromatic heteroacetic acids such as thio) acetic acid, (chlorophenylthio) acetic acid, (dichlorophenylthio) acetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, (naphthylthio) acetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

重合開始助剤（Ｄ）として、式（Ｄ１）で表される化合物を使用してもよい。   As the polymerization initiation assistant (D), a compound represented by the formula (D1) may be used.

式（Ｄ１）中、Ｗ1は、Ｃ6-12芳香環を表し、前記芳香環の水素原子はハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子など）で置換されていてもよい。Ｌ2は、酸素原子（−Ｏ−）又は硫黄原子（−Ｓ−）を表す。Ｒ10は、直鎖状、分枝鎖状又は環式のＣ1-6脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ11は、直鎖状、分枝鎖状又は環式のＣ1-12脂肪族炭化水素基、又はＣ6-12芳香族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基及び前記芳香族炭化水素基の水素原子は、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子など）で置換されていてもよい。 In formula (D1), W 1 represents a C 6-12 aromatic ring, and the hydrogen atom of the aromatic ring may be substituted with a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.). L 2 represents an oxygen atom (—O—) or a sulfur atom (—S—). R 10 represents a linear, branched or cyclic C 1-6 aliphatic hydrocarbon group. R 11 represents a linear, branched or cyclic C 1-12 aliphatic hydrocarbon group, or a C 6-12 aromatic hydrocarbon group, and the aliphatic hydrocarbon group and the aromatic carbon group The hydrogen atom of the hydrogen group may be substituted with a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.).

Ｗ1の芳香環としては、ベンゼン環、メチルベンゼン環、ジメチルベンゼン環、エチルベンゼン環、プロピルベンゼン環、ブチルベンゼン環、ペンチルベンゼン環、ヘキシルベンゼン環、シクロヘキシルベンゼン環、ナフタレン環、フェニルベンゼン環などが挙げられる。Ｗ1のハロゲン化芳香環としては、クロロベンゼン環、ジクロロベンゼン環、ブロモベンゼン環、ジブロモベンゼン環、クロロフェニルベンゼン環、ブロモフェニルベンゼン環、クロロナフタレン環、ブロモナフタレン環などが挙げられる。Ｗ1は、好ましくはベンゼン環（フェニレン基）又はナフタレン環（ナフチレン基）である。 Examples of the aromatic ring of W 1 include benzene ring, methylbenzene ring, dimethylbenzene ring, ethylbenzene ring, propylbenzene ring, butylbenzene ring, pentylbenzene ring, hexylbenzene ring, cyclohexylbenzene ring, naphthalene ring, and phenylbenzene ring. Can be mentioned. Examples of the halogenated aromatic ring for W 1 include a chlorobenzene ring, a dichlorobenzene ring, a bromobenzene ring, a dibromobenzene ring, a chlorophenylbenzene ring, a bromophenylbenzene ring, a chloronaphthalene ring, and a bromonaphthalene ring. W 1 is preferably a benzene ring (phenylene group) or a naphthalene ring (naphthylene group).

Ｒ10の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、２−メチルプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。Ｒ10は、好ましくはメチル基である。 As the aliphatic hydrocarbon group for R 10 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a 2-butyl group, a 2-methylpropyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a 2-pentyl group, Examples thereof include 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 2,2-dimethylpropyl group, hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like. R 10 is preferably a methyl group.

Ｒ11の脂肪族炭化水素基としては、Ｒ10で列挙した基に加えて、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、シクロヘプチル基、メチルシクロヘキシル基、ヘキシルシクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などが挙げられる。Ｒ11のハロゲン化脂肪族炭化水素基としては、トリフルオロメチル基、１−クロロブチル基、２−クロロブチル基、３−クロロブチル基、１−ブロモヘキシル基、２−ブロモドデシル基などが挙げられる。Ｒ11の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基などが挙げられる。またＲ11のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、クロロフェニルフェニル基、ブロモフェニルフェニル基、クロロナフチル基、ブロモナフチル基などが挙げられる。Ｒ11は、好ましくはフェニル基、ビフェニリル基、又はナフチル基である。 As the aliphatic hydrocarbon group for R 11 , in addition to the groups listed for R 10 , heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, cycloheptyl group, methylcyclohexyl group, hexylcyclohexyl group , Norbornyl group, adamantyl group and the like. Examples of the halogenated aliphatic hydrocarbon group for R 11 include a trifluoromethyl group, a 1-chlorobutyl group, a 2-chlorobutyl group, a 3-chlorobutyl group, a 1-bromohexyl group, and a 2-bromododecyl group. Examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R 11 include a phenyl group, a methylphenyl group, a dimethylphenyl group, an ethylphenyl group, a propylphenyl group, a butylphenyl group, a pentylphenyl group, a hexylphenyl group, a cyclohexylphenyl group, and a naphthyl group. And biphenylyl group. Examples of the halogenated aromatic hydrocarbon group for R 11 include chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, dibromophenyl group, chlorophenylphenyl group, bromophenylphenyl group, chloronaphthyl group, and bromonaphthyl group. R 11 is preferably a phenyl group, a biphenylyl group, or a naphthyl group.

重合開始助剤（Ｄ１）としては、例えば、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［２，３−ｄ］チアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［２，３−ｄ］オキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン等が挙げられる。   Examples of the polymerization initiation assistant (D1) include 2-benzoylmethylene-3-methylnaphtho [2,1-d] thiazoline, 2-benzoylmethylene-3-methylnaphtho [1,2-d] thiazoline, 2-benzoylmethylene. -3-methylnaphtho [2,3-d] thiazoline, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline, 2- (2- Naphthoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzothiazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzothiazoline, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5 -Fluorobenzothiazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-fluorobenzothiazoline, 2- (2-naphtho Ylmethylene) -3-methyl-5-chlorobenzothiazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-chlorobenzothiazoline, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-bromo Benzothiazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-bromobenzothiazoline, 2- (4-phenylbenzoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline, 2- (4-phenylbenzoylmethylene) -3 -Methyl-5-phenylbenzothiazoline, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methylnaphtho [2,1-d] thiazoline, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methylnaphtho [1,2-d ] Thiazoline, 2- (4-phenylbenzoylmethylene) -3-methylnaphtho [2,1-d] thiazoline, 2- (4-phenyl) Nylbenzoylmethylene) -3-methylnaphtho [1,2-d] thiazoline, 2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methylnaphtho [2,1-d] thiazoline, 2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3 -Methylnaphtho [1,2-d] thiazoline, 2-benzoylmethylene-3-methylnaphtho [2,1-d] oxazoline, 2-benzoylmethylene-3-methylnaphtho [1,2-d] oxazoline, 2-benzoylmethylene- 3-methylnaphtho [2,3-d] oxazoline, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methylbenzoxazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methylbenzoxazoline, 2- (2-naphtho Ylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzoxazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzoxazoline, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-fluorobenzoxazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-fluorobenzoxazoline 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-chlorobenzoxazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-chlorobenzoxazoline, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-bromobenzoxazoline, 2- (1-naphthoylmethylene) -3-methyl-5-bromobenzoxazoline, 2- (4-phenylbenzoylmethylene) -3-methylbenzoxazoline, 2- ( 4-phenylbenzoylmethylene) -3-methyl-5-phenylbenzoxazoline, 2- (2-naphthoyl) Methylene) -3-methylnaphtho [2,1-d] oxazoline, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methylnaphtho [1,2-d] oxazoline, 2- (4-phenylbenzoylmethylene) -3-methylnaphtho [2,1-d] oxazoline, 2- (4-phenylbenzoylmethylene) -3-methylnaphtho [1,2-d] oxazoline, 2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methylnaphtho [2,1-d Oxazoline, 2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methylnaphtho [1,2-d] oxazoline, and the like.

上述のものの中でも、式（Ｄ１−１）で表される２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、式（Ｄ１−２）で表される２−ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、及び式（Ｄ１−３）で表される２−（４−フェニルベンゾイルメチレン）−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリンが好ましい。   Among those described above, 2- (2-naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline represented by the formula (D1-1), 2-benzoylmethylene-3-methylnaphtho represented by the formula (D1-2) [ 1,2-d] thiazoline and 2- (4-phenylbenzoylmethylene) -3-methylnaphtho [1,2-d] thiazoline represented by the formula (D1-3) are preferable.

重合開始助剤（Ｄ１）を含む組成物は高感度となり、塗膜やパターンの生産性が向上する傾向がある。重合開始助剤（Ｄ１）は、光又は熱の作用により退色するので、これを使用すれば、塗膜やパターンの可視光透過率を向上させることができる。   The composition containing the polymerization initiation assistant (D1) becomes highly sensitive and tends to improve the productivity of the coating film and the pattern. Since the polymerization initiation assistant (D1) is discolored by the action of light or heat, the visible light transmittance of the coating film or pattern can be improved by using it.

重合開始助剤（Ｄ１）の含有量は、重合開始助剤（Ｄ）の含有量に対して、好ましくは５０質量％以上（より好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは６５質量％以上）、好ましくは１００質量％以下である。この範囲の量で重合開始助剤（Ｄ１）を使用すれば、塗膜の可視光透過率が高くなる。   The content of the polymerization initiation assistant (D1) is preferably 50% by mass or more (more preferably 60% by mass or more, and further preferably 65% by mass or more) with respect to the content of the polymerization initiation assistant (D). Preferably it is 100 mass% or less. When the polymerization initiation aid (D1) is used in an amount within this range, the visible light transmittance of the coating film is increased.

また重合開始剤（Ｄ）として、式（Ｄ２）又は式（Ｄ３）で表される化合物を使用してもよい。   Moreover, you may use the compound represented by a formula (D2) or a formula (D3) as a polymerization initiator (D).

式（Ｄ２）又は式（Ｄ３）中、Ｗ2及びＷ3は、それぞれ独立に、Ｃ6-12芳香環又は複素環を表し、前記芳香環及び前記複素環の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｌ3及びＬ4は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子（好ましくは酸素原子）を表す。Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に、直鎖状、分枝鎖状又は環式のＣ1-12脂肪族炭化水素基、又はＣ6-12芳香族炭化水素基を表し、前記脂肪族炭化水素基及び前記芳香族炭化水素基の水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又はＣ1-6アルコキシ基で置換されていてもよい。 In formula (D2) or formula (D3), W 2 and W 3 each independently represent a C 6-12 aromatic ring or a heterocyclic ring, and the hydrogen atom of the aromatic ring and the heterocyclic ring is substituted with a halogen atom May be. L 3 and L 4 each independently represents an oxygen atom or a sulfur atom (preferably an oxygen atom). R 12 and R 13 each independently represents a linear, branched or cyclic C 1-12 aliphatic hydrocarbon group, or a C 6-12 aromatic hydrocarbon group, The hydrogen atom of the hydrogen group and the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group or a C 1-6 alkoxy group.

Ｗ2及びＷ3の芳香環及び複素環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、及びピラジン環など、並びにこれらの組合せ（例えばナフタレン環、イソベンゾフラン環、ベンゾイミダゾール環など）が挙げられる。Ｗ2及びＷ3のハロゲン化芳香環としては、クロロベンゼン環、ジクロロベンゼン環、ブロモベンゼン環、ジブロモベンゼン環、フェニルベンゼン環、クロロフェニルベンゼン環、ブロモフェニルベンゼン環、クロロナフタレン環、ブロモナフタレン環などが挙げられる。Ｗ2及びＷ3は、それぞれ独立に、好ましくはベンゼン環又はナフタレン環である。 Examples of the aromatic ring and heterocyclic ring of W 2 and W 3 include a benzene ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, and a pyrazine ring, and combinations thereof (for example, naphthalene ring, Benzofuran ring, benzimidazole ring, etc.). Examples of halogenated aromatic rings for W 2 and W 3 include chlorobenzene ring, dichlorobenzene ring, bromobenzene ring, dibromobenzene ring, phenylbenzene ring, chlorophenylbenzene ring, bromophenylbenzene ring, chloronaphthalene ring, bromonaphthalene ring, and the like. Can be mentioned. W 2 and W 3 are each independently preferably a benzene ring or a naphthalene ring.

Ｒ12及びＲ13の脂肪族炭化水素基、ハロゲン化脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びハロゲン化芳香族炭化水素基としては、Ｒ11で列挙したものなどが挙げられる。Ｒ12又はＲ13のヒドロキシ基で置換された脂肪族炭化水素基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基等が挙げられる。Ｒ12又はＲ13のヒドロキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基等が挙げられる。Ｒ12又はＲ13のアルコキシ基で置換された脂肪族炭化水素基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、ブトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、プロポキシブチル基等が挙げられる。Ｒ12又はＲ13のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、メトキシフェニル基、エトキシナフチル基等が挙げられる。Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基である。 Examples of the aliphatic hydrocarbon group, halogenated aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group, and halogenated aromatic hydrocarbon group for R 12 and R 13 include those listed for R 11 . Examples of the aliphatic hydrocarbon group substituted with the hydroxy group of R 12 or R 13 include a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, and a hydroxybutyl group. Examples of the aromatic hydrocarbon group substituted with the hydroxy group of R 12 or R 13 include a hydroxyphenyl group and a hydroxynaphthyl group. Examples of the aliphatic hydrocarbon group substituted by the alkoxy group of R 12 or R 13 include methoxymethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, methoxybutyl group, butoxymethyl group, ethoxyethyl group, ethoxypropyl group, propoxybutyl Groups and the like. Examples of the aromatic hydrocarbon group substituted with the alkoxy group of R 12 or R 13 include a methoxyphenyl group and an ethoxynaphthyl group. R 12 and R 13 are each independently preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group or a butyl group.

重合開始助剤（Ｄ２）又は（Ｄ３）としては、例えば、
ジメトキシナフタレン、ジエトキシナフタレン、ジプロポキシナフタレン、ジイソプロポキシナフタレン、ジブトキシナフタレンなどのジアルコキシナフタレン類；
ジメトキシアントラセン、ジエトキシアントラセン、ジプロポキシアントラセン、ジイソプロポキシアントラセン、ジブトキシアントラセン、ジペンタオキシアントラセン、ジヘキサオキシアントラセン、メトキシエトキシアントラセン、メトキシプロポキシアントラセン、メトキシイソプロポキシアントラセン、メトキシブトキシアントラセン、エトキシプロポキシアントラセン、エトキシイソプロポキシアントラセン、エトキシブトキシアントラセン、プロポキシイソプロポキシアントラセン、プロポキシブトキシアントラセン、イソプロポキシブトキシアントラセンなどのジアルコキシアントラセン類；
ジメトキシテトラセン、ジエトキシテトラセン、ジプロポキシテトラセン、ジイソプロポキシテトラセン、ジブトキシテトラセンなどのジアルコキシテトラセン類；
等が挙げられる。 As the polymerization initiation assistant (D2) or (D3), for example,
Dialkoxynaphthalenes such as dimethoxynaphthalene, diethoxynaphthalene, dipropoxynaphthalene, diisopropoxynaphthalene, dibutoxynaphthalene;
Dimethoxyanthracene, diethoxyanthracene, dipropoxyanthracene, diisopropoxyanthracene, dibutoxyanthracene, dipentaoxyanthracene, dihexaoxyanthracene, methoxyethoxyanthracene, methoxypropoxyanthracene, methoxyisopropoxyanthracene, methoxybutoxyanthracene, ethoxypropoxyanthracene Dialkoxyanthracenes such as ethoxyisopropoxyanthracene, ethoxybutoxyanthracene, propoxyisopropoxyanthracene, propoxybutoxyanthracene, isopropoxybutoxyanthracene;
Dialkoxytetracenes such as dimethoxytetracene, diethoxytetracene, dipropoxytetracene, diisopropoxytetracene, dibutoxytetracene;
Etc.

〈３官能以上のチオール（Ｅ）〉
３官能以上のチオール（Ｅ）としては、例えば、スルファニル基を有するカルボン酸（例えばスルファニル酢酸、スルファニルプロパン酸、スルファニルブタン酸など）とポリヒドロキシ化合物｛例えばトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートなど｝とのエステルなどが挙げられる。詳しくは、トリメチロールプロパントリス（２−スルファニルアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルブタノエート）；ペンタエリスリトールテトラキス（２−スルファニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルブタノエート）；ジペンタエリスリトールヘキサキス（２−スルファニルアセテート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−スルファニルプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−スルファニルブタノエート）；トリス（２−スルファニルアセトキシエチル）イソシアヌレート、トリス（３−スルファニルプロパノイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（３−スルファニルブタノイルオキシエチル）イソシアヌレート；などが挙げられる。 <Trifunctional or higher thiol (E)>
Examples of the tri- or more functional thiol (E) include carboxylic acids having a sulfanyl group (for example, sulfanyl acetic acid, sulfanyl propanoic acid, sulfanyl butanoic acid, etc.) and polyhydroxy compounds (for example, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, And esters with tris (hydroxyethyl) isocyanurate, etc.}. Specifically, trimethylolpropane tris (2-sulfanyl acetate), trimethylolpropane tris (3-sulfanylpropionate), trimethylolpropane tris (3-sulfanylbutanoate); pentaerythritol tetrakis (2-sulfanyl acetate), Pentaerythritol tetrakis (3-sulfanylpropionate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanylbutanoate); dipentaerythritol hexakis (2-sulfanyl acetate), dipentaerythritol hexakis (3-sulfanylpropionate), Dipentaerythritol hexakis (3-sulfanylbutanoate); tris (2-sulfanylacetoxyethyl) isocyanurate, tris (3-sulfa Le propanoyloxy ethyl) isocyanurate, tris (3-sulfanyl butanoyloxy ethyl) isocyanurate; and the like.

３官能以上のチオール（Ｅ）は、好ましくはペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルブタノエート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−スルファニルプロピオネート）及びジペンタエリスリトールヘキサキス（３−スルファニルブタノエート）よりなる群から選ばれる少なくとも１種、より好ましくはペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）である。   The tri- or higher functional thiol (E) is preferably pentaerythritol tetrakis (3-sulfanylpropionate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanylbutanoate), dipentaerythritol hexakis (3-sulfanylpropionate) and At least one selected from the group consisting of dipentaerythritol hexakis (3-sulfanylbutanoate), more preferably pentaerythritol tetrakis (3-sulfanylpropionate).

３官能以上のチオール（Ｅ）は、光重合開始剤（Ｃ）１００質量部に対して、０．５〜１００質量部、より好ましくは１〜９０質量部である。この範囲の量で３官能以上のチオール（Ｅ）を使用すれば、感度が高くなり、また現像性が良好になる傾向がある。また３官能以上のチオール（Ｅ）は、光重合開始剤（Ｃ）であるビイミダゾール化合物と組み合わせて使用することが好ましい。この組合せを使用すれば、感度が高くなる傾向がある。   The trifunctional or higher functional thiol (E) is 0.5 to 100 parts by mass, more preferably 1 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photopolymerization initiator (C). If trifunctional or higher functional thiol (E) is used in an amount within this range, the sensitivity tends to be high and the developability tends to be good. Trifunctional or higher thiol (E) is preferably used in combination with a biimidazole compound which is a photopolymerization initiator (C). If this combination is used, the sensitivity tends to increase.

〈酸化防止剤（Ｆ）〉
酸化防止剤（Ｆ）としては、例えば、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ、ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、３，３’，３”，５，５’，５”−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ”−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどが挙げられる。これら酸化防止剤（Ｆ）として、市販品を使用してもよい。例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンは、チバ・ジャパン社から「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」の商品名で市販されている。 <Antioxidant (F)>
Examples of the antioxidant (F) include 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2- [1- (2- Hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate, 6- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy ] -2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine, 3,9-bis [2- {3- (3-tert-butyl) -4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, 2,2′-methyl Renbis (6-tert-butyl-4-methylphenol), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 4,4′-thiobis (2-tert-butyl-5-methylphenol) ), 2,2′-thiobis (6-tert-butyl-4-methylphenol), dilauryl 3,3′-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′- Thiodipropionate, pentaerythrityltetrakis (3-laurylthiopropionate), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine -2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 3,3 ', 3 ", 5,5', 5" -hexa-tert-butyl-a, a ', a "-(mesitichi -2,4,6-triyl) tri-p-cresol, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,6-di-tert-butyl Examples of these antioxidants (F) include commercially available products such as 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy). Benzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione is commercially available from Ciba Japan under the trade name “IRGANOX3114”.

酸化防止剤（Ｆ）の含有量は、組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜３質量部（より好ましくは０．０５〜２質量部、さらに好ましくは０．１〜１質量部）である。酸化防止剤の含有量が前記範囲内であれば、組成物の解像度、並びに塗膜及びパターンの耐熱性及び耐薬品性が良好になる傾向がある。   The content of the antioxidant (F) is preferably 0.01 to 3 parts by mass (more preferably 0.05 to 2 parts by mass, and still more preferably 0.1 to 100 parts by mass of the solid content of the composition. To 1 part by mass). If content of antioxidant exists in the said range, there exists a tendency for the resolution of a composition, and the heat resistance and chemical resistance of a coating film and a pattern to become favorable.

〈着色剤（Ｇ）〉
着色剤（Ｇ）としては、染料及び顔料が挙げられる。染料及び顔料のいずれも着色に用いられる物質であるが、本明細書及び特許請求の範囲では、溶剤に溶解するものを染料と、溶剤に溶解しないものを顔料と定義する。染料及び顔料のいずれも、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また染料及び顔料の組合せを着色剤（Ｇ）として使用してもよい。 <Colorant (G)>
Examples of the colorant (G) include dyes and pigments. Although both dyes and pigments are substances used for coloring, in the present specification and claims, those that dissolve in a solvent are defined as dyes, and those that do not dissolve in a solvent are defined as pigments. Any of dyes and pigments may be used alone or in combination of two or more. A combination of a dye and a pigment may be used as the colorant (G).

顔料としては、具体的には、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists 出版）でピグメントに分類されている化合物が挙げられる。詳しくは、例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、３、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、８３、８６、９３、９４、１０９、１１０、１１７、１２５、１２８、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５３、１５４、１６６、１７３、１９４、２１４などの黄色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、５８などの緑色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、３１、３６、３８、４０、４２、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５、７１、７３などのオレンジ色の顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、９７、１０５、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７６、１７７、１８０、１９２、２０９、２１５、２１６、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４、２６５などの赤色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、６０などの青色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１９、２３、２９、３２、３６、３８などのバイオレット色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、２５などのブラウン色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、７などの黒色顔料；
などが挙げられる。なお本明細書では、最初の顔料にのみ「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」等を記載し、それに続く同じ記載の顔料は番号のみを記載した。染料でも同様である。 Specific examples of the pigment include compounds classified as pigments according to a color index (published by The Society of Dyers and Colorists). Specifically, for example,
C. I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, Yellow pigments such as 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214;
C. I. Green pigments such as CI Pigment Green 7, 36, 58;
C. I. Orange pigments such as CI Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73;
C. I. Red pigments such as CI Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265;
C. I. Blue pigments such as CI Pigment Blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 60;
C. I. Violet color pigments such as CI Pigment Violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38;
C. I. Brown pigments such as CI Pigment Brown 23 and 25;
C. I. Black pigments such as CI Pigment Black 1 and 7;
Etc. In the present specification, “CI Pigment Yellow” or the like is described only for the first pigment, and only the number is described for the same described pigment. The same applies to dyes.

前記顔料の中で、黄色顔料、緑色顔料、赤色顔料、青色顔料及びバイオレット色顔料が好ましく、黄色顔料及び緑色顔料がより好ましい。黄色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、１３９、１５０が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０がより好ましい。緑色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、５８が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６がより好ましい。赤色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２０９、２４２、２５４が好ましい。青色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、１５：６が好ましい。バイオレット色顔料としてはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３が好ましい。   Among the pigments, a yellow pigment, a green pigment, a red pigment, a blue pigment, and a violet color pigment are preferable, and a yellow pigment and a green pigment are more preferable. Examples of yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 138, 139 and 150 are preferable. I. Pigment Yellow 150 is more preferable. Examples of green pigments include C.I. I. Pigment Green 7, 36 and 58 are preferable. I. Pigment Green 36 is more preferable. Examples of red pigments include C.I. I. Pigment Red 177, 209, 242 and 254 are preferable. Examples of blue pigments include C.I. I. Pigment Blue 15: 3 and 15: 6 are preferable. Examples of violet color pigments include C.I. I. Pigment Violet 23 is preferable.

顔料は、必要に応じて、ロジン処理；酸性基又は塩基性基が導入された顔料誘導体や顔料分散剤などを用いた表面処理；高分子化合物などによる顔料表面へのグラフト処理；硫酸微粒化法などによる微粒化処理；不純物を除去するための有機溶剤や水などによる洗浄処理；イオン交換法などによるイオン性不純物の除去処理；などが施されていてもよい。   If necessary, the pigment is rosin-treated; surface treatment using a pigment derivative or pigment dispersant into which an acidic group or basic group has been introduced; graft treatment to the pigment surface with a polymer compound; sulfuric acid atomization method Or the like; cleaning treatment with an organic solvent or water for removing impurities; removal treatment of ionic impurities by an ion exchange method or the like;

粒径が均一である顔料が好ましい。また顔料を使用する場合、顔料分散剤を用いて、顔料を溶液中に均一に分散させることが好ましい。顔料分散剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。顔料分散剤を用いる場合、その使用量は、顔料１質量部あたり、好ましくは０．０５質量部以上、１質量部以下（より好ましくは０．５質量部以下）である。この範囲の量で顔料分散剤を使用すれば、均一に分散した顔料分散液が得られる傾向がある。   Pigments with a uniform particle size are preferred. Moreover, when using a pigment, it is preferable to disperse | distribute a pigment uniformly in a solution using a pigment dispersant. A pigment dispersant may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When a pigment dispersant is used, the amount used is preferably 0.05 parts by mass or more and 1 part by mass or less (more preferably 0.5 parts by mass or less) per 1 part by mass of the pigment. If the pigment dispersant is used in an amount within this range, a uniformly dispersed pigment dispersion tends to be obtained.

顔料分散剤として、界面活性剤を使用できる。界面活性剤は、電気的には、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性に分類でき、化合物的には、エステル系、アミン系、アクリル系、シリコーン系、フッ素系などに分類できる。これらの界面活性剤は、顔料等に応じて適宜選択して使用すればよい。界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、３級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類などが挙げられる。また市販の界面活性剤、例えば、商品名でＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（登録商標）（共栄社化学（株）製）、エフトップ（登録商標）（三菱マテリアル電子化成（株））、メガファック（登録商標）（ＤＩＣ（株）製）、フロラード（登録商標）（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード（登録商標）（旭硝子（株）製）、サーフロン（登録商標）（ＡＧＣセイミケミカル（株）製）、ソルスパース（登録商標）（ゼネカ（株）製）、ＥＦＫＡ（ＣＩＢＡ社製）、アジスパー（登録商標）（味の素ファインテクノ（株）製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（ビックケミー社製）なども使用できる。   A surfactant can be used as the pigment dispersant. Surfactants can be electrically classified into cationic, anionic, nonionic, and amphoteric, and compounds can be classified into ester, amine, acrylic, silicone, fluorine, and the like. These surfactants may be appropriately selected and used depending on the pigment and the like. Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes, and polyethyleneimines. It is done. Commercially available surfactants such as KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (registered trademark) (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Ftop (registered trademark) (Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.) )), Megafuck (registered trademark) (manufactured by DIC Corporation), Florard (registered trademark) (manufactured by Sumitomo 3M Corporation), Asahi Guard (registered trademark) (manufactured by Asahi Glass Company), Surflon (registered trademark) (Manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), Solsperse (registered trademark) (manufactured by Geneca Corporation), EFKA (manufactured by CIBA), Ajisper (registered trademark) (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), Disperbyk (manufactured by Big Chemie) ) Etc. can also be used.

染料として、公知の染料、例えば、油溶性染料、酸性染料、酸性染料のアミン塩、酸性染料のスルホンアミド誘導体などを使用できる。染料としては、例えば、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists 出版）で染料に分類されている化合物（例えばＣ．Ｉ．ソルベント染料、Ｃ．Ｉ．アシッド染料、Ｃ．Ｉ．ダイレクト染料、Ｃ．Ｉ．モーダント染料など）や、染色ノート（色染社）に記載されている染料が挙げられる。   As the dye, known dyes such as oil-soluble dyes, acid dyes, amine salts of acid dyes, sulfonamides of acid dyes, and the like can be used. Examples of the dye include compounds classified as dyes in the color index (published by The Society of Dyers and Colorists) (for example, CI solvent dyes, CI acid dyes, CI direct dyes, C.I. dyes). I. Modern dyes, etc.) and dyes described in dyeing notes (color dyeing company).

Ｃ．Ｉ．ソルベント染料としては、例えば、
Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー４、１４、１５、２３、２４、３８、６２、６３、６８、８２、９４、９８、９９、１６２；
Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド４５、４９、１２５、１３０；
Ｃ．Ｉ．ソルベントオレンジ２、７、１１、１５、２６、５６；
Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー３５、３７、５９、６７；
Ｃ．Ｉ．ソルベントグリーン１、３、４、５、７、２８、２９、３２、３３、３４、３５；
などが挙げられる。 C. I. As a solvent dye, for example,
C. I. Solvent Yellow 4, 14, 15, 23, 24, 38, 62, 63, 68, 82, 94, 98, 99, 162;
C. I. Solvent red 45, 49, 125, 130;
C. I. Solvent Orange 2, 7, 11, 15, 26, 56;
C. I. Solvent Blue 35, 37, 59, 67;
C. I. Solvent Green 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35;
Etc.

Ｃ．Ｉ．アシッド染料としては、例えば
Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１、３、７、９、１１、１７、２３、２５、２９、３４、３６、３８、４０、４２、５４、６５、７２、７３、７６、７９、９８、９９、１１１、１１２、１１３、１１４、１１６、１１９、１２３、１２８、１３４、１３５、１３８、１３９、１４０、１４４、１５０、１５５、１５７、１６０、１６１、１６３、１６８、１６９、１７２、１７７、１７８、１７９、１８４、１９０、１９３、１９６、１９７、１９９、２０２、２０３、２０４、２０５、２０７、２１２、２１４、２２０、２２１、２２８、２３０、２３２、２３５、２３８、２４０、２４２、２４３、２５１；
Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１、４、８、１４、１７、１８、２６、２７、２９、３１、３４、３５、３７、４２、４４、５０、５１、５２、５７、６６、７３、８０、８７、８８、９１、９２、９４、９７、１０３、１１１、１１４、１２９、１３３、１３４、１３８、１４３、１４５、１５０、１５１、１５８、１７６、１８２、１８３、１９８、２０６、２１１、２１５、２１６、２１７、２２７、２２８、２４９、２５２、２５７、２５８、２６０、２６１、２６６、２６８、２７０、２７４、２７７、２８０、２８１、１９５、３０８、３１２、３１５、３１６、３３９、３４１、３４５、３４６、３４９、３８２、３８３、３９４、４０１、４１２、４１７、４１８、４２２、４２６；
Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ６、７、８、１０、１２、２６、５０、５１、５２、５６、６２、６３、６４、７４、７５、９４、９５、１０７、１０８、１６９、１７３；
Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１、７、９、１５、１８、２３、２５、２７、２９、４０、４２、４５、５１、６２、７０、７４、８０、８３、８６、８７、９０、９２、９６、１０３、１１２、１１３、１２０、１２９、１３８、１４７、１５０、１５８、１７１、１８２、１９２、２１０、２４２、２４３、２５６、２５９、２６７、２７８、２８０、２８５、２９０、２９６、３１５、３２４：１、３３５、３４０；
Ｃ．Ｉ．アシッドバイオレット６Ｂ、７、９、１７、１９；
Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン１、３、５、９、１６、２５、２７、５０、５８、６３、６５、８０、１０４、１０５、１０６、１０９；
などが挙げられる。 C. I. Examples of acid dyes include C.I. I. Acid Yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251;
C. I. Acid Red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426;
C. I. Acid Orange 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173;
C. I. Acid Blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324: 1, 335, 340;
C. I. Acid Violet 6B, 7, 9, 17, 19;
C. I. Acid Green 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109;
Etc.

Ｃ．Ｉ．ダイレクト染料としては、例えば
Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー２、３３、３４、３５、３８、３９、４３、４７、５０、５４、５８、６８、６９、７０、７１、８６、９３、９４、９５、９８、１０２、１０８、１０９、１２９、１３６、１３８、１４１；
Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド７９、８２、８３、８４、９１、９２、９６、９７、９８、９９、１０５、１０６、１０７、１７２、１７３、１７６、１７７、１７９、１８１、１８２、１８４、２０４、２０７、２１１、２１３、２１８、２２０、２２１、２２２、２３２、２３３、２３４、２４１、２４３、２４６、２５０；
Ｃ．Ｉ．ダイレクトオレンジ３４、３９、４１、４６、５０、５２、５６、５７、６１、６４、６５、６８、７０、９６、９７、１０６、１０７；
Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー５７、７７、８０、８１、８４、８５、８６、９０、９３、９４、９５、９７、９８、９９、１００、１０１、１０６、１０７、１０８、１０９、１１３、１１４、１１５、１１７、１１９、１３７、１４９、１５０、１５３、１５５、１５６、１５８、１５９、１６０、１６１、１６２、１６３、１６４、１６６、１６７、１７０、１７１、１７２、１７３、１８８、１８９、１９０、１９２、１９３、１９４、１９６、１９８、１９９、２００、２０７、２０９、２１０、２１２、２１３、２１４、２２２、２２８、２２９、２３７、２３８、２４２、２４３、２４４、２４５、２４７、２４８、２５０、２５１、２５２、２５６、２５７、２５９、２６０、２６８、２７４、２７５、２９３；
Ｃ．Ｉ．ダイレクトバイオレット４７、５２、５４、５９、６０、６５、６６、７９、８０、８１、８２、８４、８９、９０、９３、９５、９６、１０３、１０４；
Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン２５、２７、３１、３２、３４、３７、６３、６５、６６、６７、６８、６９、７２、７７、７９、８２；
などが挙げられる。 C. I. Examples of the direct dye include C.I. I. Direct Yellow 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141;
C. I. Direct Red 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250;
C. I. Direct Orange 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;
C. I. Direct Blue 57, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293;
C. I. Direct violet 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104;
C. I. Direct Green 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82;
Etc.

Ｃ．Ｉ．モーダント染料としては、例えば
Ｃ．Ｉ．モーダントイエロー５、８、１０、１６、２０、２６、３０、３１、３３、４２、４３、４５、５６、６１、６２、６５；
Ｃ．Ｉ．モーダントレッド１、２、３、４、９、１１、１２、１４、１７、１８、１９、２２、２３、２４、２５、２６、３０、３２、３３、３６、３７、３８、３９、４１、４３、４５、４６、４８、５３、５６、６３、７１、７４、８５、８６、８８、９０、９４、９５；
Ｃ．Ｉ．モーダントオレンジ３、４、５、８、１２、１３、１４、２０、２１、２３、２４、２８、２９、３２、３４、３５、３６、３７、４２、４３、４７、４８；
Ｃ．Ｉ．モーダントブルー１、２、３、７、８、９、１２、１３、１５、１６、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２６、３０、３１、３２、３９、４０、４１、４３、４４、４８、４９、５３、６１、７４、７７、８３、８４；
Ｃ．Ｉ．モーダントバイオレット１、２、４、５、７、１４、２２、２４、３０、３１、３２、３７、４０、４１、４４、４５、４７、４８、５３、５８；
Ｃ．Ｉ．モーダントグリーン１、３、４、５、１０、１５、１９、２６、２９、３３、３４、３５、４１、４３、５３；
などが挙げられる。 C. I. Examples of modern dyes include C.I. I. Modern yellow 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65;
C. I. Modern Red 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95;
C. I. Modern orange 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48;
C. I. Modern Blue 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84;
C. I. Modern violet 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58;
C. I. Modern Green 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53;
Etc.

染料として、例えば式（１）〜式（７）のいずれかで表される基を有する酸性染料のアミン塩、及び式（８）又は式（９）で表される基を有する酸性染料のスルホンアミド誘導体を使用できる。また酸性染料のスルホンアミド誘導体は、式（８）又は式（９）で表される基に加えて、式（１０）で表される基を有していてもよい。前記酸性染料としては、例えばアゾ染料、アントラキノン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料及びフタロシアニン染料などが挙げられる。   As the dye, for example, an amine salt of an acidic dye having a group represented by any one of formulas (1) to (7), and a sulfone of an acidic dye having a group represented by formula (8) or formula (9) Amide derivatives can be used. Further, the sulfonamide derivative of an acid dye may have a group represented by the formula (10) in addition to the group represented by the formula (8) or the formula (9). Examples of the acid dye include azo dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalocyanine dyes.

−（ＳＯ3 -）（ＣnＨ2n+1Ｎ+Ｈ3） （１）
−（ＳＯ3 -）｛（ＣnＨ2n+1）2Ｎ+Ｈ2｝ （２）
−（ＳＯ3 -）｛（ＣnＨ2n+1）3Ｎ+Ｈ｝ （３）
−（ＳＯ3 -）｛（ＣnＨ2n+1）4Ｎ+｝ （４）
−（ＳＯ3 -）（ＣoＨ2o+1ＯＣpＨ2pＮ+Ｈ3） （５）
−（ＳＯ3 -）｛（ＣnＨ2n+1）（ＰｈＣＨ2）2Ｎ+Ｈ｝ （６）
−（ＳＯ3 -）｛（ＣnＨ2n+1）Ｐｙ+｝ （７）
−ＳＯ2ＮＨ（ＣnＨ2n+1） （８）
−ＳＯ2ＮＨ（ＣoＨ2o+1ＯＣpＨ2p） （９）
−ＳＯ3Ｍ （１０） - (SO 3 -) (C n H 2n + 1 N + H 3) (1)
− (SO 3 − ) {(C n H 2n + 1 ) 2 N + H 2 } (2)
- (SO 3 -) {( C n H 2n + 1) 3 N + H} (3)
− (SO 3 − ) {(C n H 2n + 1 ) 4 N + } (4)
- (SO 3 -) (C o H 2o + 1 OC p H 2p N + H 3) (5)
- (SO 3 -) {( C n H 2n + 1) (PhCH 2) 2 N + H} (6)
- (SO 3 -) {( C n H 2n + 1) Py +} (7)
—SO 2 NH (C n H 2n + 1 ) (8)
—SO 2 NH (C o H 2o + 1 OC p H 2p ) (9)
-SO 3 M (10)

式（１）〜（１０）中、ｎは、１以上２０以下の整数を表す。ｏ及びｐは、それぞれ独立に、１以上１０以下の整数を表す。Ｐｈは、フェニル基を表す。Ｐｙ+は、式（１１）で表される基である。Ｍは、水素原子又は一価の陽イオンを表す。 In formulas (1) to (10), n represents an integer of 1 or more and 20 or less. o and p each independently represent an integer of 1 or more and 10 or less. Ph represents a phenyl group. Py + is a group represented by the formula (11). M represents a hydrogen atom or a monovalent cation.

式（１１）中、ｑは、０又は１を表し、ｑが０であるとはメチル基が存在しないことを意味する。式（１１）中の＊印はＰｙ+の結合位置を表し、Ｐｙ+はこの結合位置で式（７）中のＣnＨ2n+1の炭素原子と結合する。 In formula (11), q represents 0 or 1, and q being 0 means that no methyl group is present. * Mark in the formula (11) represents a binding position of Py +, Py + binds to the C n H 2n + 1 carbon atom in the formula (7) in the coupling position.

ｎは、好ましくは１以上、１０以下（より好ましくは８以下）の整数である。ｏ及びｐは、それぞれ独立に、好ましくは１以上、８以下（より好ましくは６以下）の整数である。ｑは、好ましくは１である。Ｍの一価の陽イオンとしては、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、４級アンモニウムイオン｛例えば（Ｃ2Ｈ5）3ＨＮ+｝などが挙げられ、好ましくはナトリウムイオンである。 n is preferably an integer of 1 or more and 10 or less (more preferably 8 or less). o and p are each independently preferably an integer of 1 or more and 8 or less (more preferably 6 or less). q is preferably 1. Examples of the monovalent cation of M include lithium ion, sodium ion, potassium ion, quaternary ammonium ion {eg (C 2 H 5 ) 3 HN + }, and preferably sodium ion.

酸性染料のアミン塩に含まれる式（１）〜式（７）のいずれかで表される基の数は、好ましくは１以上、２０以下（より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下）である。酸性染料のスルホンアミド誘導体に含まれる式（８）又は式（９）で表される基の数は、好ましくは１以上、８以下（より好ましくは６以下、さらに好ましくは５以下）である。さらに酸性染料のスルホンアミド誘導体は、好ましくは８個以下、より好ましくは６個以下、さらに好ましくは５個以下の式（１０）で表される基を有していてもよい。   The number of groups represented by any one of formula (1) to formula (7) contained in the amine salt of the acid dye is preferably 1 or more and 20 or less (more preferably 10 or less, more preferably 8 or less). is there. The number of groups represented by the formula (8) or the formula (9) contained in the sulfonamide derivative of the acid dye is preferably 1 or more and 8 or less (more preferably 6 or less, more preferably 5 or less). Furthermore, the sulfonamide derivative of an acid dye may have a group represented by the formula (10), preferably 8 or less, more preferably 6 or less, and still more preferably 5 or less.

スルホンアミド構造を有するアゾ染料としては、例えば、式（Ｇ１）で表される染料が挙げられる。   Examples of the azo dye having a sulfonamide structure include a dye represented by the formula (G1).

式（Ｇ１）中、Ｒ14は、Ｃ2-20アルキル基、シクロへキシル基で置換されたＣ2-12アルキル基、Ｃ1-4アルキル基で置換されたシクロへキシル基、Ｃ2-12アルコキシ基で置換されたＣ2-12アルキル基、Ｃ1-20アルキル基で置換されたフェニル基、フェニル基で置換されたＣ1-20アルキル基、式（１２）で表されるアルキルカルボニルオキシアルキル基、又は式（１３）で表されるアルキルオキシカルボニルアルキル基を表す｛式（１２）及び式（１３）中、Ｒ19はＣ2-12アルキル基を表し、Ｌ4はＣ2-12アルカンジイル基を表す。｝。
−Ｌ4−Ｏ−ＣＯ−Ｒ19 （１２）
−Ｌ4−ＣＯ−Ｏ−Ｒ19 （１３） In the formula (G1), R 14 represents a C 2-20 alkyl group, a C 2-12 alkyl group substituted with a cyclohexyl group, a cyclohexyl group substituted with a C 1-4 alkyl group, C 2− 12 alkoxy C 2-12 alkyl group substituted with a group, C 1-20 alkyl substituted phenyl, C 1-20 alkyl group substituted with a phenyl group, alkylcarbonyl of formula (12) Represents an oxyalkyl group or an alkyloxycarbonylalkyl group represented by formula (13) {in formula (12) and formula (13), R 19 represents a C 2-12 alkyl group, and L 4 represents C 2- 12 represents an alkanediyl group. }.
-L 4 -O-CO-R 19 (12)
—L 4 —CO—O—R 19 (13)

式（Ｇ１）中、Ｒ15〜Ｒ17は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、ヒドロキシ基、カルバモイル基又はシアノ基を表す。Ｒ18は、Ｃ1-4アルキル基を表す。 In formula (G1), R 15 to R 17 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxy group, a carbamoyl group, or a cyano group. R 18 represents a C 1-4 alkyl group.

Ｒ14のＣ2-20アルキル基としては、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ヘキシル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、２−エチルヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−メチルブチル基、１，５−ジメチルヘキシル基及び１，１，３，３−テトラメチルブチル基などが挙げられる。Ｒ14のシクロへキシル基で置換されたＣ2-12アルキル基としては、シクロヘキシルエチル基、３−シクロヘキシルプロピル基及び８−シクロヘキシルオクチル基などが挙げられる。Ｒ14のＣ1-4アルキル基で置換されたシクロへキシル基としては、２−エチルシクロヘキシル基、２−プロピルシクロヘキシル基及び２−ブチルシクロヘキシル基などが挙げられる。Ｒ14のＣ2-12アルコキシ基で置換されたＣ2-12アルキル基としては、３−エトキシプロピル基、３−プロポキシプロピル基、４−プロポキシブチル基、３−メチルヘキシルオキシエチル基及び３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピル基などが挙げられる。Ｒ14のＣ1-20アルキル基で置換されたフェニル基としては、ｏ−イソプロピルフェニル基などが挙げられる。Ｒ14のフェニル基で置換されたＣ1-20アルキル基としては、ＤＬ−１−フェニルエチル基、ベンジル基及び３−フェニルブチル基などが挙げられる。 As the C 2-20 alkyl group for R 14 , ethyl group, propyl group, isopropyl group, hexyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, 2-ethylhexyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1-methylbutyl group 1,5-dimethylhexyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group and the like. Examples of the C 2-12 alkyl group substituted by the cyclohexyl group of R 14 include a cyclohexylethyl group, a 3-cyclohexylpropyl group, and an 8-cyclohexyloctyl group. Examples of the cyclohexyl group substituted by the C 1-4 alkyl group of R 14 include 2-ethylcyclohexyl group, 2-propylcyclohexyl group, and 2-butylcyclohexyl group. The C 2-12 alkyl group substituted with a C 2-12 alkoxy group R 14, 3-ethoxypropyl, 3-propoxypropyl group, 4-propoxy-butyl group, 3-methyl-hexyloxy ethyl group and 3- And (2-ethylhexyloxy) propyl group. Examples of the phenyl group substituted with the C 1-20 alkyl group of R 14 include an o-isopropylphenyl group. Examples of the C 1-20 alkyl group substituted with the phenyl group of R 14 include a DL-1-phenylethyl group, a benzyl group, and a 3-phenylbutyl group.

Ｒ19のＣ2-12アルキル基としては、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、２−エチルヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−メチルブチル基、１，５−ジメチルヘキシル基及び１，１，３，３−テトラメチルブチル基などが挙げられる。Ｌ4のＣ2-12アルカンジイル基としては、エチレン基及びヘキサンジイル基などが挙げられる。 As the C 2-12 alkyl group for R 19 , an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, a 2-ethylhexyl group, a 1,3-dimethylbutyl group, a 1-methylbutyl group, 1, Examples include 5-dimethylhexyl group and 1,1,3,3-tetramethylbutyl group. Examples of the C 2-12 alkanediyl group of L 4 include an ethylene group and a hexanediyl group.

Ｒ18のＣ1-4アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。 Examples of the C 1-4 alkyl group for R 18 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group.

Ｒ14は、好ましくはＣ2-10アルキル基、より好ましくは２−エチルヘキシル基である。Ｒ15は、好ましくはメチル基である。Ｒ16は、好ましくはシアノ基である。Ｒ17は、好ましくはヒドロキシ基である。Ｒ18は、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基、より好ましくはブチル基である。染料（Ｇ１）の中でも、式（Ｇ１−１）で表される染料が好ましい。 R 14 is preferably a C 2-10 alkyl group, more preferably a 2-ethylhexyl group. R 15 is preferably a methyl group. R 16 is preferably a cyano group. R 17 is preferably a hydroxy group. R 18 is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, more preferably a butyl group. Among the dyes (G1), a dye represented by the formula (G1-1) is preferable.

またスルホンアミド構造を有するアゾ染料としては、例えば、式（Ｇ２）、式（Ｇ３）又は式（Ｇ４）で表される染料が挙げられる。   Examples of the azo dye having a sulfonamide structure include dyes represented by the formula (G2), the formula (G3), or the formula (G4).

スルホンアミド構造を有するアントラキノン染料としては、例えば、式（Ｇ５）で表される染料が挙げられる。   Examples of the anthraquinone dye having a sulfonamide structure include a dye represented by the formula (G5).

スルホンアミド構造を有するトリフェニルメタン染料としては、例えば、式（Ｇ６）で表される染料が挙げられる。   Examples of the triphenylmethane dye having a sulfonamide structure include a dye represented by the formula (G6).

スルホンアミド構造を有するキサンテン染料としては、例えば、式（Ｇ７）で表される染料が挙げられる。   Examples of the xanthene dye having a sulfonamide structure include a dye represented by the formula (G7).

スルホンアミド構造を有するフタロシアニン染料としては、例えば、式（Ｇ８）で表される染料が挙げられる。   Examples of the phthalocyanine dye having a sulfonamide structure include a dye represented by the formula (G8).

式（Ｇ８）中、Ｒ20〜Ｒ23は、それぞれ独立に、水素原子、−ＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）3ＯＣＨ（ＣＨ3）2基又はスルホ基（−ＳＯ3Ｈ）を表す。但しＲ20〜Ｒ23の少なくとも２つは、−ＳＯ2ＮＨ（ＣＨ2）3ＯＣＨ（ＣＨ3）2基である。 In formula (G8), R 20 to R 23 each independently represents a hydrogen atom, —SO 2 NH (CH 2 ) 3 OCH (CH 3 ) 2 group or a sulfo group (—SO 3 H). However, at least two of R 20 to R 23 are —SO 2 NH (CH 2 ) 3 OCH (CH 3 ) 2 groups.

着色剤（Ｇ）の含有量は、組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは３〜１０質量部（より好ましくは３〜９質量部、さらに好ましくは３．５〜８質量部）である。   The content of the colorant (G) is preferably 3 to 10 parts by mass (more preferably 3 to 9 parts by mass, further preferably 3.5 to 8 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the solid content of the composition. It is.

優れた耐熱性及び耐光性を達成するために、着色剤（Ｇ）中の顔料の含有量は、好ましくは２質量％以上１００質量％以下、より好ましくは５質量％以上１００質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以上１００質量％以下である。   In order to achieve excellent heat resistance and light resistance, the content of the pigment in the colorant (G) is preferably 2% by mass to 100% by mass, more preferably 5% by mass to 100% by mass, Preferably they are 10 mass% or more and 100 mass% or less.

有機ＥＬ表示装置の画素の隔壁は、その波長４００ｎｍの光の透過率が３０％以下であることが好ましい。光の透過率は、まず着色感光性樹脂組成物をガラス基板に塗布し、ホットプレートで９０℃２分ベークし、１００μｍのラインアンドスペースパターンを形成するためのフォトマスクを介して超高圧水銀ランプで１００ｍＪ／ｃｍ2の露光量の紫外線を光学フィルタ（ＬＵ０４００；朝日分光（株）製）を通過させて露光し、２３℃のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（水溶液１００部中にテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを２．３８部含有する）で６０秒間浸漬して現像し、水洗し、ホットプレートで２３５℃１１分ベークして膜厚３μｍのパターンを形成し、次いでこのパターンの分光を測定することによって求められる。波長４００ｎｍの光の透過率が膜厚３μｍあたり０．１％以上（好ましくは１％以上、より好ましくは５％以上）３０％以下のパターンを形成できる本発明の組成物は、隔壁の製造用に好適である。このような透過率を達成するために、着色剤（Ｇ）は、好ましくは、黄色顔料及び緑色顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種、より好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０及びＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６よりなる群から選ばれる少なくとも１種である。黄色顔料及び緑色顔料は４００ｎｍ付近に吸収領域を有するので、これらを使用すれば、４００ｎｍの光の透過率を容易に３０％以下にすることができる。 The partition wall of the pixel of the organic EL display device preferably has a light transmittance of 30% or less at a wavelength of 400 nm. The light transmittance is as follows. First, a colored photosensitive resin composition is applied to a glass substrate, baked at 90 ° C. for 2 minutes on a hot plate, and an ultrahigh pressure mercury lamp through a photomask for forming a 100 μm line and space pattern. UV light having an exposure amount of 100 mJ / cm 2 was passed through an optical filter (LU0400; manufactured by Asahi Spectrometer Co., Ltd.) and exposed to light, and an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide at 23 ° C. (tetramethylammonium hydroxide in 100 parts of an aqueous solution). 2.38 parts) for 60 seconds, developed, washed with water, baked on a hot plate at 235 ° C. for 11 minutes to form a pattern with a thickness of 3 μm, and then obtained by measuring the spectrum of this pattern. It is done. The composition of the present invention capable of forming a pattern having a light transmittance of 400 nm at a wavelength of 0.1% or more (preferably 1% or more, more preferably 5% or more) per 3 μm film thickness is 30% or less. It is suitable for. In order to achieve such transmittance, the colorant (G) is preferably at least one selected from the group consisting of a yellow pigment and a green pigment, more preferably C.I. I. Pigment yellow 150 and C.I. I. At least one selected from the group consisting of CI Pigment Green 36. Since the yellow pigment and the green pigment have an absorption region in the vicinity of 400 nm, the light transmittance at 400 nm can be easily reduced to 30% or less by using these.

〈その他の添加剤（Ｈ）〉
本発明の組成物は、必要に応じて、その他の添加剤（Ｈ）を含有していてもよい。その他の添加剤（Ｈ）としては、例えば、充填剤、樹脂（Ａ）以外の高分子化合物界面活性剤、密着促進剤、紫外線吸収剤、光安定剤、連鎖移動剤などが挙げられる。 <Other additives (H)>
The composition of this invention may contain the other additive (H) as needed. Examples of the other additive (H) include a filler, a polymer compound surfactant other than the resin (A), an adhesion promoter, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and a chain transfer agent.

充填剤としては、例えば、ガラス、シリカ、アルミナ等が挙げられる。
高分子化合物としては、例えば、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂等の硬化性樹脂ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂等が挙げられる。 Examples of the filler include glass, silica, and alumina.
Examples of the polymer compound include thermoplastic resins such as curable resins such as epoxy resins and maleimide resins, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, and polyurethane.

界面活性剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。界面活性剤の量、界面活性剤を除く感光性樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは０．００２５〜０．０２５０質量部、より好ましくは０．００２５〜０．０２００質量部、さらに好ましくは０．００５〜０．０１００質量部である。界面活性剤をこの範囲で含有することにより、塗膜の平坦性を良好にすることができるとともに、溶剤乾燥時の突沸を防止することが可能となる。   Examples of the surfactant include at least one selected from the group consisting of a silicone surfactant, a fluorine surfactant, and a silicone surfactant having a fluorine atom. Preferably, the amount of the surfactant and 100 parts by mass of the photosensitive resin composition excluding the surfactant is preferably 0.0025 to 0.0250 parts by mass, more preferably 0.0025 to 0.0200 parts by mass, and even more preferably. Is 0.005 to 0.0100 parts by mass. By containing the surfactant in this range, the flatness of the coating film can be improved, and bumping at the time of solvent drying can be prevented.

シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、同２９ＳＨＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。   Examples of the silicone surfactant include surfactants having a siloxane bond. Specifically, DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH21PA, SH28PA, 29SHPA, SH30PA, SH8400 (trade names: manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (Shinetsu) Chemical Industries, Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (made by Momentive Performance Materials Japan GK), and the like.

フッ素系界面活性剤としては、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、フロリナート（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｒ３０（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（新秋田化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（ＡＧＣセイミケミカル（株）製）、Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。   Examples of the fluorosurfactant include surfactants having a fluorocarbon chain. Specifically, Florinart (registered trademark) FC430, FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), MegaFac (registered trademark) F142D, F171, F172, F173, F177, F183, R183 (DIC) ), EFTOP (registered trademark) EF301, EF303, EF351, EF352, EF352 (manufactured by Shin-Akita Kasei), Surflon (registered trademark) S381, S382, SC101, SC105 (AGC Seimi) Chemical Co., Ltd.), E5844 (Daikin Fine Chemical Laboratory Co., Ltd.), BM-1000, BM-1100 (both trade names: manufactured by BM Chemie), and the like.

フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７、同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。   Examples of the silicone-based surfactant having a fluorine atom include surfactants having a siloxane bond and a fluorocarbon chain. Specifically, Megafac (registered trademark) R08, BL20, F475, F477, F443 (manufactured by DIC Corporation) and the like can be mentioned.

密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジルオキシキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、３−スルファニルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N- (2-amino). Ethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxyxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Examples include trimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, and 3-sulfanylpropyltrimethoxysilane.

紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、オクチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネート、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等が挙げられる。   Examples of the ultraviolet absorber include 2- (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole, octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-). 2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethyl) Phenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3- (2′-ethyl) hexyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4 -Dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy-4-butyloxyphenyl) -6- (2,4-bis-butyloxyphenyl) 1,3,5-triazine, 2- (2-hydroxy-4- [1-octyloxycarbonylethoxy] phenyl) -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl-1- Phenylethyl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenone, etc. Can be mentioned.

光安定剤としては、例えば、コハク酸と（４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−イル）エタノールとからなる高分子；Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ'”−テトラキス（４，６−ビス（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）トリアジン−２−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン；デカンジオイックアシッドとビス（２，２，６，６−テトラメチル−１−（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステルと１，１−ジメチルエチルヒドロパーオキシドとの反応物；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）−［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート；２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ］−６−（２−ヒドロキシエチルアミン）−１，３，５−トリアジン；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート；メチル（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート等が挙げられる。   Examples of the light stabilizer include a polymer composed of succinic acid and (4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) ethanol; N, N ′, N ″, N ′ ″ Tetrakis (4,6-bis (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino) triazin-2-yl) -4,7-diazadecane-1,10 A diamine; a reaction product of decanedioic acid, bis (2,2,6,6-tetramethyl-1- (octyloxy) -4-piperidinyl) ester and 1,1-dimethylethyl hydroperoxide; bis ( 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl)-[[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] butyl malonate; 2,4-bis [ N-Bu Til-N- (1-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino] -6- (2-hydroxyethylamine) -1,3,5-triazine; bis (1, 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate; methyl (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate and the like.

連鎖移動剤としては、例えば、ドデカンチオール、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン等が挙げられる。   Examples of the chain transfer agent include dodecanethiol and 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene.

〈溶剤（Ｊ）〉
溶剤（Ｊ）としては、樹脂（Ａ）等の各成分を均一に溶解又は分散し、かつ各成分と反応しないものが適している。塗布性及び乾燥性の点から、沸点が１００℃〜２００℃である有機溶剤が好ましい。溶剤（Ｊ）としては、例えば、以下のものを使用できる。 <Solvent (J)>
As the solvent (J), those which uniformly dissolve or disperse each component such as the resin (A) and do not react with each component are suitable. From the viewpoints of coating properties and drying properties, an organic solvent having a boiling point of 100 ° C to 200 ° C is preferable. As the solvent (J), for example, the following can be used.

エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシペンチルアセテート等のアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類； Ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether and ethylene glycol monobutyl ether;
Alkylene glycol alkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxypentyl acetate ;

プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテルプロピレングリコールプロピルメチルエーテル、プロピレングリコールエチルプロピルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネート等のプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類。 Propylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether;
Propylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol ethyl methyl ether, propylene glycol dipropyl ether, propylene glycol propyl methyl ether, propylene glycol ethyl propyl ether;
Propylene glycol alkyl ether propionates such as propylene glycol methyl ether propionate, propylene glycol ethyl ether propionate, propylene glycol propyl ether propionate, propylene glycol butyl ether propionate.

メトキシブチルアルコール、エトキシブチルアルコール、プロポキシブチルアルコール、ブトキシブチルアルコール等のブタンジオールモノアルキルエーテル類；
メトキシブチルアセテート、エトキシブチルアセテート、プロポキシブチルアセテート、ブトキシブチルアセテート等のブタンジオールモノアルキルエーテルアセテート類；
メトキシブチルプロピオネート、エトキシブチルプロピオネート、プロポキシブチルプロピオネート、ブトキシブチルプロピオネート等のブタンジオールモノアルキルエーテルプロピオネート類。 Butanediol monoalkyl ethers such as methoxybutyl alcohol, ethoxybutyl alcohol, propoxybutyl alcohol, butoxybutyl alcohol;
Butanediol monoalkyl ether acetates such as methoxybutyl acetate, ethoxybutyl acetate, propoxybutyl acetate, butoxybutyl acetate;
Butanediol monoalkyl ether propionates such as methoxybutyl propionate, ethoxybutyl propionate, propoxybutyl propionate, butoxybutyl propionate.

ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；
ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類。 Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol butyl methyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether;
Dipropylene glycol dialkyl ethers such as dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, and dipropylene glycol methyl ethyl ether.

ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類。 Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene;
Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone;

酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチル等のエステル類。   Methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl 2-hydroxypropionate, methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl hydroxyacetate, hydroxyethyl acetate, hydroxy Butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, butyl lactate, methyl 3-hydroxypropionate, ethyl 3-hydroxypropionate, propyl 3-hydroxypropionate, butyl 3-hydroxypropionate, 2-hydroxy-3-methylbutane Methyl acetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, propyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxy acetate, ethyl ethoxy acetate, propyl ethoxy acetate, butyl ethoxy acetate, methyl propoxyacetate, propoxy Ethyl acetate, propyl propoxyacetate, butyl propoxyacetate, methyl butoxyacetate, ethyl butoxyacetate, propyl butoxyacetate, butyl butoxyacetate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, 2- Butyl methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, propyl 2-ethoxypropionate, butyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-butoxypropionate, ethyl 2-butoxypropionate, 2-butoxy Propyl propionate, butyl 2-butoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate, 3- Methyl toxipropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, propyl 3-ethoxypropionate, butyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-propoxypropionate, ethyl 3-propoxypropionate, propyl 3-propoxypropionate, 3-propoxy Esters such as butyl propionate, methyl 3-butoxypropionate, ethyl 3-butoxypropionate, propyl 3-butoxypropionate, and butyl 3-butoxypropionate.

テトラヒドロフラン、ピラン等の環状エーテル類；
γ−ブチロラクトン等の環状エステル類。 Cyclic ethers such as tetrahydrofuran and pyran;
Cyclic esters such as γ-butyrolactone.

上記溶剤の中でも、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類（より好ましくはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、ケトン類（より好ましくはシクロヘキサノン）、ブタンジオールモノアルキルエーテルアセテート類（より好ましくはメトキシブチルアセテート）、ブタンジオールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類（より好ましくはジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル）、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類（より好ましくはジプロピレングリコールジメチルエーテル）、エステル類（より好ましくは３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル）が好ましい。   Among the above solvents, alkylene glycol alkyl ether acetates (more preferably propylene glycol monomethyl ether acetate), ketones (more preferably cyclohexanone), butanediol monoalkyl ether acetates (more preferably methoxybutyl acetate), butanediol mono Alkyl ethers, diethylene glycol dialkyl ethers (more preferably diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol butyl methyl ether), dipropylene glycol dialkyl ethers (more preferably dipropylene glycol dimethyl ether), esters (more preferably 3-ethoxypropionic acid) Ethyl, methyl 3-methoxypropionate) are preferred.

溶剤（Ｊ）の含有量は、組成物に対して、好ましくは５０質量％以上（より好ましくは６０質量％以上）、好ましくは９５質量％以下（より好ましくは９０質量％以下）である。   The content of the solvent (J) is preferably 50% by mass or more (more preferably 60% by mass or more), preferably 95% by mass or less (more preferably 90% by mass or less) with respect to the composition.

〈パターン及び塗膜〉
本発明の組成物から、フォトリソグラフ法によってパターンを形成することが好ましい。本発明の組成物をフォトリソグラフ法に用いれば、高解像度で微細なパターンを形成できる。フォトリソグラフ法は、通常、感光性樹脂組成物の塗布、溶剤除去、露光前の加熱（プリベーク）、露光、現像、現像後の加熱（ポストベーク）の各工程を経てパターンが形成される。 <Pattern and paint film>
A pattern is preferably formed from the composition of the present invention by a photolithographic method. If the composition of the present invention is used in a photolithographic method, a fine pattern can be formed with high resolution. In the photolithographic method, a pattern is usually formed through steps of application of a photosensitive resin composition, solvent removal, heating before exposure (pre-baking), exposure, development, and heating after development (post-baking).

なおフォトリソグラフ法以外でも、本発明の組成物からパターンを形成できる。例えば例えばインクジェット機器などを用いて本発明の組成物をパターン状に塗布した後、光重合することによってもパターンを形成できる。また本発明の組成物をスピンコート法などの公知の方法によって基体（例えば基板又は樹脂層が形成された基板など）に塗布した後、光重合することによって塗膜を形成することもできる。   A pattern can be formed from the composition of the present invention by a method other than the photolithography method. For example, the pattern can also be formed by applying the composition of the present invention in a pattern using, for example, an inkjet device and then photopolymerizing. Moreover, after apply | coating the composition of this invention to a base | substrate (for example, the board | substrate with which the resin layer was formed, etc.) by well-known methods, such as a spin coat method, a coating film can also be formed by photopolymerizing.

本発明のパターン及び塗膜は、例えば、表示装置（好ましく液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置）のカラーフィルタの着色パターン、フォトスペーサ、液晶配向制御用突起などとして有用である。特に本発明のパターンは、有機ＥＬ表示装置の画素の隔壁、例えば、陰極材料や発光材料を蒸着して成膜するための隔壁、発光材料をインクジェット法で成膜するための隔壁として好適である。   The pattern and coating film of the present invention are useful as, for example, a color pattern of a color filter of a display device (preferably a liquid crystal display device or an organic EL display device), a photo spacer, a protrusion for controlling liquid crystal alignment. In particular, the pattern of the present invention is suitable as a partition wall of a pixel of an organic EL display device, for example, a partition wall for depositing a cathode material or a light emitting material to form a film, or a partition wall for forming a light emitting material by an ink jet method. .

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、上記・下記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
なお以下では、成分量における「％」及び「部」は、特記がない限り、「質量％」及び「質量部」である。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, and appropriate modifications are made within a range that can meet the above and the following purposes. Of course, it is possible to implement them, and they are all included in the technical scope of the present invention.
In the following, “%” and “parts” in the component amounts are “% by mass” and “parts by mass” unless otherwise specified.

１．樹脂（Ａ）の合成
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル１４０部を入れ、撹拌しながら７０℃まで加熱した。次いでメタクリル酸４０部；並びに単量体（ｂ１−１）及び単量体（ｂ２−１）の混合物｛混合物中の単量体（ｂ１−１）：単量体（ｂ２−１）のモル比＝５０：５０｝３６０部を、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル１９０部に溶解させた溶液を調製し、この溶液を、滴下ポンプを用いて４時間かけて、７０℃に保温したフラスコ内に滴下した。 1. Synthesis of Resin (A) Into a 1 L flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a stirrer, nitrogen was flowed at 0.02 L / min to form a nitrogen atmosphere, 140 parts of diethylene glycol ethyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at 70 ° C. Until heated. Then 40 parts of methacrylic acid; and a mixture of monomer (b1-1) and monomer (b2-1) {monomer (b1-1) in the mixture: molar ratio of monomer (b2-1) = 50: 50} A solution having 360 parts dissolved in 190 parts of diethylene glycol ethyl methyl ether was prepared, and this solution was dropped into a flask kept at 70 ° C. over 4 hours using a dropping pump.

一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３０部をジエチレングリコールエチルメチルエーテル２４０部に溶解させた溶液を、別の滴下ポンプを用いて５時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤溶液の滴下が終了した後、７０℃で４時間保持し、その後室温まで冷却して、固形分４２．３％、酸価６０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇの共重合体｛樹脂（Ａ１）｝の溶液を得た。得られた樹脂（Ａ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は８０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９１であった。   On the other hand, a solution prepared by dissolving 30 parts of a polymerization initiator 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) in 240 parts of diethylene glycol ethyl methyl ether was placed in a flask over another 5 hours using another dropping pump. It was dripped. After completion of the dropwise addition of the polymerization initiator solution, the mixture was kept at 70 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature, and a copolymer {resin (A1)} having a solid content of 42.3% and an acid value of 60 mg-KOH / g Solution was obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained resin (A1) was 8000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.91.

得られた樹脂（Ａ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、以下の条件のゲル浸透クロマトグラフィーによって測定した。
装置：Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
カラム：ＳＨＩＭＡＤＺＵ Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ ＧＰＣ−８０Ｍ
カラム温度：４０℃
溶媒：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＲＩ
標準：ポリスチレン The weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the obtained resin (A1) were measured by gel permeation chromatography under the following conditions.
Apparatus: K2479 (manufactured by Shimadzu Corporation)
Column: SHIMADZU Shim-pack GPC-80M
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF (tetrahydrofuran)
Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI
Standard: Polystyrene

２．組成物の調製
（１）組成物１の調製
まず「Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６」４．３部、「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０」１．９部及びアクリル系顔料分散剤１．７部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１３部と混合し、ビーズミルを用いて顔料を充分に分散させて顔料分散液を調製した。次いでこの顔料分散液と、樹脂（Ａ１）溶液１０１．２部｛樹脂（Ａ１）４２．８部｝、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）４２．８部、２，２'−ビス（２−クロロフェニル）−４，４'，５，５'−テトラフェニル−１，２'−ビイミダゾール（Ｂ−ＣＩＭ；保土谷化学（株）製）３．４部、２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン０．４部、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）（ＰＥＭＰ；ＳＣ有機化学（株）製)２．６部、ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４（チバ・ジャパン社製）０．２部、シリコーン系界面活性剤であるポリエーテル変性シリコーンオイル（東レ・ダウコーニング（株）製 ＳＨ８４００）０．０４部、及び溶剤を混合して、組成物１を得た。溶剤は、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、及びジプロピレングリコールジメチルエーテルの質量比が４０：３０：１７：１３となり、且つ組成物１の固形分が３３％となるように混合した。 2. Preparation of Composition (1) Preparation of Composition 1 First, 4.3 parts of “CI Pigment Green 36”, 1.9 parts of “CI Pigment Yellow 150” and 1.7 parts of an acrylic pigment dispersant. Was mixed with 13 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, and the pigment was sufficiently dispersed using a bead mill to prepare a pigment dispersion. Next, this pigment dispersion, 101.2 parts of resin (A1) solution {42.8 parts of resin (A1)}, 42.8 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 2 , 2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole (B-CIM; manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 3.4 parts, -(2-naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline 0.4 part, pentaerythritol tetrakis (3-sulfanylpropionate) (PEMP; manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.), IRGANOX 3114 (Ciba 0.2 part by Japan), 0.04 part by polyether-modified silicone oil (Toray Dow Corning SH8400), which is a silicone surfactant, and solvent Were mixed to obtain a composition 1. The solvent is such that the mass ratio of diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol butyl methyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and dipropylene glycol dimethyl ether is 40: 30: 17: 13, and the solid content of composition 1 is 33%. Mixed.

（２）組成物２及び３、並びに組成物Ｈ１の調製
組成物１と同様にして、組成物２及び３、並びに着色剤を含有しない比較用の組成物Ｈ１を調製した。組成物１〜３及び組成物Ｈ１の成分を表１に示す。 (2) Preparation of compositions 2 and 3 and composition H1 In the same manner as in composition 1, compositions 2 and 3 and comparative composition H1 containing no colorant were prepared. The components of Compositions 1 to 3 and Composition H1 are shown in Table 1.

３．評価
以下のようにして各組成物からパターンを形成し、その解像度及び透過率を評価した。 3. Evaluation A pattern was formed from each composition as follows, and the resolution and transmittance were evaluated.

（１）パターン形成
５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板を、中性洗剤、水及び２−プロパノールで順次洗浄してから乾燥した。この基板上に、ポストベーク後のレジスト膜の膜厚が３．０μｍになるようにスピンコートで組成物を塗布した。次に、減圧乾燥機（ＶＣＤマイクロテック（株）製）で減圧度を１．０Ｔｏｒｒ（約１．３×１０2Ｐａ）まで減圧して乾燥させて塗膜を形成した。この塗膜を、ホットプレート中９０℃で２分間プリベークした。基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を１０μｍとし、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、１００ｍＪ／ｃｍ2の露光量（４０５ｎｍ基準）で、プリベーク後の塗膜を露光した。なおこの露光では、超高圧水銀灯からの放射光は、光学フィルタ（ＬＵ０４００；朝日分光（株）製）を通過させて照射した。また線幅１０μｍ又は１００μｍのラインアンドスペースパターンを形成するためのフォトマスクを用いた。露光後、２３℃のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（水溶液１００部中にテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを２．３８部含有する）で６０秒間浸漬して現像し、水洗した後、ホットプレートにて２３５℃で１１分間ポストベークを行い、ラインアンドスペースパターンを形成した。得られたパターンの膜厚を膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫ３；日本真空技術（株）製））を用いて測定したところ、３μｍであった。 (1) Pattern formation A 5 cm × 5 cm glass substrate was washed with a neutral detergent, water and 2-propanol in this order, and then dried. On this substrate, the composition was applied by spin coating so that the film thickness of the resist film after post-baking was 3.0 μm. Next, the degree of reduced pressure was reduced to 1.0 Torr (about 1.3 × 10 2 Pa) with a reduced-pressure dryer (VCD Microtech Co., Ltd.) to form a coating film. This coating film was prebaked for 2 minutes at 90 ° C. in a hot plate. The distance between the substrate and the quartz glass photomask was set to 10 μm, and the exposure amount (405 nm) was 100 mJ / cm 2 in an air atmosphere using an exposure machine (TME-150RSK; manufactured by Topcon Corporation, light source: ultrahigh pressure mercury lamp). Standard), the pre-baked coating film was exposed. In this exposure, the emitted light from the ultra-high pressure mercury lamp was irradiated through an optical filter (LU0400; manufactured by Asahi Spectroscopic Co., Ltd.). A photomask for forming a line and space pattern having a line width of 10 μm or 100 μm was used. After exposure, the film was immersed in a 23 ° C aqueous tetramethylammonium hydroxide solution (containing 2.38 parts of tetramethylammonium hydroxide in 100 parts of an aqueous solution) for 60 seconds, washed with water, and then 235 ° C on a hot plate. Was post-baked for 11 minutes to form a line and space pattern. It was 3 micrometers when the film thickness of the obtained pattern was measured using the film thickness measuring apparatus (DEKTAK3; Nippon Vacuum Technology Co., Ltd. product).

（２）解像度評価
上記のようにして線幅１０μｍのマスクを用いて形成したラインアンドスペースパターンを、走査型電子顕微鏡（Ｓ−４０００；（株）日立製作所製）で観察し、１０μｍを解像している場合を良好（○）と、１０μｍを解像していない場合を不良（×）と評価した。結果を表２に示す。 (2) Resolution Evaluation The line and space pattern formed using the mask having a line width of 10 μm as described above is observed with a scanning electron microscope (S-4000; manufactured by Hitachi, Ltd.), and 10 μm is resolved. The case where it is doing is evaluated as good (◯), and the case where 10 μm is not resolved is evaluated as bad (×). The results are shown in Table 2.

（３）透過率評価
線幅１００μｍのマスクを用いて形成したラインアンドスペースパターンのライン部において、透過率を測色機（ＯＳＰ−ＳＰ−２００；オリンパス（株）製）を用いて測定した。この結果を、「透過率（％）」として表２に示す。 (3) Transmittance evaluation In the line part of the line and space pattern formed using the mask of line | wire width of 100 micrometers, the transmittance | permeability was measured using the colorimeter (OSP-SP-200; Olympus Corporation | KK). The results are shown in Table 2 as “Transmittance (%)”.

３官能以上のチオール（Ｅ）、酸化防止剤（Ｆ）及び着色剤（Ｇ）を含有する組成物１〜３は１０μｍを解像できるのに対し、着色剤（Ｇ）を含有しない組成物Ｈ１は１０μｍを解像できなかった。   Compositions 1 to 3 containing trifunctional or higher thiol (E), antioxidant (F) and colorant (G) can resolve 10 μm, whereas composition H1 does not contain colorant (G). Could not resolve 10 μm.

３官能以上のチオール（Ｅ）、酸化防止剤（Ｆ）及び着色剤（Ｇ）を含有する本発明の組成物は、良好な解像度でパターンを形成できる。良好な解像度を示す本発明の組成物を使用すれば、高い歩留まりで高品質な表示装置を製造できる。特に本発明の組成物は、有機ＥＬ表示装置の画素の隔壁を製造するために有用である。   The composition of the present invention containing a tri- or higher functional thiol (E), an antioxidant (F) and a colorant (G) can form a pattern with good resolution. If the composition of the present invention exhibiting good resolution is used, a high-quality display device can be produced with a high yield. Especially the composition of this invention is useful in order to manufacture the partition of the pixel of an organic electroluminescence display.

Claims (9)

樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、３つ以上のスルファニル基を有する化合物、酸化防止剤、着色剤、及び溶剤を含み、前記樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体に由来する構造単位と；炭素−炭素二重結合及びエポキシ構造を有する単量体に由来する構造単位と；を含む共重合体であり、前記着色剤が、黄色顔料及び緑色顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むものであることを特徴とする有機ＥＬ表示装置の画素の隔壁用の着色感光性樹脂組成物。 A resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a compound having three or more sulfanyl groups, an antioxidant, a colorant, and a solvent, wherein the resin comprises an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride. and structural units derived from at least one monomer selected from the group; carbon - a structural unit derived from a monomer having a carbon double bond and an epoxy structure; Ri copolymer der containing the colored agent, colored photosensitive resin composition for the barrier ribs of a pixel of the organic EL display device characterized der Rukoto those containing at least one selected from the group consisting of yellow pigment and green pigment. 着色剤の含有量が、着色感光性樹脂組成物の固形分１００質量部に対して、３〜１０質量部である請求項１に記載の着色感光性樹脂組成物。   The colored photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the content of the colorant is 3 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the colored photosensitive resin composition. 着色感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターンの光の透過率が、波長４００ｎｍにおいて膜厚３μｍあたり０．１％以上３０％以下である請求項１または２に記載の着色感光性樹脂組成物。 The colored photosensitive resin composition according to claim 1 or 2 , wherein a light transmittance of a pattern formed using the colored photosensitive resin composition is 0.1% or more and 30% or less per 3 µm thickness at a wavelength of 400 nm. object. 炭素−炭素二重結合及びエポキシ構造を有する単量体が、式（ｂ１）で表される化合物及び式（ｂ２）で表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物。

［式（ｂ１）及び式（ｂ２）中、Ｒ1は、水素原子又はＣ1-4飽和脂肪族炭化水素基を表し、前記の飽和脂肪族炭化水素基の水素原子は−ＯＨで置換されていてもよい。
Ｌ1は、単結合又は２価のＣ1-6飽和脂肪族炭化水素基を表し、前記２価の飽和脂肪族炭化水素基の−ＣＨ2−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ2−で置換されていてもよく、前記Ｒ2は、水素原子又はＣ1-10飽和脂肪族炭化水素基を表す。
なお式（ｂ１）中のＲ1及びＬ1は、それぞれ、式（ｂ２）中のＲ1及びＬ1と同じものでもよく、異なっていてもよい。］ The monomer having a carbon-carbon double bond and an epoxy structure is at least one selected from the group consisting of a compound represented by the formula (b1) and a compound represented by the formula (b2). The colored photosensitive resin composition according to any one of 3 above.

[In Formula (b1) and Formula (b2), R 1 represents a hydrogen atom or a C 1-4 saturated aliphatic hydrocarbon group, and the hydrogen atom of the saturated aliphatic hydrocarbon group is substituted with —OH. May be.
L 1 represents a single bond or a divalent C 1-6 saturated aliphatic hydrocarbon group, and —CH 2 — of the divalent saturated aliphatic hydrocarbon group represents —O—, —S— or —NR. 2 - may be substituted with, said R 2 represents a hydrogen atom or a C 1-10 saturated aliphatic hydrocarbon group.
R 1 and L 1 in formula (b1) may be the same as or different from R 1 and L 1 in formula (b2), respectively. ] 光重合開始剤が、ビイミダゾール化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物。 The colored photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 4 , wherein the photopolymerization initiator is a biimidazole compound. 請求項１〜５のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物を用いて形成される塗膜。 The coating film formed using the colored photosensitive resin composition in any one of Claims 1-5 . 請求項１〜５のいずれかに記載の着色感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン。 The pattern formed using the colored photosensitive resin composition in any one of Claims 1-5 . 請求項７に記載のパターンの有機ＥＬ表示装置の画素の隔壁としての使用。 Use of the pattern according to claim 7 as a partition wall of a pixel of an organic EL display device. 請求項６に記載の塗膜及び請求項７に記載のパターンよりなる群から選ばれる少なくとも１種を含む有機ＥＬ表示装置。 An organic EL display device comprising at least one selected from the group consisting of the coating film according to claim 6 and the pattern according to claim 7 .
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