JP2012058728A - Photosensitive resin composition - Google Patents

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龍一 松浦
Kazuo Takebe
和男 武部
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition with which a coating film or a pattern having high transmittance for visible light can be formed.SOLUTION: The photosensitive resin composition contains resin (A), a polymerizable compound (B), a polymerization initiator (C), and a solvent (D). The polymerization initiator (C) contains a compound expressed by formula (1). In formula (1), Rrepresents a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms; Lrepresents an alkane-diyl group having 1 to 5 carbon atoms; Lrepresents a single bond or -CO-; Rrepresents a methyl group, a phenyl group or a benzyl group; and Rrepresents a phenylsulfanylphenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent.

Description

本発明は感光性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a photosensitive resin composition.

近年の液晶表示パネル等では、フォトスペーサやオーバーコートを形成するために、感光性樹脂組成物が用いられる。このような感光性樹脂組成物としては、例えば、樹脂、重合性化合物、重合開始剤及び溶剤を含み、重合開始剤がＮ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミンである感光性樹脂組成物が知られている（特許文献１）。   In recent liquid crystal display panels and the like, a photosensitive resin composition is used to form photo spacers and overcoats. Examples of such a photosensitive resin composition include a resin, a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a solvent, and the polymerization initiator is N-acetoxy-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl). A photosensitive resin composition that is -9H-carbazol-3-yl] ethane-1-imine is known (Patent Document 1).

特開２００８−１８１０８７号公報JP 2008-181087 A

しかしながら、従来から提案されている感光性樹脂組成物では、得られる塗膜やパターンの可視光透過率の点で、必ずしも十分に満足できない場合があった。   However, conventionally proposed photosensitive resin compositions may not always be sufficiently satisfactory in terms of the visible light transmittance of the resulting coating film or pattern.

本発明は以下の［１］〜［６］を提供するものである。
［１］樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含み、重合開始剤（Ｃ）が式（１）：

Figure 2012058728
［式（１）中、Ｒ１は、炭素数３〜８のシクロアルキル基を表す；
Ｌ１は、炭素数１〜５のアルカンジイル基を表す；
Ｌ２が、単結合又は−ＣＯ−を表す；
Ｒ２は、メチル基、フェニル基又はベンジル基を表す；
Ｒ３は、置換基を有していてもよいフェニルスルファニルフェニル基、又は置換基を有していてもよいカルバゾリル基を表す］
で表される化合物を含む重合開始剤である感光性樹脂組成物。
［２］式（１）におけるＬ２が、−ＣＯ−を表す前記［１］記載の感光性樹脂組成物。
［３］式（１）で表される化合物の含有量が、重合開始剤（Ｃ）の合計量に対して３０〜１００質量％である前記［１］又は前記［２］記載の感光性樹脂組成物。
［４］樹脂（Ａ）が、炭素数２〜４の環状エーテル構造及び炭素−炭素不飽和二重結合を有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である前記［１］〜［３］のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
［５］前記［１］〜［４］のいずれかに記載の感光性樹脂組成物により得られる塗膜。
［６］前記［１］〜［４］のいずれかに記載の感光性樹脂組成物により得られるパターン。
［７］前記［５］記載の塗膜及び前記［６］記載のパターンからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む表示装置。 The present invention provides the following [1] to [6].
[1] A resin (A), a polymerizable compound (B), a polymerization initiator (C), and a solvent (D), and the polymerization initiator (C) is represented by the formula (1):
Figure 2012058728
 [In formula (1), R 1 represents a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms;
L 1 represents an alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms;
L 2 represents a single bond or -CO-;
R 2 represents a methyl group, a phenyl group or a benzyl group;
R 3 represents a phenylsulfanylphenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent]
The photosensitive resin composition which is a polymerization initiator containing the compound represented by these.
[2] The photosensitive resin composition according to the above [1], wherein L 2 in the formula (1) represents —CO—.
[3] The photosensitive resin according to [1] or [2], wherein the content of the compound represented by the formula (1) is 30 to 100% by mass with respect to the total amount of the polymerization initiator (C). Composition.
[4] The above [1] to [3], wherein the resin (A) is a resin containing a structural unit derived from a monomer having a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms and a carbon-carbon unsaturated double bond. The photosensitive resin composition in any one of 1.
[5] A coating film obtained from the photosensitive resin composition according to any one of [1] to [4].
[6] A pattern obtained from the photosensitive resin composition according to any one of [1] to [4].
[7] A display device comprising at least one selected from the group consisting of the coating film according to [5] and the pattern according to [6].

本発明の感光性樹脂組成物によれば、可視光透過率の高い塗膜やパターンを形成することができる。   According to the photosensitive resin composition of the present invention, a coating film or a pattern having high visible light transmittance can be formed.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、式（１）で表される化合物を含む重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含んで構成される。

Figure 2012058728
［式（１）中、Ｒ１は、炭素数３〜８のシクロアルキル基を表す。
Ｌ１は、炭素数１〜５のアルカンジイル基を表す。
Ｌ２は、単結合又は−ＣＯ−を表す。
Ｒ２は、メチル基、フェニル基又はベンジル基を表す。
Ｒ３は、置換基を有していてもよいフェニルスルファニルフェニル基、又は置換基を有していてもよいカルバゾリル基を表す。］
なお、本明細書においては、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は組合せて使用することができる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The photosensitive resin composition of the present invention comprises a resin (A), a polymerizable compound (B), a polymerization initiator (C) containing a compound represented by formula (1), and a solvent (D). .
Figure 2012058728
 [In formula (1), R 1 represents a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms.
L 1 represents an alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms.
L 2 represents a single bond or —CO—.
R 2 represents a methyl group, a phenyl group or a benzyl group.
R 3 represents a phenylsulfanylphenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent. ]
In addition, in this specification, the compound illustrated as each component can be used individually or in combination unless there is particular notice.

本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂（Ａ）を含む。樹脂（Ａ）としては、アルカリ可溶性樹脂が好ましい。アルカリ可溶性樹脂とは、後述する現像液に溶解する樹脂である。
本発明の感光性樹脂組成物に用いられる樹脂（Ａ）としては、例えば、
樹脂（Ａ−１）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種（ａ）（以下「（ａ）」という場合がある）と、炭素数２〜４の環状エーテル構造及び炭素−炭素不飽和二重結合を有する単量体（ｂ）（以下「（ｂ）」という場合がある）とを重合してなる共重合体、及び
樹脂（Ａ−２）：（ａ）と、（ｂ）と、（ａ）及び（ｂ）と共重合可能な単量体（ｃ）（ただし、炭素数２〜４の環状エーテル構造は有さない。）（以下「（ｃ）」という場合がある）とを重合してなる共重合体
樹脂（Ａ−３）：（ａ）と（ｃ）とを重合してなる共重合体
樹脂（Ａ−４）：（ａ）と（ｃ）との共重合体に、（ｂ）を反応させて得られる樹脂
樹脂（Ａ−５）：（ｂ）と（ｃ）との共重合体に、（ａ）を反応させて得られる樹脂
等が挙げられる。樹脂（Ａ）としては、樹脂（Ａ−１）及び樹脂（Ａ−２）が好ましく、樹脂（Ａ−１）がより好ましい。 The photosensitive resin composition of this invention contains resin (A). As the resin (A), an alkali-soluble resin is preferable. The alkali-soluble resin is a resin that dissolves in a developer described later.
Examples of the resin (A) used in the photosensitive resin composition of the present invention include:
Resin (A-1): at least one (a) selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic acid anhydride (hereinafter sometimes referred to as “(a)”), and having 2 to 4 carbon atoms A copolymer obtained by polymerizing a monomer (b) having a cyclic ether structure and a carbon-carbon unsaturated double bond (hereinafter sometimes referred to as “(b)”), and a resin (A-2): Monomer (c) copolymerizable with (a), (b), (a) and (b) (however, it does not have a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms) (hereinafter referred to as “( c) "may be referred to as a copolymer) Resin (A-3): a copolymer obtained by polymerizing (a) and (c) Resin (A-4): (a) A resin obtained by reacting (b) with a copolymer of (b) and (c) Resin (A-5): (a) is reacted with a copolymer of (b) and (c) Examples thereof include resins obtained. As resin (A), resin (A-1) and resin (A-2) are preferable, and resin (A-1) is more preferable.

（ａ）としては、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３−ビニルフタル酸、４−ビニルフタル酸、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１、４−シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類；
メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物類；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）等の不飽和ジカルボン酸類無水物； Specific examples of (a) include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, o-vinylbenzoic acid, m-vinylbenzoic acid, and p-vinylbenzoic acid;
Maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, 3-vinylphthalic acid, 4-vinylphthalic acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic acid, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, dimethyl Unsaturated dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and 1,4-cyclohexene dicarboxylic acid;
Methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 5-carboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-6-methylbicyclo Bicyclounsaturated compounds containing a carboxy group such as [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene;
Maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,3,6- Unsaturated dicarboxylic acid anhydrides such as tetrahydrophthalic anhydride, dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene anhydride (hymic acid anhydride);

こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル類；
α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート類等が挙げられる。
これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が共重合反応性の点やアルカリ溶解性の点から好ましく用いられる。
ここで、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。「（メタ）アクリロイル」及び「（メタ）アクリレート」等の表記も同様の意味を有する。 Unsaturated mono [(meth) acryloyloxyalkyl] esters of polyvalent carboxylic acids such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] Kind;
Examples thereof include unsaturated acrylates containing a hydroxy group and a carboxy group in the same molecule, such as α- (hydroxymethyl) acrylic acid.
Of these, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and the like are preferably used from the viewpoint of copolymerization reactivity and alkali solubility.
Here, in this specification, “(meth) acrylic acid” represents at least one selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid. Notations such as “(meth) acryloyl” and “(meth) acrylate” have the same meaning.

（ｂ）は、例えば、炭素数２〜４の環状エーテル構造（例えば、オキシラン環、オキセタン環およびテトラヒドロフラン環（オキソラン環）からなる群から選ばれる少なくとも１種）を有する重合性化合物をいう。（ｂ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造と炭素−炭素不飽和二重結合とを有する単量体であることが好ましく、炭素数２〜４の環状エーテル構造と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。   (B) refers to a polymerizable compound having, for example, a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms (for example, at least one selected from the group consisting of an oxirane ring, an oxetane ring and a tetrahydrofuran ring (oxolane ring)). (B) is preferably a monomer having a C2-C4 cyclic ether structure and a carbon-carbon unsaturated double bond, and a C2-C4 cyclic ether structure and (meth) acryloyloxy A monomer having a group is more preferable.

（ｂ）としては、例えば、オキシラニル基を有する単量体（ｂ１）（以下「（ｂ１）」という場合がある）、オキセタニル基を有する単量体（ｂ２）（以下「（ｂ２）」という場合がある）、テトラヒドロフリル基を有する単量体（ｂ３）（以下「（ｂ３）」という場合がある）などが挙げられる。   Examples of (b) include a monomer (b1) having an oxiranyl group (hereinafter sometimes referred to as “(b1)”), a monomer (b2) having an oxetanyl group (hereinafter referred to as “(b2)”) And a monomer (b3) having a tetrahydrofuryl group (hereinafter sometimes referred to as “(b3)”).

オキシラニル基を有する単量体（ｂ１）とは、オキシラニル基を有する重合性化合物を指す。（ｂ１）としては、例えば、鎖式オレフィンをエポキシ化した構造と炭素−炭素不飽和二重結合とを有する単量体（ｂ１−１）（以下「（ｂ１−１）」という場合がある）、不飽和脂環式炭化水素をエポキシ化した構造と炭素−炭素不飽和二重結合とを有する単量体（ｂ１−２）（以下「（ｂ１−２）」という場合がある）が挙げられる。
（ｂ１）としては、オキシラニル基と炭素−炭素不飽和二重結合とを有する単量体であることが好ましく、オキシラニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（ｂ１−２）がさらに好ましい。 The monomer (b1) having an oxiranyl group refers to a polymerizable compound having an oxiranyl group. As (b1), for example, a monomer (b1-1) having a structure obtained by epoxidizing a chain olefin and a carbon-carbon unsaturated double bond (hereinafter sometimes referred to as “(b1-1)”) And a monomer (b1-2) having a structure obtained by epoxidizing an unsaturated alicyclic hydrocarbon and a carbon-carbon unsaturated double bond (hereinafter sometimes referred to as “(b1-2)”). .
(B1) is preferably a monomer having an oxiranyl group and a carbon-carbon unsaturated double bond, more preferably a monomer having an oxiranyl group and a (meth) acryloyloxy group, (B1-2) having an acryloyloxy group is more preferred.

（ｂ１−１）としては、具体的には、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、特開平７−２４８６２５号公報に記載される化合物等が挙げられる。   Specific examples of (b1-1) include glycidyl (meth) acrylate, β-methylglycidyl (meth) acrylate, β-ethylglycidyl (meth) acrylate, glycidyl vinyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinyl. Benzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-o-vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-m-vinylbenzyl glycidyl ether, α-methyl-p-vinylbenzyl glycidyl ether, 2,3-bis ( Glycidyloxymethyl) styrene, 2,4-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,5-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,6-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,4-tris ( Glycidyl oxime Chill) styrene, 2,3,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,6-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 3,4,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,4, Examples thereof include 6-tris (glycidyloxymethyl) styrene and compounds described in JP-A-7-248625.

（ｂ１−２）としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；ダイセル化学工業（株）製）、式（Ｉ）で表される化合物、式（ＩＩ）で表される化合物等が挙げられる。   Examples of (b1-2) include vinylcyclohexene monooxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (for example, Celoxide 2000; manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate (for example, cyclone). Mer A400; manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (for example, Cyclomer M100; manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), a compound represented by formula (I), formula (II) ) And the like.

Figure 2012058728
Figure 2012058728

［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒａ及びＲｂは、互いに独立に、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘ１及びＸ２は、互いに独立に、単結合、−Ｒｃ−、＊−Ｒｃ−Ｏ−、＊−Ｒｃ−Ｓ−、＊−Ｒｃ−ＮＨ−を表す。
Ｒｃは、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］ [In Formula (I) and Formula (II), R a and R b each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group is a hydroxy group. May be substituted.
X 1 and X 2 each independently represent a single bond, —R c —, * —R c —O—, * —R c —S—, or * —R c —NH—.
R c represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
* Represents a bond with O. ]

炭素数１〜４のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
Ｒａ及びＲｂとしては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。 Specific examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
Examples of the alkyl group substituted with a hydroxy group include a hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 1-hydroxy- Examples include 1-methylethyl group, 2-hydroxy-1-methylethyl group, 1-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, 4-hydroxybutyl group and the like.
R a and R b are preferably a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group and a 2-hydroxyethyl group, more preferably a hydrogen atom and a methyl group.

アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基等が挙げられる。
Ｘ１及びＸ２としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊−ＣＨ２−Ｏ−（＊はＯとの結合手を表す）基、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基が挙げられ、より好ましくは単結合、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group include methylene group, ethylene group, propane-1,2-diyl group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane- Examples include 1,6-diyl group.
X 1 and X 2 are preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, * —CH 2 —O— (* represents a bond to O), or * —CH 2 CH 2 —O— group. More preferably, a single bond and a * —CH 2 CH 2 —O— group are mentioned.

式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−１５）で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式（Ｉ−１）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−５）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）、式（Ｉ−１１）〜式（Ｉ−１５）が挙げられる。より好ましくは式（Ｉ−１）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）、式（Ｉ−１５）が挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (I) include compounds represented by the formula (I-1) to the formula (I-15). Preferably Formula (I-1), Formula (I-3), Formula (I-5), Formula (I-7), Formula (I-9), Formula (I-11) to Formula (I-15) Is mentioned. More preferably, Formula (I-1), Formula (I-7), Formula (I-9), and Formula (I-15) are mentioned.

Figure 2012058728
Figure 2012058728

式（ＩＩ）で表される化合物としては、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−１５）で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−３）、式（ＩＩ−５）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）、式（ＩＩ−１１）〜式（ＩＩ−１５）が挙げられる。
より好ましくは式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）、式（ＩＩ−１５）が挙げられる。 Examples of the compound represented by the formula (II) include compounds represented by the formula (II-1) to the formula (II-15). Preferably Formula (II-1), Formula (II-3), Formula (II-5), Formula (II-7), Formula (II-9), Formula (II-11) to Formula (II-15) Is mentioned.
More preferably, Formula (II-1), Formula (II-7), Formula (II-9), and Formula (II-15) are mentioned.

Figure 2012058728
Figure 2012058728

式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物は、それぞれ単独で用いることができる。また、それらは、任意の比率で混合することができる。混合する場合、その混合比率はモル比で、好ましくは式（Ｉ）：式（ＩＩ）で、５：９５〜９５：５、より好ましくは１０：９０〜９０：１０、とりわけ好ましくは２０：８０〜８０：２０である。   The compound represented by the formula (I) and the compound represented by the formula (II) can be used alone. They can also be mixed in any ratio. In the case of mixing, the mixing ratio is a molar ratio, preferably 5:95 to 95: 5, more preferably 10:90 to 90:10, particularly preferably 20:80 in the formula (I): formula (II). ~ 80: 20.

オキセタニル基を有する単量体（ｂ２）とは、オキセタニル基を有する重合性化合物を指す。（ｂ２）としては、オキセタニル基と炭素−炭素不飽和二重結合とを有する単量体であることが好ましく、オキセタニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。（ｂ２）としては、例えば、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。   The monomer (b2) having an oxetanyl group refers to a polymerizable compound having an oxetanyl group. (B2) is preferably a monomer having an oxetanyl group and a carbon-carbon unsaturated double bond, and more preferably a monomer having an oxetanyl group and a (meth) acryloyloxy group. Examples of (b2) include 3-methyl-3- (meth) acryloyloxymethyl oxetane, 3-ethyl-3- (meth) acryloyloxymethyl oxetane, 3-methyl-3- (meth) acryloyloxyethyl oxetane, Examples include 3-ethyl-3- (meth) acryloyloxyethyl oxetane.

テトラヒドロフリル基を有する単量体（ｂ３）とは、テトラヒドロフリル基を有する重合性化合物を指す。（ｂ３）としては、テトラヒドロフリル基と炭素−炭素不飽和二重結合とを有する単量体であることが好ましく、テトラヒドロフリル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。
（ｂ３）としては、具体的には、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。 The monomer (b3) having a tetrahydrofuryl group refers to a polymerizable compound having a tetrahydrofuryl group. (B3) is preferably a monomer having a tetrahydrofuryl group and a carbon-carbon unsaturated double bond, and more preferably a monomer having a tetrahydrofuryl group and a (meth) acryloyloxy group.
Specific examples of (b3) include tetrahydrofurfuryl acrylate (for example, Biscoat V # 150, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), tetrahydrofurfuryl methacrylate, and the like.

（ｃ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートといわれている）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル類； Examples of (c) include (meth) acrylic acid such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, and tert-butyl (meth) acrylate. Alkyl esters;
Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate (in this technical field, dicyclopenta Nyl (meth) acrylate), (meth) acrylic acid cyclic alkyl esters such as dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate;

フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アリール又はアラルキルエステル類；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキルエステル類； Aryl (meth) acrylates or aralkyl esters such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate;
Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate, diethyl itaconate;
Hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate;

ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物類；   Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5- Hydroxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5- (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] Hept-2-ene, 5-methoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dihydroxybicyclo [2.2 .1] Hept-2-ene, 5,6-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (2′-hydroxyethyl) bicyclo [2.2. 1] hept-2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2. .1] hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-tert-butoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-cyclohexyloxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-phenoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-bis (tert-butoxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-bis (cyclohexyloxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene Bicyclo unsaturated compounds;

Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類；   N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimidobenzoate, N-succinimidyl-4-maleimidobutyrate, N-succinimidyl-6-maleimidocaproate, N-succinimidyl-3 -Dicarbonylimide derivatives such as maleimide propionate, N- (9-acridinyl) maleimide;

スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等が挙げられる。
これらのうち、スチレン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等が、共重合反応性及びアルカリ溶解性の点から好ましい。 Styrene, α-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyl toluene, p-methoxystyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate, 1,3-butadiene , Isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene and the like.
Of these, styrene, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene and the like are preferable from the viewpoint of copolymerization reactivity and alkali solubility.

樹脂（Ａ−１）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ−１）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構造単位：５〜６０モル％（より好ましくは１０〜５０モル％）
（ｂ）に由来する構造単位：４０〜９５モル％（より好ましくは５０〜９０モル％）
樹脂（Ａ−１）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性及び機械強度が良好になる傾向がある。
樹脂（Ａ−１）としては、（ｂ）が（ｂ１）である樹脂が好ましく、（ｂ）が（ｂ１−２）である樹脂がより好ましい。 In resin (A-1), it is preferable that the ratio of the structural unit derived from each monomer exists in the following ranges with respect to the total number of moles of the structural unit constituting the resin (A-1).
Structural unit derived from (a): 5 to 60 mol% (more preferably 10 to 50 mol%)
Structural unit derived from (b): 40 to 95 mol% (more preferably 50 to 90 mol%)
When the ratio of the structural unit of the resin (A-1) is in the above range, the storage stability of the photosensitive resin composition, the developability when forming a pattern from the photosensitive resin composition, and the coating obtained There exists a tendency for the solvent resistance of a film | membrane and a pattern, heat resistance, and mechanical strength to become favorable.
As the resin (A-1), a resin in which (b) is (b1) is preferable, and a resin in which (b) is (b1-2) is more preferable.

樹脂（Ａ−１）は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。   Resin (A-1) is, for example, a method described in the document “Experimental Method for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu, published by Kagaku Dojin Co., Ltd., First Edition, First Edition, issued March 1, 1972) and It can manufacture with reference to the cited reference described in the said literature.

具体的には、（ａ）及び（ｂ）の所定量、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が例示される。なお、ここで用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているもののいずれをも使用することができる。例えば、重合開始剤としては、アゾ化合物（２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等）や有機過酸化物（ベンゾイルペルオキシド等）が挙げられ、溶剤としては、各単量体を溶解するものであればよく、感光性樹脂組成物の溶剤として後述する溶剤（Ｄ）等を用いることができる。   Specifically, a predetermined amount of (a) and (b), a polymerization initiator, a solvent, and the like are placed in a reaction vessel, for example, by substituting oxygen with nitrogen to create a deoxygenated atmosphere, with stirring, The method of heating and heat retention is illustrated. In addition, the polymerization initiator, the solvent, and the like used here are not particularly limited, and any of those usually used in the field can be used. For example, as polymerization initiators, azo compounds (2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), etc.) and organic peroxides (benzoyl peroxide, etc.) Any solvent may be used as long as it dissolves each monomer, and a solvent (D) described later can be used as a solvent for the photosensitive resin composition.

なお、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。特に、この重合の際に溶剤として、後述する溶剤（Ｄ）と同一の溶剤を使用することにより、反応後の溶液をそのまま使用することができ、製造工程を簡略化することができる。   In addition, the obtained copolymer may use the solution after reaction as it is, a concentrated or diluted solution may be used, and it took out as solid (powder) by methods, such as reprecipitation. Things may be used. In particular, by using the same solvent as the solvent (D) described later as the solvent in this polymerization, the solution after the reaction can be used as it is, and the production process can be simplified.

樹脂（Ａ−２）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ−２）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構造単位：２〜４０モル％（より好ましくは５〜３５モル％）
（ｂ）に由来する構造単位：２〜９５モル％（より好ましくは５〜８０モル％）
（ｃ）に由来する構造単位：１〜６５モル％（より好ましくは１〜６０モル％）
樹脂（Ａ−２）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性及び機械強度が良好になる傾向がある。
樹脂（Ａ−２）としては、（ｂ）が（ｂ１）である樹脂が好ましく、（ｂ）が（ｂ１−２）である樹脂がより好ましい。
樹脂（Ａ−２）は、樹脂（Ａ−１）と同様の方法により製造することができる。 In resin (A-2), it is preferable that the ratio of the structural unit derived from each monomer exists in the following ranges with respect to the total number of moles of all structural units constituting the resin (A-2).
Structural unit derived from (a): 2 to 40 mol% (more preferably 5 to 35 mol%)
Structural unit derived from (b): 2 to 95 mol% (more preferably 5 to 80 mol%)
Structural unit derived from (c): 1 to 65 mol% (more preferably 1 to 60 mol%)
When the ratio of the structural unit of the resin (A-2) is in the above range, the storage stability of the photosensitive resin composition, the developability when forming a pattern from the photosensitive resin composition, and the coating obtained There exists a tendency for the solvent resistance of a film | membrane and a pattern, heat resistance, and mechanical strength to become favorable.
As the resin (A-2), a resin in which (b) is (b1) is preferable, and a resin in which (b) is (b1-2) is more preferable.
Resin (A-2) can be manufactured by the same method as resin (A-1).

樹脂（Ａ−３）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ−３）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構造単位：２〜４０モル％（より好ましくは５〜３５モル％）
（ｃ）に由来する構造単位：６０〜９８モル％（より好ましくは６５〜９５モル％）
樹脂（Ａ−３）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性及び機械強度が良好になる傾向がある。
樹脂（Ａ−３）は、樹脂（Ａ−１）と同様の方法により製造することができる。 In resin (A-3), it is preferable that the ratio of the structural unit derived from each monomer exists in the following ranges with respect to the total number of moles of all structural units constituting the resin (A-3).
Structural unit derived from (a): 2 to 40 mol% (more preferably 5 to 35 mol%)
Structural unit derived from (c): 60 to 98 mol% (more preferably 65 to 95 mol%)
When the ratio of the structural unit of the resin (A-3) is in the above range, the storage stability of the photosensitive resin composition, the developability when forming a pattern from the photosensitive resin composition, and the coating obtained There exists a tendency for the solvent resistance of a film | membrane and a pattern, heat resistance, and mechanical strength to become favorable.
Resin (A-3) can be manufactured by the same method as resin (A-1).

樹脂（Ａ−４）及び樹脂（Ａ−５）は、例えば、二段階の工程を経て製造することができる。この場合も、上述した文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法、特開２００１−８９５３３号公報に記載された方法等を参考にして製造することができる。   Resin (A-4) and resin (A-5) can be manufactured through a two-step process, for example. In this case as well, the method described in the above-mentioned document “Experimental Methods for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu Publishing Co., Ltd., Chemical Dojin Co., Ltd., 1st edition, 1st edition, published on March 1, 1972), JP-A-2001-2001 It can be produced with reference to the method described in JP 89533.

樹脂（Ａ−４）は、まず、第一段階として、上述した樹脂（Ａ−１）の製造方法と同様にして、（ａ）と（ｃ）との共重合体を得る。
この場合、上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。
（ａ）及び（ｃ）に由来する構造単位の比率が、前記の共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構造単位：５〜５０モル％（より好ましくは１０〜４５モル％）
（ｃ）に由来する構造単位：５０〜９５モル％（より好ましくは５５〜９０モル％） First, the resin (A-4) is obtained as a first step in the same manner as in the method for producing the resin (A-1) described above to obtain a copolymer of (a) and (c).
In this case, in the same manner as described above, the obtained copolymer may be used as it is as the solution after the reaction, or may be a concentrated or diluted solution, or a solid ( You may use what was taken out as a powder.
The ratio of the structural units derived from (a) and (c) is preferably in the following range with respect to the total number of moles of all the structural units constituting the copolymer.
Structural unit derived from (a): 5 to 50 mol% (more preferably 10 to 45 mol%)
Structural unit derived from (c): 50 to 95 mol% (more preferably 55 to 90 mol%)

次に、第二段階として、得られた共重合体に由来する（ａ）のカルボン酸及びカルボン酸無水物の一部を、（ｂ）の環状エーテルと反応させる。環状エーテルの反応性が高く、未反応の（ｂ）が残存しにくいことから、（ｂ）としては（ｂ１）が好ましく、さらに（ｂ１−１）が好ましい。
具体的には、上記に引き続き、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、（ａ）のモル数に対して、５〜８０モル％の（ｂ）、カルボキシ基と環状エーテルとの反応触媒（例えばトリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等）を（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計量に対して０．００１〜５質量％、及び重合禁止剤（例えばハイドロキノン等）を（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計量に対して０．００１〜５質量％をフラスコ内に入れて、６０〜１３０℃で、１〜１０時間反応させ、樹脂（Ａ−４）を得ることができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整することができる。
また、この場合、（ｂ）のモル数は、（ａ）のモル数に対して、１０〜７５モル％とすることが好ましく、より好ましくは１５〜７０モル％である。（ｂ）のモル数をこの範囲とすることにより、保存安定性、耐溶剤性及び耐熱性のバランスが良好になる傾向がある。 Next, as a second step, the carboxylic acid (a) and a part of the carboxylic anhydride derived from the obtained copolymer are reacted with the cyclic ether (b). Since the reactivity of the cyclic ether is high and unreacted (b) hardly remains, (b1) is preferable as (b), and (b1-1) is more preferable.
Specifically, following the above, the atmosphere in the flask was replaced from nitrogen to air, and 5 to 80 mol% (b) of a reaction catalyst of a carboxy group and a cyclic ether with respect to the number of moles of (a) ( For example, tris (dimethylaminomethyl) phenol) is 0.001 to 5% by mass with respect to the total amount of (a), (b) and (c), and a polymerization inhibitor (such as hydroquinone) is (a), 0.001-5 mass% is put in a flask with respect to the total amount of (b) and (c), and it is made to react at 60-130 degreeC for 1 to 10 hours, and resin (A-4) is obtained. it can. In addition, like the polymerization conditions, the charging method and the reaction temperature can be appropriately adjusted in consideration of the production equipment, the amount of heat generated by the polymerization, and the like.
In this case, the number of moles of (b) is preferably 10 to 75 mole%, more preferably 15 to 70 mole%, with respect to the number of moles of (a). By setting the number of moles of (b) within this range, the balance between storage stability, solvent resistance and heat resistance tends to be good.

樹脂（Ａ−４）の具体例としては、（メタ）アクリル酸／ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／スチレンの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸メチルの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート／シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート／スチレンの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸メチルの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸／ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸／ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂；   Specific examples of the resin (A-4) include a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate with glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / benzyl ( Resin in which glycidyl (meth) acrylate is reacted with a copolymer of (meth) acrylate, resin in which glycidyl (meth) acrylate is reacted with a copolymer of (meth) acrylic acid / cyclohexyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Resin obtained by reacting acid / styrene copolymer with glycidyl (meth) acrylate, resin obtained by reacting (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) acrylate, (meth) Glycidyl (meth) acrylate was reacted with an acrylic acid / N-cyclohexylmaleimide copolymer. Fat, resin made by reacting (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meta ) Resin prepared by reacting acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene copolymer glycidyl (meth) acrylate , A resin obtained by reacting (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / di Cyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimi Copolymer glycidyl (meth) resins obtained by reacting an acrylate, glycidyl on copolymers of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate (meth) resins obtained by reacting acrylate;

クロトン酸／ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸／シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸／スチレンの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸／クロトン酸メチルの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレンの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/クロトン酸メチルの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂；   Crotonic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer reacted with glycidyl (meth) acrylate, crotonic acid / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer reacted with glycidyl (meth) acrylate, crotonic acid / Styrene copolymer reacted with glycidyl (meth) acrylate, Crotonic acid / Methyl crotonic acid copolymer reacted with glycidyl (meth) acrylate, Crotonic acid / N-cyclohexylmaleimide copolymer Resin in which glycidyl (meth) acrylate was reacted with the polymer, resin in which glycidyl (meth) acrylate was reacted with the copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate, crotonic acid / di Cyclopentanyl (meth) acrylate / cycle A resin obtained by reacting a copolymer of hexyl (meth) acrylate with glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene with glycidyl (meth) acrylate, Crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl crotonic acid copolymer reacted with glycidyl (meth) acrylate, copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide Resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with the coalescence;

マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/スチレンの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/マレイン酸メチルの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレンの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/マレイン酸メチルの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂；   Resin obtained by reacting maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) acrylate, and resin obtained by reacting maleic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) acrylate , A resin obtained by reacting maleic acid / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting maleic acid / styrene copolymer with glycidyl (meth) acrylate, maleic acid / maleic acid Resin prepared by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of methyl, resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of maleic acid / N-cyclohexylmaleimide, maleic acid / dicyclopentanyl (meth) Acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer Resin obtained by reacting ricidyl (meth) acrylate, resin obtained by reacting maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) acrylate, maleic acid / dicyclopenta Nyl (meth) acrylate / styrene copolymer reacted with glycidyl (meth) acrylate, maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl maleate copolymer reacted with glycidyl (meth) acrylate A resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide;

（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/スチレンの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/（メタ）アクリル酸メチルの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレンの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/（メタ）アクリル酸メチルの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させた樹脂；   Resin obtained by reacting (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / benzyl (meth) Resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of acrylate, resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / cyclohexyl (meth) acrylate, Resin obtained by reacting a meth) acrylic acid / maleic anhydride / styrene copolymer with glycidyl (meth) acrylate, and a glycidyl (meth) acrylic acid / maleic anhydride / methyl (meth) acrylate copolymer Resin reacted with (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / N-cyclohexylmale Resin prepared by reacting imide copolymer with glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) ) Acrylate-reacted resin, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer, and glycidyl (meth) acrylate resin ( Resin made by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopenta Nyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate copolymer with glycidyl (meth) Resins obtained by reacting acrylate, (meth) resin obtained by reacting a copolymer glycidyl (meth) acrylate acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N- cyclohexyl maleimide;

（メタ）アクリル酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/スチレンの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/（メタ）アクリル酸メチルの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレンの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/（メタ）アクリル酸メチルの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂；   Resin obtained by reacting (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate copolymer with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer 3 , 4-Epoxycyclohexylmethyl methacrylate resin, (Meth) acrylic acid / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate reaction resin, (Meth) acrylic acid / styrene A resin prepared by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (4), a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid / N-cyclohexyl male Resin prepared by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of imide, and 3,4-epoxy with a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate A resin obtained by reacting cyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate, (meth ) A resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene, (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / (meta ) 3, 4 in methyl acrylate copolymer A resin obtained by reacting epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/スチレンの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/クロトン酸メチルの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレンの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/クロトン酸メチルの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、クロトン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂；   Crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate copolymer reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate; Crotonic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer with 3,4-epoxycyclohexylmethyl Resin in which methacrylate is reacted, Resin in which crotonic acid / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer is reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, Crotonic acid / styrene copolymer in 3,4-epoxycyclohexylmethyl Resin reacted with methacrylate, Crotonic acid / methyl crotonate copolymer reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, Crotonic acid / N-cyclohexylmaleimide copolymer, 3,4-epoxycyclohexyl Methylme Resin in which acrylate was reacted, Crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate reacted in resin, crotonic acid / dicyclopentanyl A resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene, 3,4 -Resin reacted with epoxycyclohexylmethyl methacrylate, Resin obtained by reacting crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl crotonic acid copolymer with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, crotonic acid / dicyclo Pentanyl (Me ) Acrylate / N- cyclohexyl maleimide copolymer resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/スチレンの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/マレイン酸メチルの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレンの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/マレイン酸メチルの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、マレイン酸/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂；   A resin obtained by reacting a maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate copolymer with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and a maleic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer with 3,4-epoxycyclohexylmethyl Resin reacted with methacrylate, Resin reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate on maleic acid / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer, 3,4-epoxycyclohexylmethyl on maleic acid / styrene copolymer Resin reacted with methacrylate, Resin reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate on copolymer of maleic acid / methyl maleate, 3,4-epoxycyclohexyl on copolymer of maleic acid / N-cyclohexylmaleimide Methylme Resin in which acrylate is reacted, Resin in which 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate is reacted with a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate, maleic acid / dicyclopentanyl Resin obtained by reacting (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate; 3,4 for maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene copolymer -Resin obtained by reacting epoxycyclohexylmethyl methacrylate, resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl maleate, maleic acid / dicyclohexane Pentanyl (Me ) Acrylate / N- cyclohexyl maleimide copolymer resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/スチレンの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/（メタ）アクリル酸メチルの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレートの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレンの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/（メタ）アクリル酸メチルの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸/マレイン酸無水物/ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミドの共重合体に３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートを反応させた樹脂等が挙げられる。   (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate copolymer reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / benzyl Resin obtained by reacting (meth) acrylate copolymer with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate; (meth) acrylic acid / maleic anhydride / cyclohexyl (meth) acrylate copolymer with 3,4-epoxycyclohexyl Resin in which methyl methacrylate is reacted, Resin in which 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate is reacted with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / styrene, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / Copolymer of methyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexene Resin reacted with silmethyl methacrylate, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / N-cyclohexylmaleimide copolymer, resin reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, (meth) acrylic acid / maleic Resin prepared by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of acid anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclo Resin prepared by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of pentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate 3,4-epoxy on styrene / styrene copolymer 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate was added to a resin obtained by reacting cyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate. Examples include a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide. It is done.

樹脂（Ａ−５）は、第一段階として、上述した樹脂（Ａ−１）の製造方法と同様にして、（ｂ）と（ｃ）との共重合体を得る。
この場合、上記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。
（ｂ）及び（ｃ）に由来する構造単位の比率が、前記の共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｂ）に由来する構造単位：５〜９５モル％（より好ましくは１０〜９０モル％）
（ｃ）に由来する構造単位：５〜９５モル％（より好ましくは１０〜９０モル％） Resin (A-5) obtains a copolymer of (b) and (c) as the first step in the same manner as in the method for producing resin (A-1) described above.
In this case, in the same manner as described above, the obtained copolymer may be used as it is as the solution after the reaction, or may be a concentrated or diluted solution, or a solid ( You may use what was taken out as a powder.
The ratio of the structural units derived from (b) and (c) is preferably in the following range with respect to the total number of moles of all the structural units constituting the copolymer.
Structural unit derived from (b): 5 to 95 mol% (more preferably 10 to 90 mol%)
Structural unit derived from (c): 5 to 95 mol% (more preferably 10 to 90 mol%)

さらに、樹脂（Ａ−４）の製造方法と同様にして、（ｂ）と（ｃ）との共重合体中の（ｂ）に由来する環状エーテルに、（ａ）が有するカルボン酸又はカルボン酸無水物を反応させることにより得ることができる。
前記の共重合体に反応させる（ａ）の使用量は、（ｂ）のモル数に対して５〜８０モル％であることが好ましい。環状エーテルの反応性が高く、未反応の（ｂ）が残存しにくいことから、（ｂ）としては（ｂ１）が好ましく、さらに（ｂ１−１）が好ましい。
環状エーテルとカルボン酸又はカルボン酸無水物との反応により発生するヒドロキシ基に、さらにカルボン酸無水物を反応させてもよい。カルボン酸無水物を反応させることにより、酸価を調整することができる。カルボン酸無水物としては、無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）等が挙げられる。カルボン酸無水物の使用量は、（ａ）の使用量１モルに対して、０．５〜１モルが好ましい。 Further, in the same manner as in the production method of the resin (A-4), the cyclic ether derived from (b) in the copolymer of (b) and (c) is added to the carboxylic acid or carboxylic acid that (a) has. It can be obtained by reacting an anhydride.
The amount of (a) used to react with the copolymer is preferably 5 to 80 mol% with respect to the number of moles of (b). Since the reactivity of the cyclic ether is high and unreacted (b) hardly remains, (b1) is preferable as (b), and (b1-1) is more preferable.
A carboxylic acid anhydride may be further reacted with a hydroxy group generated by the reaction of a cyclic ether with a carboxylic acid or a carboxylic acid anhydride. The acid value can be adjusted by reacting the carboxylic acid anhydride. Carboxylic anhydrides include maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1 2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, dimethyltetrahydrophthalic anhydride, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene anhydride (highmic acid anhydride) and the like. It is done. As for the usage-amount of carboxylic acid anhydride, 0.5-1 mol is preferable with respect to 1 mol of usage-amount of (a).

樹脂（Ａ−５）の具体例としては、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ベンジル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、シクロヘキシル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、スチレン/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸メチル/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレン/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、（ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/（メタ）アクリル酸メチル/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂；   Specific examples of the resin (A-5) include a resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate with (meth) acrylic acid, benzyl (meth) acrylate / glycidyl ( Resin in which (meth) acrylic acid is reacted with a copolymer of (meth) acrylate, resin in which (meth) acrylic acid is reacted with a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate, styrene / glycidyl ( Resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with a copolymer of (meth) acrylate, resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with a copolymer of methyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate, N-cyclohexyl A resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with a maleimide / glycidyl (meth) acrylate copolymer Resin obtained by reacting clopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer with (meth) acrylic acid, dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl ( Resin in which (meth) acrylic acid is reacted with a copolymer of (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid is reacted with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene / glycidyl (meth) acrylate , (Dicyclopentanyl (meth) acrylate / Methyl (meth) acrylate / Glycidyl (meth) acrylate copolymer) Resin obtained by reacting (meth) acrylic acid, Dicyclopentanyl (meth) acrylate / N- Copolymerization of cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate Body (meth) resins obtained by reacting an acrylic acid;

ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ベンジル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、シクロヘキシル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、スチレン/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、クロトン酸メチル/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレン/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/クロトン酸メチル/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂；   Resin obtained by reacting crotonic acid with dicyclopentanyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer, resin obtained by reacting crotonic acid with benzyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer , A resin obtained by reacting crotonic acid with a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting styrene / glycidyl (meth) acrylate copolymer with crotonic acid, methyl crotonate / glycidyl Resin obtained by reacting crotonic acid with copolymer of (meth) acrylate, resin obtained by reacting crotonic acid with copolymer of N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (Meth) acrylate / Glycidyl (Meth) Ac Resin obtained by reacting crotonic acid with a copolymer of a rate, resin obtained by reacting crotonic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate, dicyclopenta Resin obtained by reacting crotonic acid with a copolymer of nyl (meth) acrylate / styrene / glycidyl (meth) acrylate, croton into a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl crotonic acid / glycidyl (meth) acrylate A resin obtained by reacting an acid, a resin obtained by reacting crotonic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate;

ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ベンジル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、シクロヘキシル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、スチレン/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、マレイン酸メチル/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレン/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/マレイン酸メチル/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂；   Resin made by reacting maleic acid with dicyclopentanyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer, resin made by reacting maleic acid with benzyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer , A resin in which maleic acid is reacted with a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate, a resin in which maleic acid is reacted with a copolymer of styrene / glycidyl (meth) acrylate, methyl maleate / glycidyl Resin in which maleic acid is reacted with copolymer of (meth) acrylate, resin in which maleic acid is reacted with copolymer of N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (Meth) acrylate / Glycidyl (Meth) Ac Resin in which maleic acid is reacted with a copolymer of a rate, resin in which maleic acid is reacted with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate, dicyclopenta Nyl (meth) acrylate / styrene / glycidyl (meth) acrylate copolymer maleic resin, dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl maleate / glycidyl (meth) acrylate copolymer A resin obtained by reacting an acid, a resin obtained by reacting a dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate copolymer with maleic acid;

ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ベンジル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、シクロヘキシル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、スチレン/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸メチル/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、（Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレート/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレン/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/（メタ）アクリル酸メチル/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂；   Resin obtained by reacting dicyclopentanyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, benzyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer Resin in which (meth) acrylic acid and maleic anhydride are reacted with, cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer in which (meth) acrylic acid and maleic anhydride are reacted, styrene Resin prepared by reacting (meth) acrylic acid and maleic anhydride with a copolymer of glycidyl / glycidyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid and a copolymer of methyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate Resin reacted with maleic anhydride, (N-cyclohexylmaleimide / glycidyl A resin obtained by reacting a (meth) acrylate copolymer with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, a dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer ( Resin obtained by reacting meth) acrylic acid and maleic anhydride, (meth) acrylic acid and maleic anhydride into dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate copolymer , A resin obtained by reacting (meth) acrylic acid and maleic anhydride with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene / glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) Acrylate / methyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate Resin obtained by reacting polymer with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, dimethypentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate copolymer with (meth) acrylic acid and maleic A resin reacted with an acid anhydride;

ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ベンジル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、シクロヘキシル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、スチレン/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸メチル/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレン/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/（メタ）アクリル酸メチル/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂；   Resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, copolymer of benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Resin in which (meth) acrylic acid is reacted with the polymer, Resin in which (meth) acrylic acid is reacted with the copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, styrene / 3,4-epoxy A resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with a copolymer of cyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with a copolymer of methyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epo A resin obtained by reacting a copolymer of cyclocyclohexylmethyl methacrylate with (meth) acrylic acid, a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (meta ) A resin obtained by reacting acrylic acid, a resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, Resin prepared by reacting a copolymer of pentanyl (meth) acrylate / styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with (meth) acrylic acid, dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate / 3 , 4-Epoxycyclohexylmethyl Resin of (meth) acrylic acid reacted with a copolymer of methacrylate, (meth) acrylic acid to a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Reacted resin;

ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ベンジル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、シクロヘキシル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、スチレン/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、クロトン酸メチル/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレン/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/クロトン酸メチル/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にクロトン酸を反応させた樹脂；   A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with crotonic acid, a copolymer of benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate and croton Acid-reacted resin, cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer, crotonic acid-reacted resin, styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer, croton Acid-reacted resin, Crotonic acid methyl / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer, Crotonic acid-reacted resin, N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer A resin obtained by reacting crotonic acid, a resin obtained by reacting crotonic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, dicyclopentanyl (meta ) A resin obtained by reacting crotonic acid with a copolymer of acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Resin obtained by reacting crotonic acid with copolymer, resin obtained by reacting crotonic acid with copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl crotonic acid / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, dicyclopentanyl (Meta) acryle Resin obtained by reacting crotonic acid with a copolymer of carbonate / N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ベンジル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、シクロヘキシル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、スチレン/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、マレイン酸メチル/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレン/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/マレイン酸メチル/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体にマレイン酸を反応させた樹脂；   Dicyclopentanyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer with maleic acid reacted, benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer with maleic acid Acid-reacted resin, cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer, maleic acid-reacted resin, styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer Resin in which acid is reacted, Resin in which maleic acid is reacted with copolymer of methyl maleate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, Copolymer of N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate A resin reacted with maleic acid, a resin obtained by reacting maleic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, dicyclopentanyl (meta ) Resin prepared by reacting maleic acid with a copolymer of acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Resin obtained by reacting maleic acid with copolymer, resin obtained by reacting maleic acid with copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl maleate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, dicyclopentanyl (Meta) acryle A resin obtained by reacting maleic acid with a copolymer of carbonate / N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ベンジル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、シクロヘキシル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、スチレン/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、（メタ）アクリル酸メチル/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/ベンジル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/シクロヘキシル（メタ）アクリレート/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/スチレン/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/（メタ）アクリル酸メチル/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート/Ｎ−シクロヘキシルマレイミド/３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸及びマレイン酸無水物を反応させた樹脂等が挙げられる。   Resin obtained by reacting (meth) acrylic acid and maleic anhydride with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexyl Resin obtained by reacting (meth) acrylic acid and maleic anhydride with a copolymer of methyl methacrylate, (meth) acrylic acid and maleic acid with a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexyl methyl methacrylate Resin in which anhydride is reacted, Resin in which (meth) acrylic acid and maleic anhydride are reacted with a copolymer of styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, methyl (meth) acrylate / 3,4- Copolymerization of epoxycyclohexylmethyl methacrylate. A resin obtained by reacting (meth) acrylic acid and maleic anhydride, and a copolymer obtained by reacting a copolymer of N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with (meth) acrylic acid and maleic anhydride. , A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, dicyclopentanyl ( Resin of (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer reacted with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl Resin obtained by reacting (meth) acrylic acid and maleic anhydride with a copolymer of tacrylate, copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (Meth) acrylic acid and maleic anhydride, and a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate to (meth) acrylic acid and Examples include resins reacted with maleic anhydride.

樹脂（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。樹脂（Ａ）の重量平均分子量が、前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の塗布性が良好となる傾向があり、またパターンを形成する際の現像による未硬化塗膜の画素部分の膜減りが生じにくく、さらに現像時に未硬化塗膜の非画素部分の抜け性（すなわち現像液への溶解性）が良好である傾向にある。   The weight average molecular weight in terms of polystyrene of the resin (A) is preferably 3,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of the resin (A) is in the above range, the applicability of the photosensitive resin composition tends to be good, and the pixel portion of the uncured coating film by development at the time of forming the pattern Film reduction is unlikely to occur, and the non-pixel portion of the uncured coating film tends to be easily removed (that is, the solubility in the developer) during development.

樹脂（Ａ）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０であり、より好ましくは１．２〜４．０である。分子量分布が、前記の範囲にあると、現像性に優れる傾向がある。   The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of the resin (A) is preferably 1.1 to 6.0, and more preferably 1.2 to 4.0. When the molecular weight distribution is in the above range, the developability tends to be excellent.

樹脂（Ａ）の酸価は、２０〜１５０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであり、好ましくは４０〜１３５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜１３５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇである。ここで酸価は樹脂（Ａ）１ｇを中和するために必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。   The acid value of the resin (A) is 20 to 150 mg-KOH / g, preferably 40 to 135 mg-KOH / g, more preferably 50 to 135 mg-KOH / g. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of the resin (A), and can be determined by titration using an aqueous potassium hydroxide solution.

樹脂（Ａ）の含有量は、樹脂（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）の合計量に対して、好ましくは５〜９５質量％、より好ましくは２０〜８０質量％であり、特に好ましくは４０〜６０質量％である。樹脂（Ａ）の含有量が、前記の範囲にあると、現像性、密着性、耐溶剤性、機械特性が良好になる傾向がある。   The content of the resin (A) is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and particularly preferably 40% with respect to the total amount of the resin (A) and the polymerizable compound (B). -60 mass%. When content of resin (A) exists in the said range, there exists a tendency for developability, adhesiveness, solvent resistance, and a mechanical characteristic to become favorable.

本発明の感光性樹脂組成物は、重合性化合物（Ｂ）を含む。
重合性化合物（Ｂ）は、重合開始剤（Ｃ）から発生した活性ラジカルによって重合しうる化合物であって、例えば、重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を有する化合物等であり、好ましくは（メタ）アクリル酸エステル化合物が挙げられる。 The photosensitive resin composition of the present invention contains a polymerizable compound (B).
The polymerizable compound (B) is a compound that can be polymerized by active radicals generated from the polymerization initiator (C), and is, for example, a compound having a polymerizable carbon-carbon unsaturated double bond, preferably A (meth) acrylic acid ester compound is mentioned.

重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を１つ有する重合性化合物（Ｂ）としては、前記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）として挙げた化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸エステル類が好ましい。   Examples of the polymerizable compound (B) having one polymerizable carbon-carbon unsaturated double bond include the compounds mentioned as the above (a), (b) and (c), and among them, (meth) acrylic Acid esters are preferred.

重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を２つ有する重合性化合物（Ｂ）としては、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。   Examples of the polymerizable compound (B) having two polymerizable carbon-carbon unsaturated double bonds include 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol (meth) acrylate, 1,6 -Hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate , Polyethylene glycol diacrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentylglycol Ruji (meth) acrylate, 3-methyl-pentanediol di (meth) acrylate.

重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を３つ以上有する重合性化合物（Ｂ）としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物等が挙げられる。中でも、３官能以上のモノマーが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートがより好ましい。   Examples of the polymerizable compound (B) having three or more polymerizable carbon-carbon unsaturated double bonds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and tris (2-hydroxyethyl) isocyanate. Nurate tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, tripentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, toner Pentaerythritol hepta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, reaction product of pentaerythritol tri (meth) acrylate and acid anhydride, reaction product of dipentaerythritol penta (meth) acrylate and acid anhydride, Tripentaerythritol hepta (meth) acrylate and acid anhydride caprolactone modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, caprolactone modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, caprolactone modified tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, Caprolactone-modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, caprolactone Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol penta (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol hepta ( (Meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol octa (meth) acrylate, reaction product of caprolactone-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate and acid anhydride, reaction of caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate and acid anhydride Products, caprolactone-modified tripentaerythritol hepta (meth) acrylate and acid anhydrides, etc. . Among these, a tri- or higher functional monomer is preferable, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate is more preferable.

重合性化合物（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）の合計量に対して、好ましくは５〜９５質量％、より好ましくは２０〜８０質量％である。重合性化合物（Ｂ）の含有量が、前記の範囲にあると、感度や、硬化されたパターンの強度や平滑性、信頼性、機械強度が良好になる傾向がある。   The content of the polymerizable compound (B) is preferably 5 to 95% by mass and more preferably 20 to 80% by mass with respect to the total amount of the resin (A) and the polymerizable compound (B). When the content of the polymerizable compound (B) is in the above range, the sensitivity, the strength and smoothness of the cured pattern, the reliability, and the mechanical strength tend to be good.

本発明の感光性樹脂組成物は、重合開始剤（Ｃ）を含み、重合開始剤（Ｃ）は式（１）で表される化合物（以下「化合物（１）」という場合がある）を含む。重合開始剤とは、光又は熱の作用により重合を開始する化合物である。   The photosensitive resin composition of the present invention contains a polymerization initiator (C), and the polymerization initiator (C) contains a compound represented by the formula (1) (hereinafter sometimes referred to as “compound (1)”). . A polymerization initiator is a compound that initiates polymerization by the action of light or heat.

Figure 2012058728
［式（１）中、Ｒ１は、炭素数３〜８のシクロアルキル基を表す。
Ｌ１は、炭素数１〜５のアルカンジイル基を表す。
Ｌ２は、単結合又は−ＣＯ−を表す。
Ｒ２は、メチル基、フェニル基又はベンジル基を表す。
Ｒ３は、置換基を有していてもよいフェニルスルファニルフェニル基、又は置換基を有していてもよいカルバゾリル基を表す。］
Figure 2012058728
 [In formula (1), R 1 represents a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms.
L 1 represents an alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms.
L 2 represents a single bond or —CO—.
R 2 represents a methyl group, a phenyl group or a benzyl group.
R 3 represents a phenylsulfanylphenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent. ]

炭素数３〜８のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基等が挙げられる。中でも、シクロペンチル基が好ましい。
炭素数１〜５のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、ペンタンジイル基等が挙げられる。中でも、メチレン基及びエチレン基が好ましい。
Ｌ２としては、−ＣＯ−が好ましい。Ｌ２が−ＣＯ−であると、得られる塗膜やパターンの可視光透過率が高い傾向がある。 Examples of the cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and a norbornyl group. Of these, a cyclopentyl group is preferred.
Examples of the alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanediyl group, and a pentanediyl group. Of these, a methylene group and an ethylene group are preferable.
L 2 is preferably —CO—. When L 2 is -CO-, visible light transmittance of the resulting coating film or a pattern tends to be high.

化合物（１）としては、式（１−１）〜式（１−３）で表される化合物が好ましい。これらの化合物であると、得られる塗膜やパターンの可視光透過率が高くなる傾向がある。   As the compound (1), compounds represented by formulas (1-1) to (1-3) are preferable. When these compounds are used, the visible light transmittance of the resulting coating film or pattern tends to increase.

Figure 2012058728
Figure 2012058728

本発明の感光性樹脂組成物は、重合開始剤（Ｃ）として、化合物（１）とは異なる重合開始剤（以下「重合開始剤（Ｃ０）」という場合がある。）を含んでいてもよい。重合開始剤（Ｃ０）としては、光又は熱の作用により重合を開始する化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。   The photosensitive resin composition of the present invention may contain, as the polymerization initiator (C), a polymerization initiator different from the compound (1) (hereinafter sometimes referred to as “polymerization initiator (C0)”). . The polymerization initiator (C0) is not particularly limited as long as it is a compound that initiates polymerization by the action of light or heat, and a known polymerization initiator can be used.

重合開始剤（Ｃ０）としては、例えば、ビイミダゾール化合物、アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物が挙げられる。また、特開２００８−１８１０８７号公報に記載された光及び／又は熱カチオン重合開始剤（例えば、オニウムカチオンとルイス酸由来のアニオンとから構成されているもの）を用いてもよい。中でも、ビイミダゾール化合物、アセトフェノン化合物及びオキシム化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、特にビイミダゾール化合物であることが好ましい。重合開始剤（Ｃ０）が上記の化合物を、化合物（１）とともに用いることにより、高感度になる傾向があり好ましい。   Examples of the polymerization initiator (C0) include a biimidazole compound, an acetophenone compound, a triazine compound, an acylphosphine oxide compound, and an oxime compound. Moreover, you may use the light and / or thermal cationic polymerization initiator (For example, what is comprised from the onium cation and the anion derived from a Lewis acid) described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-181087. Especially, it is preferable that it is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a biimidazole compound, an acetophenone compound, and an oxime compound, and it is especially preferable that it is a biimidazole compound. When the polymerization initiator (C0) uses the above compound together with the compound (1), there is a tendency that the sensitivity becomes high, which is preferable.

前記のビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報等参照。）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報等参照。）、４，４’５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報等参照。）等が挙げられる。好ましくは２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが挙げられる。   Examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl) -4. , 4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole (see, for example, JP-A-6-75372 and JP-A-6-75373), 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4, 4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2′-bis ( 2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (dialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (trialkoxy) Phenyl) biimidazole (for example, see JP-B-48-38403, JP-A-62-174204, etc.), and the phenyl group at the 4,4′5,5′-position is substituted with a carboalkoxy group. Examples thereof include imidazole compounds (for example, see JP-A-7-10913). Preferably, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5 Examples include 5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole.

前記のアセトフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］―フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（２−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（３−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２−エチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２−プロピルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２−ブチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２，３−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２、４−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（３−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（４−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（３−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（３−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２−メチル−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２−メチル−４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−（２−ブロモ−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。   Examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl]- 2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 1 -Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one 2- (2-Methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone 2- (3-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (4-methylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2-ethylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2-propylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2 -Butylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2,3-dimethylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2 4-dimethylbenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2-chlorobenzyl) -2-di Tylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (3-chlorobenzyl) -2-dimethylamino- 1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (4-chlorobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (3-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (4-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- (4 -Morpholinophenyl) butanone, 2- (3-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) buta Non, 2- (4-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2-methyl-4-methoxybenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholino) Phenyl) butanone, 2- (2-methyl-4-bromobenzyl) -2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2- (2-bromo-4-methoxybenzyl) -2-dimethylamino- Examples include oligomers of 1- (4-morpholinophenyl) butanone, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one, and the like.

前記のトリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−(４−メトキシスチリル)−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。   Examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxy Naphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) ) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- Bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2) -Methylphenyl) Sulfonyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

前記のアシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。   Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

前記のオキシム化合物としては、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）ブタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−エトキシカルボニルオキシ−１−フェニルプロパン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−｛２−メチル−４−（３，３−ジメチル−２，４−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン等が挙げられる。イルガキュアＯＸＥ−０１、ＯＸＥ−０２（以上、チバ・ジャパン社製）、Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いてもよい。   Examples of the oxime compound include N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) butan-1-one-2-imine, N-ethoxycarbonyloxy-1-phenylpropane-1-one-2-imine, N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octane-1-one-2-imine, N-acetoxy-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole-3- Yl] ethane-1-imine, N-acetoxy-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (3,3-dimethyl-2,4-dioxacyclopentanylmethyloxy) benzoyl}- 9H-carbazol-3-yl] ethane-1-imine and the like. Commercial products such as Irgacure OXE-01, OXE-02 (manufactured by Ciba Japan), and N-1919 (manufactured by ADEKA) may be used.

さらに重合開始剤（Ｃ０）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；９，１０−フェナンスレンキノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物；１０−ブチル−２−クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、後述の重合開始助剤（Ｃ１）と組み合わせて用いることが好ましい。   Furthermore, as the polymerization initiator (C0), benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether; benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl- Benzophenone compounds such as 4′-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone; 9,10-phenanthrenequinone, Examples include quinone compounds such as 2-ethylanthraquinone and camphorquinone; 10-butyl-2-chloroacridone, benzyl, methyl phenylglyoxylate, and titanocene compounds. These are preferably used in combination with a polymerization initiation assistant (C1) described later.

また、重合開始剤（Ｃ０）として、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されているような、連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤を使用してもよい。
前記の連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤としては、例えば、下記式（ａ）〜（ｆ）の化合物が挙げられる。 Moreover, as a polymerization initiator (C0), you may use the polymerization initiator which has the group which can raise | generate a chain transfer as described in Japanese translations of PCT publication No. 2002-544205 gazette.
Examples of the polymerization initiator having a group capable of causing the chain transfer include compounds represented by the following formulas (a) to (f).

Figure 2012058728
Figure 2012058728

前記の連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤は、樹脂（Ａ）を構成する成分（ｃ）としても使用することができる。   The polymerization initiator having a group capable of causing chain transfer can be used as the component (c) constituting the resin (A).

本発明の感光性樹脂組成物において、上述した重合開始剤（Ｃ）とともに、重合開始助剤（Ｃ１）を用いることができる。   In the photosensitive resin composition of the present invention, a polymerization initiation assistant (C1) can be used together with the polymerization initiator (C) described above.

重合開始助剤（Ｃ１）としては、例えば、式（ＩＩＩ）で表される化合物が挙げられる。

Figure 2012058728
［式（ＩＩＩ）中、Ｗ１で示される点線はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２の芳香環を表す。
Ｙ１は、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。
Ｒ４は、炭素数１〜６の１価の飽和炭化水素基を表す。
Ｒ５は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の飽和炭化水素基またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。］ Examples of the polymerization initiation assistant (C1) include compounds represented by the formula (III).
Figure 2012058728
 [In the formula (III), a dotted line represented by W 1 represents an aromatic ring having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.
Y 1 represents —O— or —S—.
R 4 represents a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
R 5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. ]

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
炭素数６〜１２の芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
Examples of the aromatic ring having 6 to 12 carbon atoms include a benzene ring and a naphthalene ring.

ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２の芳香環としては、例えば、ベンゼン環、メチルベンゼン環、ジメチルベンゼン環、エチルベンゼン環、プロピルベンゼン環、ブチルベンゼン環、ペンチルベンゼン環、ヘキシルベンゼン環、シクロヘキシルベンゼン環、クロロベンゼン環、ジクロロベンゼン環、ブロモベンゼン環、ジブロモベンゼン環、フェニルベンゼン環、クロロフェニルベンゼン環、ブロモフェニルベンゼン環、ナフタレン環、クロロナフタレン環、ブロモナフタレン環などが挙げられる。   Examples of the aromatic ring having 6 to 12 carbon atoms that may be substituted with a halogen atom include a benzene ring, a methylbenzene ring, a dimethylbenzene ring, an ethylbenzene ring, a propylbenzene ring, a butylbenzene ring, a pentylbenzene ring, and a hexylbenzene. Ring, cyclohexylbenzene ring, chlorobenzene ring, dichlorobenzene ring, bromobenzene ring, dibromobenzene ring, phenylbenzene ring, chlorophenylbenzene ring, bromophenylbenzene ring, naphthalene ring, chloronaphthalene ring, bromonaphthalene ring, and the like.

炭素数１〜６の飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。   Examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a 1-methylpropyl group, a 2-methylpropyl group, and a tert-butyl group. N-pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 2,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, Examples include a cyclohexyl group.

ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の飽和炭化水素基としては、例えば、上記の炭素数１〜６の飽和炭化水素基に加え、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、１−クロロブチル基、２−クロロブチル基、３−クロロブチル基などが挙げられる。 Examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom include, in addition to the above saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group and a decyl group. , Undecyl group, dodecyl group, 1-chlorobutyl group, 2-chlorobutyl group, 3-chlorobutyl group and the like.

ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、クロロブロモフェニル基、ビフェニル基、クロロビフェニル基、ジクロロビフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、ブロモナフチル基、ジブロモナフチル基などが挙げられる。   Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom include phenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, dibromophenyl group, chlorobromophenyl group, biphenyl group, chlorobiphenyl group, dichloro Biphenyl group, bromophenyl group, dibromophenyl group, naphthyl group, chloronaphthyl group, dichloronaphthyl group, bromonaphthyl group, dibromonaphthyl group and the like can be mentioned.

式（ＩＩＩ）で表される化合物として、具体的には、
２−［２−オキソ−２−（２−フェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−フェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−フェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，３−ｄ］チアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチルベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチルベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フェニルフェニル）エチリデン］−３−メチルベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フェニルフェニル）エチリデン］−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フェニルフェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フェニルフェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フルオロフェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フルオロフェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−フェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−フェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−フェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，３−ｄ］オキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（２−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フェニルフェニル）エチリデン］−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フェニルフェニル）エチリデン］−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（１−ナフチル）エチリデン］−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フェニルフェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フェニルフェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フルオロフェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、２−［２−オキソ−２−（４−フルオロフェニル）エチリデン］−３−メチルナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン
等が挙げられる。 As the compound represented by the formula (III), specifically,
2- [2-oxo-2- (2-phenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [2,1-d] thiazoline, 2- [2-oxo-2- (2-phenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [ 1,2-d] thiazoline, 2- [2-oxo-2- (2-phenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [2,3-d] thiazoline, 2- [2-oxo-2- (2-naphthyl) ) Ethylidene] -3-methylbenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methylbenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (2-naphthyl) ethylidene]- 3-methyl-5-phenylbenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-phenylbenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (2-naphthyl) Ethylidene] -3-methyl-5-fluorobenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-fluorobenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- ( 2-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-chlorobenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-chlorobenzothiazoline, 2- [2-oxo 2- (2-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-bromobenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-bromobenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (4-phenylphenyl) ethylidene] -3-methylbenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (4-phenylphenyl) ethylidene] 3-methyl-5-phenylbenzothiazoline, 2- [2-oxo-2- (2-naphthyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [2,1-d] thiazoline, 2- [2-oxo-2- (2 -Naphthyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [1,2-d] thiazoline, 2- [2-oxo-2- (4-phenylphenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [2,1-d] thiazoline, 2- [2-oxo-2- (4-phenylphenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [1,2-d] thiazoline, 2- [2-oxo-2- (4-fluorophenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [ 2,1-d] thiazoline, 2- [2-oxo-2- (4-fluorophenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [1,2-d] thiazoline, 2- [2-oxo-2- (2- Phenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [2,1-d] oxazoline, 2- [2-oxo-2- (2-phenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [1,2-d] oxazoline, 2- [2 -Oxo-2- (2-phenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [2,3-d] oxazoline, 2- [2-oxo-2- (2-naphthyl) ethylidene] -3-methylbenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methylbenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (2-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-phenylbenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-phenylbenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (2-naphthyl) ethylidene] 3-methyl-5-fluorobenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-fluorobenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (2-naphthyl) ) Ethylidene] -3-methyl-5-chlorobenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-chlorobenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (2-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-bromobenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methyl-5-bromobenzoxazoline, 2- [2- Oxo-2- (4-phenylphenyl) ethylidene] -3-methylbenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (4-phenylphenyl) ethylidene] 3-methyl-5-phenylbenzoxazoline, 2- [2-oxo-2- (1-naphthyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [2,1-d] oxazoline, 2- [2-oxo-2- (1) -Naphthyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [1,2-d] oxazoline, 2- [2-oxo-2- (4-phenylphenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [2,1-d] oxazoline, 2- [2-oxo-2- (4-phenylphenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [1,2-d] oxazoline, 2- [2-oxo-2- (4-fluorophenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [ 2,1-d] oxazoline, 2- [2-oxo-2- (4-fluorophenyl) ethylidene] -3-methylnaphtho [1,2-d] oxazoline, and the like.

また、重合開始助剤（Ｃ１）としては、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）で表される化合物を用いてもよい。   Moreover, as a polymerization start adjuvant (C1), you may use the compound represented by Formula (IV) or Formula (V).

Figure 2012058728
Figure 2012058728

［式（ＩＶ）及び式（Ｖ）中、環Ｗ２、環Ｗ３および環Ｗ４は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２の芳香環又は炭素数２〜１０の複素環を表す。Ｙ２〜Ｙ５は、互いに独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ６〜Ｒ９は、炭素数１〜１２の１価の飽和炭化水素基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、該飽和炭化水素基及び該アリール基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルコキシ基で置換されていてもよい。］ [In Formula (IV) and Formula (V), Ring W 2 , Ring W 3 and Ring W 4 are each independently an aromatic ring having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or 2 carbon atoms. Represents 10 to 10 heterocycles. Y 2 to Y 5 each independently represent —O— or —S—. R 6 to R 9 represent a monovalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group and the aryl group is a halogen atom. , May be substituted with a hydroxy group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. ]

芳香環としては、式（ＩＩＩ）で挙げたものと同様の芳香環が挙げられ、該芳香環に含まれる水素原子は、前記で挙げたハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。
ハロゲン原子で置換されていてもよい複素環としては、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、ピラン環等が挙げられる。 Examples of the aromatic ring include the same aromatic rings as those mentioned in formula (III), and the hydrogen atom contained in the aromatic ring may be optionally substituted with the halogen atoms mentioned above.
Examples of the heterocyclic ring optionally substituted with a halogen atom include a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, a pyrazine ring, and a pyran ring.

１価のヒドロキシ基置換飽和炭化水素基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
ヒドロキシ基置換アリール基としては、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基等が挙げられる。
１価のアルコキシ基置換飽和炭化水素基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、ブトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、プロポキシブチル基等が挙げられる。
アルコキシ基置換アリール基としては、メトキシフェニル基、エトキシナフチル基等が挙げられる。 Examples of the monovalent hydroxy group-substituted saturated hydrocarbon group include a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, and a hydroxybutyl group.
Examples of the hydroxy group-substituted aryl group include a hydroxyphenyl group and a hydroxynaphthyl group.
Examples of the monovalent alkoxy group-substituted saturated hydrocarbon group include a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, a methoxypropyl group, a methoxybutyl group, a butoxymethyl group, an ethoxyethyl group, an ethoxypropyl group, and a propoxybutyl group.
Examples of the alkoxy group-substituted aryl group include a methoxyphenyl group and an ethoxynaphthyl group.

式（ＩＶ）及び式（Ｖ）で表される化合物としては、具体的には、
ジメトキシナフタレン、ジエトキシナフタレン、ジプロポキシナフタレン、ジイソプロポキシナフタレン、ジブトキシナフタレンなどのジアルコキシナフタレン類；
９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、ジプロポキシアントラセン、ジイソプロポキシアントラセン、ジブトキシアントラセン、ジペンチルオキシアントラセン、ジヘキシルオキシアントラセン、メトキシエトキシアントラセン、メトキシプロポキシアントラセン、メトキシイソプロポキシアントラセン、メトキシブトキシアントラセン、エトキシプロポキシアントラセン、エトキシイソプロポキシアントラセン、エトキシブトキシアントラセン、プロポキシイソプロポキシアントラセン、プロポキシブトキシアントラセン、イソプロポキシブトキシアントラセンなどのジアルコキシアントラセン類；
ジメトキシナフタセン、ジエトキシナフタセン、ジプロポキシナフタセン、ジイソプロポキシナフタセン、ジブトキシナフタセンなどのジアルコキシナフタセン類；
等が挙げられる。 Specific examples of the compounds represented by formula (IV) and formula (V) include
Dialkoxynaphthalenes such as dimethoxynaphthalene, diethoxynaphthalene, dipropoxynaphthalene, diisopropoxynaphthalene, dibutoxynaphthalene;
9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, dipropoxyanthracene, diisopropoxyanthracene, dibutoxyanthracene , Dipentyloxyanthracene, dihexyloxyanthracene, methoxyethoxyanthracene, methoxypropoxyanthracene, methoxyisopropoxyanthracene, methoxybutoxyanthracene, ethoxypropoxyanthracene, ethoxyisopropoxyanthracene, ethoxybutoxyanthracene, propoxyisopropoxyanthracene, propoxybutoxyanthracene, propoxybutoxyanthracene Dialkoxyanthracenes such as butoxyanthracene;
Dialkoxynaphthacenes such as dimethoxynaphthacene, diethoxynaphthacene, dipropoxynaphthacene, diisopropoxynaphthacene, dibutoxynaphthacene;
Etc.

また、重合開始助剤（Ｃ１）としては、チオキサントン化合物も使用し得る。チオキサントン化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。   Moreover, a thioxanthone compound can also be used as a polymerization initiation assistant (C1). Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like.

さらに、重合開始助剤（Ｃ１）としては、アミン化合物及びカルボン酸化合物等が挙げられる。
アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の脂肪族アミン化合物、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称；ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンのような芳香族アミン化合物が挙げられる。 Furthermore, examples of the polymerization initiation assistant (C1) include amine compounds and carboxylic acid compounds.
Examples of amine compounds include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino. Of 2-ethylhexyl benzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (common name; Michler's ketone), 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone Such aromatic amine compounds are mentioned.

カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等の芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。   Carboxylic acid compounds include phenylsulfanyl acetic acid, methylphenylsulfanyl acetic acid, ethylphenylsulfanyl acetic acid, methylethylphenylsulfanyl acetic acid, dimethylphenylsulfanyl acetic acid, methoxyphenylsulfanyl acetic acid, dimethoxyphenylsulfanyl acetic acid, chlorophenylsulfanyl acetic acid, dichlorophenylsulfanyl acetic acid, N -Aromatic heteroacetic acids such as phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine and naphthoxyacetic acid.

化合物（１）の含有量は、重合開始剤（Ｃ）の合計量に対して、好ましくは３０〜１００質量％、より好ましくは５０〜１００質量％である。化合物（１）の含有量が前記の範囲にあると、高感度でパターンを得ることができる。   Content of a compound (1) becomes like this. Preferably it is 30-100 mass% with respect to the total amount of a polymerization initiator (C), More preferably, it is 50-100 mass%. When the content of the compound (1) is in the above range, a pattern can be obtained with high sensitivity.

重合開始剤（Ｃ）の含有量は、樹脂（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．５〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部であり、さらに好ましくは１〜１０質量部である。重合開始剤（Ｃ）の含有量が前記の範囲にあると、高感度でパターンを得ることができ、さらに得られるパターンの可視光透過率が高い傾向がある。   The content of the polymerization initiator (C) is preferably 0.5 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A) and the polymerizable compound (B). More preferably, it is 1-10 mass parts. When the content of the polymerization initiator (C) is in the above range, a pattern can be obtained with high sensitivity, and the visible light transmittance of the obtained pattern tends to be high.

重合開始助剤（Ｃ１）の含有量は、樹脂（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）の含有量１００質量部に対して、好ましくは０〜１０質量部、より好ましくは０〜７質量部である。重合開始助剤（Ｃ１）の量が前記の範囲にあると、高感度でパターンを得ることができ、得られるパターンは形状が良好である。   The content of the polymerization initiation assistant (C1) is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0 to 7 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A) and the polymerizable compound (B). is there. When the amount of the polymerization initiation assistant (C1) is in the above range, a pattern can be obtained with high sensitivity, and the resulting pattern has a good shape.

本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤（Ｄ）を含む。
本発明において使用し得る溶剤としては、例えば、エステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−を含み、−Ｏ−を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に−Ｏ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−と−Ｏ−とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に−ＣＯ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、アルコール溶剤、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等の中から選択して用いることができる。 The photosensitive resin composition of the present invention contains a solvent (D).
Examples of the solvent that can be used in the present invention include an ester solvent (a solvent containing —COO— in the molecule and not containing —O—), an ether solvent (containing —O— in the molecule, and —COO—). Solvent), ether ester solvent (solvent containing -COO- and -O- in the molecule), ketone solvent (solvent containing -CO- in the molecule and not -COO-), alcohol solvent, aromatic It can be selected from hydrocarbon solvents, amide solvents, dimethyl sulfoxide and the like.

エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。   As ester solvents, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 2-hydroxyisobutanoate, ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl formate, isopentyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, cyclohexanol acetate, γ-butyrolactone and the like.

エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソールなどが挙げられる。   Ether solvents include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether , Propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethyl Glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, anisole, phenetole, and the like methyl anisole.

エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。   Examples of ether ester solvents include methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxy Ethyl propionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, Ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether Acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and the like diethylene glycol monobutyl ether acetate.

ケトン溶剤としては、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロンなどが挙げられる。   Examples of ketone solvents include 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 4-methyl-2-pentanone, cyclopentanone, cyclohexanone, and isophorone. Etc.

アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。   Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, and glycerin.

芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include benzene, toluene, xylene, mesitylene and the like.

アミド溶剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。
これらの溶剤は、単独でも２種類以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.
These solvents may be used alone or in combination of two or more.

上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、１ａｔｍにおける沸点が１２０℃以上１８０℃以下である有機溶剤が好ましい。中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−１−ブタノール等が好ましい。   Among the above-mentioned solvents, an organic solvent having a boiling point at 1 atm of 120 ° C. or higher and 180 ° C. or lower is preferable from the viewpoints of coating properties and drying properties. Among these, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methoxy-1-butanol and the like are preferable.

感光性樹脂組成物における溶剤（Ｄ）の含有量は、感光性樹脂組成物に対して、好ましくは６０〜９５質量％であり、より好ましくは７０〜９０質量％である。言い換えると、感光性樹脂組成物の固形分は、好ましくは５〜４０質量％であり、より好ましくは１０〜３０質量％である。ここで、固形分とは、感光性樹脂組成物から溶剤（Ｄ）を除いた量のことをいう。溶剤（Ｄ）の含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物を塗布した膜の平坦性が高い傾向がある。   The content of the solvent (D) in the photosensitive resin composition is preferably 60 to 95% by mass and more preferably 70 to 90% by mass with respect to the photosensitive resin composition. In other words, the solid content of the photosensitive resin composition is preferably 5 to 40% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass. Here, solid content means the quantity remove | excluding the solvent (D) from the photosensitive resin composition. When the content of the solvent (D) is in the above range, the flatness of the film coated with the photosensitive resin composition tends to be high.

また、本発明の感光性樹脂組成物は、さらに多官能チオール化合物（Ｔ）を含有していてもよい。多官能チオール化合物（Ｔ）とは、分子内に２個以上のスルファニル基（−ＳＨ）を有する化合物をいう。特に、脂肪族炭化水素基に由来する炭素原子に結合するスルファニル基を２個以上有する化合物を用いると、本発明の感光性樹脂組成物の感度が高くなる傾向にある。   Moreover, the photosensitive resin composition of this invention may contain the polyfunctional thiol compound (T) further. The polyfunctional thiol compound (T) refers to a compound having two or more sulfanyl groups (—SH) in the molecule. In particular, when a compound having two or more sulfanyl groups bonded to a carbon atom derived from an aliphatic hydrocarbon group is used, the sensitivity of the photosensitive resin composition of the present invention tends to increase.

多官能チオール化合物（Ｔ）としては、具体的には、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ビス（メチルスルファニル）ベンゼン、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、ブタンジオールビス（３−スルファニルアセテート）、エチレングリコールビス（３−スルファニルアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルアセテート）、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルアセテート）、トリスヒドロキシエチルトリス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルブチレート）、１，４−ビス（３−スルファニルブチルオキシ）ブタン等が挙げられる。   Specific examples of the polyfunctional thiol compound (T) include hexanedithiol, decanedithiol, 1,4-bis (methylsulfanyl) benzene, butanediol bis (3-sulfanylpropionate), butanediol bis (3- Sulfanyl acetate), ethylene glycol bis (3-sulfanyl acetate), trimethylolpropane tris (3-sulfanyl acetate), butanediol bis (3-sulfanylpropionate), trimethylolpropane tris (3-sulfanylpropionate), Trimethylolpropane tris (3-sulfanyl acetate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanylpropionate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanyl acetate), trishydro Shiechirutorisu (3-sulfanyl propionate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanyl butyrate), 1,4-bis (3-sulfanyl-butyloxy) include butane and the like.

多官能チオール化合物（Ｔ）の含有量は、重合開始剤（Ｃ）１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部、より好ましくは０．５〜７質量部である。多官能チオール化合物（Ｔ）の含有量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の感度が高くなり、またパターンを形成する際の現像性が良好になる傾向があり好ましい。   The content of the polyfunctional thiol compound (T) is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.5 to 7 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerization initiator (C). When the content of the polyfunctional thiol compound (T) is in the above range, the sensitivity of the photosensitive resin composition is increased, and the developability at the time of forming a pattern tends to be favorable.

本発明の感光性樹脂組成物は界面活性剤（Ｅ）を含有することが好ましい。界面活性剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。   The photosensitive resin composition of the present invention preferably contains a surfactant (E). Examples of the surfactant include a silicone surfactant, a fluorine surfactant, a silicone surfactant having a fluorine atom, and the like.

シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤が挙げられる。
具体的には、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、ポリエーテル変性シリコーンオイルＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。 Examples of the silicone surfactant include surfactants having a siloxane bond.
Specifically, Torre Silicone DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH21PA, SH28PA, SH29PA, SH29PA, SH30PA, polyether-modified silicone oil SH8400 (trade name: manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP322 , KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (Momentive Performance Materials Japan GK) Manufactured) and the like.

フッ素系界面活性剤としては、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。
具体的には、フロリナート（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｒ３０（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）、Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）等が挙げられる。 Examples of the fluorosurfactant include surfactants having a fluorocarbon chain.
Specifically, Florinart (registered trademark) FC430, FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), MegaFac (registered trademark) F142D, F171, F172, F173, F177, F183, R183 (DIC) ), Ftop (registered trademark) EF301, EF303, EF351, EF351, EF352 (manufactured by Mitsubishi Materials Denkasei), Surflon (registered trademark) S381, S382, SC101, SC105 (Asahi Glass) And E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Laboratory Co., Ltd.).

フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７、同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。好ましくはメガファック（登録商標）Ｆ４７５が挙げられる。   Examples of the silicone-based surfactant having a fluorine atom include surfactants having a siloxane bond and a fluorocarbon chain. Specifically, Megafac (registered trademark) R08, BL20, F475, F477, F443 (manufactured by DIC Corporation) and the like can be mentioned. Preferably, MegaFac (registered trademark) F475 is used.

界面活性剤（Ｅ）の含有量は、感光性樹脂組成物に対して、０．００１質量％以上０.２質量％以下であり、好ましくは０.００２質量％以上０．１質量％以下、より好ましくは０.０１質量％以上０．０５質量％以下である。界面活性剤を前記の範囲で含有することにより、塗膜の平坦性を良好にすることができる。   Content of surfactant (E) is 0.001 mass% or more and 0.2 mass% or less with respect to the photosensitive resin composition, Preferably it is 0.002 mass% or more and 0.1 mass% or less, More preferably, it is 0.01 mass% or more and 0.05 mass% or less. By containing the surfactant in the above range, the flatness of the coating film can be improved.

本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、連鎖移動剤等の種々の添加剤を含んでもよい。   In the photosensitive resin composition of the present invention, various additives such as fillers, other polymer compounds, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, chain transfer agents, etc., are optionally added. May be included.

本発明の感光性樹脂組成物は、顔料および染料などの着色剤を実質的に含有しない。すなわち、本発明の感光性樹脂組成物において、組成物全体に対する着色剤の含量は、例えば、好ましくは１質量％未満、より好ましくは０．５質量％未満である。   The photosensitive resin composition of the present invention does not substantially contain colorants such as pigments and dyes. That is, in the photosensitive resin composition of the present invention, the content of the colorant relative to the entire composition is, for example, preferably less than 1% by mass, more preferably less than 0.5% by mass.

本発明の感光性樹脂組成物は、光路長が１ｃｍの石英セルに充填し、分光光度計を使用して測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で透過率を測定した場合の平均透過率が、好ましくは７０％以上であり、より好ましくは８０％以上である。   The photosensitive resin composition of the present invention preferably has an average transmittance when filling a quartz cell having an optical path length of 1 cm and measuring the transmittance under a measurement wavelength of 400 to 700 nm using a spectrophotometer. Is 70% or more, more preferably 80% or more.

本発明の感光性樹脂組成物は、塗膜とした際に、塗膜の平均透過率が、好ましくは９０％以上であり、さらに９５％以上となることがより好ましい。この平均透過率は、加熱硬化（例えば、１００〜２５０℃、５分〜３時間）後の厚みが３μｍの塗膜に対して、分光光度計を使用して、測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で測定した場合の平均値である。これにより、可視光領域での透明性に優れた塗膜を提供することができる。
従来から知られる着色剤を含有しない樹脂組成物から作製した塗膜は、測定波長４００ｎｍ付近での透過率が低下して黄色や茶色に着色する場合が多い。しかしながら、本発明の感光性樹脂組成物は、可視光領域全域（４００〜７００ｎｍ）において高い透過率を示す塗膜やパターンを提供することができる。 When the photosensitive resin composition of the present invention is used as a coating film, the average transmittance of the coating film is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more. This average transmittance is measured under the conditions of a measurement wavelength of 400 to 700 nm using a spectrophotometer for a coating film having a thickness of 3 μm after heat curing (for example, 100 to 250 ° C., 5 minutes to 3 hours). It is an average value when measured by. Thereby, the coating film excellent in transparency in the visible light region can be provided.
A coating film prepared from a resin composition that does not contain a conventionally known colorant is often colored yellow or brown due to a decrease in transmittance near a measurement wavelength of 400 nm. However, the photosensitive resin composition of the present invention can provide a coating film or a pattern showing high transmittance in the entire visible light region (400 to 700 nm).

本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、ガラス、金属、プラスチック等の基板、カラーフィルタ、各種絶縁又は導電膜、駆動回路等を形成したこれらの基板上に塗布することによって、塗膜を形成することができる。塗膜は、乾燥及び硬化したものであることが好ましい。基板上に塗布した後、所望の形状にパターニングして、パターンを形成することができる。   The photosensitive resin composition of the present invention forms, for example, a coating film by applying on a substrate made of glass, metal, plastic or the like, a color filter, various insulating or conductive films, a driving circuit, or the like. can do. The coating film is preferably dried and cured. After coating on the substrate, it can be patterned into a desired shape to form a pattern.

まず、本発明の感光性樹脂組成物を、基板上に塗布する。
塗布は、上述したように、スピンコーター、スリット＆スピンコーター、スリットコーター、インクジェット、ロールコーター、ディップコーター等の種々の塗布装置を用いて行うことができる。 First, the photosensitive resin composition of the present invention is applied on a substrate.
As described above, the coating can be performed using various coating apparatuses such as a spin coater, a slit & spin coater, a slit coater, an ink jet, a roll coater, and a dip coater.

次いで、乾燥又はプリベークして、溶剤等の揮発成分を除去して乾燥させることが好ましい。これにより、平滑な未硬化塗膜を得ることができる。
この場合の塗膜の膜厚は、特に限定されず、用いる材料、用途等によって適宜調整することができ、例えば、１〜６μｍ程度が例示される。 Next, it is preferable to dry or pre-bake to remove volatile components such as a solvent and dry. Thereby, a smooth uncured coating film can be obtained.
The film thickness of the coating film in this case is not particularly limited, and can be appropriately adjusted depending on the material used, application, etc. For example, about 1 to 6 μm is exemplified.

さらに、得られた未硬化塗膜に、目的のパターンを形成するためのフォトマスクを介して、光、例えば、水銀灯、発光ダイオードから発生する紫外線等を照射する。この際のフォトマスクの形状は特に限定されず、形状や大きさは、パターンの用途に応じて選択すればよい。
近年の露光機では、３５０ｎｍ未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出して、露光面全体に均一に平行光線を照射したりすることができる。このときマスクと基材との正確な位置合わせを行うために、マスクアライナ、ステッパ等の装置を使用してもよい。 Further, the obtained uncured coating film is irradiated with light, for example, ultraviolet rays generated from a mercury lamp or a light emitting diode through a photomask for forming a target pattern. The shape of the photomask at this time is not particularly limited, and the shape and size may be selected according to the application of the pattern.
In recent exposure machines, light of less than 350 nm is cut using a filter that cuts this wavelength range, or light near 436 nm, 408 nm, and 365 nm is used using a bandpass filter that extracts these wavelength ranges. It is possible to selectively take out and irradiate parallel light uniformly on the entire exposure surface. At this time, an apparatus such as a mask aligner or a stepper may be used to accurately align the mask and the substrate.

露光後の塗膜を現像液に接触させて所定部分、例えば、非露光部（すなわち非画素部分）を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状を得ることができる。
現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基材を任意の角度に傾けてもよい。 The exposed pattern is brought into contact with a developer to dissolve a predetermined portion, for example, a non-exposed portion (that is, a non-pixel portion), and development is performed, whereby a target pattern shape can be obtained.
The developing method may be any of a liquid piling method, a dipping method, a spray method, and the like. Further, the substrate may be inclined at an arbitrary angle during development.

現像に使用する現像液は、塩基性化合物の水溶液が好ましい。
塩基性化合物は、無機及び有機の塩基性化合物のいずれでもよい。
無機の塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア等が挙げられる。 The developer used for development is preferably an aqueous solution of a basic compound.
The basic compound may be either an inorganic or organic basic compound.
Specific examples of inorganic basic compounds include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, silicic acid. Examples include potassium, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonia.

有機の塩基性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン等が挙げられる。
これらの無機及び有機の塩基性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０３〜５質量％である。 Examples of organic basic compounds include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, and ethanolamine. Is mentioned.
The concentration of these inorganic and organic basic compounds in the aqueous solution is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.03 to 5% by mass.

前記の現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性剤のいずれでもよい。
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン等が挙げられる。 The developer may contain a surfactant.
The surfactant may be any of a nonionic surfactant, an anionic surfactant, or a cationic surfactant.
Nonionic surfactants include, for example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene Examples include ethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, and polyoxyethylene alkylamine.

アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類等が挙げられる。   Examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfates such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, and dodecyl sodium sulfate. And alkylaryl sulfonates such as sodium naphthalene sulfonate.

カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩又は第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．０５〜８質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。 Examples of the cationic surfactant include amine salts or quaternary ammonium salts such as stearylamine hydrochloride and lauryltrimethylammonium chloride.
The concentration of the surfactant in the alkali developer is preferably in the range of 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 8% by mass, and more preferably 0.1 to 5% by mass.

現像後、水洗を行うことで、パターンを得ることができる。さらに必要に応じて、ポストベークを行ってもよい。ポストベークは、例えば、１５０〜２４０℃の温度範囲、１０〜１８０分間が好ましい。
未硬化塗膜を露光する際に、パターンが形成されたフォトマスクを使用せず、全面に光照射を行うこと及び／又は現像を省略することで、パターンを有さない塗膜を得ることができる。 A pattern can be obtained by washing with water after development. Furthermore, you may post-bake as needed. The post-baking is preferably, for example, a temperature range of 150 to 240 ° C. and 10 to 180 minutes.
When exposing an uncured coating film, it is possible to obtain a coating film having no pattern by irradiating the entire surface with light and / or omitting development without using a photomask on which a pattern is formed. it can.

このようにして本発明の感光性樹脂組成物から得られるパターンは、例えば、カラーフィルタ基板及び／又はアレイ基板の一部を構成するフォトスペーサ、パターニング可能なオーバーコート、層間絶縁膜、液晶配向制御用突起、マイクロレンズ、膜厚調整のためのコート層等、タッチパネル用の部材として有用であり、上記のようにして得られるパターンを有さない塗膜は、カラーフィルタ基板及び／又はアレイ基板の一部を構成するオーバーコートとして有用である。前記のカラーフィルタ基板及びアレイ基板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、電子ペーパー等に好適に用いられる。   In this way, the pattern obtained from the photosensitive resin composition of the present invention is, for example, a photo spacer constituting a part of a color filter substrate and / or an array substrate, a patternable overcoat, an interlayer insulating film, and a liquid crystal alignment control. A coating film that is useful as a member for a touch panel, such as a projection for projection, a microlens, and a coating layer for adjusting a film thickness, and having no pattern obtained as described above is used for a color filter substrate and / or an array substrate. It is useful as an overcoat that constitutes a part. The color filter substrate and the array substrate are suitably used for a liquid crystal display device, an organic EL display device, electronic paper, and the like.

以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Unless otherwise specified, “%” and “parts” in the examples are% by mass and parts by mass.

（合成例１）
還流冷却器、滴下ロートおよび攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、３−メトキシ−１−ブタノール２００質量部および３−メトキシブチルアセテート１０５質量部を入れ、撹拌しながら７０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸６０質量部、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０２．６］デシルアクリレート（式（Ｉ−１）で表される化合物および式（ＩＩ−１）で表される化合物のモル比、５０：５０の混合物。）２４０質量部を、３−メトキシブチルアセテート１４０質量部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ロートを用いて４時間かけて、７０℃に保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３０質量部を３−メトキシブチルアセテート２２５質量部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、７０℃に保持し、その後室温まで冷却して、固形分３２．６質量％、酸価１１０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の共重合体（樹脂Ａａ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａａの重量平均分子量Ｍｗは、１３，４００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５０であった。 (Synthesis Example 1)
In a flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a stirrer, nitrogen was allowed to flow at 0.02 L / min to form a nitrogen atmosphere, and 200 parts by mass of 3-methoxy-1-butanol and 105 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate were added. Heat to 70 ° C. with stirring. Next, 60 parts by mass of methacrylic acid, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2.6 ] decyl acrylate (a compound represented by the formula (I-1) and a formula (II-1) (Molar ratio of the compound to be prepared is a mixture of 50:50.) 240 parts by mass is dissolved in 140 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate to prepare a solution, and the solution is added over 4 hours using a dropping funnel. And dropped in a flask kept at 70 ° C. On the other hand, a solution in which 30 parts by mass of a polymerization initiator 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was dissolved in 225 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate was added to a flask over another 4 hours using another dropping funnel. It was dripped in. After completion of the dropwise addition of the polymerization initiator solution, the mixture was kept at 70 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature. A solution of the polymer (resin Aa) was obtained. The obtained resin Aa had a weight average molecular weight Mw of 13,400 and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 2.50.

Figure 2012058728
Figure 2012058728

（合成例２）
還流冷却器、滴下ロートおよび攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、３−メトキシ−１−ブタノール２００質量部および３−メトキシブチルアセテート１０５質量部を入れ、撹拌しながら７０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸５５質量部、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０２．６］デシルアクリレート（式（Ｉ−１）で表される化合物および式（ＩＩ−１）で表される化合物を、モル比で、５０：５０で混合。）１７５質量部およびＮ−シクロヘキシルマレイミド７０質量部を、３−メトキシブチルアセテート１４０質量部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ポンプを用いて４時間かけて、７０℃に保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３０質量部を３−メトキシブチルアセテート２２５質量部に溶解した溶液を、別の滴下ポンプを用いて５時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、７０℃に保持し、その後室温まで冷却して、粘度（２３℃）１１４ｍＰａ・ｓ、固形分３２．６質量％、酸価３４．３ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算の酸価１０５．２ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ）の共重合体（樹脂Ａｂ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａｂの重量平均分子量Ｍｗは、１３，６００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．５４であった。 なお、共重合体溶液の粘度は、Ｂ型粘度計で測定した。 (Synthesis Example 2)
In a flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a stirrer, nitrogen was allowed to flow at 0.02 L / min to form a nitrogen atmosphere, and 200 parts by mass of 3-methoxy-1-butanol and 105 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate were added. Heat to 70 ° C. with stirring. Subsequently, 55 parts by mass of methacrylic acid, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2.6 ] decyl acrylate (a compound represented by the formula (I-1) and a formula (II-1) The compound to be mixed is mixed at a molar ratio of 50:50.) A solution is prepared by dissolving 175 parts by mass and 70 parts by mass of N-cyclohexylmaleimide in 140 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate. Then, it was dropped into a flask kept at 70 ° C. for 4 hours using a dropping pump. On the other hand, a solution obtained by dissolving 30 parts by mass of a polymerization initiator 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) in 225 parts by mass of 3-methoxybutyl acetate was added to a flask over another 5 hours using another dropping pump. It was dripped in. After completion of the dropwise addition of the polymerization initiator solution, the temperature was maintained at 70 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature. Viscosity (23 ° C.) 114 mPa · s, solid content 32.6% by mass, acid value 34.3 mg A solution of a copolymer (resin Ab) of -KOH / g (acid value 105.2 mg-KOH / g in terms of solid content) was obtained. The obtained resin Ab had a weight average molecular weight Mw of 13,600 and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 2.54. The viscosity of the copolymer solution was measured with a B-type viscometer.

得られた樹脂Ａａ及び樹脂Ａｂの重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）の測定は、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行なった。
装置；Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
カラム；ＳＨＩＭＡＤＺＵ Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ ＧＰＣ−８０Ｍ
カラム温度；４０℃
溶媒；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器；ＲＩ
上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比（Ｍｗ／Ｍｎ）を分子量分布とした。 The weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the obtained resin Aa and resin Ab were measured using the GPC method under the following conditions.
Apparatus; K2479 (manufactured by Shimadzu Corporation)
Column; SHIMADZU Shim-pack GPC-80M
Column temperature: 40 ° C
Solvent; THF (tetrahydrofuran)
Flow rate: 1.0 mL / min
Detector; RI
The polystyrene-converted weight average molecular weight and number average molecular weight ratio (Mw / Mn) obtained above was defined as molecular weight distribution.

（実施例１〜４及び比較例１）
＜感光性樹脂組成物の調製＞
表１の成分をそれぞれ混合して、感光性樹脂組成物を得た。 (Examples 1-4 and Comparative Example 1)
<Preparation of photosensitive resin composition>
The components in Table 1 were mixed to obtain a photosensitive resin composition.

Figure 2012058728
Figure 2012058728

表１中各成分は以下のとおりである。
樹脂（Ａ）；合成例１で得られた樹脂Ａａ。表１中の部数は、固形分換算の質量部を表す。
重合性化合物（Ｂ）；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）
化合物（１）；１−１；式（１−１）で表される化合物（ＴＲ-ＰＢＧ−３０４；常州強力電子新材料（有）製）
化合物（１）；１−２；式（１−３）で表される化合物（ＴＲ-ＰＢＧ−３０５；常州強力電子新材料（有）製）
化合物（１）；１−３；式（１−２）で表される化合物（ＴＲ-ＰＢＧ−３０９；常州強力電子新材料（有）製）
重合開始剤（Ｃ０）；Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２；ＢＡＳＦジャパン社製）
溶剤（Ｄ）；（Ｄａ）；３−メトキシ−１−ブタノール
溶剤（Ｄ）；（Ｄｂ）；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
溶剤（Ｄ）；（Ｄｃ）；３−エトキシプロピオン酸エチル
溶剤（Ｄ）；（Ｄｄ）；３−メトキシブチルアセテート
溶剤（Ｄ）は、感光性樹脂組成物の固形分量が表１の「固形分量（％）」となるように混合し、溶剤（Ｄ）中の溶剤成分（Ｄａ）〜（Ｄｄ）の値は、溶剤（Ｄ）中での質量比を表す。 Each component in Table 1 is as follows.
Resin (A); Resin Aa obtained in Synthesis Example 1. The number of parts in Table 1 represents part by mass in terms of solid content.
Polymerizable compound (B); dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Compound (1); 1-1; compound represented by formula (1-1) (TR-PBG-304; manufactured by Changzhou Power Electronics New Materials)
Compound (1); 1-2; Compound represented by formula (1-3) (TR-PBG-305; manufactured by Changzhou Powerful Electronic New Materials Co., Ltd.)
Compound (1); 1-3; Compound represented by formula (1-2) (TR-PBG-309; manufactured by Changzhou Power Electronics New Materials)
Polymerization initiator (C0); N-acetoxy-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethane-1-imine (IRGACURE OXE 02; manufactured by BASF Japan)
Solvent (D); (Da); 3-methoxy-1-butanol Solvent (D); (Db); Propylene glycol monomethyl ether acetate Solvent (D); (Dc); Ethyl 3-ethoxypropionate Solvent (D); (Dd); 3-methoxybutyl acetate The solvent (D) is mixed so that the solid content of the photosensitive resin composition is the “solid content (%)” in Table 1, and the solvent component (D) in the solvent (D) ( The values of Da) to (Dd) represent the mass ratio in the solvent (D).

Figure 2012058728
Figure 2012058728

＜組成物の平均透過率＞
得られた感光性樹脂組成物について、それぞれ、紫外可視近赤外分光光度計（Ｖ−６５０；日本分光（株）製）（石英セル、光路長；１ｃｍ）を用いて、４００〜７００ｎｍにおける平均透過率（％）を測定した。結果を表２に示す。 <Average transmittance of composition>
About the obtained photosensitive resin composition, the average in 400-700 nm was respectively used for the ultraviolet visible near infrared spectrophotometer (V-650; JASCO Corporation make) (quartz cell, optical path length: 1 cm). The transmittance (%) was measured. The results are shown in Table 2.

＜塗膜の形成＞
２インチ角のガラス基板（イーグルＸＧ；コーニング社製）を、中性洗剤、水およびアルコールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、上記で得られた感光性樹脂組成物を、ポストベーク後の膜厚が３．０μｍになるようにスピンコートし、次にクリーンオーブン中、９０℃で３分間プリベークした。その後、２３０℃で２０分加熱して塗膜を得た。 <Formation of coating film>
A 2-inch square glass substrate (Eagle XG; manufactured by Corning) was sequentially washed with a neutral detergent, water and alcohol and then dried. The photosensitive resin composition obtained above was spin-coated on this glass substrate so that the film thickness after post-baking was 3.0 μm, and then pre-baked at 90 ° C. for 3 minutes in a clean oven. Then, it heated at 230 degreeC for 20 minutes, and obtained the coating film.

＜塗膜の透過率＞
得られた塗膜について、顕微分光測光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２００；ＯＬＹＭＰＵＳ社製）を用いて、４００ｎｍにおける透過率（％）及び４００〜７００ｎｍにおける平均透過率（％）を測定した。４００ｎｍにおける透過率が高いほど、黄色の着色が少ないことを示す。また、塗膜の透過率が高ければ、下記のように形成されるパターンも透過率が高い。結果を表２に示す。 <Transparency of coating film>
About the obtained coating film, the transmittance | permeability (%) in 400 nm and the average transmittance (%) in 400-700 nm were measured using the microspectrophotometer (OSP-SP200; product made by OLYMPUS). It shows that there is little yellow coloring, so that the transmittance | permeability in 400 nm is high. Moreover, if the transmittance | permeability of a coating film is high, the pattern formed as follows will also have the high transmittance | permeability. The results are shown in Table 2.

＜パターンの形成＞
２インチ角のガラス基板（イーグルＸＧ；コーニング社製）を、中性洗剤、水およびアルコールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物を、ポストベーク後の膜厚が３．０μｍになるようにスピンコートし、ホットプレートで８０℃で２分間プレベークして乾燥させた。冷却後、この感光性樹脂組成物を塗布した基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を２００μｍとし、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、露光量６０ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）の光を照射した。なお、このときの感光性樹脂組成物への照射は、超高圧水銀灯からの放射光を、光学フィルタ（ＵＶ―３３；朝日分光（株）製）を通過させて行った。また、フォトマスクとして、パターン（１辺が１３μｍである正方形の透光部を有し、当該正方形の間隔が１００μｍ）（すなわち透光部）が同一平面上に形成されたフォトマスクを用いた。
光照射後、非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％を含む水系現像液に前記塗膜を２５℃で６０秒間浸漬・揺動して現像し、水洗後、オーブン中、２３５℃で１５分間ポストベークを行い、パターンを形成した。パターンが剥離せずに残っている場合に○とした。結果を表２に示す。 <Pattern formation>
A 2-inch square glass substrate (Eagle XG; manufactured by Corning) was sequentially washed with a neutral detergent, water and alcohol and then dried. On this glass substrate, the photosensitive resin composition was spin-coated so that the film thickness after post-baking was 3.0 μm, and pre-baked at 80 ° C. for 2 minutes on a hot plate and dried. After cooling, the distance between the substrate coated with the photosensitive resin composition and the quartz glass photomask was set to 200 μm, and the exposure apparatus (TME-150RSK; manufactured by Topcon Corporation, light source: ultrahigh pressure mercury lamp) Under an atmosphere, light with an exposure amount of 60 mJ / cm 2 (based on 365 nm) was irradiated. In addition, irradiation to the photosensitive resin composition at this time was performed by passing the radiated light from the ultra-high pressure mercury lamp through an optical filter (UV-33; manufactured by Asahi Spectroscopic Co., Ltd.). In addition, a photomask having a pattern (having a square light-transmitting portion with one side of 13 μm and a space between the squares of 100 μm) (that is, the light-transmitting portion) formed on the same plane was used as the photomask.
After the light irradiation, the coating film was developed by immersing and shaking at 25 ° C. for 60 seconds in an aqueous developer containing 0.12% nonionic surfactant and 0.04% potassium hydroxide, washed with water, and then washed with an oven. Inside, post-baking was performed at 235 ° C. for 15 minutes to form a pattern. A circle was given when the pattern remained without peeling. The results are shown in Table 2.

Figure 2012058728
Figure 2012058728

本発明の感光性樹脂組成物から得られた塗膜やパターンは、上記のような結果を示すため、本発明の感光性樹脂組成物から形成される塗膜及び／又はパターンを利用して表示装置を製造することにより、該表示装置の表示特性を向上させることが可能となる。   The coating film and pattern obtained from the photosensitive resin composition of the present invention are displayed using the coating film and / or pattern formed from the photosensitive resin composition of the present invention in order to show the above results. By manufacturing the device, the display characteristics of the display device can be improved.

（実施例５〜８）
＜感光性樹脂組成物の調製＞
表３の成分をそれぞれ混合して、感光性樹脂組成物を得る。なお、表３中の各成分は、表１と同様の成分である。 (Examples 5 to 8)
<Preparation of photosensitive resin composition>
The components in Table 3 are mixed to obtain a photosensitive resin composition. In addition, each component in Table 3 is the same component as Table 1.

Figure 2012058728
Figure 2012058728

＜パターンの形成＞
実施例５〜８の感光性樹脂組成物について、実施例１と同様の操作を行い、４００ｎｍにおける透過率が高い塗膜及びパターンを得る。 <Pattern formation>
About the photosensitive resin composition of Examples 5-8, operation similar to Example 1 is performed and the coating film and pattern with a high transmittance | permeability in 400 nm are obtained.

本発明の感光性樹脂組成物は、得られる塗膜やパターンの可視光透過率が高い。   The photosensitive resin composition of the present invention has high visible light transmittance of the resulting coating film or pattern.

Claims (7)

樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含み、重合開始剤（Ｃ）が式（１）：
Figure 2012058728
 ［式（１）中、Ｒ１は、炭素数３〜８のシクロアルキル基を表す；
Ｌ１は、炭素数１〜５のアルカンジイル基を表す；
Ｌ２が、単結合又は−ＣＯ−を表す；
Ｒ２は、メチル基、フェニル基又はベンジル基を表す；
Ｒ３は、置換基を有していてもよいフェニルスルファニルフェニル基、又は置換基を有していてもよいカルバゾリル基を表す］
で表される化合物を含む重合開始剤である感光性樹脂組成物。 A resin (A), a polymerizable compound (B), a polymerization initiator (C) and a solvent (D) are included, and the polymerization initiator (C) is represented by the formula (1):
Figure 2012058728
 [In formula (1), R 1 represents a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms;
L 1 represents an alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms;
L 2 represents a single bond or -CO-;
R 2 represents a methyl group, a phenyl group or a benzyl group;
R 3 represents a phenylsulfanylphenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent]
The photosensitive resin composition which is a polymerization initiator containing the compound represented by these. 式（１）におけるＬ２が、−ＣＯ−を表す請求項１記載の感光性樹脂組成物。 L 2 in Formula (1) The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein represents a -CO-. 式（１）で表される化合物の含有量が、重合開始剤（Ｃ）の合計量に対して３０〜１００質量％である請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物。   The photosensitive resin composition of Claim 1 or 2 whose content of the compound represented by Formula (1) is 30-100 mass% with respect to the total amount of a polymerization initiator (C). 樹脂（Ａ）が、炭素数２〜４の環状エーテル構造及び炭素−炭素不飽和二重結合を有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である請求項１〜３のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。   The resin (A) is a resin containing a structural unit derived from a monomer having a C2-C4 cyclic ether structure and a carbon-carbon unsaturated double bond. Photosensitive resin composition. 請求項１〜４のいずれかに記載の感光性樹脂組成物により得られる塗膜。   The coating film obtained by the photosensitive resin composition in any one of Claims 1-4. 請求項１〜４のいずれかに記載の感光性樹脂組成物により得られるパターン。   The pattern obtained by the photosensitive resin composition in any one of Claims 1-4. 請求項５記載の塗膜及び請求項６記載のパターンからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む表示装置。   A display device comprising at least one selected from the group consisting of the coating film according to claim 5 and the pattern according to claim 6.
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