JP5658928B2 - 多室型熱処理装置 - Google Patents
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Description
この多室型熱処理装置は、一般的に、被処理物を加熱する加熱室や、加熱室で加熱された被処理物を冷却する冷却室等を処理室として有している。
ガス冷却は、被処理物に対して冷却ガスを吹き付けることによって冷却する方法であり、冷却ガスの吹き付け量やその分布を容易に調節できることから冷却コントロール性に優れた方法である。
油冷却は、被処理物を冷却油に対して浸漬することによって冷却する方法であり、被処理物と冷却油との熱伝達効率が高いことから冷却効率が高い方法である。
このため、近年は、被処理物の冷却効率と冷却コントロール性を両立させるために、冷却室において液体粒子の潜熱によって被処理物の冷却を行う方法が提案されている。
ところが、多室型熱処理装置において、冷却室に液体粒子を充填あるいは噴出すると、当然ながら、被処理物以外の冷却室の内壁等にも液体粒子が付着することとなる。そして、被処理物以外に付着した液体粒子は、被処理物よりも付着領域の温度が低いために気化せずに残存することとなる。
例えば、多室型熱処理装置が備える加熱室が冷却液で汚染された場合には、加熱温度の低下に起因して被処理物に酸化膜が形成され、被処理物が意図せずに着色されてしまうことがある。
したがって、本発明によれば、多室型熱処理装置において、冷却室以外の他の処理室が冷却液で汚染されることを防止することが可能となる。
中央室1aの8つの側壁1a1〜1a8を備えている。そして、その1つである側壁1a1に対しては、本実施形態の多室型熱処理装置S1への出入口となる搬出入扉4が設けられている。この搬出入扉4を介して被処理物Xが中央室1aに対して搬入され、また、搬出入扉4を介して被処理物Xが中央室1aから搬出される。
なお、本実施形態の多室型熱処理装置S1においては、側壁1a2,1a7に対して加熱用昇降室1bが取り付けられ、加熱用昇降室1bに対向する側壁1a3,1a6に対してプッシュ装置5が取り付けられている。
プッシュ装置5は、被処理物Xが載置されるトレーTを押すことにより、中間搬送室1の内部に設置されたレールに沿って被処理物Xを水平方向前方に押し出して搬送するものである。
中央室1aの内部には、図1及び図3に示すように、上記上蓋6を昇降するための上蓋昇降装置7が、プッシュ装置5と干渉しない位置に設置されている。また、上蓋6の上面には、図2及び図3に示すように、トレーTを載置可能な載置台8が設けられており、上蓋6が閉鎖されている場合に中央室1aに被処理物Xを収容可能に構成されている。
なお、図2に示すように、加熱用昇降室1bの下方には、被処理物Xを昇降する昇降装置9が設置され、当該昇降装置9によって被処理物Xが載置台10と共に加熱用昇降室1b内を昇降されて搬送される。
また、図1に示すように、加熱用昇降室1bの各々には、プッシュ装置5が設けられており、当該プッシュ装置5によって加熱用昇降室1bから中央室1aに被処理物Xを搬送可能とされている。
このガス供給装置11は、雰囲気形成ガスとして、窒素ガスを中間搬送室1に対して供給する。また、図4に示すように、ガス供給装置11は、中間搬送室1に加えて、冷却室3とも接続されており、当該冷却室3に対しても雰囲気形成ガスを供給する。
さらに、図4に示すように、中間搬送室1に対して、中間搬送室1の内部を真空引きするための中間搬送室用真空ポンプ12が接続されている。
これらの加熱室2には、ヒータ13が設置されており、当該ヒータ13が発熱することによって被処理物Xが加熱処理される。なお、ヒータ13としては、ニッケルクロム(Ni−Cr)、モリブデン(Mo)あるいは黒鉛を発熱体とする電熱ヒータや、高周波電力にて加熱を行うヒータ等を用いることができる。
これらのガス供給装置14は、雰囲気形成ガスとして、例えば、窒素ガス及びアセチレンガスを加熱室2に対して供給する。
さらに、図4に示すように、加熱室2に対して、加熱室2の内部を真空引きするための加熱室用真空ポンプ15が接続されている。
冷却室3の内部には、冷却室3内にミストを噴霧する複数のノズル16と、これらのノズル16にミストとなる冷却液を案内する複数のヘッダ管17とが設置されている。
この冷却液回収供給装置18は、図4に示すように、冷却室3から回収した冷却液を貯留する冷却液タンク18aと、冷却液タンク18aに貯留された冷却液をヘッダ管17に圧送する冷却液ポンプ18bと、冷却液ポンプ18bで圧送された冷却液を冷却する熱交換器18cとを備えている。
この熱風供給装置19は、冷却室3内に熱風を供給することによって冷却室3内の乾燥を行うものである。
また、熱風供給装置19は、ヘッダ管17と接続されており、ヘッダ管17及びノズル16を通じて熱風を冷却室3内に供給する。
なお、当該熱風供給装置19にて熱風とされるガスとしては、空気や窒素ガス等の不活性ガスを用いることができる。
また、熱風の温度は、冷却室3で用いられる冷却液の種類、冷却室3の圧力等にもよるが、冷却液が水である場合には、約110℃〜120℃が好ましい。これは、大気圧で水が蒸気化する(被処理物Xから除去される)ことが可能な温度であり、かつ、上蓋6や開口等に設けられるシール材への負担が軽減可能なためである。
さらに、冷却室3には、冷却室3内に冷却ファン21が接続されており、ガス供給装置11から雰囲気形成ガスを冷却室3内に供給し、さらに冷却ファン21を駆動して冷却室3内の雰囲気形成ガスを熱交換器18c、ヘッダ管17及びノズル16を介して循環させることによって、被処理物Xをガス冷却することも可能に構成されている。
つまり、本実施形態の多室型熱処理装置S1では、ガス供給装置11を本発明における冷却ガス供給装置として使用し、乾燥手段として機能させることができる。なお、ガス供給装置11を乾燥手段として機能させる場合には、熱交換器18cによる雰囲気形成ガスの冷却は、必ずしも必要なものではない。
なお、本実施形態の多室型熱処理装置S1では、ガス供給装置11は、ヘッダ管17と接続されており、ヘッダ管17及びノズル16を通じて冷却ガスとなる雰囲気形成ガスを冷却室3内に送風する。
昇降装置23は、上述した上蓋6が開放されている場合に、中間搬送室1と冷却室3との間で被処理物Xの受渡しを行うものであり、載置台22を中間搬送室1の中央室1a内部まで上昇可能とされている。
つまり、本実施形態の多室型熱処理装置S1では、接続される処理室(中間搬送室1、加熱室2及び冷却室3)同士が高さ方向に配置され、接続された処理室間で被処理物Xの受渡しが昇降装置9,23によって行われる。
例えば、中央室1aの側壁1a2に取り付けられた加熱用昇降室1bに接続された加熱室2まで被処理物Xが搬送される場合には、側壁1a6に取り付けられたプッシュ装置5を用いて被処理物XをトレーTごと押し出して加熱用昇降室1bまで搬送する。
加熱用昇降室1bでは、被処理物Xが搬入されるのに先立ち、昇降装置9によって、加熱室2内の載置台10が下降されて待機されており、プッシュ装置5によって押し出された被処理物Xは、載置台10上に配置される。
その後、昇降装置9によって上昇されることによって載置台10上の被処理物Xが加熱室2まで搬送される。
なお、一方の加熱室2において被処理物Xの加熱処理が行われている間は、当該加熱室2は密閉されている。このため、他方の加熱室2が空いている場合には、一方の加熱室2において被処理物Xを加熱処理している間に、他方の加熱室2に他の被処理物Xを搬入することができる。
このため、加熱用昇降室1bまで下降された被処理物Xは、中央室1aの中央まで搬送されることによって、載置台22上に搬送されることとなる。
冷却室3は、予め冷却室用真空ポンプ20によって真空引きされると共にガス供給装置11から雰囲気形成ガスが供給されている。そして、昇降装置23によって被処理物Xが冷却室3に搬入されると、被処理物Xの冷却処理が行われる。
なお、冷却室3において被処理物Xの冷却処理が行われている間は、当該冷却室3は密閉されている。このため、冷却室3において被処理物Xを冷却処理している間に、空いている加熱室2に他の被処理物Xを搬入することができる。
この場合には、ガス供給装置11から雰囲気形成ガスを冷却室3内に供給し、冷却ファン21を駆動すると共に熱交換器18cによって雰囲気形成ガスを冷却することによって、ヘッダ管17及びノズル16を介して被処理物Xに冷却ガスを吹き付けて冷却を行う。
また、熱風供給装置19からの熱風は、最も乾燥し難いヘッダ管17及びノズル16を通過して冷却室3内に供給されるため、冷却室3内の冷却液は確実に蒸発し、確実に冷却室3内の乾燥が行われる。
その後、加熱処理及び冷却処理が完了し、焼入れ処理が完了した被処理物Xが搬出入扉4から本実施形態の多室型熱処理装置S1の外部に搬出される。
したがって、本実施形態の多室型熱処理装置S1によれば、冷却室3以外の他の処理室(中間搬送室1及び加熱室2)が冷却液で汚染されることを防止することが可能となる。
このような構成を採用する本実施形態の多室型熱処理装置S1によれば、熱風に晒されることによって冷却室3内が乾燥される。このため、冷却室3の隅々まで乾燥させることができ、より確実に冷却室3の乾燥を行うことができる。
一方、本実施形態の多室型熱処理装置S1は、熱風供給装置19を備えており、冷却室3における被処理物Xの冷却の後、冷却室3に熱風を供給することによって冷却室3内の乾燥を行っている。そして、この間、冷却室3に載置された被処理物Xは、熱風に晒されることとなる。このように被処理物Xが熱風供給装置19から供給される熱風に晒されることによって、実質的に被処理物Xが加熱され上記焼戻し処理が行われる。このように、本実施形態の多室型熱処理装置S1においては、熱風供給装置19が被処理物Xの焼戻し処理にも使用可能とされており、被処理物Xに対する焼入れ処理と合わせて焼戻し処理を同一装置に行うことが可能となっている。
このような構成を採用する本実施形態の多室型熱処理装置S1によれば、被処理物Xのガス冷却が可能となる上に、冷却室3の乾燥を行うことが可能となる。
このため、ヘッダ管17及びノズル16の内部が熱風あるいは雰囲気形成ガスに晒され、冷却液が蒸発し難いヘッダ管17及びノズル16の内部まで確実に乾燥させることができる。
なお、本発明の多室型熱処理装置は、必ずしも加熱室2を備える必要はない。例えば、加熱室2に換えて、図5に示すような、被処理物Xをプラズマ処理するプラズマ処理室30を備えることもできる。
被処理物Xをプラズマ処理する場合には、被処理物Xは、金属製の導電性トレーTaに載置されて搬送される。そして、プラズマ処理室30の内部には、導電性トレーTaと導通する電極32を備えている。
このような構成を採用する本実施形態の多室型熱処理装置S1によれば、万が一冷却室3から冷却液が流出した場合であっても、中間搬送室1が緩衝領域となり、冷却液が加熱室2まで到達することを防ぐことができる。このため、本実施形態の多室型熱処理装置S1によれば、被処理物Xに対する加熱処理を安定して行うことが可能となる。
このため、本実施形態の多室型熱処理装置S1は、平面視形状がコンパクトなものとなり、小さい設置面積に設置することができる。また、被処理物Xを下方から支えながら鉛直搬送する機会が増え、被処理物Xを安定して搬送することができる。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、処理室として冷却室と加熱室とのみを備える多室型熱処理装置、処理室として冷却室と搬送室とのみを備える多室型熱処理装置、処理室として冷却室とプラズマ処理室とのみを備える多室型熱処理装置に適用することもできる。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、ミストよりも粒径の大きな液体粒子の潜熱によって被処理物Xを冷却する多室型熱処理装置に適用することもできる。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、冷却室3内の被処理物Xに対してミストを吹き付けて被処理物Xを冷却する構成を採用することもできる。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば熱風供給装置19のみを備える構成を採用することもできる。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、接続される処理室同士を水平に配置し、接続された処理室間における被処理物Xの受渡しを水平搬送によって行っても良い。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、冷却室3において被処理物Xを出し入れする構成や、冷却室3において被処理物Xの取り出しのみを行う構成を採用することもできる。
Claims (8)
- 熱処理室を含む複数の処理室を備える多室型熱処理装置であって、
液体粒子の潜熱により被処理物の冷却を行う前記熱処理室である冷却室と、
前記冷却室と異なる他の処理室と、
前記冷却室の乾燥を行う乾燥手段と、
前記冷却室内に前記液体粒子を噴霧するノズルと、該ノズルに液体粒子となる冷却液を案内するヘッダ管と
を備え、
前記乾燥手段は、前記被処理物の冷却に使用可能な冷却ガスを前記冷却室内に送風して乾燥を行う冷却ガス供給装置を備え、
前記冷却ガス供給装置は、前記ノズル及び前記ヘッダ管を通じて、前記冷却ガスを前記冷却室内に送風する
ことを特徴とする多室型熱処理装置。 - 前記乾燥手段は、前記冷却室内に熱風を供給する熱風供給装置を備えることを特徴とする請求項1記載の多室型熱処理装置。
- 前記冷却室と異なる他の処理室として、前記被処理物の加熱処理を行う加熱室を備えることを特徴とする請求項1または2記載の多室型熱処理装置。
- 前記冷却室と異なる他の処理室として、前記加熱室と前記冷却室との間に配置される中間搬送室を備えることを特徴とする請求項3記載の多室型熱処理装置。
- 前記冷却室と異なる他の処理室として、前記被処理物に対するプラズマ処理を行うプラズマ処理室を備えることを特徴とする請求項1〜4いずれか一項に記載の多室型熱処理装置。
- 前記プラズマ処理室の内部に固定配置されると共に前記プラズマ処理室の内部に前記被処理物が運び込まれた際に前記被処理物が載置される導電性トレーと当接する電極を備えることを特徴とする請求項5記載の多室型熱処理装置。
- 接続される前記処理室同士が高さ方向に配置され、
接続された前記処理室間で前記被処理物の受渡しを行う昇降装置を備える
ことを特徴とする請求項1〜6いずれか一項に記載の多室型熱処理装置。 - 前記熱風供給装置は、前記被処理物が載置された前記冷却室内に熱風を供給することで行う焼戻し処理に使用可能であることを特徴とする請求項2記載の多室型熱処理装置。
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Families Citing this family (12)
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JP6596703B2 (ja) * | 2015-03-04 | 2019-10-30 | 株式会社Ihi | 多室型熱処理装置 |
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JP6721466B2 (ja) * | 2016-09-12 | 2020-07-15 | 株式会社Ihi | 熱処理装置 |
FR3073937B1 (fr) | 2017-11-21 | 2020-08-14 | Ceritherm | Installation de traitement thermique pour la fabrication de produits industriels. |
CN115096076A (zh) * | 2021-04-07 | 2022-09-23 | 江苏天海特种装备有限公司 | 乙炔瓶填料蒸养固化用隧道式推杆加热炉及连续固化工艺 |
CN114197056B (zh) * | 2022-01-14 | 2024-07-09 | 浙江大学杭州国际科创中心 | 一种半导体材料退火装置及退火方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3403451A (en) * | 1965-03-30 | 1968-10-01 | Fluid Energy Proc & Equipment | Method for drying or treating wet solid and semisolid materials |
US3886760A (en) * | 1970-09-03 | 1975-06-03 | Stephen Wyden | Method of indirect heat exchange |
CH606465A5 (ja) * | 1972-11-21 | 1978-10-31 | Elhaus Friedrich W | |
DE4005956C1 (ja) * | 1990-02-26 | 1991-06-06 | Siegfried Dipl.-Ing. Dr. 5135 Selfkant De Straemke | |
JP3310997B2 (ja) * | 1991-11-28 | 2002-08-05 | 株式会社日立製作所 | 連続処理装置 |
CN100367461C (zh) * | 1993-11-05 | 2008-02-06 | 株式会社半导体能源研究所 | 一种制造薄膜晶体管和电子器件的方法 |
JP3490791B2 (ja) * | 1994-12-20 | 2004-01-26 | 光洋サーモシステム株式会社 | 多室熱処理炉 |
US6059507A (en) * | 1997-04-21 | 2000-05-09 | Brooks Automation, Inc. | Substrate processing apparatus with small batch load lock |
JPH11153386A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-08 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 多室式マルチ冷却真空炉 |
JP3820950B2 (ja) * | 2001-10-03 | 2006-09-13 | 大同特殊鋼株式会社 | 雰囲気熱処理炉とそのシーズニング方法 |
US8530359B2 (en) * | 2003-10-20 | 2013-09-10 | Novellus Systems, Inc. | Modulated metal removal using localized wet etching |
US7841582B2 (en) * | 2004-06-02 | 2010-11-30 | Applied Materials, Inc. | Variable seal pressure slit valve doors for semiconductor manufacturing equipment |
US9799536B2 (en) * | 2005-02-07 | 2017-10-24 | Planar Semiconductor, Inc. | Apparatus and method for cleaning flat objects in a vertical orientation with pulsed liquid jet |
US7845891B2 (en) * | 2006-01-13 | 2010-12-07 | Applied Materials, Inc. | Decoupled chamber body |
US8124907B2 (en) * | 2006-08-04 | 2012-02-28 | Applied Materials, Inc. | Load lock chamber with decoupled slit valve door seal compartment |
US20090001057A1 (en) * | 2007-06-29 | 2009-01-01 | Cheng-Hsin Ma | Dual damascene trench depth detection and control using voltage impedance RF probe |
US20110155192A1 (en) * | 2008-02-27 | 2011-06-30 | Nadeem Ahmad | System and apparatus for automatic built-in vehicle washing and other operations |
JP2010014290A (ja) * | 2008-07-01 | 2010-01-21 | Ihi Corp | 多室型熱処理炉 |
JP2010038531A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-02-18 | Ihi Corp | 熱処理装置 |
US20100024847A1 (en) * | 2008-08-01 | 2010-02-04 | Breese Ronald G | Semiconductor wafer cleaning with dilute acids |
JP5203986B2 (ja) * | 2009-01-19 | 2013-06-05 | 東京エレクトロン株式会社 | フォーカスリングの加熱方法、プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体 |
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