JP5655937B2 - 高周波モジュール - Google Patents

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Description

本発明は、多層基板に高周波スイッチおよび高周波フィルタが搭載された高周波モジュールに関し、特に高周波スイッチに対する制御信号を入力する制御信号入力端子を備えた高周波モジュールに関する。
複数の通信周波数帯を切り替えて通信する通信機器には、一般にアンテナと送受信回路との間にフロントエンドモジュールが備えられる。たとえば、特許文献1には高周波スイッチを備えたフロントエンドモジュールが開示されている。
図1は特許文献1に示されているフロントエンドモジュールの回路図である。このフロントエンドモジュールにおいて、高周波スイッチ1の送信信号入力部2は低域フィルタ5,6を介してパワーアンプ13に接続されている。受信信号出力部3はバンドパスフィルタ10,11,12を介してローノイズアンプ14に接続されている。高周波スイッチ1の出力部4はアンテナ15に接続されている。
特表2004−517583号公報
特許文献1に示されるような高周波スイッチをダイプレクサやフィルタとともに多層セラミック基板に搭載することで小型の高周波モジュールが構成できる。しかし、多層セラミック基板の表面電極を含む各配線パターンの配置を工夫しなければ、配線間で干渉し合うという不具合が生じる。特に、シリアルデータ信号およびクロック信号で制御データを入力する高周波スイッチである場合、シリアルデータ信号およびクロック信号(高周波スイッチ制御信号)は高調波ノイズ成分が多いので、この高周波スイッチ制御信号の配線の取り扱いが課題となる。
上述の問題はフィルタから高周波スイッチまでの間で生じる干渉に限らず、アンテナから高周波スイッチまでの間で生じる干渉についても同様である。
本発明は上述の事情に鑑み、高周波スイッチ制御信号による高調波ノイズの影響を受け難くして通信特性の劣化を改善した高周波モジュールを提供することを目的としている。
本発明の発明者等の実験を通しての考察により、高周波スイッチ制御信号による高調波ノイズは、多層基板内部のグランド導体層を介して、高周波スイッチの高周波信号ラインに重畳されることと、その重畳の原因が、制御信号用配線導体と高周波スイッチの高周波信号が流れる配線導体とが同じグランド導体に近接していることであることがわかった。また、高周波スイッチ以外に電子部品を備える場合には、高周波スイッチ制御信号による高調波ノイズは、多層基板内部のグランド導体層を介して、前記電子部品が導通するグランド導体に重畳されることと、その重畳の原因が、前記電子部品の導通するグランド導体(整合用素子導通グランド導体)と制御信号用配線導体とが近接していることであることがわかった。
そこで、上述の課題を解決するために、本発明の高周波モジュールは次のように構成する。
数の誘電体層と前記誘電体層上に形成された配線導体と前記誘電体層を厚み方向に貫通する層間接続導体とを備える多層基板、
前記多層基板の第1主面にそれぞれ搭載された高周波スイッチおよび電子部品、
ならびに前記多層基板の第2主面に形成され、前記高周波スイッチの制御信号を入力する制御信号入力端子を有し、
前記制御信号入力端子がつながる制御信号用配線導体は前記多層基板の第2主面に近い誘電体層上に形成され、
前記高周波スイッチの高周波信号が流れる高周波信号配線導体は前記多層基板の第1主面に近い誘電体層上に形成されており、前記制御信号用配線導体に近接するグランド導体と前記電子部品のグランド端子がつながる電子部品導通グランド導体とは、前記多層基板内で電気的に分離されており、前記電子部品導通グランド導体は、前記第1主面に近い誘電体層上に形成されており、前記制御信号用配線導体に近接するグランド導体は、前記第2主面に近い誘電体層上に形成されており、前記制御信号用配線導体および前記制御信号用配線導体に近接するグランド導体と前記電子部品導通グランド導体との間に、前記電子部品導通グランド導体とは別のグランド導体が形成されていることを特徴とする。
前記高周波スイッチと前記制御信号用配線導体とを導通させる層間接続導体は、前記多層基板の平面視で、前記高周波スイッチの領域内に形成されることが好ましい。
前記高周波スイッチが制御信号入力端子から入力する前記高周波スイッチの制御信号はシリアルデータ信号およびクロック信号である場合に、特に効果的である。
前記電子部品は、例えば前記高周波信号配線導体とグランドとの間に接続された整合用素子である。
前記整合用素子は、例えば前記多層基板内の層間接続導体および配線導体により構成されたインダクタ素子である。
前記整合用素子は、例えば前記多層基板の第1主面に搭載されたインダクタ素子である。
本発明によれば、制御信号用配線導体と高周波信号配線導体との電磁界を介する結合、および制御信号用配線導体と整合用素子導通グランド導体との電磁界を介する結合が抑制されて、高周波スイッチ制御信号が入力されることによる高調波ノイズの影響を受け難くなる。そのため、受信感度の低下や送信信号歪みなどの通信特性の劣化が改善される。
図1は特許文献1に示されているフロントエンドモジュールの回路図である。 図2(A)、図2(B)は、第1の実施形態の高周波モジュールに対する比較例の高周波モジュール100A,100Bの主要部の断面図である。 図3は第1の実施形態の高周波モジュール101の主要部の断面図である。 図4は第2の実施形態の高周波モジュール102のブロック構成図である。 図5はシリアルデータ入力端子SDATAに入力されるシリアルデータ信号S(SDATA)とクロック信号入力端子SCLKに入力されるクロック信号S(SCLKの波形図である。 図6(A)は第2の実施形態の高周波モジュール102の主要部の断面図、図6(B)はその比較対照としての、従来構造の高周波モジュール100Cの主要部の断面図である。 図7(A)は第3の実施形態の高周波モジュール103の主要部の断面図、図7(B)はその比較対照としての、従来構造の高周波モジュール100Dの主要部の断面図である。 図8(A)は第4の実施形態の高周波モジュール104の主要部の断面図、図8(B)はその比較対照としての、従来構造の高周波モジュール100Eの主要部の断面図である。 図9は第5の実施形態の高周波モジュール105の断面図である。 図10は高周波モジュール105の分解平面図である。 図11は第6の実施形態の高周波モジュールの分解平面図である。
《第1の実施形態》
図2(A)、図2(B)は、第1の実施形態の高周波モジュールに対する比較例の(従来の一般的な設計方法での)高周波モジュール100A,100Bの主要部の断面図である。また、図3は第1の実施形態の高周波モジュール101の主要部の断面図である。
図2(A)、図2(B)および図3において、高周波モジュール(100A,100B,101)は多層セラミック基板(以下、単に「多層基板」)20と、この多層基板20の第1主面(上面)に搭載された高周波スイッチ31を備えている。多層基板20は、その内部に配線導体W1,W2、グランド導体G1,G2,G3、層間接続導体V1,V2,V3を備えている。多層基板20の第2主面(下面)には制御信号入力端子21が形成されている。
高周波スイッチ31が搭載される電極と配線導体W1,W2とは層間接続導体V2,V3を介して導通している。
前記制御信号入力端子21には高周波スイッチ31に対する制御信号が入力される。この制御信号は層間接続導体V1、配線導体W1、および層間接続導体V2を経由して高周波スイッチ31の制御信号入力端子に入力される。
図2(A)、図2(B)いずれの例でも、制御信号用配線導体W1と高周波スイッチの高周波信号が流れる配線導体W2がグランド導体G1の層に近接している。グランド導体G1が完全なグランド電位で且つ極めて低抵抗でない限り、制御信号用配線導体W1と配線導体W2はグランド導体G1の層を介して結合してしまう。すなわち、図2(A)、図2(B)に矢印で示すように、前記制御信号は高周波スイッチ31の高周波信号が流れる配線導体W2へ回り込む。その結果、高周波信号に制御信号の高調波ノイズが重畳されてしまう。その高周波信号が受信信号である場合には、受信感度の低下の原因となる。送信信号である場合には、送信信号歪みの原因となる。
一方、図3に示す第1の実施形態の高周波モジュール101では、制御信号用配線導体W1は多層基板20の第2主面(下面)に近い誘電体層上に形成されていて、高周波スイッチ31の高周波信号が流れる高周波信号配線導体W2は多層基板20の第1主面(上面)に近い誘電体層上に形成されている。そのため、制御信号用配線導体W1と高周波信号配線導体W2とは互いに離れている。
また、この例では、制御信号用配線導体W1と配線導体W2との間にグランド導体G4等の別のグランド導体層が形成されている。そのため、制御信号用配線導体W1と配線導体W2との結合が充分に遮断される。
さらに、高周波スイッチ31の制御信号入力端子に繋がる層間接続導体V2は高周波スイッチ31の搭載位置の直下に直線状に延びていて、高周波スイッチ31と制御信号用配線導体W1とを導通させる層間接続導体V2は、多層基板20の平面視で、高周波スイッチ31の領域内に形成されている。そのため、高周波スイッチ31の搭載位置の近傍での制御信号用導体の引き回しが少なく、高周波信号配線導体W2への回り込みが少なくなる。
これらの作用によって、高周波信号配線導体W2への制御信号およびその高調波の重畳が充分に抑制される。その結果、受信感度の低下や送信信号歪みなどの通信特性の劣化が改善される。
《第2の実施形態》
図4は第2の実施形態の高周波モジュール102のブロック構成図である。
第2の実施形態の高周波モジュール102は、多層基板とこの多層基板に搭載された高周波スイッチ31、デュプレクサ32a〜32d、ダイプレクサ35,フィルタ34e,34f、整合用インダクタLa,Lb,Lc,Ld等を備えている。高周波スイッチ31はアンテナポートANT、入出力ポートP1〜P7、電源端子Vdd、グランド端子GND、シリアルデータ入力端子SDATA、クロック信号入力端子SCLKおよびデジタル回路部用電源端子Vioを備えている。
図5は前記シリアルデータ入力端子SDATAに入力されるシリアルデータ信号S(SDATA)と前記クロック信号入力端子SCLKに入力されるクロック信号S(SCLK)の波形図である。高周波スイッチ31はクロック信号S(SCLK)に同期してシリアルデータから所定ビットのデータを読み取る。このデータに基づいてFETなどの高周波スイッチのオン/オフを切り替える。
このようにシリアルデータ信号S(SDATA)とクロック信号S(SCLK)は矩形波信号であるので、その高調波成分の強度が高い。しかも、クロック信号S(SCLK)はたとえば26MHzの連続した矩形波信号であるので、前述した高調波ノイズの重畳の原因となりやすい。
図6(A)は第2の実施形態の高周波モジュール102の主要部の断面図、図6(B)はその比較対照としての、従来構造の高周波モジュール100Cの主要部の断面図である。
図6(A)、図6(B)において、高周波モジュール(102,100C)は多層基板20と、この多層基板20の第1主面(上面)に搭載された高周波スイッチ31、デュプレクサ32、整合用インダクタ33等を備えている。多層基板20は、その内部に配線導体W1〜W3、グランド導体G1〜G3、層間接続導体V1〜V7を備えている。多層基板20の第2主面(下面)には制御信号入力端子21が形成されている。
高周波スイッチ31が搭載される電極と配線導体W1,W2とは層間接続導体V2,V3を介して導通している。
前記制御信号入力端子21には高周波スイッチ31に対する制御信号が入力される。この制御信号は層間接続導体V1、配線導体W1、および層間接続導体V2を経由して高周波スイッチ31の制御信号入力端子に入力される。整合用インダクタ33の一方の端子は層間接続導体V6を介してグランド導体G1に接続され、他方の端子は配線導体W2に接続されている。デュプレクサ32の一つの端子は層間接続導体V4を介して配線導体W2に接続されていて、別の端子は配線導体W3に接続されている。
図6(B)の例では、高周波スイッチの高周波信号が流れる配線導体(高周波信号配線導体)W2の層が、整合用インダクタ33が導通するグランド導体G1の層に近接している。そのため、図6(B)に矢印で示すように、前記制御信号の高調波ノイズは整合用インダクタ33が繋がる整合用素子導通グランド導体G1へ重畳される。この制御信号の高調波ノイズは整合用インダクタ33を介して高周波信号配線導体W2に回り込む。その結果、高周波信号に制御信号の高調波ノイズが重畳されてしまう。その高周波信号が受信信号である場合には、受信感度の低下の原因となる。送信信号である場合には、送信信号歪みの原因となる。
一方、本発明の第2の実施形態では、図6(A)のように制御信号用配線導体W1は多層基板20の第2主面(下面)に近い誘電体層上に形成されていて、高周波スイッチ31の高周波信号が流れる高周波信号配線導体W2および整合用素子導通グランド導体G1は多層基板20の第1主面(上面)に近い誘電体層上に形成されている。そのため、制御信号用配線導体W1と高周波信号配線導体W2とは互いに離れている。また、制御信号用配線導体W1と整合用素子導通グランド導体G1とは互いに離れている。
また、この例では、制御信号用配線導体W1と整合用素子導通グランド導体G1との間にグランド導体G2,G3等の整合用素子導通グランド導体G1とは別のグランド導体層が形成されている。そのため、制御信号用配線導体W1と整合用素子導通グランド導体G1との結合が充分に遮断される。
さらに、高周波スイッチ31の制御信号入力端子に繋がる層間接続導体V2は高周波スイッチ31の搭載位置の直下に直線状に延びていて、高周波スイッチ31と制御信号用配線導体W1とを導通させる層間接続導体V2は、多層基板20の平面視で、高周波スイッチ31の領域内に形成されている。そのため、高周波スイッチ31の搭載位置の近傍での制御信号用導体の引き回しが少なく、整合用素子導通グランド導体G1および高周波信号配線導体W2への回り込みが少ない。
これらの作用によって、高周波信号配線導体W2への制御信号およびその高調波の重畳が充分に抑制される。その結果、受信感度の低下や送信信号歪みなどの通信特性の劣化が改善される。
《第3の実施形態》
図7(A)は第3の実施形態の高周波モジュール103の主要部の断面図、図7(B)はその比較対照としての、従来構造の高周波モジュール100Dの主要部の断面図である。
図7(A)、図7(B)において、高周波モジュール(103,100D)は多層基板20と、この多層基板20の第1主面(上面)に搭載された高周波スイッチ31、電子部品36等を備えている。多層基板20は、その内部に配線導体W1〜W3、グランド導体G1〜G3、層間接続導体V1〜V6を備えている。多層基板20の第2主面(下面)には制御信号入力端子21が形成されている。
高周波スイッチ31が搭載される電極と配線導体W1,W2とは層間接続導体V2,V3を介して導通している。
前記制御信号入力端子21には高周波スイッチ31に対する制御信号が入力される。この制御信号は層間接続導体V1、配線導体W1、および層間接続導体V2を経由して高周波スイッチ31の制御信号入力端子に入力される。電子部品36のグランド端子は層間接続導体V6を介してグランド導体(電子部品導通グランド導体)G1に接続され、他の端子は配線導体W2,W3に接続されている。
図7(B)の例では、高周波スイッチの高周波信号が流れる配線導体(高周波信号配線導体)W2の層が、電子部品36が導通するグランド導体G1の層に近接している。そのため、図7(B)に矢印で示すように、前記制御信号の高調波ノイズは電子部品36が繋がる電子部品導通グランド導体G1へ重畳される。この制御信号の高調波ノイズは電子部品36を介して高周波信号配線導体W2,W3に回り込む。その結果、高周波信号に制御信号の高調波ノイズが重畳されてしまう。その高周波信号が受信信号である場合には、受信感度の低下の原因となる。送信信号である場合には、送信信号歪みの原因となる。
一方、本発明の第3の実施形態では、図7(A)のように制御信号用配線導体W1は多層基板20の第2主面(下面)に近い誘電体層上に形成されていて、高周波スイッチ31の高周波信号が流れる高周波信号配線導体W2および電子部品36が導通するグランド導体(電子部品導通グランド導体)G1は多層基板20の第1主面(上面)に近い誘電体層上に形成されている。そのため、制御信号用配線導体W1と高周波信号配線導体W2とは互いに離れている。また、制御信号用配線導体W1と電子部品導通グランド導体G1とは互いに離れている。
また、この例では、制御信号用配線導体W1と電子部品導通グランド導体G1との間にグランド導体G2,G3等の電子部品導通グランド導体G1とは別のグランド導体層が形成されている。そのため、制御信号用配線導体W1と電子部品導通グランド導体G1との結合が充分に遮断される。
さらに、高周波スイッチ31の制御信号入力端子に繋がる層間接続導体V2は高周波スイッチ31の搭載位置の直下に直線状に延びていて、高周波スイッチ31と制御信号用配線導体W1とを導通させる層間接続導体V2は、多層基板20の平面視で、高周波スイッチ31の領域内に形成されている。そのため、高周波スイッチ31の搭載位置の近傍での制御信号用導体の引き回しが少なく、電子部品導通グランド導体G1および高周波信号配線導体W2への回り込みが少ない。
これらの作用によって、高周波信号配線導体W2への制御信号およびその高調波の重畳が充分に抑制される。その結果、受信感度の低下や送信信号歪みなどの通信特性の劣化が改善される。
《第4の実施形態》
図8(A)は第4の実施形態の高周波モジュール104の主要部の断面図、図8(B)はその比較対照としての、従来構造の高周波モジュール100Eの主要部の断面図である。
図8(A)、図8(B)において、高周波モジュール(104,100E)は多層基板20と、この多層基板20の第1主面(上面)に搭載された高周波スイッチ31、デュプレクサ32等を備えている。多層基板20は、その内部に配線導体W1〜W3、グランド導体G1〜G4、層間接続導体V1〜V5、整合用インダクタL1を備えている。多層基板20の第2主面(下面)には制御信号入力端子21が形成されている。
高周波スイッチ31が搭載される電極と配線導体W1,W2とは層間接続導体V2,V3介して導通している。
図6(A)、図6(B)に示した構造の高周波モジュールと異なり、整合用インダクタL1は多層基板20内に構成されている。この整合用インダクタL1は層方向に延びる複数の配線導体と層間方向に延びる複数の層間接続導体とで構成されている。そして、整合用インダクタL1の一方端が高周波信号配線導体W2につながっていて、他方端が整合用素子導通グランド導体G1につながっている。
図8(B)の例では、制御信号用配線導体W1と高周波信号配線導体W2とがグランド導体G4の層に近接している。そのため、図8(B)に矢印で示すように、前記制御信号の高調波ノイズはグランド導体G4を介して高周波信号配線導体W2へ重畳される。その結果、高周波信号に制御信号の高調波ノイズが重畳されてしまう。その高周波信号が受信信号である場合には、受信感度の低下の原因となる。送信信号である場合には、送信信号歪みの原因となる。
一方、本発明の第4の実施形態では、図8(A)のように制御信号用配線導体W1は多層基板20の第2主面(下面)に近い誘電体層上に形成されていて、高周波信号配線導体W2は多層基板20の第1主面(上面)に近い誘電体層上に形成されている。そのため、制御信号用配線導体W1と高周波信号配線導体W2とは互いに離れている。
また、この例では、制御信号用配線導体W1に平面視で重なるグランド導体G3と整合用素子導通グランド導体G1とは分離部Sで分離されている。そのため、制御信号用配線導体W1と整合用素子導通グランド導体G1との結合が充分に遮断される。
さらに、高周波スイッチ31の制御信号入力端子に繋がる層間接続導体V2は高周波スイッチ31の搭載位置の直下に直線状に延びていて、高周波スイッチ31と制御信号用配線導体W1とを導通させる層間接続導体V2は、多層基板20の平面視で、高周波スイッチ31の領域内に形成されている。そのため、高周波スイッチ31の搭載位置の近傍での制御信号用導体の引き回しが少なく、高周波信号配線導体W2への回り込みが少ない。
これらの作用によって、高周波信号配線導体W2への制御信号およびその高調波の重畳が充分に抑制される。その結果、受信感度の低下や送信信号歪みなどの通信特性の劣化が改善される。
《第5の実施形態》
図9は第5の実施形態の高周波モジュール105の断面図である。図10はこの高周波モジュール105の分解平面図である。この高周波モジュールは、多層基板とその多層基板に搭載された高周波スイッチおよび整合用インダクタで構成されている。図10の(1)〜(20)はその多層基板の各層の平面図である。(1)が最上層、(20)が最下層である。(1)に示す最上層には高周波スイッチが搭載される電極および整合用インダクタチップが搭載される電極が形成されている。(2)〜(19)に示す各層には各種配線導体、各種グランド導体および層間接続導体(ビア導体)が形成されている。
図9のように、多層基板20は、その内部に配線導体W1,W2、グランド導体G1〜G3、層間接続導体V1,V2,V3,V6,V7を備えている。多層基板20の第2主面(下面)には制御信号入力端子21が形成されている。基本構成は、第2の実施形態で図6(A)に示したものと同様である。
高周波スイッチ31が搭載される電極と配線導体W1,W2とは層間接続導体V2,V3を介して導通している。
制御信号用配線導体W1は多層基板20の第2主面(下面)に近い誘電体層上に形成されていて、高周波スイッチ31の高周波信号が流れる高周波信号配線導体W2および整合用素子導通グランド導体G1は多層基板20の第1主面(上面)に近い誘電体層上に形成されている。そのため、制御信号用配線導体W1と高周波信号配線導体W2とは互いに離れている。また、制御信号用配線導体W1と整合用素子導通グランド導体G1とは互いに離れている。
図10の層(20)には制御信号入力端子21(シリアルデータ入力端子SDATAおよびクロック信号入力端子SCLK)を含む複数の端子が形成されている。層(19)にはグランド導体G3が形成されている。層(18)には制御信号入力端子21に繋がる制御信号用配線導体W1が形成されている。層(17)にはグランド導体G2が形成されている。また、層(5)にはグランド導体G1が形成されている。層(2)には高周波信号配線導体W2が形成されている。さらに層(1)には高周波スイッチ31を搭載する複数の電極A31および整合用インダクタ33を搭載する二つの電極A33が形成されている。層(3)〜層(19)には層間接続導体V2が形成されている。
以上のとおり多層構造を構成できる。
《第6の実施形態》
図11は第6の実施形態の高周波モジュールの分解平面図である。第5の実施形態ではシリアルデータ入力端子SDATAおよびクロック信号入力端子SCLKにそれぞれつながる配線導体や層間接続導体からの高調波ノイズの回り込みを防止する構造とした。第6の実施形態はクロック信号入力端子SCLKにつながる配線導体や層間接続導体からの高調波ノイズの回り込みを防止する構造である。その他は第5の実施形態と同様である。
図11の層(20)には、シリアルデータ入力端子SDATAとクロック信号入力端子SCLK(制御信号入力端子21)を含む複数の端子が形成されている。層(19)にはグランド導体G3が形成されている。層(18)にはクロック信号入力端子SCLK(制御信号入力端子21)に繋がる制御信号用配線導体W1が形成されている。層(17)にはグランド導体G2が形成されている。また、層(5)にはグランド導体G1が形成されている。層(2)には高周波信号配線導体W2が形成されている。さらに層(1)には高周波スイッチ31を搭載する複数の電極A31および整合用インダクタ33を搭載する二つの電極A33が形成されている。層(3)〜層(19)には層間接続導体V2が形成されている。
このように、シリアルデータの同期転送用のクロック信号入力端子SCLKにそれぞれつながる配線導体や層間接続導体についてのみ、図9に示した構造をとっても、クロック信号の高調波信号の高周波信号配線導体W2への回り込みが充分に抑制される。その結果、受信感度の低下や送信信号歪みなどの通信特性の劣化が改善される。
A31,A33…電極
ANT…アンテナポート
G1…整合用素子導通グランド導体
G2,G3,G4…グランド導体
GND…グランド端子
L1…整合用インダクタ
La,Lb,Lc,Ld…整合用インダクタ
P1〜P7…入出力ポート
S…分離部
SCLK…クロック信号入力端子
SDATA…シリアルデータ入力端子
V1〜V7…層間接続導体
Vdd…電源端子
W1…制御信号用配線導体
W2…高周波信号配線導体
W3…配線導体
20…多層基板
21…制御信号入力端子
31…高周波スイッチ
32,32a〜32d…デュプレクサ
33…整合用インダクタ
34e,34f…フィルタ
35…ダイプレクサ
100A〜100D…高周波モジュール
101〜105…高周波モジュール

Claims (7)

  1. 複数の誘電体層と前記誘電体層上に形成された配線導体と前記誘電体層を厚み方向に貫通する層間接続導体とを備える多層基板、
    前記多層基板の第1主面にそれぞれ搭載された高周波スイッチおよび電子部品、
    ならびに前記多層基板の第2主面に形成され、前記高周波スイッチの制御信号を入力する制御信号入力端子を有し、
    前記制御信号入力端子がつながる制御信号用配線導体は前記多層基板の第2主面に近い誘電体層上に形成され、
    前記高周波スイッチの高周波信号が流れる高周波信号配線導体は前記多層基板の第1主面に近い誘電体層上に形成されており、
    前記制御信号用配線導体に近接するグランド導体と前記電子部品のグランド端子がつながる電子部品導通グランド導体とは、前記多層基板内で電気的に分離されており、
    前記電子部品導通グランド導体は、前記第1主面に近い誘電体層上に形成されており、
    前記制御信号用配線導体に近接するグランド導体は、前記第2主面に近い誘電体層上に形成されており、
    前記制御信号用配線導体および前記制御信号用配線導体に近接するグランド導体と前記電子部品導通グランド導体との間に、前記電子部品導通グランド導体とは別のグランド導体が形成されていることを特徴とする高周波モジュール。
  2. 前記制御信号用配線導体に近接するグランド導体は、前記制御信号用配線導体よりも前記第2主面側に配置されており、
    前記電子部品導通グランド導体とは別のグランド導体は、前記制御信号用配線導体よりも前記第1主面側に配置されており、
    前記制御信号用配線導体に近接するグランド導体および前記電子部品導通グランド導体とは別のグランド導体は、前記制御信号用配線導体に対して、1層の誘電体層のみを介して配置されている、
    請求項1に記載の高周波モジュール。
  3. 前記高周波スイッチと前記制御信号用配線導体とを導通させる層間接続導体は、前記多層基板の平面視で、前記高周波スイッチの領域内に形成された、請求項1または請求項2に記載の高周波モジュール。
  4. 前記高周波スイッチが制御信号入力端子から入力する前記高周波スイッチの制御信号はシリアルデータ信号およびクロック信号である、請求項1〜のいずれかに記載の高周波モジュール。
  5. 前記電子部品は、前記高周波信号配線導体とグランドとの間に接続された整合用素子である、請求項1〜のいずれかに記載の高周波モジュール。
  6. 前記整合用素子は、前記多層基板内の層間接続導体および配線導体により構成されたインダクタ素子である、請求項に記載の高周波モジュール。
  7. 前記整合用素子は、前記多層基板の第1主面に搭載されたインダクタ素子である、請求項に記載の高周波モジュール。
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