JP5644033B2 - マイクロレンズアレイを使用したレーザ処理装置及びレーザ処理方法 - Google Patents
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Description
前記基板を前記相対的移動方向の第1方向に相対移動させつつ、前記第1方向の端部の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する第1工程と、
次に、前記基板を前記第1方向の反対方向の第2方向に相対移動させつつ、前記第2方向の端部の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する第2工程と、
前記第1工程と前記第2工程とを複数回繰り返す工程と、
次に、前記基板を第1方向に相対移動させつつ、前記第1方向の端部の一つ手前の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する第3工程と、
次に、前記基板を第2方向に相対移動させつつ、前記第2方向の端部の一つ手前の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する第4工程と、
前記第3工程と前記第4工程とを複数回繰り返す工程と、
同様にして、順次、前記マイクロレンズアレイの第1方向及び第2方向に関し中央寄りに位置する2個の領域のマイクロレンズを使用し、この2個の領域のマイクロレンズを、前記基板の第1方向及び第2方向の移動に交互に対応させて、レーザ光を照射する工程を複数回繰り返す工程と、
を有することを特徴とする
2:マイクロレンズアレイ
3:保護膜
4a、4b、4c、4d:マイクロレンズ
6a、6b、6c、6d:追従マーク
7a、7b、7c、7d:(保護膜における汚染)部分
8a、8d:(保護膜における既に汚染されて使用不可の)部分
Claims (4)
- レーザ光源と、アニール又は露光を受ける対象物に対峙して配置されるマイクロレンズアレイと、前記マイクロレンズアレイの前記基板側の面を覆うように設けられた保護膜と、前記レーザ光源からのレーザ光を前記マイクロレンズアレイに向けて導く光学系と、前記レーザ光の光軸に垂直方向に前記マイクロレンズアレイと前記基板とを相対的に往復移動させる駆動部材と、この駆動部材による前記往復移動を制御する制御装置と、を有し、前記マイクロレンズアレイは、前記マイクロレンズアレイと前記基板との相対的移動方向に複数個に分かれた各領域について複数個設けられたマイクロレンズを有し、前記駆動部材は、前記マイクロレンズアレイと前記基板とを第1方向及びその反対方向の第2方向に往復移動させるものであり、前記制御装置は、先ず、前記基板を第1方向に相対移動させつつ、前記第1方向の端部の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射し、次に、前記基板を第2方向に相対移動させつつ、前記第2方向の端部の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する処理を繰り返し、次に、前記基板を第1方向に相対移動させつつ、前記第1方向の端部の一つ手前の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射し、次に、前記基板を第2方向に相対移動させつつ、前記第2方向の端部の一つ手前の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する処理を繰り返すというようにして、前記マイクロレンズアレイにおける第1方向及び第2方向の端部側の2領域のマイクロレンズから、順次中心側に向けて2領域のマイクロレンズを使用して、レーザ光を前記基板に照射するように、前記マイクロレンズアレイと前記基板との相対的移動を制御することを特徴とするマイクロレンズアレイを使用したレーザ処理装置。
- 前記制御装置は、前記第1方向の移動と前記第2方向の移動との間に、前記マイクロレンズアレイと前記基板との相対的位置関係を、前記第1及び第2方向に垂直の第3方向に、前記マイクロレンズアレイの前記第3方向の長さに対応させて移動させることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイを使用したレーザ処理装置。
- レーザ光をマイクロレンズアレイにより基板の表面に照射して、基板の表面をレーザアニール又は露光するマイクロレンズアレイを使用したレーザ処理方法において、前記マイクロレンズアレイは、前記マイクロレンズアレイと前記基板との相対的移動方向に複数個に分かれた各領域について複数個設けられたマイクロレンズを有し、前記マイクロレンズアレイの前記基板側の面を覆うように保護膜が設けられていて、
前記基板を前記相対的移動方向の第1方向に相対移動させつつ、前記第1方向の端部の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する第1工程と、
次に、前記基板を前記第1方向の反対方向の第2方向に相対移動させつつ、前記第2方向の端部の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する第2工程と、
前記第1工程と前記第2工程とを複数回繰り返す工程と、
次に、前記基板を第1方向に相対移動させつつ、前記第1方向の端部の一つ手前の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する第3工程と、
次に、前記基板を第2方向に相対移動させつつ、前記第2方向の端部の一つ手前の領域のマイクロレンズを使用してレーザ光を前記基板に照射する第4工程と、
前記第3工程と前記第4工程とを複数回繰り返す工程と、
同様にして、順次、前記マイクロレンズアレイの第1方向及び第2方向に関し中央寄りに位置する2個の領域のマイクロレンズを使用し、この2個の領域のマイクロレンズを、前記基板の第1方向及び第2方向の移動に交互に対応させて、レーザ光を照射する工程を複数回繰り返す工程と、
を有することを特徴とするマイクロレンズアレイを使用したレーザ処理方法。 - 前記第1方向の移動と前記第2方向の移動との間に、前記マイクロレンズアレイと前記基板との相対的位置関係を、前記第1及び第2方向に垂直の第3方向に、前記マイクロレンズアレイの前記第3方向の長さに対応させて移動させる工程を有することを特徴とする請求項3に記載のマイクロレンズアレイを使用したレーザ処理方法。
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JP2011024386A JP5644033B2 (ja) | 2011-02-07 | 2011-02-07 | マイクロレンズアレイを使用したレーザ処理装置及びレーザ処理方法 |
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JP2012164829A JP2012164829A (ja) | 2012-08-30 |
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