JP5618638B2 - プラズマ処理装置または試料載置台 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の係わるプラズマ処理装置の構成の概略を説明する縦断面図である。図1において、プラズマ処理装置100は、真空容器101と、その上方の外周に配置されて真空容器101内部に電界又は磁界を供給する電磁場供給手段と、真空容器101下方に配置されて真空容器101内部を排気する排気手段とを備えている。
101 真空容器
103 処理室
104 電波源
107 試料載置台
109 ヒータ電極用直流電源
110 静電吸着電極用直流電源
201 基材部
202 誘電体膜部
203 冷媒溝
205 ヒータ電極膜
207 接着材
208 静電吸着用電極膜
209 焼結セラミック板
210 温度センサ
Claims (4)
- 真空容器内部の処理室内に配置された試料台上にウエハを載置して前記処理室内に形成したプラズマを用いて前記ウエハを処理するプラズマ処理装置であって、
前記試料台が、その内部に冷媒流路が配置された金属製の基材と、この基材上面を覆って配置された温度分布均一化層と、この温度分布均一化層上に接着層を介して配置され内部または下面に前記ウエハを吸着・保持するための静電吸着用の電極膜を有した焼結セラミック板と、前記基材内部に配置され温度を検知するセンサと、このセンサからの出力を受けて前記ヒータの発熱を調節する制御部とを備え、
前記温度分布均一化層が、前記基材上面に溶射により形成・配置された第1の誘電体膜と、この第1の誘電体膜の上に溶射によって配置され金属材料から構成された膜状のヒータであって単位面積あたりの発熱量が膜全体で均一化されるようにその厚さが調節された膜状のヒータと、前記第1の誘電体膜及び前記ヒータの上方に溶射により形成・配置された第2の誘電体膜とを備えて構成されたプラズマ処理装置。
- 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記第二の誘電体膜は、これを構成する誘電体製の材料が前記第1の誘電体膜及び前記ヒータの上方に溶射によって配置された後に前記ヒータが配置された領域の全体で当該誘電体製の材料の厚さが均等化されるようにその上面の形状が調節されたものであるプラズマ処理装置。
- 真空容器内部の処理室内に配置され、前記処理室内に形成されたプラズマを用いて処理されるウエハが載置される試料載置台であって、
内部に冷媒流路が配置された金属製の基材と、この基材上面を覆って配置された温度分布均一化層と、この温度分布均一化層上に接着層を介して配置され内部または下面に前記ウエハを吸着・保持するための静電吸着用の電極膜を有した焼結セラミック板と、前記基材内部に配置され温度を検知するセンサとを備え、
前記温度分布均一化層が、前記基材上面に溶射により形成・配置された第1の誘電体膜と、この第1の誘電体膜の上に溶射によって配置され金属材料から構成された膜状のヒータであって単位面積あたりの発熱量が膜全体で均一化されるようにその厚さが調節された膜状のヒータと、前記第1の誘電体膜及び前記ヒータの上方に溶射により形成・配置された第2の誘電体膜とを備えて構成された試料載置台。
- 請求項3に記載の試料載置台であって、
前記第二の誘電体膜は、これを構成する誘電体製の材料が前記第1の誘電体膜及び前記ヒータの上方に溶射によって配置された後に前記ヒータが配置された領域の全体で当該誘電体膜の材料の厚さが均等化されるようにその上面の形状が調節されたものである試料載置台。
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