JP5581468B2 - 色素増感太陽電池 - Google Patents
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Description
体電極との間に封入されるべき電解質中の腐蝕性成分に対する耐蝕性を有するもので
あれば特に制限されないが、チタン、ニッケル、タングステン等の金属材料、FTO(
フッ素ドープ酸化スズ膜)、ITO(インジウム・酸化スズ膜)及びATO(アンチモ
ン・酸化スズ膜)等の導電性ガラス材料、酸化亜鉛及び酸化チタン等の金属酸化物材料
などを挙げることができ、その中でもコストと耐久性の観点からは、金属材料や導電性ガラスを用いるのが好ましく、より好ましくは金属材料ではチタン、導電性ガラス材料ではFTOである。
たとえば、前記半導体電極を形成した透明導電基板上に封止材の隔壁を形成する。スクリーン印刷等の印刷技術を用いることで簡便に形成できる。封止材としては、電解質中の腐蝕性成分に対する耐腐蝕性を有するものであれば特に制限されないが、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、金属、ゴム等を例示することができるが、少なくとも表面は電気絶縁性であることを要し、封止材が導電性の場合には表面を、各種樹脂やゴム等の電気絶縁性材料で被覆する。
A.導電性基板試料の作製
FTO導電性ガラス基板(日本板硝子社、FTO膜付きガラス基板、形状120mm×70mm、厚さ4mm)上の所定位置に1mm径の孔を12箇所開け、この大きさの基板から1cm角のセル面積をもち、前記孔をそれぞれ2つ有する試料を6個切り出すことにより、触媒電極用導電性基板を6個作製した。
(1)作製された前記導電性基板上に、外周21mmで幅が2.5mmの形状で、無鉛ガラスフリットペーストをスクリーン印刷機(マイクロテック(株)MT−320TV)を用いて印刷した。印刷後、160℃、10分間乾燥し、次いで500℃で30分間、熱処理することにより前記印刷されたペーストをガラス化し短絡防止層とした。このときのガラスの厚みは20μmであった。
(2)次いで、前記短絡防止層を形成した導電性基板上に大きさ14mm角の領域に、スパッタ装置によって白金をスパッタし、厚さ5nmの白金膜を形成した。該白金膜は、後に貼り合わせる半導体電極と対向しうる所定位置に形成された。
(3)次いで、前記白金膜を形成した導電性基板につき、短絡防止層を含む外枠をマスクし、内側の16mm角の領域に、市販の二酸化チタン粒子(株式会社日本エアロジル製、商品名P25、中央平均粒径 25nm)の2重量%分散液(分散媒:エタノール)を、1000rpm、30秒間でスピンコートにより塗布した[スピンコート装置:(株)アクティブACT−300]。次いで、110℃で10分間乾燥後、500℃で30分間焼成して触媒電極を得た。得られた多孔質膜の厚みはおよそ60nmであった。
(1)作製された前記導電性基板上に、外周21mmで幅が2.5mmの形状で、無鉛ガラスフリットペーストをスクリーン印刷機(マイクロテック(株)MT−320TV)を用いて印刷した。印刷後、160℃、10分間乾燥し、次いで500℃で30分間、熱処理することにより前記印刷されたペーストをガラス化し短絡防止層とした。このときのガラスの厚みは20μmであった。
(2)次いで、得られた前記短絡防止層を備えた導電性基板上の所定位置に、粒径(中央値)約20nmの酸化チタンペーストを10mm角のセル面積となるように(マイクロテック(株)MT−320TV)を用いてスクリーン印刷した。印刷後、160℃で10分間乾燥し、再度、同じ酸化チタンペーストの印刷・乾燥を繰り返した。続いて、粒径400nm(中央値)の酸化チタンペーストを印刷・乾燥後、500℃で30分間熱処理を行い、厚さ12μm程度の酸化チタン層を形成した。
(3)前記酸化チタン層を形成した導電性基板を40mMの四塩化チタン水溶液に浸漬し、70℃で30分間加熱した。取り出して水洗後、500℃で30分間熱処理を行った。
(4)次いで、濃度0.3mMの色素溶液中に一晩浸漬し色素吸着を行って、半導体電極を得た。
(1)前記触媒電極と半導体電極の両方の基板に光硬化性樹脂をスクリーン印刷によって印刷した。その形状は前記B.(1)で作製した無鉛ガラスフリットペーストと同じである。次いで、前記触媒電極と半導体電極を、互いに光硬化性樹脂の形状が一致するように重ね合わせてクリップで固定した。
(2)UV照射装置((株)オーク製作所ハンディUV300)を用いて最大照射強度37.5mW/cm2の紫外線を1分間照射し、仮留めとした。クリップをはずして再度、片側3分間ずつ照射し、完全に硬化させた。紫外光による色素の劣化を防ぐため、色素の担持された部分をアルミ箔でマスクし、樹脂部分のみを露光した。
(3)続いて、0.1M グアニジンチオシアネート、0.5M N−メチルベンゾイミダゾール、0.6M メトキシプロピオイミダゾリウムヨージド、0.15M ヨウ素を3−メトキシプロピオニトリルに溶解した電解液をセル中に注入した。
(4)電解液注入口を、UV硬化樹脂を接着剤として厚さ1mmのガラス(約10mm×10mm)で2箇所封止して、発明品の色素増感太陽電池を得た。なお、それぞれの電極の端子は、それぞれの電極基板の余白部分を半田付けすることで作製した。
得られた色素増感太陽電池につき、ソーラーシュミレーター(山下電装製 YSS−100A)による擬似太陽スペクトル照射(AM1.5:100mW/cm2)による太陽電池性能を測定したところ、短絡電流密度13.2mA/cm2、開放電圧0.66V、性能因子0.56、変換効率4.9%であった。
触媒電極の作製以外の点については、上記実施例1の1.A.、1.C.及び1.D.と同様して色素増感太陽電池を作製した。
(3‘)次いで、前記白金膜を形成した導電性基板につき、短絡防止層を含む外枠をマスクし、内側の16mm角の領域に、市販のカーボンブラック分散液(中央平均粒径 60nm)を2重量%分散液[分散媒:水とエタノールの混合溶媒、混合重量比(水:エタノール)1:1]に調製した分散液を、1000rpm、30秒間でスピンコートにより塗布した[スピンコート装置:(株)アクティブACT−300]。次いで、110℃で10分間乾燥後、2重量%ITO分散液[中央平均粒径12nm、分散媒:イソプロパノールと水の混合溶媒、混合重量比(イソプロパノール:水)1:1]を、上記スピンコート装置を用いて1000rpm、30秒間スピンコートにより塗布した。次いで110℃、10分間乾燥後、300℃、30分間焼成した。
上記1.により得られた色素増感太陽電池につき、ソーラーシュミレーター(山下電装YSS−100A)による擬似太陽電池スペクトル照射(AM1.5:100mW/cm2)による太陽電池性能を測定したところ、短絡電流密度12.0mA/cm2、開放電圧0.65V、性能因子0.60、変換効率4.68%であった。
触媒電極の作製以外の点については、上記実施例1の1.A.、1.C.及び1.D.と同様して色素増感太陽電池を作製した。
(3“)次いで、前記白金膜を形成した導電性基板につき、短絡防止層を含む外枠をマスクし、内側の16mm角の領域に、市販のSiO2分散液(中央平均粒径 45nm)を2重量%分散液[分散媒:水とイソプロパノールの混合溶媒、混合重量比(水:イソプロパノール)1:1]に調製した分散液を、1000rpm、30秒間でスピンコートにより塗布した[スピンコート装置:(株)アクティブACT−300]。次いで、110℃で10分間乾燥後、500℃、30分間焼成した。
上記1.により得られた色素増感太陽電池につき、ソーラーシュミレーター(山下電装YSS−100A)による擬似太陽電池スペクトル照射(AM1.5:100mW/cm2)による太陽電池性能を測定したところ、短絡電流密度12.6mA/cm2、開放電圧0.65V、性能因子0.55、変換効率4.50%であった。
1.色素増感太陽電池の作製
前記実施例1において1.B(3)の工程(白金触媒層上に酸化物半導体からなる多孔質膜を形成する工程)を行わないものの、それ以外は同じ工程で比較品の色素増感太陽電池を作製した。
得られた色素増感太陽電池につき、ソーラーシュミレーター(山下電装製 YSS−100A)による擬似太陽スペクトル照射(AM1.5:100mW/cm2)による太陽電池性能を測定したところ、短絡電流密度13.1mA/cm2、開放電圧0.66V、性能因子0.58、変換効率5.0%であった。
1.色素増感太陽電池の作製
触媒電極の作製以外の点については、上記実施例と同様に行った(実施例の1.A、1.C及び1.D参照)。
得られた色素増感太陽電池につき、ソーラーシミュレーター(山下電装YSS−100A)による擬似太陽スペクトル照射(AM1.5:100mW/cm2)による太陽電池性能を測定したところ、短絡電流密度12.4mA/cm2、開放電圧0.66V、性能因子0.59、変換効率4.83%であった。
1.色素増感太陽電池の作製
触媒電極の作製以外の点については、上記実施例と同様に行った(実施例の1.A、1.C及び1.D参照)。
(2)前記の基板上16mm角の領域に、短絡防止層を含む外側をマスクし、市販の二酸化チタン粒子(株式会社日本エアロジル製、商品名P25、中央平均粒径 25nm)の2重量%分散液(分散媒体:エタノール)を、1000rpm、30秒間でスピンコートにより一定量塗布した(スピンコート装置:(株)アクティブACT−300)。110℃で10分間乾燥後、500℃で30分間焼成した。得られた薄膜の膜厚は約60nmであった。
(3)次いで、前記チタニア薄膜を形成した導電性基板につき、短絡防止層を含む外側をマスクし、内側の14mm角の領域に、スパッタ装置によって白金をスパッタし、厚さ5nmの触媒電極を得た。この白金膜は、後に貼り合わせる半導体電極と対向しうる所定位置に形成されていた。
2.性能評価
得られた色素増感太陽電池につき、ソーラーシミュレーター(山下電装YSS−100A)による擬似太陽スペクトル照射(AM1.5:100mW/cm2)による太陽電池性能を測定したところ、短絡電流密度12.1mA/cm2、開放電圧0.65V、性能因子0.59、変換効率4.64%であった。
Claims (5)
- 光増感色素を含む半導体電極、該半導体電極と対向して配置される触媒電極、及び前記2つの電極間に電解質層を有する色素増感太陽電池であって、
前記電解質層は、I3 -/I-系の酸化還元系を有し、
前記触媒電極は、電極基板上に形成された白金触媒層を有し、該白金触媒層上に多孔質膜が形成され、
前記多孔質膜が、酸化物半導体、酸化物絶縁体またはそれらの混合物からなり、
前記多孔質膜の厚みが25〜1000nmである、
ことを特徴とする色素増感太陽電池。 - 前記多孔質膜が、酸化物半導体、または酸化物半導体と酸化物絶縁体との混合物からなり、
前記酸化物半導体または前記混合物中の酸化物半導体が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化インジウム、酸化ジルコニウムからなる群から選ばれる一種以上の酸化物半導体であることを特徴とする請求項1に記載の色素増感太陽電池。 - 前記多孔質膜が、酸化物絶縁体、または酸化物半導体と酸化物絶縁体との混合物からなり、
前記酸化物絶縁体または前記混合物中の酸化物絶縁体が、酸化ケイ素または酸化アルミニウムであることを特徴とする請求項1に記載の色素増感太陽電池。 - 前記多孔質膜は、酸化物半導体粒子または酸化物絶縁体粒子を前記触媒金属層上に塗布して得ることができるものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の色素増感太陽電池。
- 前記多孔質膜は、酸化物半導体粒子前駆体または酸化物絶縁体粒子前駆体の分散液ないし溶液を前記触媒金属層上に塗布し、次いで焼成することによって得ることができるものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の色素増感太陽電池。
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