JP5578485B2 - 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5578485B2 JP5578485B2 JP2009236770A JP2009236770A JP5578485B2 JP 5578485 B2 JP5578485 B2 JP 5578485B2 JP 2009236770 A JP2009236770 A JP 2009236770A JP 2009236770 A JP2009236770 A JP 2009236770A JP 5578485 B2 JP5578485 B2 JP 5578485B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- main body
- vertical direction
- mobile device
- slider
- force
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- VJYFKVYYMZPMAB-UHFFFAOYSA-N ethoprophos Chemical compound CCCSP(=O)(OCC)SCCC VJYFKVYYMZPMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 99
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 44
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 23
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 32
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 25
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
以下、本発明の第1の実施形態について、図1〜図5(B)を用いて説明する。
次に、本発明の第2の実施形態について図6を用いて説明する。第2の実施形態に係る液晶露光装置は、上記第1の実施形態と比べ、重量キャンセル装置の構成が異なるのみなので、以下、重量キャンセル装置の構成について説明する。なお、説明の簡略化及び図示の便宜上から、上記第1の実施形態と同様の構成、及び作用を有するものについては、上記第1の実施形態と同じ符号を付して、その説明を省略する。
Claims (20)
- 少なくとも鉛直方向に移動可能な移動体と;
前記移動体の下方で前記移動体の重量をキャンセルする重量キャンセル装置と;を備え、
前記重量キャンセル装置は、
筒状に形成された本体部と、前記本体部内で鉛直方向上向きの力を発生する力発生部と、前記本体部内に配置され且つ前記鉛直方向に関して前記力発生部より上方に配置され、前記移動体及び前記力発生部相互間の力の伝達をする伝達部と、前記本体部と前記伝達部とを機械的に連結し、その弾性により前記伝達部の前記本体部に対する鉛直方向への相対移動を許容するとともに、その剛性により前記伝達部の前記本体部に対する水平方向への相対移動を制限する制限装置と、を含む移動体装置。 - 前記制限装置は、鉛直方向に離間して平行に配置された一対の板ばねを含み、
前記一対の板ばねそれぞれは、一端が前記本体部に接続され、他端が前記伝達部に接続される請求項1に記載の移動体装置。 - 前記制限装置は、前記本体部に接続される本体部側接続部と、前記伝達部に接続される伝達部側接続部と、前記本体側接続部及び前記伝達部側接続部それぞれに弾性ヒンジ部を介して架設された架設部と、を含み、
前記架設部は、鉛直方向に離間して平行に一対設けられる請求項1に記載の移動体装置。 - 前記制限装置は、ばね性を有する請求項3に記載の移動体装置。
- 前記本体側接続部、前記伝達部側接続部、及び前記一対の架設部は、一体的に形成される請求項3又は4に記載の移動体装置。
- 前記制限装置は、前記伝達部に対して鉛直軸回りに複数設けられる請求項1〜5のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記制限装置は、少なくとも鉛直軸周りに均等な間隔で3つ設けられる請求項6に記載の移動体装置。
- 前記伝達部の鉛直軸に対する傾きを調整可能な調整装置を更に備える請求項1〜7のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記本体部は、前記制限装置により前記伝達部と機械的に接続される筒状の部材から成る第1本体部と、所定のクリアランスを介して前記第1本体部を収容する筒状の部材から成る第2本体部とを含み、
前記調整装置は、前記第1及び第2本体部間の前記クリアランスを調整して、前記伝達部の鉛直軸に対する傾きを調整する請求項8に記載の移動体装置。 - 前記調整装置は、前記第2本体部の外面側から操作可能な複数のねじを含み、前記複数のねじのねじ込み量により、前記第1及び第2本体部間の前記クリアランスを調整する請求項9に記載の移動体装置。
- 前記力発生部は、前記鉛直方向上向きに発生する力の大きさが、前記伝達部の前記鉛直方向の位置に応じて変化する前記制限装置の弾性力を考慮して可変制御される請求項1〜10のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記力発生部は、ばね性を有する部材を含む請求項1〜11のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記力発生部は、内圧の変化により前記鉛直方向上向きに発生する力が可変制御される空気ばねを含む請求項12に記載の移動体装置。
- 前記移動体の下方に配置され、前記重量キャンセル装置と一体に水平面に平行な平面に沿って所定ストロークで移動可能な下移動体と;
前記下移動体に設けられた固定子と、前記移動体に設けられた可動子とを含み、前記移動体を前記下移動体に対して少なくとも前記鉛直方向に駆動するアクチュエータと;を更に備える請求項1〜13のいずれか一項に記載の移動体装置。 - 前記伝達部材は、前記移動体を非接触支持する請求項1〜14のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記制限装置は、前記鉛直方向に関して複数の位置に配置されて前記本体部と前記伝達部とを機械的に連結する請求項1〜15のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記重量キャンセル装置は、前記伝達部と接続されるプレート部材を含み、
前記プレート部材の前記鉛直方向における移動上限位置又は移動下限位置を規定するストッパ部材をさらに備える請求項1〜16のいずれか一項に記載の移動体装置。 - 前記移動体に所定の物体が載置される請求項1〜17のいずれか一項に記載の移動体装置と;
エネルギビームの露光により所定のパターンを前記物体に形成するパターン形成装置と;を備える露光装置。 - 前記物体は、ディスプレイ装置の表示パネルに用いられる基板である、請求項18に記載の露光装置。
- 請求項18又は19に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと;
前記露光された前記物体を現像することと;を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009236770A JP5578485B2 (ja) | 2009-10-14 | 2009-10-14 | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009236770A JP5578485B2 (ja) | 2009-10-14 | 2009-10-14 | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011085672A JP2011085672A (ja) | 2011-04-28 |
JP5578485B2 true JP5578485B2 (ja) | 2014-08-27 |
Family
ID=44078679
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009236770A Active JP5578485B2 (ja) | 2009-10-14 | 2009-10-14 | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5578485B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5772196B2 (ja) * | 2011-05-09 | 2015-09-02 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体装置の組立方法。 |
KR20180059864A (ko) * | 2015-09-30 | 2018-06-05 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법, 그리고 계측 방법 |
JP2022050211A (ja) * | 2020-09-17 | 2022-03-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 回転機構および基板処理装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10521A (ja) * | 1996-06-07 | 1998-01-06 | Nikon Corp | 支持装置 |
JP2002323584A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-11-08 | Nikon Corp | アクチュエータ、ステージ、露光装置、デバイスの製造方法、及び免震装置 |
JP4362862B2 (ja) * | 2003-04-01 | 2009-11-11 | 株式会社ニコン | ステージ装置及び露光装置 |
JP2006253572A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Nikon Corp | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
WO2008129762A1 (ja) * | 2007-03-05 | 2008-10-30 | Nikon Corporation | 移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、デバイス製造方法、移動体装置の製造方法、並びに移動体駆動方法 |
JP2009109560A (ja) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
JP2009164282A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Nikon Corp | ステージ装置、露光装置、及びステージ装置の制御方法 |
-
2009
- 2009-10-14 JP JP2009236770A patent/JP5578485B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011085672A (ja) | 2011-04-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6904384B2 (ja) | 移動体装置及び物体の移動方法、露光装置及び露光方法、並びにフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法 | |
US6894449B2 (en) | Vibration control device, stage device and exposure apparatus | |
US20200096878A1 (en) | Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method | |
TWI629567B (zh) | 曝光裝置、移動體裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 | |
WO2006022200A1 (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
JP6551762B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011060823A (ja) | 基板保持装置、露光装置、デバイス製造方法、及び基板保持装置の調整方法 | |
JP6689489B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5578485B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2011232628A (ja) | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
JP2012058391A (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011145317A (ja) | 移動体装置の組み立て方法、及び移動体装置の調整方法 | |
JP2011244608A (ja) | リニアモータ、移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
JP5772830B2 (ja) | 露光装置の製造方法及びデバイス製造方法 | |
JP2005257030A (ja) | 流体軸受、ステージ装置及び露光装置、評価装置及び評価方法 | |
JP2008166614A (ja) | 移動体装置、露光装置、計測方法及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP4626753B2 (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
JP2012234109A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体装置の組立方法。 | |
JP2011085671A (ja) | 物体保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2013214024A (ja) | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011242621A (ja) | 支持装置、移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP2011133735A (ja) | 移動体装置のメンテナンス方法、移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121015 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131217 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140207 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140616 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140629 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5578485 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |