JP5574553B2 - 基板搬送装置及び保持装置 - Google Patents
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Description
前記支持面は、被処理基板に対面するように構成される。
前記静電チャックは、前記被処理基板の中心を含む中央部に接触して前記被処理基板を保持するために、前記支持面に設けられるように構成される。
前記支持面は、被処理基板に対面するように構成される。
前記静電チャックは、前記被処理基板の中心を含む中央部に接触して前記被処理基板を保持するために、前記支持面から突出して設けられるように構成される。
前記保持体は、前記被処理基板の前記中央部の周囲に接触して前記被処理基板を保持するために、前記静電チャックの周囲に前記支持面から突出して設けられ、前記支持面から突出する方向で移動可能であるように構成される。
前記支持面は、被処理物に対面するように構成される。
前記静電チャックは、前記被処理物の中心を含む中央部に接触して前記被処理物を保持するために、前記支持面に設けられるように構成される。
前記支持面は、被処理物に対面するように構成される。
前記静電チャックは、前記被処理物の中心を含む中央部に接触して前記被処理物を保持するために、前記支持面から突出して設けられるように構成される。
前記保持体は、前記被処理物の前記中央部の周囲に接触して前記被処理物を保持するために、前記静電チャックの周囲に前記支持面から突出して設けられ、前記支持面から突出する方向で移動可能であるように構成される。
前記支持面は、被処理基板に対面するように構成される。
前記静電チャックは、前記被処理基板の中心を含む中央部に接触して前記被処理基板を保持するために、前記支持面に設けられるように構成される。
前記支持面は、被処理基板に対面するように構成される。
前記静電チャックは、前記被処理基板の中心を含む中央部に接触して前記被処理基板を保持するために、前記支持面から突出して設けられるように構成される。
前記保持体は、前記被処理基板の前記中央部の周囲に接触して前記被処理基板を保持するために、前記静電チャックの周囲に前記支持面から突出して設けられ、前記支持面から突出する方向で移動可能であるように構成される。
前記支持面は、被処理物に対面するように構成される。
前記静電チャックは、前記被処理物の中心を含む中央部に接触して前記被処理物を保持するために、前記支持面に設けられるように構成される。
前記支持面は、被処理物に対面するように構成される。
前記静電チャックは、前記被処理物の中心を含む中央部に接触して前記被処理物を保持するために、前記支持面から突出して設けられるように構成される。
前記保持体は、前記被処理物の前記中央部の周囲に接触して前記被処理物を保持するために、前記静電チャックの周囲に前記支持面から突出して設けられ、前記支持面から突出する方向で移動可能であるように構成される。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る基板搬送装置を示す模式的な斜視図である。基板搬送装置100は、駆動部50と、駆動部50に連結された多関節アーム60と、多関節アーム60の先端に連結されたエンドエフェクタ1を有している。エンドエフェクタ1には、被処理基板としての半導体ウエハ2が載置される。駆動部50により多関節アーム60が回転及び伸縮するように駆動されることで、エンドエフェクタ1に載置された半導体ウエハ2が搬送される。なお、真空中において半導体ウエハ2が搬送されてもよいし、大気中において半導体ウエハ2が搬送されてもよい。エンドエフェクタ1は、本実施形態において保持部として機能する。また駆動部50及び多関節アーム60は、保持部を移動させる移動機構として機能する。
図8は、本発明の第2の実施形態に係る基板搬送装置のエンドエフェクタを示す模式的な斜視図である。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明した基板搬送装置100における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。
図10は、本発明の第3の実施形態に係る保持装置を示す模式的な平面図である。図11は、図10に示すC−C線における断面図である。
2、2’、2’’、302、702…半導体ウエハ
2b、2’b、2’’b…半導体ウエハの中心
2c、2’c、2’’c、302c、702c…半導体ウエハの中心部
2d、2’d、2’’d、302d…半導体ウエハの周囲の領域
4、204、304、404、504、604、704…静電チャック
5、205、305…保持ピン
11、311、711…支持面
12…静電チャックの中心部
14、214…静電チャックの接触面
15、315…保持ピンの本体
16、216…保持ピンの接触面
18、318…バネ
100…基板搬送装置
300、700…保持装置
Claims (7)
- (a)被処理基板に対面するように構成された支持面と、
前記被処理基板の中心を含む中央部に接触して前記被処理基板の前記中央部を保持する、前記支持面から突出して設けられるように構成された静電チャックと、
前記被処理基板の前記中央部の周囲に接触して前記被処理基板の前記中央部の周囲を保持する、前記静電チャックの周囲に前記支持面から突出するように、当該突出する方向で移動可能に設けられた本体と、前記本体を前記支持面から突出する向きに付勢する付勢部材とを有する保持体と
を有する保持部と、
(b)前記保持部を移動させる移動機構と
を具備する基板搬送装置。 - 請求項1に記載の基板搬送装置であって、
前記静電チャックは、前記被処理基板と接触する第1の接触面を有し、
前記本体は、前記被処理基板と接触する第2の接触面を有し、
前記静電チャック及び前記本体により前記被処理基板が保持されない状態において、前記支持面に対する前記第2の接触面の高さが、前記支持面に対する前記第1の接触面の高さよりも大きい
基板搬送装置。 - 請求項2に記載の基板搬送装置であって、
前記第1の接触面の高さと、前記第2の接触面の高さとの差は、前記被処理基板の想定される変形量をもとに設定される
基板搬送装置。 - 請求項1から3のうちいずれか1項に記載の基板搬送装置であって、
前記支持面は、円形状を有する前記被処理基板と対面し、
前記静電チャックは、前記被処理基板の前記中心に接触する接触中心部を有し、
前記保持体は、前記接触中心部を中心とする同一円上に複数設けられる
基板搬送装置。 - 請求項1から4のうちいずれか1項に記載の基板搬送装置であって、
前記静電チャックの代表長さが、前記被処理基板の代表長さの1/4以下である
基板搬送装置。 - 請求項1から5のうちいずれか1項に記載の基板搬送装置であって、
前記静電チャックの形状が円形状の平面形状である
基板搬送装置。 - 被処理基板に対面するように構成された支持面と、
前記被処理基板の中心を含む中央部に接触して前記被処理基板の前記中央部を保持する第1の接触面を有し、前記支持面から突出して設けられるように構成された静電チャックと、
前記被処理基板の前記中央部の周囲に接触して前記被処理基板の前記中央部の周囲を保持する第2の接触面を有し、前記静電チャックの周囲に前記支持面から突出するように、当該突出する方向で移動可能に設けられた本体と、前記本体を前記支持面から突出する向きに付勢する付勢部材とを有する保持体と
を具備し、
前記静電チャック及び前記本体により前記被処理基板が保持されない状態において、前記支持面に対する前記第2の接触面の高さが、前記支持面に対する前記第1の接触面の高さよりも大きく、その高さの差が、前記被処理基板の想定される変形量をもとに設定されている
保持装置。
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