JP5568262B2 - Terminal processed coaxial cable - Google Patents

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Description

本発明は、携帯電話、小型通信機端末、パソコンの液晶ディスプレイ、更には電子機器内部配線などの用途に適した端末加工ケーブルに関するものである。とりわけ、端末加工極細同軸ケーブルに関する。   The present invention relates to a terminal processing cable suitable for applications such as a mobile phone, a small communication device terminal, a liquid crystal display of a personal computer, and an internal wiring of an electronic device. In particular, it relates to a terminal-processed ultrafine coaxial cable.

近年、パソコンを始めとする各種小型電子機器の普及に伴い、同軸ケーブル群を狭いスペースに高精度のピッチで、特性インピーダンスにマッチングするように配線することが要求されている。この要求に対処するためには、各同軸ケーブルの中心導体を所定のピッチのコネクタ端子や基板の回路に正グランドバー(8)の上面確に接続する必要がある。そのため、所定のピッチで並置された同軸ケーブル群をテープで張り合わせたフラットケーブルを利用して、一括して圧着接続することが行われている。しかし、この方式では、ケーブルが細くなるにつれて、接続部の強度が低下するという問題がある。   In recent years, along with the widespread use of various small electronic devices such as personal computers, it has been required to wire coaxial cable groups in a narrow space so as to match characteristic impedance with a high-precision pitch. In order to cope with this requirement, it is necessary to connect the center conductor of each coaxial cable to the connector terminal of a predetermined pitch or the circuit of the board with the upper surface of the positive ground bar (8). For this reason, a crimping connection is collectively performed using a flat cable in which coaxial cable groups juxtaposed at a predetermined pitch are bonded together with a tape. However, this method has a problem that the strength of the connection portion decreases as the cable becomes thinner.

この問題を解決するため、極細同軸ケーブル群の各ケーブルの切断端末を起点とし所定長さの中心導体、誘電体層、及びシールド層を順次露出させた状態で端末加工する方式が提案されている。
この提案における最終製品の形状は、図5に示されている。ここでは、露出したシールド層(2)が誘電体層(3)とグランドバー(8)に挟まれた状態で、接続基板(9)に設けられたグランドパターン(10)にハンダ(5)を介して接続(ハンダ付け)され;そして、露出した中心導体(4)が、同じく接続基板(9)に設けられた中心導体接続パターン(後述する図中の(11)に相当)にハンダ接続されている。そして、各シールド層(2)及び、グランドバー(8)のハンダ付けに際しては、グランドバー(8)の両端部に設けたハンダ固定部(8a)、及び、グランドバー(8)のほぼ中間部に設けた同軸ケーブル群の隙間(S)部の上側のグランドバー(8)から、上側のグランドバー(8)と下側のグランドバー(8)が接触するまでハンダコテを押しつけ、グランドバー(8)とグランドパターン(10)とをハンダ接続している。
In order to solve this problem, a method has been proposed in which terminal processing is performed with a center conductor, a dielectric layer, and a shield layer of a predetermined length sequentially exposed from the cutting end of each cable of the micro coaxial cable group. .
The shape of the final product in this proposal is shown in FIG. Here, with the exposed shield layer (2) sandwiched between the dielectric layer (3) and the ground bar (8), the solder (5) is applied to the ground pattern (10) provided on the connection substrate (9). And the exposed center conductor (4) is solder-connected to a center conductor connection pattern (corresponding to (11) in the figure described later) provided on the connection board (9). ing. When soldering each shield layer (2) and ground bar (8), solder fixing portions (8a) provided at both ends of the ground bar (8), and substantially the middle portion of the ground bar (8) The soldering iron is pressed from the upper ground bar (8) of the gap (S) portion of the coaxial cable group provided to the upper side until the upper ground bar (8) and the lower ground bar (8) come into contact with each other. ) And the ground pattern (10).

即ち、この方法では、通常よりグランドバー(8)の長さを延長して両端部に側方に折り曲げたハンダ固定部(8a)を設けたり、延長したハンダ固定部(8a)の位置に合わせるため、接続基板(9)に設けられたグランドパターン(10)の長さ寸法も幅方向に延長する必要があること、さらには、グランドバー(8)のほぼ中間部にハンダコテを当てるための隙間Sを設けているため、どうしても幅方向が広くなってしまい、接続基板(9)までを含めた最終製品の幅方向の寸法縮小化には自ずと限界があった。
また、この方法では、グランドバー(8)とグランドパターン(10)とがハンダ接続されている箇所がグランドバー(8)の両端部と中間部の3箇所であり、ハンダ(5)が付着しているパターン面積が小さく、実質的に線接触状態となる。このため、流れ性の悪い無鉛ハンダでは、グランドバー(8)並びに誘電体層(3)の底部のグランドパターン(10)にまでハンダ(5)が回り込まない事態が生じる。従って、ハンダ(5)が一切付着していない部分が生じ、その結果、接着強度不足の問題に加えて誘電体層(3)の底部とグランドパターン(10)間に隙間が生じる問題を併発する。
さらに、ハンダコテが誘電体層(3)に接触したり、あるいは、誘電体層(3)に近接したりするので、誘電体層(3)を熱的に損傷させてしまう。この損傷は、誘電体層(3)の厚さが薄い極細同軸ケーブルの場合には、中心導体(4)が露出してしまうという深刻な事態を引き起こす。併せて、ハンダ加熱時の熱が誘電体層(3)に伝わり、誘電体層(3)の誘電特性を変化させてしまい、本来、同軸ケーブルに要求されている高周波特性が劣化する。これらの問題は、同軸ケーブルの外径が益々、細径化されるとともに、ケーブル間のピッチもより小さくなっている昨今ではより深刻である。
That is, in this method, the length of the ground bar (8) is extended from the usual length, and solder fixing portions (8a) bent sideways are provided at both ends, or are aligned with the positions of the extended solder fixing portions (8a). Therefore, the length dimension of the ground pattern (10) provided on the connection board (9) also needs to be extended in the width direction, and further, a gap for applying a soldering iron to substantially the middle part of the ground bar (8). Since S is provided, the width direction is inevitably widened, and there is a limit in reducing the size of the final product including the connection substrate (9) in the width direction.
Further, in this method, the places where the ground bar (8) and the ground pattern (10) are solder-connected are the three places of the both ends and the middle of the ground bar (8), and the solder (5) is attached. The area of the pattern is small, and a substantially line contact state is obtained. For this reason, in the case of lead-free solder having poor flowability, a situation occurs in which the solder (5) does not reach the ground pattern (10) at the bottom of the ground bar (8) and the dielectric layer (3). Accordingly, there is a portion where no solder (5) is attached. As a result, in addition to the problem of insufficient adhesive strength, the problem that a gap is generated between the bottom of the dielectric layer (3) and the ground pattern (10) is caused. .
Furthermore, since the soldering iron contacts the dielectric layer (3) or comes close to the dielectric layer (3), the dielectric layer (3) is thermally damaged. This damage causes a serious situation that the central conductor (4) is exposed in the case of a micro coaxial cable having a thin dielectric layer (3). In addition, heat at the time of solder heating is transferred to the dielectric layer (3) and changes the dielectric characteristics of the dielectric layer (3), which deteriorates the high-frequency characteristics originally required for the coaxial cable. These problems are more serious nowadays when the outer diameter of the coaxial cable is increasingly reduced and the pitch between the cables is also smaller.

したがって、本発明の課題は、小型・縮小化ができ、しかも、同軸ケーブルが細径あるいは該ケーブル間のピッチ間が狭い場合においても接着強度に優れた端末加工同軸ケーブルを提供することにある。さらには、誘電体層表面の熱的損傷及び高周波特性の劣化を防止できる端末加工同軸ケーブルを提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a terminal-processed coaxial cable that can be reduced in size and reduced, and has excellent adhesive strength even when the coaxial cable has a small diameter or a narrow pitch between the cables. Furthermore, it is providing the terminal processing coaxial cable which can prevent the thermal damage of the dielectric material layer surface, and deterioration of a high frequency characteristic.

本発明者によれば、同軸ケーブル群と接続基板とからなる端末加工同軸ケーブルであって、
該同軸ケーブル群は、中心導体、誘電体層、シールド層を中心から順に備えた同軸ケーブルを複数本所定のピッチで引き揃えられてなり、該同軸ケーブルの少なくとも一端で、該同軸ケーブル群が先端揃えされると共に、該同軸ケーブル群の先端は、中心導体、誘電体層、シールド層が所定の長さだけ順次露出されているものであり、
該接続基板上には複数の中心導体接続パターンが所定の間隔で設けられ、該複数の中心導体接続パターンの並びに平行して、グランドパターンが設けられ、
該グランドパターンには該中心導体接続パターンの並びに平行な方向に沿って複数のハンダ注入孔が該接続基板を貫通するように設けられており、
該露出した中心導体のそれぞれは、該中心導体接続パターンにハンダ接続され
露出したシールド層と該グランドパターンとで挟持されるようグランドバーが設けられ、
該露出したシールド層のそれぞれは該グランドバーの一面にハンダ接続されると共に、
該グランドバーの他方の面と該グランドパターンは、該複数のハンダ注入孔に注入されたハンダを介して接続されていることを特徴とする端末加工同軸ケーブルが提供される。
According to the present inventor, a terminal-processed coaxial cable comprising a coaxial cable group and a connection substrate,
Coaxial cable group, the center conductor, dielectric layer, Ri from the center a shield layer name aligned off at plural predetermined pitches coaxial cable with the order, in at least one end of the coaxial cable group, the coaxial cable group There while being aligned tip, the tip of the coaxial cable group is for the center conductor, the dielectric layer, the shield layer are sequentially exposed by a predetermined length,
On the connection substrate, a plurality of center conductor connection patterns are provided at predetermined intervals, and in parallel with the plurality of center conductor connection patterns, a ground pattern is provided,
The said ground pattern is along the direction parallel to the alignment of said central conductor connection pattern a plurality of solder injection hole is eclipsed set so as to pass through the connection board,
Each of the exposed center conductors is soldered to the center conductor connection pattern ,
Ground bar is provided to be held between the exposed shield layer and the ground pattern,
Said exposure shielding layer Noso respectively to put forward, while being soldered to one surface of the ground bar,
The other surface of the ground bar and the ground pattern are connected to each other via solder injected into the plurality of solder injection holes.

上記の構成を採る本発明によれば、以下のような顕著な作用・効果が奏される。
a.接続基板裏面のハンダ注入孔からハンダを流して接続するので、従来のようにハンダ接続のためのグランドバー両端部のハンダ接続部やグランドバー中間部にハンダを流すための隙間を設ける必要がないので、ケーブル幅方向が小型・縮小化できる。
b.複数のハンダ注入孔からハンダを流して接続するので、グランドバー上に均一にハンダが付着しハンダ付着面積が増加するので、3箇所ハンダ接続する従来方法と比較しハンダ接続強度が向上する。
c.ハンダ付けの際、ケーブルが装着されていない基板裏面からスルーホールを介してハンダを注入するのでハンダコテ等のハンダ加熱治具がケーブルの誘電体、あるいは、グランドバーに直設触れることがないので、誘電体層の熱的損傷、高周波特性の劣化、並びに、グランドバーの熱的変形を防止できる。
d.ハンダ注入孔とケーブル配置位置、ピッチは関連性がないので極細同軸ケーブルあるいは該ケーブルのピッチが狭い場合においても対応可能である。
According to the present invention employing the above-described configuration, the following remarkable actions and effects can be achieved.
a. Since solder is flown from the solder injection hole on the back of the connection board, it is not necessary to provide a gap for solder to flow in the solder connection part at both ends of the ground bar and the middle part of the ground bar for solder connection. Therefore, the cable width direction can be reduced in size and reduced.
b. Since the solder is flowed and connected through the plurality of solder injection holes, the solder adheres uniformly on the ground bar and the solder attachment area increases, so that the solder connection strength is improved as compared with the conventional method in which the solder connection is performed at three points.
c. When soldering, solder is injected from the back of the board where the cable is not attached through the through hole, so soldering jigs such as soldering iron do not touch the dielectric of the cable or the ground bar directly. It is possible to prevent thermal damage of the dielectric layer, deterioration of high frequency characteristics, and thermal deformation of the ground bar.
d. Since the solder injection hole is not related to the position and pitch of the cable, it can be handled even when the micro-coaxial cable or the pitch of the cable is narrow.

本発明の端末加工同軸ケーブルの一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the terminal process coaxial cable of this invention. 図1の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of FIG. 本発明の端末加工同軸ケーブルの一例を示す図2のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 2 which shows an example of the terminal processing coaxial cable of this invention. 本発明における接続基板の一例を示す図であり、図4aは同基板の表面図、 図4bは同基板の裏面図である。It is a figure which shows an example of the connection board | substrate in this invention, FIG. 4a is the surface view of the board | substrate, FIG. 4b is the back view of the board | substrate. 従来の端末加工同軸ケーブルの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the conventional terminal processing coaxial cable.

以下、本発明を、シールド素線束からなる横巻きシールド層がグランドバーに接続された同軸ケーブル加工品を接続基板にハンダ付けする例について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図1及び図2において、同軸ケーブル(1)群は所定のピッチで引き揃えられた状態でその一端は先端揃えのために切断されている。そして、各ケーブル(1)においては切断端末を起点として、それぞれに所定長さの中心導体(4)、誘電体層(3)、及びシールド層(2)が順次露出している。
さらに、同軸ケーブル群(1)の各シールド層(2)の先端部が接続されたグランドバー(8)が接続基板(9)のグランドパターン(10)にハンダ接続され、この際、グランドバー(8)とグランドパターン(10)が互いに面接触するとともに、グランドパターン(10)の長手方向に沿って複数箇所のハンダ注入孔(12)が設けてある。他方、同軸ケーブル群(1)の露出した中心導体(4)は接続基板(9)の中心導体接続パターン(11)に接続されている。又、(6)は、図2に示すシース(7)の除去開始点である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings with respect to an example in which a processed coaxial cable product in which a horizontally wound shield layer composed of a shield wire bundle is connected to a ground bar is soldered to a connection substrate.
1 and 2, the coaxial cable (1) group is aligned at a predetermined pitch, and one end thereof is cut to align the tips. In each cable (1), the center conductor (4), the dielectric layer (3), and the shield layer (2) having a predetermined length are sequentially exposed starting from the cut end.
Furthermore, the ground bar (8) to which the tip of each shield layer (2) of the coaxial cable group (1) is connected is solder-connected to the ground pattern (10) of the connection substrate (9). 8) and the ground pattern (10) are in surface contact with each other, and a plurality of solder injection holes (12) are provided along the longitudinal direction of the ground pattern (10). On the other hand, the exposed central conductor (4) of the coaxial cable group (1) is connected to the central conductor connection pattern (11) of the connection board (9). Further, (6) is a removal start point of the sheath (7) shown in FIG.

本発明で特徴的なことは、図4で示すように接続基板(9)に、複数個のハンダ注入孔(12)、図1(図2)では5個のハンダ注入孔(12)を設けている。なお、ハンダ注入孔(12)はハンダ(5)の流れ性を向上させるため、接続基板(9)のグランドパターン(10)に貫通接続された導電性スルーホールであることが望ましい。
こうすることにより、ハンダ(5)を接続基板(9)の部品面とは反対側の基板裏面からグランドパターン(10)全体に均一に注入できるので、従来と比較し、ハンダ付着面積が増えるので接着強度が向上する。しかも、従来のように、グランドバー(8)の両端部にハンダ固定部(8a)やグランドバー(8)のほぼ中間部に設けたハンダ(5)を流すための同軸ケーブル群の隙間(S)を設ける必要がないので幅方向の寸法小型化・縮小化が実現できる。
さらに、ハンダこて等の加熱具が直接、誘電体(3)やグランドバー(8)に触れることがないので、極細同軸ケーブルの場合においても、誘電体層(3)の熱的損傷は勿論高周波特性の劣化を防止でき;更に、ハンダコテが入らないような極狭ピッチの同軸ケーブルの場合においてもハンダ付けが容易になる。
What is characteristic of the present invention is that a plurality of solder injection holes (12) are provided in the connection substrate (9) as shown in FIG. 4, and five solder injection holes (12) are provided in FIG. 1 (FIG. 2). ing. The solder injection hole (12) is preferably a conductive through hole that is connected to the ground pattern (10) of the connection substrate (9) in order to improve the flowability of the solder (5).
By doing so, the solder (5) can be uniformly injected into the entire ground pattern (10) from the back side of the board opposite to the component side of the connection board (9). Adhesive strength is improved. Moreover, as in the prior art, the gap (S of the coaxial cable group for flowing the solder (5a) provided in the solder fixing part (8a) and the substantially middle part of the ground bar (8) at both ends of the ground bar (8). ) Can be reduced in size and reduced in the width direction.
Further, since the heating tool such as a soldering iron does not directly touch the dielectric (3) or the ground bar (8), the dielectric layer (3) is not damaged even in the case of the micro coaxial cable. Deterioration of high frequency characteristics can be prevented; furthermore, soldering is facilitated even in the case of a very narrow pitch coaxial cable that does not contain solder iron.

ハンダ注入孔(12)に関して、さらに詳細に言えば、グランドパターン(10)の長手方向に沿って複数箇所設けることが望ましい。さらに、好ましくは、全てのハンダ注入孔(12)がグランドパターン(10)に接続されるグランドバー(8)の内部に位置するよう設ける。なぜなら、全てのハンダ注入孔(12)がグランドバー(8)の内部に位置するよう設けてあれば、注入したハンダがグランドパターン(10)の方にはみ出る
ことを防止でき、最も少ないハンダ量で確実にグランドバー(8)をグランドパターン(10)に接続でき効率的に優れているからである。
ハンダ注入孔(12)の個数はグランドパターン(10)の長さによるが、ハンダをグランドバー(8)に均一に付着させるためには多いほど良いがハンダ作業工数との兼ね合いで適切な個数を選択すればよい。
また、ハンダ注入孔(12)の孔径は、下限値はハンダの流動性あるいは流性から決定され、一方、上限値は毛細管現象によるハンダ吸上げ効果を利用するため、あるいは、グランドバー(8)の幅、ハンダはみ出し量の制限から決定され、0.3mm〜0.8mmであることが好ましい。また、ハンダ注入孔(12)のピッチについては、1.5mm〜10mmであることが好ましい。下限値はケーブル群(1)の幅、即ち、グランドバー(8)の長さに関係し、少な過ぎるとハンダ(5)がグランドバー(8)及びグランドパターン(10)上に均一に付着しなくなり、接着不良を起こす。逆に上限値はハンダ注入の作業工数から決定される。
さらに、接続基板(9)の厚さは接続基板の強度と厚さ方向の寸法小型化、ハンダ注入量と注入時間等を考慮して0.3mm〜0.8mmであることが好ましい。
なお、ここでの接続基板(9)とは、携帯電話等の回路基板そのものに直接接続する場合の回路基板や携帯電話等の回路基板に間接的に接続する場合の中継回路基板等、各種接続状態に対応するための基板を指すものとする。
More specifically, regarding the solder injection hole (12), it is desirable to provide a plurality of locations along the longitudinal direction of the ground pattern (10). Further, preferably, all the solder injection holes (12) are provided so as to be located inside the ground bar (8) connected to the ground pattern (10). This is because if all the solder injection holes (12) are provided so as to be located inside the ground bar (8), the injected solder can be prevented from protruding toward the ground pattern (10), and the amount of solder can be minimized. This is because the ground bar (8) can be reliably connected to the ground pattern (10), which is efficient.
Although the number of solder injection holes (12) depends on the length of the ground pattern (10), it is better to increase the number of solders evenly on the ground bar (8). Just choose.
The lower limit of the hole diameter of the solder injection hole (12) is determined based on the fluidity or fluidity of the solder, while the upper limit is used for utilizing the effect of sucking up the solder by the capillary phenomenon, or the ground bar (8). The width and the solder protrusion amount are determined, and it is preferably 0.3 mm to 0.8 mm. Further, the pitch of the solder injection holes (12) is preferably 1.5 mm to 10 mm. The lower limit value is related to the width of the cable group (1), that is, the length of the ground bar (8). If the amount is too small, the solder (5) uniformly adheres to the ground bar (8) and the ground pattern (10). Disappears, causing poor adhesion. On the contrary, the upper limit value is determined from the number of man-hours for solder injection.
Further, the thickness of the connection substrate (9) is preferably 0.3 mm to 0.8 mm in consideration of the strength of the connection substrate and the size reduction in the thickness direction, the amount of solder injection and the injection time.
Here, the connection board (9) means various connections such as a circuit board when directly connecting to a circuit board such as a mobile phone or a relay circuit board when connecting indirectly to a circuit board such as a mobile phone. It shall refer to the substrate for responding to the condition.

次に、本発明で使用する同軸ケーブルのその余の構成について述べる。
同軸ケーブル(1)としては、外径が0.2mm〜1.5mmの細径化ないし極細化ケーブルが好ましく用いられる。このとき、中心導体(4)としては、通常、直径が0.03〜0.15mmのスズ入り銅合金、銀銅合金線、軟銅線等からなる導線の単線又はそれらを撚り合わせた、外径が0.06mm〜0.5mmの細線が好ましい。中心導体(4)を被覆する誘電体層は、絶縁性を有する任意の合成樹脂、例えば、ポリエチレン、フッ素樹脂などで構成される。同軸ケーブルの信号伝送特性及びハンダ固定を行う際の耐熱性の点では、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)などのフッ素樹脂が好ましく用いられる。この誘電体層(3)は、その強度及び同軸ケーブルの外形寸法を考慮し、0.05mm〜0.5mmの厚さに調整すればよい。
Next, the remaining configuration of the coaxial cable used in the present invention will be described.
As the coaxial cable (1), a thinned or ultrathinned cable having an outer diameter of 0.2 mm to 1.5 mm is preferably used. At this time, as the central conductor (4), the outer diameter is usually a single wire of a conductive wire made of tin-containing copper alloy, silver-copper alloy wire, annealed copper wire or the like having a diameter of 0.03 to 0.15 mm, or twisted together. Is preferably a thin wire of 0.06 mm to 0.5 mm. The dielectric layer covering the central conductor (4) is made of any synthetic resin having insulation properties, such as polyethylene or fluororesin. In terms of the signal transmission characteristics of the coaxial cable and the heat resistance when soldering, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), polytetra A fluororesin such as fluoroethylene (PTFE) is preferably used. This dielectric layer (3) may be adjusted to a thickness of 0.05 mm to 0.5 mm in consideration of its strength and the outer dimensions of the coaxial cable.

誘電体層(3)に被覆されるシールド層(2)としては、通常、スズ入り銅合金線、銀銅合金線や軟銅線などの横巻きや編組、縦添え等が用いられる。そのなかでも、シールド素線(2a)束の仕分けが容易な横巻が好ましく用いられる。シールド層(2)を構成する各シールド素線(2a)の素線径は、シールド層の凹凸を少なくし、同時に、仕分け作業のし易さ及び機械的強度を考慮して、0.01mm〜0.1mmの範囲から適宜設定すればよい。
更に、シース(7)を構成する材質としては、ポリエステルフィルムやフッ素樹脂等が用いられる。
As the shield layer (2) covered with the dielectric layer (3), horizontal winding, braiding, longitudinal attachment, etc., such as a copper alloy wire containing tin, a silver copper alloy wire, or an annealed copper wire are usually used. Among these, a horizontal winding that can easily sort the bundle of shield wires (2a) is preferably used. The wire diameter of each shield wire (2a) constituting the shield layer (2) is 0.01 mm to less than the unevenness of the shield layer, and considering the ease of sorting work and mechanical strength at the same time. What is necessary is just to set suitably from the range of 0.1 mm.
Furthermore, a polyester film, a fluororesin, or the like is used as a material constituting the sheath (7).

なお、上述した複数本の同軸ケーブルは端末加工された後、同軸ケーブル(1)群のシールド層(2)は2枚のグランドバー(8)にハンダ接続され同軸ケーブル中間加工品を形成するわけであるが、グランドバー(8)としては、導電性の薄板であればよく、銅、錫、亜鉛等に金属から適便選択すれ良い。又、グランドバー(8)の幅は0.3mm〜1.5mm程度、厚さは0.05mmから0.1mm程度でよい。 In addition, after the above-described plurality of coaxial cables are subjected to terminal processing, the shield layer (2) of the coaxial cable (1) group is soldered to two ground bars (8) to form a coaxial cable intermediate processed product. However, the ground bar (8) may be a conductive thin plate, and may be appropriately selected from metals such as copper, tin, and zinc. The ground bar (8) may have a width of about 0.3 mm to 1.5 mm and a thickness of about 0.05 mm to 0.1 mm.

次に、上述の上下2枚のグランドバー(8)がハンダ接続された同軸ケーブル中間加工品は、接続基板(9)に接続されるわけであるが、その際、該接続基板(9)の材質としては、ガラスエポキシ、紙エポキシ、ベークライト、更にはポリイミド等各種材料が挙げられるが、薄くて強度があるガラスエポキシ基板やポリイミドが特に好ましい。又、接続基板(9)上に設けられたグランドパターン(10)の厚さについては、強度等を考慮し、厚さ0.01mm〜0.1mm、幅はハンダ付着量及び接続強度を考慮し0.2mm〜5mmが好ましい範囲である。一方、中心導体接続パターン(11)の厚さについても、接続強度等を考慮し0.01mm〜0.1mm、幅が0.15mm〜1.0mm、ピッチが0.2mm〜1.0mmが好ましい範囲である。パターンの材質はすずメッキ、ハンダメッキした銅等の金属からなる金属箔が常用されている。
又、ここでは説明の都合上、上記端末加工が一端の例を示したが、両端末加工であってもよいことは言うまでもない。
Next, the coaxial cable intermediate processed product in which the two upper and lower ground bars (8) are solder-connected is connected to the connection board (9). At that time, the connection board (9) Examples of the material include various materials such as glass epoxy, paper epoxy, bakelite, and polyimide, but a thin and strong glass epoxy substrate or polyimide is particularly preferable. The thickness of the ground pattern (10) provided on the connection board (9) is in consideration of the strength, etc., the thickness is 0.01 mm to 0.1 mm, and the width is in consideration of the amount of solder adhesion and the connection strength. 0.2 mm to 5 mm is a preferable range. On the other hand, the thickness of the central conductor connection pattern (11) is preferably 0.01 mm to 0.1 mm, the width is 0.15 mm to 1.0 mm, and the pitch is 0.2 mm to 1.0 mm in consideration of the connection strength and the like. It is a range. As the material of the pattern, a metal foil made of a metal such as tin-plated or solder-plated copper is commonly used.
In addition, for the convenience of explanation, the example of the terminal processing is shown as one end, but it goes without saying that both terminal processing may be performed.

以下に、本発明の端末加工同軸ケーブルを製造する一態様について簡潔に述べる。
先ず、同軸ケーブル(1)群を引き揃えてなる同軸ケーブル体の一端側を切断して先端揃え加工を施す。この際、シース(7)を除去する部分を所定のピッチで粘着テープなどの先端引き揃え治具により固定しておくと、以降の作業がやり易くなる。
ただ、この加工は通常、同軸ケーブル(1)群の先端が不揃いの場合に施される。効率の点では若干劣るものの、当初から先端を揃えたケーブル群については敢えて切断することもない。
先ず、シース除去開始点(6)で幅2mm〜3mmに渡り2箇所炭酸ガスレーザーにてシース(7)に切れ目を入れる。次に、この2箇所の切れ目を端末側に幅2mm〜3mm程度ずらし、シールド層(2)が露出したセミストリツプを形成する。
次に、YAGレーザにてを露出したシールド層(2)をカットする。
このとき、シールド層(2)としてのスズ入り銅合金線や軟銅線などの横巻きあるいは編組の外周に、金属蒸着フィルムを設けている場合は、この金属蒸着フィルムはシース(7)とみなして、シース(7)と共に除去する。
次に、カットしたシールド層(2)及びセミストリツプを形成したシース(7)を引き抜く。そして、露出したシールド層(2)の上下部に上下2枚のグランドバー(8)をハンダ付けする。
Hereinafter, an aspect of manufacturing the terminal-processed coaxial cable of the present invention will be briefly described.
First, one end side of the coaxial cable body formed by aligning the coaxial cable (1) group is cut and subjected to tip alignment processing. At this time, if the portion from which the sheath (7) is to be removed is fixed at a predetermined pitch by a tip aligning jig such as an adhesive tape, the subsequent operations are facilitated.
However, this processing is usually performed when the ends of the coaxial cable (1) group are uneven. Although it is slightly inferior in efficiency, the cable group with the aligned tips from the beginning is not intentionally cut.
First, the sheath (7) is cut with a carbon dioxide laser at two locations over a width of 2 mm to 3 mm at the sheath removal start point (6). Next, these two cuts are shifted to the terminal side by a width of about 2 mm to 3 mm to form a semi-strip in which the shield layer (2) is exposed.
Next, the shield layer (2) exposed by the YAG laser is cut.
At this time, when a metal vapor deposition film is provided on the outer periphery of a horizontal winding or braid such as a copper alloy wire containing tin or an annealed copper wire as the shield layer (2), this metal vapor deposition film is regarded as a sheath (7). , Removed with sheath (7).
Next, the cut shield layer (2) and the sheath (7) formed with the semi-strip are pulled out. Then, two upper and lower ground bars (8) are soldered to the upper and lower portions of the exposed shield layer (2).

次いで、誘電体層(3)の切断端面から所定長さの箇所にレーザー光を照射して切れ目を入れ、該所定長さの誘電体層(3)の部分を、各ケーブルの先端側に向かってずらせながら除去する。その結果、各ケーブル端末には、中心導体(4)が所望長さで露出した同軸ケーブル中間加工品が完成する。   Next, laser light is irradiated to a predetermined length from the cut end surface of the dielectric layer (3) to make a cut, and the portion of the dielectric layer (3) having the predetermined length is directed toward the tip side of each cable. Remove while shifting. As a result, a coaxial cable intermediate processed product in which the center conductor (4) is exposed at a desired length is completed at each cable end.

次に上記の同軸ケーブル中間加工品のグランドバー(8)を接続基板(9)に設けられたグランドパターン(10)に位置合わせて接触させる。この状態で仮固定治具を使用してケーブルを仮固定する。
この際、グランドバー(8)全体がグランドパターン(10)の内側に位置するよう位置合わせして接触させることが望ましい。
次に、接続基板(9)の複数箇所のハンダ注入孔(12)にハンダ(5)を流すことにより、グランドバー(8)が接続基板(9)上のグランドパターン(10)にハンダ接続される。ハンダ注入方法としては、ハンダ注入孔(12)に溶融したハンダを注入治具にて注入するかハンダ浴槽に基板を浸漬、毛細管現象を利用してハンダを吸い上げる方法がある。
その後、ハンダが十分冷えてから、仮固定治具をはずす。
最後に、各中心導体(4)を接続基板(9)上に設けられた中心導体接続パターン(11)にハンダ付けし、本発明の端末加工同軸ケーブル(1)が完成する。
Next, the ground bar (8) of the intermediate product of the coaxial cable is brought into contact with the ground pattern (10) provided on the connection board (9). In this state, the cable is temporarily fixed using a temporary fixing jig.
At this time, it is desirable to align and contact the ground bar (8) so that the entire ground bar (8) is located inside the ground pattern (10).
Next, the ground bar (8) is soldered to the ground pattern (10) on the connection substrate (9) by flowing the solder (5) through the solder injection holes (12) at a plurality of locations on the connection substrate (9). The As a solder injection method, there is a method of injecting molten solder into the solder injection hole (12) with an injection jig or immersing a substrate in a solder bath and sucking up the solder using a capillary phenomenon.
Then, after the solder has cooled sufficiently, remove the temporary fixing jig.
Finally, each center conductor (4) is soldered to the center conductor connection pattern (11) provided on the connection board (9), and the terminal-processed coaxial cable (1) of the present invention is completed.

直径0.021mmの銀メッキ銅合金線を7本撚り合わせてなる外径が0.063mmの中心導体(4)の外周に、厚さ0.031mmのPFA樹脂を誘電体層(3)として被覆した。次いで、誘電体層(3)外周に、素線径が0.02mmのスズメッキ銅合金線を横巻きしてシールド層(2)を形成し、更にその周りにシース(7)として厚さ0.03mmのPFA樹脂を押出被覆して、ケーブル長70mm、外径0.225mmの同軸ケーブル(1)を作成した。次に、この同軸ケーブル(1)の34本を0.25mmピッチで平行に配列し同軸ケーブル束(1)を作成した。
次いで、この同軸ケーブル束(1)の一端を切断してケーブル群の先端を揃えた。更に、各ケーブルの切断端末から12mmの位置、すなわちシース除去開始点(6)に炭酸レーザー光を照射して切れ目を入れてから、該シース(7)を該ケーブル束(1)の切断端末の方向に引き抜いて除去し、シールド層(2)を露出させた。このときに残存するシールド層(2)の露出長さは0.45mmとした。
The outer periphery of the center conductor (4) having an outer diameter of 0.063 mm formed by twisting seven silver-plated copper alloy wires having a diameter of 0.021 mm is covered with a PFA resin having a thickness of 0.031 mm as a dielectric layer (3). did. Next, a tin-plated copper alloy wire having an element wire diameter of 0.02 mm is laterally wound around the outer periphery of the dielectric layer (3) to form a shield layer (2). 03 mm PFA resin was extrusion coated to produce a coaxial cable (1) having a cable length of 70 mm and an outer diameter of 0.225 mm. Next, 34 coaxial cables (1) were arranged in parallel at a pitch of 0.25 mm to produce a coaxial cable bundle (1).
Next, one end of the coaxial cable bundle (1) was cut to align the tips of the cable group. Further, a position 12 mm from the cutting end of each cable, that is, the sheath removal start point (6) is irradiated with carbon dioxide laser light to make a cut, and then the sheath (7) is connected to the cutting end of the cable bundle (1). The shield layer (2) was exposed by pulling in the direction and removing. The exposed length of the shield layer (2) remaining at this time was 0.45 mm.

次に、露出したシールド層(2)の上下2箇所に厚さ0.05mm、幅0.7mmの銅の薄板からなるグランドバー(8)をハンダ付けする。
その後、露出した誘電体層(3)とシールド層(2)とからなる線状部分の34本を再度引き揃えて0.25mmのピッチで、それらの全面に亘って粘着テープに張り付けた。引き続いて、各切断端末から0.45mmの位置に炭酸レーザー光を照射して誘電体層(3)を切断した。その後、該誘電体層(3)を引き抜きながら、上記の0.45mmの長さの誘電体層(3)群を一度に取り除いて、それぞれに中心導体(4)を露出させた。この結果、グランドバー(8)がハンダ付けされた各ケーブルの露出長さが0.45mmの中心導体(4)の同軸ケーブル中間加工品が得られた。
Next, a ground bar (8) made of a thin copper plate having a thickness of 0.05 mm and a width of 0.7 mm is soldered to the upper and lower portions of the exposed shield layer (2).
Thereafter, 34 linear portions composed of the exposed dielectric layer (3) and the shield layer (2) were aligned again and adhered to the adhesive tape over the entire surface at a pitch of 0.25 mm. Subsequently, the dielectric layer (3) was cut by irradiating carbon dioxide laser light at a position of 0.45 mm from each cutting terminal. Thereafter, while pulling out the dielectric layer (3), the 0.45 mm long dielectric layer (3) group was removed at a time to expose the central conductor (4). As a result, a coaxial cable intermediate processed product of the center conductor (4) in which the exposed length of each cable soldered to the ground bar (8) was 0.45 mm was obtained.

次に、上記の同軸ケーブル中間加工品のグランドバー(8)をハンダ付けする接続基板(9)としては、幅10mm、長さ11mm、厚さ0.7mmのガラスエポキシ基板を使用した。又、接続基板(9)上のグランドパターン(10)の幅は8.8mm、長さは0.9mm、中心導体接続パターン(11)の幅は0.12mm、長さは0.45mm、厚さ0.05mmとした。なお、グランドパターン(10)上には、ピッチが1.7mm、孔径0.5mmの銅箔スルーホールからなるハンダ注入孔(12)を5箇所設けてある。これらのパターンは、銅箔にハンダメッキを施して得たものである。
次に、グランドバー(8)がグランドパターン(10)の内側に入るように位置を合わせ接触させた状態で、仮固定治具にて固定する。
この後、接続基板(9)の裏面から5箇所のハンダ注入孔(12)にハンダ注入治具により、ハンダ(5)を注入して、グランドバー(8)とグランドパターン(10)をハンダ接続する。その後、十分冷えたところで、仮固定治具を取り外す。
最後に、露出した各中心導体(4)を接続基板(9)上に設けられた中心導体接続パターン(11)にハンダ付けして本発明の端末加工同軸ケーブルを完成した。
Next, a glass epoxy substrate having a width of 10 mm, a length of 11 mm, and a thickness of 0.7 mm was used as the connection substrate (9) for soldering the ground bar (8) of the coaxial cable intermediate processed product. Also, the width of the ground pattern (10) on the connection substrate (9) is 8.8 mm, the length is 0.9 mm, the width of the central conductor connection pattern (11) is 0.12 mm, the length is 0.45 mm, and the thickness The thickness was 0.05 mm. On the ground pattern (10), five solder injection holes (12) made of copper foil through holes having a pitch of 1.7 mm and a hole diameter of 0.5 mm are provided. These patterns are obtained by performing solder plating on copper foil.
Next, the ground bar (8) is fixed with a temporary fixing jig in a state where the ground bar (8) is positioned and brought into contact with the inside of the ground pattern (10).
Thereafter, the solder (5) is injected by the solder injection jig into the five solder injection holes (12) from the back surface of the connection substrate (9), and the ground bar (8) and the ground pattern (10) are connected by soldering. To do. Then, when it has cooled sufficiently, the temporary fixing jig is removed.
Finally, each exposed center conductor (4) was soldered to a center conductor connection pattern (11) provided on the connection substrate (9) to complete the end-processed coaxial cable of the present invention.

「比較例」
同軸ケーブルは実施例と同様とし同軸ケーブル(1)の17本を0.25mmピッチで平行に配列し端末加工も実施例と同様に施した同軸ケーブル束(1)を2本作成した。
次に、接続基板(9)としては、グランドパターン(10)の幅が11mmと中心導体接続パターン(11)の幅は0.12mm、長さは0.45mm、両端幅が9mm、中央部に1mmのスペース(S)を設けた以外は実施例と同じ寸法、材質とした。
また、グランドバー(8)は幅0.7mm、長さ10.2mm、厚さ0.05mmの銅板からなるグランドバー(8)とした。
次に端末加工した、誘電体層(3)上にグランドバー(8)を乗せた状態でグランドバー(8)の両端(8a)と中央部の側面にハンダを流して端末加工同軸ケーブルを完成した。
"Comparative example"
The coaxial cable was the same as in the example, and 17 coaxial cables (1) were arranged in parallel at a pitch of 0.25 mm, and two coaxial cable bundles (1) were prepared in the same manner as in the example.
Next, as the connection substrate (9), the width of the ground pattern (10) is 11 mm, the width of the central conductor connection pattern (11) is 0.12 mm, the length is 0.45 mm, the widths at both ends are 9 mm, Except for providing a 1 mm space (S), the dimensions and materials were the same as in the examples.
The ground bar (8) was a ground bar (8) made of a copper plate having a width of 0.7 mm, a length of 10.2 mm, and a thickness of 0.05 mm.
Next, with the ground bar (8) placed on the dielectric layer (3), the terminal-processed coaxial cable is completed by flowing solder to both ends (8a) of the ground bar (8) and the central side. did.

実施例と比較例を比較すると、ケーブル束の幅がほぼ2mm短縮化できた。
しかも、実施例の方が均一にハンダが接着されており接着強度も優れていることが確認できた。さらに、本実施例のケーブルでは、誘電体にも何ら損傷が無いことも確認できた。
When the example and the comparative example were compared, the width of the cable bundle could be shortened by about 2 mm.
In addition, it was confirmed that in the example, the solder was evenly bonded and the adhesive strength was excellent. Furthermore, in the cable of this example, it was confirmed that the dielectric was not damaged at all.

本発明の端末加工同軸ケーブルは極細径ケーブル及び極狭ピッチのフラットケーブルにも対応できるので、携帯電話、パソコン、更にはPDA(携帯型データ端末)あるいは医療機器等に特に有用である。   The terminal-processed coaxial cable of the present invention can be applied to a very small diameter cable and a very narrow pitch flat cable, and is particularly useful for a mobile phone, a personal computer, a PDA (portable data terminal) or a medical device.

1 同軸ケーブル
2 シールド層
2a シールド素線
3 誘電体層
4 中心導体
5 ハンダ
6 シース除去開始点
7 シース
8 グランドバー
9 接続基板
10 グランドパターン
11 中心導体接続パターン
12 ハンダ注入孔


1 Coaxial cable 2 Shield layer 2a Shield wire 3 Dielectric layer 4 Center conductor
5 Solder 6 Sheath removal start point 7 Sheath 8 Ground bar 9 Connection board 10 Ground pattern 11 Center conductor connection pattern 12 Solder injection hole


Claims (6)

同軸ケーブル群と接続基板とからなる端末加工同軸ケーブルであって、
該同軸ケーブル群は、中心導体、誘電体層、シールド層を中心から順に備えた同軸ケーブルを複数本所定のピッチで引き揃えられてなり、該同軸ケーブルの少なくとも一端で、該同軸ケーブル群が先端揃えされると共に、該同軸ケーブル群の先端は、中心導体、誘電体層、シールド層が所定の長さだけ順次露出されているものであり、
該接続基板上には複数の中心導体接続パターンが所定の間隔で設けられ、該複数の中心導体接続パターンの並びに平行して、グランドパターンが設けられ、
該グランドパターンには該中心導体接続パターンの並びに平行な方向に沿って複数のハンダ注入孔が該接続基板を貫通するように設けられており、
該露出した中心導体のそれぞれは、該中心導体接続パターンにハンダ接続され
露出したシールド層と該グランドパターンとで挟持されるようグランドバーが設けられ、
該露出したシールド層のそれぞれは該グランドバーの一面にハンダ接続されると共に、
該グランドバーの他方の面と該グランドパターンは、該複数のハンダ注入孔に注入されたハンダを介して接続されていることを特徴とする端末加工同軸ケーブル。
A terminal-processed coaxial cable composed of a coaxial cable group and a connection board,
Coaxial cable group, the center conductor, dielectric layer, Ri from the center a shield layer name aligned off at plural predetermined pitches coaxial cable with the order, in at least one end of the coaxial cable group, the coaxial cable group There while being aligned tip, the tip of the coaxial cable group is for the center conductor, the dielectric layer, the shield layer are sequentially exposed by a predetermined length,
On the connection substrate, a plurality of center conductor connection patterns are provided at predetermined intervals, and in parallel with the plurality of center conductor connection patterns, a ground pattern is provided,
The said ground pattern is along the direction parallel to the alignment of said central conductor connection pattern a plurality of solder injection hole is eclipsed set so as to pass through the connection board,
Each of the exposed center conductors is soldered to the center conductor connection pattern ,
Ground bar is provided to be held between the exposed shield layer and the ground pattern,
Said exposure shielding layer Noso respectively to put forward, while being soldered to one surface of the ground bar,
The other surface of the ground bar and the ground pattern are connected to each other via solder injected into the plurality of solder injection holes.
該ハンダ注入孔が該接続基板に設けられた該グランドパターンに接続された導電性スルーホールである請求項1に記載の端末加工同軸ケーブル。 The terminal-processed coaxial cable according to claim 1, wherein the solder injection hole is a conductive through hole connected to the ground pattern provided in the connection substrate. 該ハンダ注入孔の全てが該グランドパターンに接続される該グランドバーの内部に位置する請求項1又は2に記載の端末加工同軸ケーブル。 The terminal-processed coaxial cable according to claim 1 or 2, wherein all of the solder injection holes are located inside the ground bar connected to the ground pattern. 該ハンダ注入孔の孔径が0.3mm〜0.8mmである請求項1〜3のいずれかに記載の端末加工同軸ケーブル。 The terminal-processed coaxial cable according to any one of claims 1 to 3, wherein a diameter of the solder injection hole is 0.3 mm to 0.8 mm. 該ハンダ注入孔のピッチが1.5mm〜10mmである請求項1〜4のいずれかに記載の端末加工同軸ケーブル。 The terminal-processed coaxial cable according to any one of claims 1 to 4, wherein a pitch of the solder injection holes is 1.5 mm to 10 mm. 該接続基板の厚さが0.3mm〜0.8mmである請求項1〜5のいずれかに記載の端末加工同軸ケーブル。







The terminal-processed coaxial cable according to any one of claims 1 to 5, wherein a thickness of the connection substrate is 0.3 mm to 0.8 mm.







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