JP5510030B2 - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 - Google Patents
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Description
外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板用に、フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス基板をドーナツ状円形ガラス基板(中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板)に加工した。
次に、ガラス基板は研磨具として硬質ウレタン製の研磨パッドと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液(平均粒子直径、以下、平均粒径と略す、約1.3μmの酸化セリウムを主成分した研磨液組成物)を用いて、22B型両面研磨装置(スピードファム社製、製品名:DSM22B−6PV−4MH)、または16B型両面研磨装置(スピードファム社製、製品名:DSM16B−6PV−4MH)により上下主平面を1次研磨した。
A1とA6:磁気記録媒体用ガラス基板の外径側領域の板厚、A2とA5:磁気記録媒体用ガラス基板の中間領域の板厚、A3とA4:磁気記録媒体用ガラス基板の内径側領域の板厚、
20:両面研磨装置、30:上定盤の研磨面、40:下定盤の研磨面、50:キャリア、201:上定盤、202:下定盤、203:サンギア、204:インターナルギア、
501:ガラス基板保持穴、501A:内径側保持穴、501B:中間部保持穴、501C:外径側保持穴。
Claims (4)
- 両面研磨装置の上定盤と下定盤の対向する面にそれぞれ研磨パッドを装着し、上定盤に装着した研磨パッドの研磨面と下定盤に装着した研磨パッドの研磨面との間に、円盤形状を有するガラス基板を保持したキャリアを配置し、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨パッドの研磨面と下定盤の研磨パッドの研磨面を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨する工程を有する、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記研磨工程においては、
前記キャリアは、円盤形状ガラス基板を保持するガラス基板保持穴を複数有し、該ガラス基板保持穴の真円度は100μm以下で、かつ前記ガラス基板保持穴の直径は前記円盤形状ガラス基板の直径に対し1.10mm〜1.90mm大きいものであり、研磨される前記円盤形状ガラス基板の両主平面の総研磨量は4〜75μmであることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板であり、
前記磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の内径側領域と外径側領域において、0°、90°、180°、270°の計8箇所の位置で、マイクロメータまたはレーザ変位計を用いて測定した板厚の最大板厚値と最小板厚値の差(同一ガラス基板面内の板厚偏差)から求めた平行度aが0.5μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。 - 請求項1の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板であり、
前記磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における、レーザ干渉計を用いて測定した両主平面の平行度bが0.6μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。 - 請求項1の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板であり、
同一ロットで研磨加工された磁気記録媒体用ガラス基板間の板厚の偏差が0.8μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。
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