JP5503733B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、反応ガスをプラズマ化して被処理物に接触させるプラズマ処理装置に関し、特にプラズマ処理装置における反応ガスの供給ノズルの温調構造に関する。

例えば、特許文献１に記載のプラズマ処理装置には、反応ガスの供給ノズルに電気ヒータが埋め込まれている。電気ヒータにて供給ノズルを加温し、ひいては反応ガスの温度を高温に維持している。電気ヒータによれば、昇温時間が短く、応答が速い。給電のための配線は簡単であり、制御機等の付帯設備が簡便である。
特許文献２、３のプラズマ処理装置では、反応ガスの供給ノズルの先端部が一対の電極間のギャップに臨んでいる。上記ギャップに電界を印加してプラズマ処理を行なう。供給ノズルは、例えば絶縁樹脂にて構成されている。

特開２００４−１２４２３８号公報（００３２、図４） 特開２００９−０３５７２４号公報 国際公開ＷＯ２００９／００８２８４号（図５）

反応ガス供給ノズルは、先端部が電極の近傍に配置されるか電極間の放電空間に臨むように配置される場合が多い。その場合でも、電気ヒータをノズルの先端部から遠い部分に配置すれば、電気ヒータと電極が短絡するおそれは小さい。しかし、ノズルの先端部を十分加熱できないことが考えられる。電極が冷却手段にて冷却されていると、ノズルの先端部までもが冷やされかねない。そうすると、反応ガス中の反応成分が凝縮性である場合、すなわち反応成分が室温では液体であり、これを気化させて反応ガスを生成している場合、ノズルの特に先端部の内部で上記反応成分が凝縮（結露）するおそれがある。一方、電気ヒータをノズルの先端部の近くに配置すると、電気ヒータと電極との絶縁距離が短くなり、短絡するおそれがでてくる。また、電気ヒータは熱電対等の温度センサが故障すると過剰加熱により発火等のおそれがある。これを防止するためにセンサを二重化するとコストが嵩む。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、反応ガスの反応成分が凝縮しやすい場合でも、ノズルの内部で凝縮するのを防止でき、かつ短絡等の不具合を回避できるプラズマ処理装置を提供することを主な目的とする。

上記課題を解決するため、本発明は、被処理物に凝縮性の反応成分を含む反応ガスを接触させ、かつプラズマを照射するプラズマ処理装置であって、
互いの間に前記プラズマ照射のための大気圧近傍の放電空間を形成する一対の電極と、
吹出し口を有する先端部が絶縁体にて構成され、かつ前記先端部が前記一対の電極の少なくとも一方又は前記放電空間の近傍に配置されて、前記吹出し口から前記反応ガスを前記被処理物に吹き付けるノズルと、
前記ノズルの温度を調節するノズル温調手段と、
を備え、前記ノズル温調手段が、前記ノズルに形成されて温調液を通す温調路と、前記電極及び前記ノズルから離れて配置され、前記温調液の温度を前記反応ガス中の反応成分の凝縮温度より高温になるよう調節する液温調節部と、前記液温調節部と前記温調路とを結ぶ管路とを含むことを特徴とする。
液温調節部にて温調した温調液をノズル内の温調路に流す。これにより、ノズルの温度を反応ガス中の反応成分の凝縮温度より高温になるよう調節できる。温調路内の温調液と電極が短絡するおそれは小さい。したがって、電極又は放電空間の近くに配置されるノズル先端部にも温調路を形成できる。よって、反応成分を確実に気体の状態でノズルから吹き出すことができる。これにより、被処理物の表面処理を良好に行なうことができ、処理効果を高めることができる。ノズルに電気ヒータ及びそれに付随する電気系統を設ける必要がなく、電極からの漏電に対する対処が容易である。電極から漏電が発生したとしても、漏電流が温調液を伝わって液温調節部の電気系統を破壊する等の不具合が起きるおそれは小さい。たとえ、液温調節部の制御系が破壊される等の不具合が起きたとしても、温調液が沸点以上に加熱されることは殆ど有り得ず、熱暴走のおそれは小さい。よって、反応ガスが可燃性成分を含んでいても発火のおそれを回避できる。制御系を安全のために二重にする必要がなく、設備コストの増大を抑えることができる。

前記温調液が、絶縁性であることが好ましい。前記温調液の導電率は、好ましくは５０μＳ／ｃｍ以下であり、より好ましくは３０μＳ／ｃｍ以下であり、一層好ましくは１０μＳ／ｃｍ以下である。
これにより、ノズルの温調路内の温調液からの電気漏洩、ひいてはノズルの温調路内の温調液と電極との短絡を確実に防止できる。

例えば、前記被処理物が、連続するフィルムであり、前記一対の電極の少なくとも一方が、前記被処理物が掛け回され、かつ回転される円筒電極であり、前記ノズルが、前記円筒電極に近接していてもよい。さらに、前記ノズルが、前記放電空間に臨んでいてもよい。プラズマ処理装置が、前記円筒電極の温度ひいては前記被処理物の温度を前記凝縮温度より低温になるよう調節するフィルム温調手段を、更に備えていてもよい。
反応ガスが円筒電極上の被処理物に接触したとき、反応成分を被処理物の表面上で凝縮させて被処理物に付着させることができる。これにより、反応成分と被処理物の表面分子とを確実に反応させることができる。
ノズルはその近傍の円筒電極に熱を奪われるが、温調路に温調液を通すことによってノズルを確実に高温に維持できる。円筒電極のノズルに近い外周部分は、ノズルから熱を奪って加熱されることになるが、回転によってノズルから離れるため、加熱は一時的である。したがって、電極を低温に維持でき、ひいては被処理物を低温に維持できる。よって、反応成分を被処理物上で確実に凝縮させて付着させることができ、処理反応を確実に起こすことができる。

前記ノズルが、例えば前記被処理物の搬送方向と直交する処理幅方向に延びている場合、前記温調路が、前記ノズルの前記処理幅方向の一端部（第１端部）から他端部（第２端部）にわたって設けられていることが好ましい。これにより、ノズルをほぼ全長にわたって万遍なく温調することができる。ここで、前記第１端部は、前記ノズルの長手方向の第１端面及びその近傍部分を含む。前記第２端部は、前記ノズルの長手方向の前記第１端面とは反対側の第２端面及びその近傍部分を含む。前記温調路の出入り口ポートが、前記ノズルの前記第１、第２端面に設けられていてもよく、前記ノズルの前記第１、第２端面の近傍部分の側面に設けられていてもよい。
前記ノズルには、反応ガスを処理幅方向に均一に分散させる分散路が設けられていることが好ましい。
前記電極が、前記処理幅方向に延びていることが好ましい。前記円筒電極の軸線が、前記処理幅方向を向いていることが好ましい。

前記温調路が、前記温調液を前記ノズルの長手方向（処理幅方向）の一の向きに流す温調往路（上流路）と、前記温調液を前記一の向きとは逆向きに流す温調復路（下流路）とを含み、前記温調往路の下流端と前記温調復路の上流端が折り返し路（接続路）にて連ねられていてもよい。
この場合、温調液は、温調往路内をノズルの長手方向流れながらノズルを加温し、その後、折り返し路で折り返し、温調復路内を温調往路とは逆方向に流れながらノズルを加温する。温調液は流れるにしたがってノズルとの熱交換により温度が漸次低下する。したがって、ノズルの長手方向の位置によらず、ほぼ平等に加温できる。よって、ノズルの長さが大きくても、ノズル全体をほぼ均一に温調することができる。

前記温調路が、互いに同じ高さに配置されてそれぞれ前記温調液の一部ずつを流す第１、第２上流路部分を含む上流路と、前記上流路より高所に配置された下流路と、上下に延びて下端部が前記上流路に連なり、上端部が前記下流路に連なる接続路とを備え、前記温調液が、前記上流路、前記接続路、前記下流路の順に流れることが好ましい。
この構成によれば、温調液は、低所の上流路と高所の下流路のうち、先ず低所の上流路に導入される。したがって、上流路の第１上流路部分及び第２上流路部分の全体に温調液が行き渡ったうえで、温調液が接続路を上昇し、高所の下流路に導入される。これによって、温調路が第１、第２上流路部分の何れか一方に偏って流れるのを防止することができる。この結果、ノズル内を広範囲に確実に温調できる。

前記上流路が、前記第１上流路部分と前記第２上流路部分とに分岐する分岐部を含むことが好ましい。上流路が低所に在ることで、温調液が分岐部から第１、第２上流路部分の何れにも確実に分流するようにでき、第１、第２上流路部分の両方が温調液で確実に満たされるようにすることができる。

前記下流路が、互いに同じ高さに配置されてそれぞれ前記温調液の一部ずつを流す第１、第２下流路部分を含むことが好ましい。前記接続路が、前記第１上流路部分と前記第１下流路部分とを連ねる第１接続路部分と、前記第２上流路部分と前記第２下流路部分とを連ねる第２接続路部分とを含んでいてもよい。第１上流側部分を流れた温調液は、第１接続路部分を経て、第１下流路部分に送られる。第２上流側部分を流れた温調液は、第２接続路部分を経て、第２下流路部分に送られる。上述したように、温調液が第１上流路部分にも第２上流路部分にも確実に流れるようにできるから、第１下流路部分にも第２下流路部分にも温調液を確実に流すことができる。この結果、ノズル内を一層広範囲に温調できる。

前記下流路が、前記第１下流路部分と前記第２下流路部分とが合流する合流部を含むことが好ましい。これによって、第１下流路部分を流れた温調液と、第２下流路部分を流れた温調路とが合流部にて合流する。
前記第１、第２上流路部分の下流端どうしが合流して前記接続路の下端部（上流端）に連なっていてもよく、前記接続路の上端部（下流端）から前記第１、第２下流路部分が分岐していてもよい。

前記ノズルが、前記被処理物の搬送方向と直交する処理幅方向に延びている場合、前記第１、第２上流路部分が、前記処理幅方向と直交する並び方向に互いに並んで前記処理幅方向にそれぞれ延びていることが好ましい。前記第１、第２上流路部分が、前記ノズルの前記処理幅方向の第１端部から第２端部にわたっていることがより好ましい。これによって、前記ノズルを広い範囲にわたって温調できる。前記処理幅方向及び前記並び方向は、水平に向いていることが好ましい。
前記分岐部は、前記並び方向に延びる分岐路を含むことが好ましい。前記分岐部が、前記ノズルの第１端部又は第２端部に設けられていることが好ましい。
前記第１、第２下流路部分が、前記並び方向に互いに並んで前記処理幅方向にそれぞれ延びていることが好ましい。前記第１、第２下流路部分が、前記ノズルの前記処理幅方向の第１端部から第２端部にわたっていることがより好ましい。
前記合流部は、前記並び方向に延びる合流路を含むことが好ましい。前記合流部が、前記ノズルの第１端部又は第２端部に設けられていることが好ましい。

前記表面処理は、大気圧近傍下にて行なうことが好ましい。ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０^４〜５０．６６３×１０^４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０^４〜１０．６６４×１０^４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０^４〜１０．３９７×１０^４Ｐａがより好ましい。

本発明は、難接着性の光学樹脂フィルムの処理に好適であり、該難接着性の光学樹脂フィルムを易接着性の光学樹脂フィルムに接着するにあたり、難接着性の光学樹脂フィルムの接着性を向上させるのに好適である。
前記難接着性の光学樹脂フィルムの主成分としては、例えばトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、シクロオレフィン重合体（ＣＯＰ）、シクロオレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリイミド（ＰＩ）等が挙げられる。

前記易接着性の光学樹脂フィルムの主成分としては、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等が挙げられる。

前記難接着性の光学樹脂フィルムの接着性向上のための表面処理等においては、前記反応成分として、重合性モノマーを用いることが好ましい。
前記重合性モノマーとしては、不飽和結合及び所定の官能基を有するモノマーが挙げられる。所定の官能基は、水酸基、カルボキシル基、アセチル基、グリシジル基、エポキシ基、炭素数１〜１０のエステル基、スルホン基、アルデヒド基から選択されることが好ましく、特に、カルボキシル基や水酸基等の親水基が好ましい。

不飽和結合及び水酸基を有するモノマーとしては、メタクリル酸エチレングリコール、アリルアルコール、メタクリル酸ヒドロキシエチル等が挙げられる。
不飽和結合及びカルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マイレン酸、２−メタクリロイルプロピオン酸等が挙げられる。
不飽和結合及びアセチル基を有するモノマーとしては、酢酸ビニル等が挙げられる。
不飽和結合及びグリシジル基を有するモノマーとしては、メタクリル酸グリシジル等が挙げられる。
不飽和結合及びエステル基を有するモノマーとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸２−エチル等が挙げられる。
不飽和結合及びアルデヒド基を有するモノマーとしては、アクリルアルデヒド、クロトンアルデヒド等が挙げられる。

好ましくは、前記重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合及びカルボキシル基を有するモノマーである。かかるモノマーとして、アクリル酸（ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＨ）、メタクリル酸（ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＨ）が挙げられる。前記重合性モノマーは、アクリル酸又はメタクリル酸であることが好ましい。これによって、難接着性樹脂フィルムの接着性を確実に高めることができる。前記重合性モノマーは、アクリル酸であることがより好ましい。

前記重合性モノマーは、キャリアガスによって搬送することにしてもよい。キャリアガスは、好ましくは窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスから選択される。経済性の観点からは、キャリアガスとして窒素を用いるのが好ましい。
アクリル酸やメタクリル酸等の重合性モノマーの多くは、常温常圧で液相である。そのような重合性モノマーは、不活性ガス等のキャリアガス中に気化させるとよい。重合性モノマーをキャリアガス中に気化させる方法としては、重合性モノマー液の液面上の飽和蒸気をキャリアガスで押し出す方法、重合性モノマー液中にキャリアガスをバブリングする方法、重合性モノマー液を加熱して蒸発を促進させる方法等が挙げられる。押し出しと加熱、又はバブリングと加熱を併用してもよい。

加熱して気化させる場合、加熱器の負担を考慮し、重合性モノマーは、沸点が３００℃以下のものを選択するのが好ましい。また、重合性モノマーは、加熱により分解（化学変化）しないものを選択するのが好ましい。

本発明によれば、反応ガス中の反応成分がノズル内で凝縮するのを防止できる。ノズルが電極間の電界中に配置されていても、短絡等の電気的障害が起きるのを回避できる。

本発明の第１実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す斜視図である。 本発明の第２実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す斜視図である。 本発明の第３実施形態に係るノズルの側面断面図である。 本発明の第４実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す斜視図である。 本発明の第５実施形態に係るプラズマ処理装置を概略的に示す斜視図である。

以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。 図１は、本発明の第１実施形態を示したものである。本実施形態の被処理物９は、連続する樹脂フィルムにて構成されている。被処理フィルム９は、例えば偏光板の保護フィルムである。保護フィルム９は、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）を主成分として含む。フィルム９の成分は、ＴＡＣに限られず、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、シクロオレフィン重合体（ＣＯＰ）、シクロオレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリイミド（ＰＩ）等であってもよい。フィルム９の厚さは、例えば１００μｍ程度である。

上記保護フィルム９とＰＶＡフィルムからなる偏光フィルムとが接着剤にて貼り合わされ、偏光板が構成される。接着剤としては、ＰＶＡ水溶液等の水系接着剤が用いられる。接着工程に先立ち、プラズマ処理装置１によって保護フィルム９を表面処理し、保護フィルム９の接着性を向上させる。

図１に示すように、プラズマ処理装置１は、電極１１，１２と、ノズル２０を備えている。電極１１，１２は、共に円筒形状のロール電極にて構成されている。ロール電極１１，１２が互いに平行に並んで配置されている。以下、電極１１，１２の軸線に沿う方向を適宜「処理幅方向」と称す。電極１１，１２どうしが並んでいる方向（処理幅方向と直交する方向）を「並び方向」と称す。処理幅方向及び並び方向は共に水平であるが、これに限られるものではない。ロール電極１１，１２どうしの間に狭いギャップ１３が形成されている。一対の電極１１，１２のうち一方が電源（図示省略）に接続されている。他方の電極が電気的に接地されている。電源は、例えばパルス波状の電力を電極１１，１２に供給する。これにより、一対の電極１１，１２どうしの間に電界が印加され、ギャップ１３内に大気圧近傍下においてプラズマが生成され、ギャップ１３が大気圧近傍の放電空間になる。

連続シート状の被処理フィルム９が、その幅方向を電極１１，１２の軸方向（処理幅方向）に向け、ロール電極１１，１２の上側の周面に半周程度掛け回されている。被処理フィルム９は、ロール電極１１，１２の周面に沿って放電空間１３に通され、放電空間１３より下に垂らされてガイドロール１４にて折り返されている。ロール電極１１，１２が、それぞれ自らの軸線まわりに、かつ互いに同期して同一方向（図１において時計周り）に回転される。これにより、被処理フィルム９が、ロール電極１１からロール電極１２へ搬送される。

ロール電極１１，１２にはフィルム温調手段３が組み込まれている。フィルム温調手段３は、例えばロール電極１１，１２の内部に形成された電極内温調路３ａを含む。温調された水等の温調媒体が温調路３ａに通される。これによって、電極１１，１２の温度ひいては該電極１１，１２と接する被処理フィルム９の温度が後記反応ガス中の反応成分の凝縮温度より低温になるよう調節される。

ロール電極１１，１２どうし間の放電空間１３より上側にノズル２０が配置されている。ノズル２０の少なくとも下側部分（吹出し方向の先端部分）は、樹脂にて構成され、絶縁性を有している。ノズル２０は、処理幅方向に長く延びる長尺状になっている。ノズル２０の処理幅方向に沿う長さは、ロール電極１１，１２の軸長とほぼほぼ等しいか、上記軸長より大きい。ノズル２０の両端部はそれぞれロール電極１１，１２の同じ側の端部と処理幅方向のほぼ同じ位置に配置されている。ノズル２０は、その延び方向と直交する断面が下方に向かって先細になっている。ノズル２０の下端部（先端部）が、ロール電極１１，１２間の漸次狭くなる箇所に差し入れられ、放電空間１３の上端部に臨んでいる。

ノズル２０の内部には、吹出し路２１が形成されている。吹出し路２１の上流端が、供給路２ａを介して反応ガス源２に連なっている。吹出し路２１は、供給路２ａからの反応ガスを処理幅方向に均一に分散させる分散路２２を含む。吹出し路２１の先端が、ノズル２０の下端面（先端面）に達し、吹出し口２３を構成している。ノズル２０の先端部は、吹出し口２３を有している。

反応ガスは、室温（１５℃〜２５℃程度）では液体の反応成分を含む。そのような反応成分として、例えば重合性モノマーが挙げられる。ここでは、重合性モノマーからなる反応成分として、アクリル酸ＡＡが用いられている。アクリル酸蒸気は可燃性（爆発性）を有している。

反応ガスは、反応ガス源２にて生成される。反応ガス源２は気化器にて構成されている。気化器２内に、反応成分のアクリル酸が液体の状態で蓄えられている。気化器２には、加熱器（図示省略）が設けられており、この加熱器にて液体アクリル酸の温度を調節している。キャリアガスとして窒素（Ｎ_２）が気化器内に導入される。このキャリアガス（Ｎ_２）にアクリル酸が気化して混合され、反応ガス（アクリル酸ＡＡ＋Ｎ_２）が生成される。キャリアガスは、気化器内の液体アクリル酸の液面より上側に導入してもよく、液体アクリル酸の内部に導入してバブリングしてもよい。キャリアガスの一部を気化器に導入し、残部は気化器に通さないことにし、気化器の下流側でキャリアガスの上記一部と残部を合流させることにしてもよい。液体アクリル酸の温度やキャリアガスの上記一部と残部の分配比によって、反応ガス中のアクリル酸濃度を調節できる。

反応ガス源２とノズル２０が反応ガス供給路２ａにて接続されている。詳細図は省略するが、供給路２ａは、樹脂チューブにて構成されている。この樹脂チューブにリボンヒータ（供給路温調手段）が巻き付けられている。リボンヒータは、供給路２ａの全長にわたって設けられている。
供給路２ａの一部又は全体が、樹脂チューブに代えて、金属管にて構成されていてもよい。

更にプラズマ処理装置１はノズル温調手段３０を備えている。ノズル温調手段３０は、液温調節部３１と、ノズル２０に形成されたノズル内温調路３２と、これら液温調節部３１及び温調路３２を結ぶ管路３３，３４を含む。温調液が、液温調節部３１、往管路３３、温調路３２、還管路３４の順に循環される。

液温調節部３１は、ロール電極１１，１２及びノズル２０から離れて配置されている。液温調節部３１は、温調液の温度を調節する。

詳述すると、液温調節部３１は、液温設定部３１ａ、液収容部３１ｂ、液温センサ３１ｃ、液加熱部３１ｄ、及び制御部３１ｅを含む。液温設定部３１ａは、タッチパネル、ダイヤル等にて構成され、温調液の所望の設定温度が入力される。温調液の設定温度は、上記反応ガス中の反応成分の凝縮温度より高温である。液収容部３１ｂは、温調液を収容する空間であり、タンク状でもよく、管状でもよい。液温センサ３１ｃは、液収容部３１ｂ内の温調液の温度を検知する。液温センサ３１ｃが、液収容部３１ｂ内の温調液に代えて、往管路３３又は還管路３４における温調液を検温してもよい。或いは、液温センサ３１ｃが温調路３２内における温調液を検温してもよく、更にはノズル２０自体を検温してもよい。液加熱部３１ｄは、熱交換器、電熱ヒータ等にて構成され、液収容部３１ｂ内の温調液を加温する。制御部３１ｅは、マイクロコンピュータをはじめ、液温センサ３１ｃからの入力信号の変換処理部、液加熱部の駆動回路等を含み、液温センサ３１ｃによる検温値に基づいて、温調液の温度が液温設定部３１ａで設定した温度になるよう、液加熱部３１ｄを制御する。

液収容部３１ｄの出口ポートに往管路３３が接続されている。往管路３３が、ノズル２０の長手方向の一端部（第１端部、図１において左下部）へ延びている。往管路３３の少なくとも一部分は、樹脂（絶縁材料）にて構成することが好ましい。好ましくは、往管路３３のノズル２０に近い部分ひいては電極１１，１２に近い部分が、樹脂（絶縁材料）にて構成されている。往管路３３には送液ポンプ３７が設けられている。送液ポンプ３７は、還管路３４に設けてもよく、液温調節部３１の内部に設けてもよい。ノズル２０の第１端部の近くには、分配部３５が設けられている。分配部３５において往管路３３が複数（図では２つ）に分岐されている。

ノズル２０の内部に複数（図では２つ）の温調路３２が形成されている。少なくとも１つの温調路３２が、ノズル２０のなるべく下側（先端側）の部分に配置されている。各温調路３２は、ノズル２０の長手方向（処理幅方向）の全長にわたって延びている。各温調路３２の一端部（第１端部、図１において左下部）が、ノズル２０の一端面（第１端面）に達し、かつ上記分岐した往管路３３の１つと接続されている。

各温調路３２の他端部（第２端部、図１において右上部）が、ノズル２０の他端面（第２端面）に達している。これら温調路３２の第２端部に還管路３４がそれぞれ接続されている。還管路３４の少なくともノズル２０に近い部分、ひいては電極１１，１２に近い部分は、樹脂（絶縁材料）にて構成することが好ましい。ノズル２０の第２端部の近くには、合流部３６が設けられている。複数の還管路３４が合流部３６において合流されている。合流部３６から合流後の１つの還管路３４が液温調節部３１へ延びている。還管路３４の先端部が、液収容部３１ｄの入口ポートに接続されている。
詳細な図示は省略するが、吹出し路２１は、並び方向に並んだ２つの温調路３２，３２どうしの間を通っている。

温調液として、水が用いられている。特に、温調液として絶縁性の純水又はイオン交換水が用いられている。温調液の導電率は、一般的な水道水の導電率（１００μＳ／ｃｍ程度）より十分に小さく、好ましくは５０μＳ／ｃｍ以下であり、より好ましくは３０μＳ／ｃｍ以下であり、一層好ましくは１０μＳ／ｃｍ以下である。ここでは、温調液として、μＳ／ｃｍオーダーの電気伝導率測定器で測定して０μＳ／ｃｍの純水又はイオン交換水を用いている。イオン交換水を温調液として用いる場合、往管路３３又は還管路３４にイオン交換フィルター３８を設け、電気的絶縁性を維持することが好ましい。

上記構成のプラズマ処理装置１によって被処理フィルム９を表面処理する方法を説明する。
被処理フィルム９をロール電極１１，１２及びガイドロール１４に掛け回す。
ロール電極１１，１２を図１において時計周りに回転させ、被処理フィルム９を大略右方向へ搬送する。
電源（図示省略）から電極１１，１２に電力を供給して、電極１１，１２間に電界を印加し、ギャップ１３内に大気圧近傍のプラズマ放電を生成する。

気化器２においてキャリアガス（Ｎ_２）にアクリル酸（ＡＡ）を気化させ、反応ガス（ＡＡ＋Ｎ_２）を生成する。気化器２内の液体アクリル酸の温度は、例えば４０℃〜１００℃に調節する。上記反応ガスを、気化器２からガス供給路２ａに送出する。ガス供給路２ａに設けられたリボンヒータ（供給路温調手段）によって、ガス供給路２ａの温度を上記反応ガス中のアクリル酸の凝縮温度より高温に維持する。例えば、供給路２ａの温度を４０℃〜２００℃に調節する。

上記反応ガス（ＡＡ＋Ｎ_２）をガス供給路２ａからノズル２０の吹出し路２１に導入する。反応ガスは、該吹出し路２１の分散路２２によりノズル２０の長手方向（処理幅方向）に均一に分散されたうえで、ノズル２０の下端の吹出し口２３から放電空間１３へ吹き出され、放電空間１３内の被処理フィルム９に吹き付けられる。この吹出し流は、処理幅方向に均一に分布した流れになる。

フィルム温調手段３によって、ロール電極１１，１２の温度ひいては被処理フィルム９の温度を上記反応ガス中のアクリル酸の凝縮温度より低温にする。例えば、被処理フィルム９の温度を１５℃〜３０℃に調節する。これにより、反応ガスが被処理フィルム９に接触すると、反応ガス中のアクリル酸が凝縮し、被処理フィルム９に付着する。このアクリル酸が放電空間１３のプラズマによって活性化され、二重結合の開裂、重合等が起きる。反応ガス中の窒素は、放電空間１３内においてプラズマ化（励起、活性化、ラジカル化、イオン化等を含む）される。この窒素プラズマやプラズマ光が被処理フィルム９に照射され、被処理フィルム９の表面分子のＣ−Ｃ、Ｃ−Ｏ、Ｃ−Ｈ等の結合を切断する。この結合切断部にアクリル酸の重合物が結合（グラフト重合）し、或いはアクリル酸から分解したＣＯＯＨ基等が結合すると考えられる。これにより、被処理フィルム９の表面に接着性促進層が形成される。

さらに、ノズル温調手段３０によって、ノズル２０の温度を上記反応ガス中のアクリル酸の凝縮温度より高温になるよう調節する。例えば、ノズル２０の温度を４０℃〜２００℃に調節する。

詳述すると、液温調節部３１の液温設定部３１ａにノズル２０の設定温度を入力しておく。送液ポンプ３７を駆動し、ノズル温調手段３０の温調液（純水又はイオン交換水）を、液収容部３１ｂ、往管路３３、温調路３２、還管路３４の順に循環させる。液温センサ３１ｃにて温調液の温度を検出する。この検温信号に基づいて、制御部３１ｅが液加熱部３１ｄを制御し、温調液を設定温度になるよう調節する。温調された温調液が、往管路３３及び分配路３５を経て、ノズル２０の各温調路３２に導入される。この温調液が、温調路３２内をノズル２０の長手方向に流れる。これにより、ノズル２０を加温して上記アクリル酸の凝縮温度より高温にすることができる。
温調液ひいてはノズル２０の設定温度の上限は、アクリル酸の爆発限界以下とする。アクリル酸の爆発点は、酸素濃度によって変化する。

温調路３２の少なくとも１つがノズル２０の先端部の近くに配置されているため、ノズル２０の先端部を確実に上記アクリル酸の凝縮温度より高温にすることができる。ロール電極１１，１２が冷却されていても、その近傍のノズル２０の先端部を上記アクリル酸の凝縮温度より確実に高温に維持できる。したがって、ノズル２０内の特に先端部において反応ガス中のアクリル酸（反応成分）が凝縮するのを防止できる。これにより、アクリル酸を確実に気体の状態でノズル２０の先端の吹出し口２３から吹き出すことができ、被処理フィルム９に均一に吹き付けることができる。よって、処理の均一性を確保でき、処理品質を向上できる。また、吹出し路２１の詰まりを防止又は抑制できる。

温調路３２がロール電極１１，１２の近くに配置されていても、温調液が絶縁性であるため、温調液と電極１１，１２とが電気的に短絡するおそれがない。したがって、電気が温調液を伝って液温調節部３１の制御部３１ｅや液温センサ３１ｃを破壊するのを回避できる。反応ガスがアクリル酸などの可燃性成分を含んでいても、漏電による発火等の異常が起きるのを回避できる。
ノズル２０の温度を遠隔的に測定及び制御できるから、ノズル２０に熱電対等の温度センサを設ける必要がない。
ノズル温調手段３０の制御系に不具合があったとしても、ノズル２０が温調液（水）の沸点（１００℃）以上にまで加熱されることは殆ど有り得ない。したがって、制御系を安全のために二重にする必要がなく、設備コストの増大を抑えることができる。
温調液が水（純水又はイオン交換水等）であるため、ノズル温調手段３０の設備コストを確実に低く抑えることができる。
なお、温調液の電気的絶縁性を維持するために、定期的に温調液を交換することが好ましい。

処理後の被処理フィルム９をＰＶＡフィルム等からなる偏光フィルムと接着することにより、偏光板を作製する。接着剤としてはＰＶＡ水溶液等の水系接着剤を用いる。予め上記表面処理によって被処理フィルム９の接着性が高められているため、十分な接着強度を有する偏光板を得ることができる。

次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において、既述の実施形態と重複する内容に関しては、図面に同一符号を付して説明を省略する。
図２は、本発明の第２実施形態に係るプラズマ処理装置１Ａを示したものである。装置１Ａは、第１実施形態の装置１（図１）より幅広の被処理フィルム９を処理するためのものであり、ロール電極１１，１２及びノズル２０が第１実施形態より処理幅方向に長い。ノズル２０の内部には、温調手段３０の複数の温調路３２Ａが上下に互いに離れて形成されている。図２では、ノズル２０の先端側（下側）の１つの温調路３２Ａのみを図示する。各温調路３２Ａは、温調往路３２１（上流路）と温調復路（下流路）３２２を含む。温調往路３２１及び温調復路３２２は、何れもノズル２０の全長にわたって延びている。各温調路３２Ａの温調往路３２１及び温調復路３２２は、ノズル２０内の同じ高さに並び方向に並んで配置されている。ノズル２０の第１端部（図２の左下部）において、温調往路３２１が、合流部３６（図示省略）を介して往管路３３に連なっている。ノズル２０の第２端部（図２の右上部）において、温調往路３２１と温調復路３２２が折り返し路３２３（接続路）にて連結されている。ノズル２０の第１端部（図２の左下部）において、温調復路３２２の下流端が、合流部３６（図示省略）を介して還管路３４に連なっている。詳細な図示は省略するが、吹出し路２１は、温調往路３２１と温調復路３２２との間を通っている。

温調液は、液温調節部３１から往管路３３を順次経て、ノズル２０内の温調往路３２１に導入され、ノズル２０の長手方向（処理幅方向）に沿って第１端部から第２端部へ一の向き（図２の右上）に流れる。この過程でノズル２０を加温する。その後、温調液は、折り返し路３２３を経て、温調復路３２２に送られ、ノズル２０の長手方向（処理幅方向）に沿って第２端部から第１端部へ上記一の向きとは逆向き（図２の左下）に流れる。この過程でノズル２０を更に加温する。温調液は流れるにしたがってノズル２０との熱交換により温度が漸次低下する。したがって、ノズル２０の長手方向の位置によらず、ほぼ平等に加温できる。よって、ノズル２０の長さが大きくても、ノズル２０全体を長手方向（処理幅方向）にほぼ均一に温調することができる。その後、温調液は、還管路３４を経て、液温調節部３１に戻される。

図３は、本発明の第３実施形態を示したものである。この実施形態は、ノズル２０の具体的態様に係る。ノズル２０の上側（吹出し方向の基端側）の部分２４が金属にて構成され、下側（吹出し方向の先端側）の部分２５が絶縁性の樹脂にて構成されている。ノズル基端部分２４は、放電空間１３から比較的離れており、電極１１，１２間の電界を殆ど受けない。このノズル基端部分２４が架台５に連結されて支持されている。ノズル２０の吹出し口２３を含む先端部分２５は、電極１１，１２間の漸次狭くなる部分に差し入れられ、放電空間１３に臨んでいる。ノズル先端部分２５の先細部分の側面が、対応するロール電極１１，１２の周面に沿う部分円筒凹面になっている。ノズル２０の内部には、複数の温調路３２が上下に間隔を置いて、かつ電極１１，１２の対向方向に対をなすように吹出し路２１を挟んで並んで配置されている。

図４は、本発明の第４実施形態に係るプラズマ処理装置１Ｂを示したものである。この装置１Ｂでは、反応ガスを吹き出す反応ガスノズル２０Ｂが、放電空間１３からロール電極１１の回転方向の上流側に離れて配置されている。ノズル２０の先端面（下面）が、ロール電極１１の上側の周面と対向し、かつロール電極１１に近接して配置されている。ノズル２０Ｂの処理幅方向と直交する断面は、大略四角形になっている。ノズル２０Ｂ内にノズル温調手段３０の温調路３２が形成されている点は、第１実施形態と同じである。

一対のロール電極１１，１２の間には、放電空間１３を挟んで、上側に放電生成ガスノズル４１が配置され、下側に放電生成ガスノズル４２が配置されている。放電生成ガスノズル４１，４２は、互いに上下に反転した構造になっている。各放電生成ガスノズル４１及び４２は、処理幅方向に延びている。各放電生成ガスノズル４１，４２の先端が放電空間１３に臨んでいる。放電生成ガスの供給路４３が、放電生成ガスノズル４１，４２にそれぞれ接続されている。

放電生成ガスとしては、窒素（Ｎ_２）が用いられている。放電生成ガスは、重合性モノマーを含まない。
なお、放電生成ガスは、窒素に限定されるものではなく、アルゴン、ヘリウム等の希ガスを用いてもよい。

第４実施形態においては、反応ガス（アクリル酸＋Ｎ_２）を、ノズル２０Ｂの下面の吹出し口２３からロール電極１１の上側の周面上の被処理フィルム９に吹き付ける。ノズル温調手段３０の温調液を循環させてノズル２０Ｂを温調する。これによって、第１実施形態と同様に、ノズル２０Ｂの温度を反応ガス中のアクリル酸の凝縮温度より高温にすることができる。ロール電極１１が温調路３ａにて冷却されていても、該ロール電極１１の近傍のノズル２０Ｂの先端部分（下側部分）を確実に高温に維持できる。よって、アクリル酸をノズル２０Ｂ内で凝縮させることなく吹き出すことができる。アクリル酸は、ノズル２０から吹き出された後、低温の被処理フィルム９上で凝縮して被処理フィルム９の表面に付着する。

併行して、放電生成ガス（Ｎ_２）を放電生成ガスノズル４１，４２の少なくとも一方から放電空間１３に供給し、プラズマ化する。被処理フィルム９の上記アクリル酸付着部分が、やがて放電空間１３に入り、プラズマ照射を受ける。これにより、放電空間１３内の被処理フィルム９の表面上でアクリル酸のプラズマ重合反応が起き、第１実施形態と同様にして、接着性促進層が形成される。

温調液は電気を通しにくいため、ノズル２０Ｂが電極１１に近接して配置されていても、電極１１から温調手段３０への漏電等を防止できる点は、第１実施形態と同様である。

図５は、本発明の第５実施形態を示したものである。第５実施形態では、反応ガスノズル２０内の温調路３２が、下段の上流路５１と、中段の流路５２と、上段の下流路５３を有している。上流路５１は、反応ガスノズル２０内の比較的低い位置に配置されている。中段流路５２は、上流路５１より高所に配置されている。下流路５３は、中段流路５２より高所（反応ガスノズル２０内の比較的高い位置）に配置されている。上流路５１と中段流路５２が上下に延びる接続路５４を介して接続されている。中段流路５２と下流路５３が上下に延びる接続路５５を介して接続されている。温調液は、上流路５１、接続路５４、中段流路５２、接続路５５、下流路５３の順に流れる。以下、第５実施形態の温調路構造を更に詳述する。

上流路５１は、第１上流路部分５１ａと、第２上流路部分５１ｂを含む。各流路部分５１ａ，５１ｂは、反応ガスノズル２０の長手方向（処理幅方向）の第１端部（図５において左下）から第２端部（図５において右上）にわたって水平に延びている。第１上流路部分５１ａと第２上流路部分５１ｂとは、互いに同じ水平高さにおいて並び方向に並んで平行に配置されている。第１上流路部分５１ａは、反応ガスノズル２０の垂直な中心線より第１ロール電極１１側に偏って配置されている。第２上流路部分５１ｂは、上記中心線より第２ロール電極１２側に偏って配置されている。

反応ガスノズル２０の第１端面（図５において左下）に入口ポート５０が設けられている。液温調節部３１（図１参照）からの往管路３３が入口ポート５０に接続されている。上流路５１の第１端部（上流端）が入口ポート５０に連なっている。上流路５１の上流端の近くには、分岐路５１ｃ（分岐部）が設けられている。分岐路５１ｃは、並び方向に延びている。分岐路５１ｃから上流路部分５１ａ，５１ｂが分岐している。第１上流路部分５１ａは、分岐路５１ｃの第１ロール電極１１側の端部（上流端）から分岐し、入口ポート５０から分岐路５１ｃまでの間の上流路５１と一直線をなしている。第２上流路部分５１ｂは、分岐路５１ｃの第２ロール電極１２側の端部（下流端）に連なっている。

中段流路５２は、第１流路部分５２ａと、第２流路部分５２ｂを含む。各流路部分５２ａ，５２ｂは、反応ガスノズル２０の長手方向の第２端部（図５において右上）から第１端部（図５において左下）にわたって水平に延びている。第１流路部分５２ａと第２流路部分５２ｂとは、互いに同じ水平高さにおいて並び方向に並んで平行に配置されている。第１流路部分５２ａが、反応ガスノズル２０の垂直な中心線より第１ロール電極１１側に偏って配置され、第２流路部分５２ｂが、上記中心線より第２ロール電極１２側に偏って配置されている。第１流路部分５２ａは、第１上流路部分５１ａの真上に第１上流路部分５１ａと平行に配置されている。第２流路部分５２ｂは、第２上流路部分５１ｂの真上に第２上流路部分５１ｂと平行に配置されている。

接続路５４は、反応ガスノズル２０の第２端部（分岐部５１ｃとは反対側の端部）に配置されている。接続路５４は、第１接続路部分５４ａと、第２接続路部分５４ｂを含む。第１接続路部分５４ａは、反応ガスノズル２０の垂直な中心線より第１ロール電極１１側に偏って配置されている。第１接続路部分５４ａは、上下に延び、その下端部（上流端）が、第１上流路部分５１ａの第２端部（下流端）に連なっている。第１接続路部分５４ａの上端部（下流端）は、第１流路部分５２ａの第２端部（上流端）に連なっている。第２接続路部分５４ｂは、上記中心線より第２ロール電極１２側に偏って配置されている。第２接続路部分５４ｂは、上下に延び、その下端部（上流端）が、第２上流路部分５１ｂの第２端部（下流端）に連なっている。第２接続路部分５４ｂの上端部（下流端）は、第２流路部分５２ｂの第２端部（上流端）に連なっている。

上流路５１に対して、中段流路５２は「下流路」を構成する。このとき、第１流路部分５２ａは「第１下流路部分」を構成し、第２流路部分５２ｂは「第２下流路部分」を構成する。

反応ガスノズル２０の上段の下流路５３は、第１下流路部分５３ａと、第２下流路部分５３ｂを含む。各流路部分５３ａ，５３ｂは、反応ガスノズル２０の長手方向の第１端部（図５において左下）から第２端部（図５において右上）にわたって水平に延びている。第１下流路部分５３ａと第２下流路部分５３ｂとは、互いに同じ水平高さにおいて上記並び方向に並んで平行に配置されている。第１下流路部分５３ａが、反応ガスノズル２０の垂直な中心線より第１ロール電極１１側に偏って配置され、第２下流路部分５３ｂが、上記中心線より第２ロール電極１２側に偏って配置されている。第１下流路部分５３ａは、第１流路部分５２ａの真上に第１流路部分５２ａと平行に配置されている。第２下流路部分５３ｂは、第２流路部分５２ｂの真上に第２流路部分５２ｂと平行に配置されている。

接続路５５は、反応ガスノズル２０の第１端部（接続路５４とは反対側の端部）に配置されている。接続路５５は、第１接続路部分５５ａと、第２接続路部分５５ｂを含む。第１接続路部分５５ａは、上記中心線より第１ロール電極１１側に偏って配置されている。第１接続路部分５５ａは、上下に延び、その下端部（上流端）が、第１流路部分５２ａの第１端部（下流端）に連なっている。第１接続路部分５５ａの上端部（下流端）は、第１下流路部分５３ａの第１端部（上流端）に連なっている。第２接続路部分５５ｂは、上記中心線より第２ロール電極１２側に偏って配置されている。第２接続路部分５５ｂは、上下に延び、その下端部（上流端）が、第２流路部分５２ｂの第１端部（下流端）に連なっている。第２流路部分５２ｂの上端部（下流端）は、第２下流路部分５３ｂの第１端部（上流端）に連なっている。

下流路５３に対して、中段流路５２は「上流路」を構成する。このとき、第１流路部分５２ａは「第１上流路部分」を構成し、第２流路部分５２ｂは「第２上流路部分」を構成する。

下流路５３には合流路５３ｃ（合流部）が設けられている。合流路５３ｃは、並び方向に延びている。合流路５３ｃを介して、第１下流路部分５３ａと第２下流路部分５３ｂの第２端部（下流端）どうしが合流している。第１下流路部分５３ａは、合流路５３ｃの第１ロール電極１１側の端部に連なっている。第２下流路部分５３ｂは、合流路５３ｃの第２ロール電極１２側の端部に連なり、合流路５３ｃより第２端側（下流側）の下流路５３と一直線をなしている。反応ガスノズル２０の第２端面には出口ポート５６が設けられている。下流路５３の第２端部（下流端）が、出口ポート５６に連なっている。出口ポート５６から還管路３４が液温調節部３１（図１参照）へ延びている。

図５において図示は省略するが、ノズル２０の内部にはスリット状のガス流路２１（図１参照）が、処理幅方向と並び方向とに直交する方向（図５において上下方向）に設けられている。ガス流路２１は、第１下流路部分５３ａと第２下流路部分５３ｂとの間を通り、更に第１流路部分５２ａと第２流路部分５２ｂとの間を通り、更には第１上流路部分５１ａと第２上流路部分５１ｂとの間を通っている。ガス流路２１の下端部（下流端）が、ノズル２０の下端の吹出し口２３（図１参照）に連なっている。ガス流路２１の処理幅方向の一端は、分岐部５１ｃより処理幅方向の中央側にあり、ガス流路２１の処理幅方向の他端は合流部５３ｃより処理幅方向の中央側にある。

第５実施形態では、液温調節部３１からの温調液が、往管路３３から入口ポート５０を経て上流路５１に導入される。この温調液の一部Ｌｑ１が、分岐部５１ｃから第１上流路部分５１ａに分流する。温調液の残部（他の一部）Ｌｑ２が、分岐部５１ｃから第２上流路部分５１ｂに分流する。これにより、温調液の一部Ｌｑ１，Ｌｑ２ずつが第１、第２上流路部分５１ａ，５１ｂを第１端部側から第２端部側へ流れる。

いま、温調路３２に温調液の導入を開始したとする。この温調液が、流路部分５１ａ，５１ｂのうち片方、例えば第１上流路部分５１ａに偏って分流したとする。すなわち、温調液のほとんどが上記一部Ｌｑ１に回り、残部Ｌｑ２の流量はほとんど０であるものとする。その場合でも、温調液は、第１上流路部分５１ａの全体に満ちた後は、第１接続路部分５４ａを上昇するよりも他方の第２上流路部分５１ｂに流れやすくなる。したがって、第２上流路部分５１ｂにも温調液が行き渡るようにできる。この結果、温調液が両方の流路部分５１ａ，５１ｂを流れるようにできる。

第１上流路部分５１ａを経た温調液Ｌｑ１は、第１接続路部分５４ａを上昇し、第１流路部分５２ａに導入される。第２上流路部分５２ａを経た温調液Ｌｑ２は、第２接続路部分５４ｂを上昇し、第２流路部分５２ｂに導入される。これにより、温調液の一部Ｌｑ１，Ｌｑ２ずつが、第１、第２流路部分５２ａ，５２ｂを第２端部側から第１端部側へ流れる。

第１流路部分５２ａを経た温調液Ｌｑ１は、第１接続路部分５５ａを上昇し、第１下流路部分５３ａに導入される。第２流路部分５２ｂを経た温調液Ｌｑ２は、第２接続路部分５５ｂを上昇し、第２下流路部分５３ｂに導入される。これにより、温調液の一部Ｌｑ１，Ｌｑ２ずつが、第１、第２下流路部分５３ａ，５３ｂを第１端部側から第２端部側へ流れる。そして、これら温調液Ｌｑ１，Ｌｑ２が、合流部５３ｃにおいて合流する。合流後の温調液が、出口ポート５６を経て、還管路３４から液温調節部３１へ戻される。

温調液が、反応ガスノズル２０の処理幅方向にも並び方向にも行き渡って流通することで、反応ガスノズル２０を広範囲に温調することができる。

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の改変をなすことができる。
例えば、温調液は、純水又はイオン交換水等の水に限られず、好ましくは絶縁性を有していればよく、例えばフロリナート（登録商標）等のフッ素系不活性液体を用いてもよい。温調液の沸点は、安全性の観点から低いことが好ましい。
ノズル２０，２０Ｂ内に温調路３２が１つだけ設けられていてもよい。この場合、１つの温調路３２は、ノズル２０，２０Ｂの吹出し方向のなるべく先端部に配置されることが好ましい。
ノズル２０，２０Ｂは、少なくとも、吹出し口２３を含む先端部が絶縁体にて構成されていればよく、ノズル２０，２０Ｂの吹出し口２３側とは反対側の基端部は金属等の導体にて構成されていてもよい。
ノズル２０，２０Ｂの下方等に漏水センサを設け、温調液の漏れを検出できるようにしてもよい。

第５実施形態（図５）において、上流路５１が３つ以上の上流路部分に分岐していてもよい。その場合、これら３つ以上の上流路部分の１つが「第１上流路部分」を構成し、他の１つが「第２上流路部分」を構成する。同様に、中段流路５２が３つ以上の流路部分を有していてもよい。下流路５３が３つ以上の下流路部分を有していてもよい。
入口ポート５０が分岐路５１ｃの延び方向の中間部に連なっていてもよい。
出口ポート５６が合流路５３ｃの延び方向の中間部に連なっていてもよい。
上流路５１の上流路部分５１ａ，５１ｂの下流端どうしが合流して、合流部より下流の上流路５１が１つの接続路５４の下端部に連なっていてもよい。１つの接続路５４の上端部から中段路５２の第１、第２流路部分５２ａ，５２ｂが分岐していてもよい。中段路５２の第１、第２流路部分５２ａ，５２ｂの下流端どうしが合流して、合流部より下流の中段路５２が１つの接続路５５の下端部に連なっていてもよい。１つの接続路５５の上端部から下流路５３の第１、第２流路部分５３ａ，５３ｂが分岐していてもよい。
分岐部５１ｃは、反応ガスノズル２０の長手方向（処理幅方向）の中間部に設けられていてもよく、分岐部５１ｃから２つの流路部分５１ａ，５１ｂが反応ガスノズル２０の長手方向の互いに反対側に延びていてもよい。
合流部５３ｃは、反応ガスノズル２０の長手方向（処理幅方向）の中間部に設けられていてもよく、２つの流路部分５３ａ，５３ｂが、合流部５３を挟んで反応ガスノズル２０の長手方向の互いに反対側から合流部５３ｃへ向かって延び来て互いに合流していてもよい。

プラズマ処理装置１の電極構造は、一対のロール電極１１，１２に限られない。例えば、平行平板電極でもよく、ロール電極と平板電極の対でもよく、ロール電極と部分円筒凹面電極の対でもよい。ノズル２０，２０Ｂが、少なくとも一方の電極の近くに配置されるか、又は放電空間１３に臨むように配置される。上記一方の電極は、平板電極でもよく、部分円筒凹面電極でもよい。
本発明は、偏光板用保護フィルムの表面処理に限られず、種々の樹脂フィルムの表面処理に適用可能である。
被処理物９は、樹脂フィルムに限られず、ガラス基板や半導体ウェハ等であってもよい。
処理内容は、プラズマ重合膜の成膜に限られず、プラズマＣＶＤでもよく、更に成膜に限られず、洗浄、表面改質、エッチング等の種々の処理に適用できる。反応ガス成分は処理内容に応じて適宜選択される。例えば、プラズマＣＶＤにおいては、反応ガスの反応成分として、ＴＭＯＳ、ＴＥＯＳ等が挙げられる。

本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の偏光板や半導体ウェハの製造に適用可能である。

１，１Ａ，１Ｂ プラズマ処理装置
２ 反応ガス源（気化器）
２ａ ガス供給路
３ フィルム温調手段
３ａ 電極内温調路
５ 架台
９ 被処理フィルム（被処理物）
１１ 電極
１２ 電極
１３ 放電空間
２０，２０Ｂ 反応ガスノズル
２１ 吹出し路
２２ 分散路
２３ 吹出し口
２４ ノズル基端部分
２５ ノズル先端部分
３０ ノズル温調手段
３１ 液温調節部
３１ａ 液温設定部
３１ｂ 液収容部
３１ｃ 液温センサ
３１ｄ 液加熱部
３１ｅ 制御部
３２ 温調路
３２１ 温調往路（上流路）
３２２ 温調復路（下流路）
３２３ 折り返し路
３３ 往管路
３４ 還管路
３５ 分配部
３６ 合流部
３７ 送液ポンプ
３８ イオン交換フィルター
４１，４２ 放電生成ガスノズル
４３ 放電生成ガス供給路
５０ 入口ポート
５１ 上流路
５１ａ 第１上流路部分
５１ｂ 第２上流路部分
５１ｃ 分岐路（分岐部）
５２ 中段流路
５２ａ 第１流路部分
５２ｂ 第２流路部分
５３ 下流路
５３ａ 第１下流路部分
５３ｂ 第２下流路部分
５３ｃ 合流路（合流部）
５４ 接続路
５４ａ 第１接続路部分
５４ｂ 第２接続路部分
５５ 接続路
５５ａ 第１接続路部分
５５ｂ 第２接続路部分
５６ 出口ポート

Claims (10)

1. 被処理物に凝縮性の反応成分を含む反応ガスを接触させ、かつプラズマを照射するプラズマ処理装置であって、
   互いの間に前記プラズマ照射のための大気圧近傍の放電空間を形成する一対の電極と、
   吹出し口を有する先端部が絶縁体にて構成され、かつ前記先端部が前記一対の電極の少なくとも一方又は前記放電空間の近傍に配置されて、前記吹出し口から前記反応ガスを前記被処理物に吹き付けるノズルと、
   前記ノズルの温度を調節するノズル温調手段と、
   を備え、前記ノズル温調手段が、前記ノズルに形成されて温調液を通す温調路と、前記電極及び前記ノズルから離れて配置され、前記温調液の温度を前記反応ガス中の反応成分の凝縮温度より高温になるよう調節する液温調節部と、前記液温調節部と前記温調路とを結ぶ管路とを含むことを特徴とするプラズマ処理装置。
2. 前記温調液が、絶縁性であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
3. 前記温調液の導電率が、５０μＳ／ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。
4. 前記被処理物が、連続するフィルムであり、前記一対の電極の少なくとも一方が、前記被処理物が掛け回され、かつ回転される円筒電極であり、前記ノズルが、前記円筒電極に近接しており、
   前記円筒電極の温度ひいては前記被処理物の温度を前記凝縮温度より低温になるよう調節するフィルム温調手段を、更に備えたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のプラズマ処理装置。
5. 前記ノズルが、前記被処理物の搬送方向と直交する処理幅方向に延び、前記温調路が、前記ノズルの前記処理幅方向の一端部から他端部にわたって設けられていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載のプラズマ処理装置。
6. 前記温調路が、前記温調液を前記処理幅方向の一の向きに流す温調往路と、前記温調液を前記一の向きとは逆向きに流す温調復路とを含み、前記温調往路の下流端と前記温調復路の上流端が折り返し路にて連ねられていることを特徴とする請求項５に記載のプラズマ処理装置。
7. 前記温調路が、互いに同じ高さに配置されてそれぞれ前記温調液の一部ずつを流す第１、第２上流路部分を含む上流路と、前記上流路より高所に配置された下流路と、上下に延びて下端部が前記上流路に連なり、上端部が前記下流路に連なる接続路とを備え、前記温調液が、前記上流路、前記接続路、前記下流路の順に流れることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載のプラズマ処理装置。
8. 前記上流路が、前記第１上流路部分と前記第２上流路部分とに分岐する分岐部を含むことを特徴とする請求項７に記載のプラズマ処理装置。
9. 前記下流路が、互いに同じ高さに配置されてそれぞれ前記温調液の一部ずつを流す第１、第２下流路部分を含み、前記接続路が、前記第１上流路部分と前記第１下流路部分とを連ねる第１接続路部分と、前記第２上流路部分と前記第２下流路部分とを連ねる第２接続路部分とを含むことを特徴とする請求項７又は８に記載のプラズマ処理装置。
10. 前記下流路が、前記第１下流路部分と前記第２下流路部分とが合流する合流部を含むことを特徴とする請求項９に記載のプラズマ処理装置。
    

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