JP5473440B2 - Manufacturing method of liquid crystal display panel using touch panel - Google Patents
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Description
本発明は、タッチパネルを利用した液晶表示パネルの製造方法に関し、特にカーボンナノチューブを用いたタッチパネルを利用した液晶表示パネルの製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display panel using a touch panel, and more particularly to a method for manufacturing a liquid crystal display panel using a touch panel using carbon nanotubes.
最近、各種電子装置の高性能化及び多様化の発展に従って、液晶表示装置の表示面に透光性タッチパネルが設置された電子装置がますます多くなっている。 Recently, along with the development of higher performance and diversification of various electronic devices, more and more electronic devices have a translucent touch panel installed on the display surface of a liquid crystal display device.
タッチパネルは、その動作原理及び伝送媒質の相違によって、抵抗膜方式タッチパネル、静電容量方式タッチパネル、赤外線方式タッチパネル及び表面弾性波方式タッチパネルに分けることができる。その中で、抵抗膜方式タッチパネルが一番広く用いられている。非特許文献１には、従来の抵抗膜方式タッチパネルに関して記載されている。 The touch panel can be classified into a resistive touch panel, a capacitive touch panel, an infrared touch panel, and a surface acoustic wave touch panel depending on the operation principle and the transmission medium. Among them, the resistive touch panel is most widely used. Non-Patent Document 1 describes a conventional resistive film type touch panel.
従来の抵抗膜方式タッチパネルは、一般的に下表面に上透明導電構造体が形成された上基板と、上表面に下透明導電構造体が形成された下基板と、前記上基板と前記下基板の間に設置された複数の透明ドットスペーサー（ｄｏｔ ｓｐａｃｅｒ）と、を備える。前記上、下透明導電構造体は、通常導電性インジウム・スズ酸化物層（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ層、以下はＩＴＯ層と呼ぶ）で構成される。指やペンなどで前記上基板を押圧すると、圧力により前記上基板がたわみ、従って押圧箇所における前記上透明導電構造体及び前記下透明導電構造体がお互いに接触し、外部の電気回路により、前記上透明導電構造体及び前記下透明導電構造体に別々に順に電界が印加される。この時、タッチパネル制御素子は、前記第一導電構造体の電圧変化及び前記第二導電構造体の電圧変化を別々に測定する一方、正確に計算して押圧部位の座標に転換する。タッチパネル制御素子は、デジタル化された押圧部位の座標を前記中央処理器に伝送する。中央処理装置は、押圧箇所の座標に基づいて相応の指令を出力して、電子装置の各種機能を切り替え、且つ表示制御素子を通して薄膜トランジスタパネルの表示パネル駆動回路を制御することで画像を表示する。 A conventional resistive film type touch panel generally includes an upper substrate having an upper transparent conductive structure formed on a lower surface, a lower substrate having a lower transparent conductive structure formed on an upper surface, the upper substrate and the lower substrate. And a plurality of transparent dot spacers disposed between the two. The upper and lower transparent conductive structures are usually composed of a conductive indium tin oxide layer (Indium Tin Oxide, ITO layer, hereinafter referred to as ITO layer). When the upper substrate is pressed with a finger or a pen, the upper substrate bends due to pressure, and thus the upper transparent conductive structure and the lower transparent conductive structure at the pressed position come into contact with each other. An electric field is separately applied to the upper transparent conductive structure and the lower transparent conductive structure in order. At this time, the touch panel control element measures the voltage change of the first conductive structure and the voltage change of the second conductive structure separately, while calculating accurately and converts them to the coordinates of the pressed part. The touch panel control element transmits the digitized coordinates of the pressed part to the central processor. The central processing unit outputs an appropriate command based on the coordinates of the pressed position, switches various functions of the electronic device, and controls the display panel driving circuit of the thin film transistor panel through the display control element to display an image.
しかし、透明導電構造体とするＩＴＯ層は、通常イオンスパッタリング法や蒸着法などの方法により形成される。ＩＴＯ層の製造過程において、高い真空環境が要求され、且つ２００〜３００℃までの加熱が必要であるため、前記ＩＴＯ層を用いるタッチパネルの製造コストが高くなり、製造方法が複雑になる。また、ＩＴＯ層は、透明導電構造体として、機械的性能が良好ではなく、湾曲しにくく、且つ抵抗値の分布が均一ではないといった欠点がある。また、ＩＴＯは、湿気が存在する環境では透明度が低くなるので、従来の抵抗膜方式タッチパネル及前記タッチパネルを用いるタッチパネルを利用した液晶表示パネルには、耐用性が良好でなく、感度、線形性及び正確性が低いといった問題が存在する。 However, the ITO layer as the transparent conductive structure is usually formed by a method such as ion sputtering or vapor deposition. In the manufacturing process of the ITO layer, a high vacuum environment is required, and heating up to 200 to 300 ° C. is required, which increases the manufacturing cost of the touch panel using the ITO layer and complicates the manufacturing method. In addition, the ITO layer, as a transparent conductive structure, has disadvantages such as poor mechanical performance, difficulty in bending, and non-uniform resistance value distribution. In addition, since ITO has low transparency in an environment where moisture is present, a liquid crystal display panel using a conventional resistive film type touch panel and a touch panel using the touch panel has poor durability, sensitivity, linearity, and There is a problem that accuracy is low.
以上の問題点に鑑みて、耐用性、感度、線形性及び正確性に優れるタッチパネルを利用した液晶表示パネルを低コストで簡単に製造することができるタッチパネルを利用した液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。 In view of the above problems, a method of manufacturing a liquid crystal display panel using a touch panel that can easily manufacture a liquid crystal display panel using a touch panel excellent in durability, sensitivity, linearity, and accuracy at low cost is provided. The purpose is to do.
上述問題を解決するために、本発明に係るタッチパネルを利用した液晶表示パネルの製造方法は、カーボンナノチューブ構造体を備えるタッチパネルを製造するステップと、前記タッチパネルの一表面に偏光層を形成するステップと、前記偏光層の表面に第一配向層を形成して上基板を形成するステップと、薄膜トランジスタパネルを製造するステップと、前記薄膜トランジスタパネルの薄膜トランジスタが形成された表面に被覆する第二配向層を形成するステップと、前記薄膜トランジスタパネルの第二配向層から離れた表面に偏光片を設置して下基板を形成するステップと、前記上基板の第一配向層と前記下基板の第二配向層との間に液晶層を設置してサンドイッチ構造を形成することにより、タッチパネルを利用した液晶表示パネルを得るステップと、を含む。 In order to solve the above problems, a method of manufacturing a liquid crystal display panel using a touch panel according to the present invention includes a step of manufacturing a touch panel including a carbon nanotube structure, and a step of forming a polarizing layer on one surface of the touch panel. Forming a first alignment layer on the surface of the polarizing layer to form an upper substrate; manufacturing a thin film transistor panel; and forming a second alignment layer covering the surface of the thin film transistor panel on which the thin film transistor is formed. Forming a lower substrate by installing a polarizing piece on a surface remote from the second alignment layer of the thin film transistor panel; and a first alignment layer of the upper substrate and a second alignment layer of the lower substrate A liquid crystal display panel using a touch panel is formed by forming a sandwich structure with a liquid crystal layer in between. Includes a step that, a.
従来技術と比べると、本発明に係るタッチパネルを利用した液晶表示パネルの製造方法は、次のような利点がある。 Compared with the prior art, the method of manufacturing a liquid crystal display panel using the touch panel according to the present invention has the following advantages.
カーボンナノチューブ構造体は、優れた力学性能及び耐湾曲性を有するので、カーボンナノチューブを含む透明導電構造体は、優れた靱性と機械強度を有する。又、柔軟性基材と組み合わせると、柔軟性タッチパネルを利用した液晶表示パネルを製造することができ、従って柔軟性表示装置に適用される。 Since the carbon nanotube structure has excellent mechanical performance and bending resistance, the transparent conductive structure including the carbon nanotube has excellent toughness and mechanical strength. Further, when combined with a flexible base material, a liquid crystal display panel using a flexible touch panel can be manufactured, and thus applied to a flexible display device.
本発明から提供されたカーボンナノチューブフィルムは、引き出し工具を利用して、カーボンナノチューブアレイから引き出して得られたものであるため、その製造過程において、真空環境及び加熱工程を必要としない。従って、上述した方法で製造されたカーボンナノチューブフィルムを透明導電構造体としたタッチパネルを利用した液晶表示パネルは、製造コストが低く、且つ環境保護及び省エネルギーの面にも優れている。 Since the carbon nanotube film provided from the present invention is obtained by pulling out from the carbon nanotube array using a drawing tool, a vacuum environment and a heating step are not required in the manufacturing process. Therefore, a liquid crystal display panel using a touch panel using the carbon nanotube film manufactured by the above-described method as a transparent conductive structure is low in manufacturing cost and excellent in environmental protection and energy saving.
前記偏光層におけるカーボンナノチューブは、同一方向に配列されて光を偏光させることができるので、それを採用するとタッチパネルを利用した液晶表示パネルの構造の簡素化を図ることができる。 Since the carbon nanotubes in the polarizing layer can be arranged in the same direction to polarize light, the use of the carbon nanotube can simplify the structure of a liquid crystal display panel using a touch panel.
本発明から提供されたカーボンナノチューブフィルムは、熱圧着法を通して基材に圧着されることができるので、製造コストを減少させ、且つ製造工程を簡単にすることができる。 Since the carbon nanotube film provided from the present invention can be pressure-bonded to the substrate through a thermocompression bonding method, the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing process can be simplified.
以下、図面に基づいて、本発明の実施形態に係るタッチパネルを利用した液晶表示パネルの製造方法に対して詳細に説明する。 Hereinafter, a manufacturing method of a liquid crystal display panel using a touch panel according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図１及び図２を参照すると、本発明の実施形態に係るタッチパネルを利用した液晶表示パネル１０の製造方法を提供する。該製造方法は、主に下記のステップを含む。 1 and 2, a method for manufacturing a liquid crystal display panel 10 using a touch panel according to an embodiment of the present invention is provided. The manufacturing method mainly includes the following steps.
第一ステップ：上基板２０を製造する。該製造方法は、下記のステップを含む。 First step: The upper substrate 20 is manufactured. The manufacturing method includes the following steps.
（一）タッチパネル２００を製造する。図３を参照すると、前記タッチパネル２００を製造する方法は、下記のサブステップを含む。 (1) The touch panel 200 is manufactured. Referring to FIG. 3, the method for manufacturing the touch panel 200 includes the following sub-steps.
（Ａ）対向する２つの表面を有する第一基材２０６を提供する。 (A) A first substrate 206 having two opposing surfaces is provided.
前記第一基材２０６は、透明な柔軟性平面構造である。前記第一基材２０６の厚さは、０．０１ｍｍ〜１ｃｍであり、その面積は、限定されず、実際の要求に基づいて選択することができる。前記第一基材２０６は、プラスチック又は樹脂などのような柔軟性材料を用いることはできる。例えば、前記第一基材２０６の材料は、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＰＩ）、繊維素エステル（Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ Ｅｓｔｅｒ）、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）及びアクリル酸（Ａｃｒｙｌｉｃ Ａｃｉｄ）樹脂から一種又は多種を選択することができる。前記第一基材２０６は、優れた透明度を保持し、且つ一定な柔軟性を有する材料なら、上述した材料に限定されるものではない。 The first substrate 206 has a transparent flexible planar structure. The thickness of the first substrate 206 is 0.01 mm to 1 cm, and its area is not limited and can be selected based on actual requirements. The first substrate 206 may be made of a flexible material such as plastic or resin. For example, the material of the first base material 206 is polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), polyimide (Polyimide, PI), cellulose ester (Cellulose). One or more types can be selected from Ester), benzocyclobutene (BCB), polyvinyl chloride (PVC), and acrylic acid (Acrylic Acid) resins. The first base material 206 is not limited to the above-described material as long as it has excellent transparency and has a certain flexibility.
本実施形態において、前記第一基材２０６は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）薄膜（以下はＰＥＴ薄膜と呼ぶ）である。前記ＰＥＴ薄膜は、厚さが２ｍｍで、幅が２０ｃｍで、長さが３０ｃｍである。 In the present embodiment, the first base material 206 is a polyethylene terephthalate (PET) thin film (hereinafter referred to as a PET thin film). The PET thin film has a thickness of 2 mm, a width of 20 cm, and a length of 30 cm.
（Ｂ）前記第一基材２０６の一表面に第一透明導電構造体２０８を形成する。該工程は、下記のステップを含む。 (B) A first transparent conductive structure 208 is formed on one surface of the first substrate 206. The process includes the following steps.
先ず、少なくとも１枚のカーボンナノチューブフィルムを製造する。 First, at least one carbon nanotube film is manufactured.
前記カーボンナノチューブフィルムを製造する方法は、直接成長法、綿毛構造加工法、プレス加工法又は引き出し法を含む。 The method for producing the carbon nanotube film includes a direct growth method, a fluff structure processing method, a press processing method, or a drawing method.
前記直接成長法は、化学気相堆積法（ＣＶＤ法）により直接基板に成長させたカーボンナノチューブアレイをカーボンナノチューブフィルムとして利用する。前記カーボンナノチューブフィルムは、配向せずに配列される複数のカーボンナノチューブを含む非配向型のカーボンナノチューブフィルムである。 In the direct growth method, a carbon nanotube array grown directly on a substrate by a chemical vapor deposition method (CVD method) is used as a carbon nanotube film. The carbon nanotube film is a non-oriented carbon nanotube film including a plurality of carbon nanotubes arranged without being oriented.
前記綿毛構造加工法により、カーボンナノチューブフィルムを製造する方法は、直接成長させて得られたカーボンナノチューブ原料を溶媒に浸漬して綿毛構造を形成させる第一サブステップと、該綿毛構造のカーボンナノチューブをろ過してカーボンナノチューブ構造体を形成させてカーボンナノチューブフィルムを得る第二サブステップと、を含む。前記カーボンナノチューブフィルムは、お互い絡み合い且つ等方的に配列される複数のカーボンナノチューブを含む非配向型のカーボンナノチューブフィルムである。 A method of manufacturing a carbon nanotube film by the fluff structure processing method includes a first sub-step of forming a fluff structure by immersing a carbon nanotube raw material obtained by direct growth in a solvent, and a carbon nanotube having the fluff structure. A second substep of filtering to form a carbon nanotube structure to obtain a carbon nanotube film. The carbon nanotube film is a non-oriented carbon nanotube film including a plurality of carbon nanotubes that are entangled with each other and isotropically arranged.
前記プレス加工法により、カーボンナノチューブフィルムを製造する方法は、基板に成長されたカーボンナノチューブアレイを提供する第一サブステップと、押し器具を提供して、前記カーボンナノチューブアレイに所定の圧力をかけて前記カーボンナノチューブアレイを押し、カーボンナノチューブフィルムを形成する第二サブステップと、を含む。前記カーボンナノチューブフィルムは、同じ方向又は異なる方向に沿って優先方位に配列される複数のカーボンナノチューブを含む配向型のカーボンナノチューブフィルムである。 A method of manufacturing a carbon nanotube film by the pressing method includes a first sub-step of providing a carbon nanotube array grown on a substrate, a pressing device, and applying a predetermined pressure to the carbon nanotube array. A second sub-step of pressing the carbon nanotube array to form a carbon nanotube film. The carbon nanotube film is an oriented carbon nanotube film including a plurality of carbon nanotubes arranged in a preferential direction along the same direction or different directions.
本実施例においては、前記引き出し法を採用してカーボンナノチューブフィルムを製造する。該方法は、具体的に次のステップを含む。 In this example, a carbon nanotube film is manufactured using the above-described drawing method. The method specifically includes the following steps.
（ａ）カーボンナノチューブアレイを提供する。好ましくは、超配列カーボンナノチューブアレイを提供する。（ｂ）前記カーボンナノチューブアレイから一定の幅の範囲内における複数のカーボンナノチューブの端部を持つ。本実施形態において、一定の幅を有するテープを利用して、一定の幅の範囲内における複数のカーボンナノチューブの端部を持つ。（ｃ）所定の速度で前記カーボンナノチューブアレイの成長方向と大体直交する方向に沿って前記複数のカーボンナノチューブを引き出し、複数のカーボンナノチューブ束からなる連続のカーボンナノチューブフィルムを形成する。 (A) To provide a carbon nanotube array. Preferably, a super aligned carbon nanotube array is provided. (B) It has the edge part of the several carbon nanotube in the range of a fixed width from the said carbon nanotube array. In the present embodiment, a tape having a certain width is used to have ends of a plurality of carbon nanotubes within a certain width. (C) Pulling out the plurality of carbon nanotubes along a direction substantially orthogonal to the growth direction of the carbon nanotube array at a predetermined speed to form a continuous carbon nanotube film composed of a plurality of carbon nanotube bundles.
前記超配列カーボンナノチューブアレイは、化学気相堆積法、アーク放電法又はレーザー蒸発法によっても得られることができる。本実施形態から提供されたカーボンナノチューブアレイにおけるカーボンナノチューブは、単層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ及び多層カーボンナノチューブの一種又は多種である。前記超配列カーボンナノチューブアレイは、互いに平行し、基材に直交するように生長する複数のカーボンナノチューブからなり、不純物を含まない。前記カーボンナノチューブアレイにおけるカーボンナノチューブは、分子間力で緊密に接触し、アレイを形成される。前記カーボンナノチューブアレイは、前記基材と大体同じ面積を有し、その高さは１００μｍ以上である。本実施形態において、前記カーボンナノチューブアレイの高さは、２００μｍ〜９００μｍである。 The super aligned carbon nanotube array can also be obtained by chemical vapor deposition, arc discharge, or laser evaporation. The carbon nanotubes in the carbon nanotube array provided from the present embodiment are one type or various types of single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, and multi-walled carbon nanotubes. The super aligned carbon nanotube array is composed of a plurality of carbon nanotubes that grow parallel to each other and perpendicular to the substrate, and does not contain impurities. The carbon nanotubes in the carbon nanotube array are in close contact with each other by intermolecular force to form an array. The carbon nanotube array has substantially the same area as the base material and has a height of 100 μm or more. In the present embodiment, the carbon nanotube array has a height of 200 μm to 900 μm.
図４を参照すると、前記複数のカーボンナノチューブを引き出す工程において、前記複数のカーボンナノチューブがそれぞれ前記基材から脱離すると、分子間力で前記カーボンナノチューブ束が端と端で接合され、連続のカーボンナノチューブフィルムが形成される。前記カーボンナノチューブフィルムは、端と端で接合され、且つ前記引き伸ばされた方向に沿って定向配列される複数のカーボンナノチューブを含む。前記直接引き出して得た優先方位に配列されるカーボンナノチューブフィルムは、非配向型のカーボンナノチューブフィルムに比べて、より優れた均一性、即ち均一な厚さ及び導電性能を有する。且つ、前記直接引き出してカーボンナノチューブフィルムを製造する方法は、高効率又は簡単であり、工業的化に実用される。 Referring to FIG. 4, in the step of pulling out the plurality of carbon nanotubes, when the plurality of carbon nanotubes are detached from the base material, the carbon nanotube bundles are joined to each other by an intermolecular force. A nanotube film is formed. The carbon nanotube film includes a plurality of carbon nanotubes that are bonded end to end and are oriented along the stretched direction. The carbon nanotube film arranged in the preferential orientation obtained by direct drawing has better uniformity, that is, uniform thickness and conductive performance, compared to the non-oriented carbon nanotube film. Moreover, the method of producing the carbon nanotube film by directly drawing out is highly efficient or simple, and is practically used for industrialization.
本実施形態において、前記カーボンナノチューブフィルムの幅は、前記カーボンナノチューブアレイが形成された基材の寸法と関連している。前記カーボンナノチューブフィルムの長さは、制限されず、実際の応用に応じて、選択することができる。本実施形態においては、４インチの基材を採用して超配列カーボンナノチューブアレイを生長させ、且つ得られたカーボンナノチューブフィルムの幅は０．０１ｃｍ〜１０ｃｍで、その厚さは０．５ｎｍ〜１００μｍである。前記カーボンナノチューブフィルムにおけるカーボンナノチューブは、単層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ及び多層カーボンナノチューブの一種又は多種である。前記単層カーボンナノチューブの直径は０．５ｎｍ〜５０ｎｍであり、前記二層カーボンナノチューブの直径は１ｎｍ〜５０ｎｍであり、前記多層カーボンナノチューブの直径は１．５ｎｍ〜５０ｎｍである。 In the present embodiment, the width of the carbon nanotube film is related to the dimension of the substrate on which the carbon nanotube array is formed. The length of the carbon nanotube film is not limited and can be selected according to the actual application. In this embodiment, a 4 inch base material is employed to grow a super aligned carbon nanotube array, and the resulting carbon nanotube film has a width of 0.01 cm to 10 cm and a thickness of 0.5 nm to 100 μm. It is. The carbon nanotubes in the carbon nanotube film are one type or various types of single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, and multi-walled carbon nanotubes. The single-walled carbon nanotube has a diameter of 0.5 to 50 nm, the double-walled carbon nanotube has a diameter of 1 to 50 nm, and the multi-walled carbon nanotube has a diameter of 1.5 to 50 nm.
次に、レーザーで前記カーボンナノチューブフィルムを処理する。 Next, the carbon nanotube film is processed with a laser.
カーボンナノチューブフィルムにおけるカーボンナノチューブの間に分子間力が存在するため、一部分のカーボンナノチューブが凝集して、直径の大きいカーボンナノチューブ束を形成しやすく、従ってカーボンナノチューブフィルムの導電性に悪い影響を与える。そのため、カーボンナノチューブフィルムの透光性を高めるために、効率密度が０．１×１０４Ｗ／ｍ２以上のレーザーで前記カーボンナノチューブフィルムを照射して、透光性の悪いカーボンナノチューブ束を除去する。該レーザー処理工程は、酸素のある環境で行われ、好ましくは、空気のある環境で行われる。 Since an intermolecular force exists between the carbon nanotubes in the carbon nanotube film, a part of the carbon nanotubes aggregate to easily form a carbon nanotube bundle having a large diameter, and thus adversely affect the conductivity of the carbon nanotube film. Therefore, in order to improve the translucency of the carbon nanotube film, the carbon nanotube film is irradiated with a laser having an efficiency density of 0.1 × 10 4 W / m 2 or more to remove the carbon nanotube bundle having poor translucency. To do. The laser treatment step is performed in an oxygen-containing environment, preferably in an air-containing environment.
前記レーザー処理工程において、カーボンナノチューブフィルム及びレーザー装置のいずれか一方を固定した後に、もう一方を移動することにより、レーザーで前記カーボンナノチューブフィルムを照射することができる。 In the laser treatment step, after fixing one of the carbon nanotube film and the laser device, the other can be moved to irradiate the carbon nanotube film with a laser.
前記レーザー処理工程において、カーボンナノチューブがレーザーに対して優れた吸収性を有するので、高いパワーのレーザーがカーボンナノチューブフィルムに吸収されると、カーボンナノチューブフィルムにおけるカーボンナノチューブの温度が、発生した熱により高くなる。カーボンナノチューブ束が大きい直径を有するので、吸収した熱も多く、従ってカーボンナノチューブ束におけるカーボンナノチューブの温度も比較的高い。前記カーボンナノチューブの温度がある程度（通常６００℃以上）に至ると、カーボンナノチューブ束がレーザーで焼切られる。レーザーで処理されたカーボンナノチューブフィルムは、レーザーで処理される前より、透光率が一段と高められ、７０％以上に至る。 In the laser processing step, since the carbon nanotubes have excellent absorbability with respect to the laser, when a high power laser is absorbed by the carbon nanotube film, the temperature of the carbon nanotubes in the carbon nanotube film is increased by the generated heat. Become. Since the carbon nanotube bundle has a large diameter, much heat is absorbed, and therefore the temperature of the carbon nanotube in the carbon nanotube bundle is also relatively high. When the temperature of the carbon nanotube reaches a certain level (usually 600 ° C. or higher), the carbon nanotube bundle is burned out by a laser. The carbon nanotube film treated with a laser has a higher light transmittance than before it is treated with a laser, reaching 70% or more.
前記レーザー処理工程の目的は、カーボンナノチューブフィルムの透光性を一層高めることであるため、該工程を省略することもできる。 Since the purpose of the laser treatment step is to further enhance the translucency of the carbon nanotube film, the step can be omitted.
最後に、少なくとも１枚のカーボンナノチューブフィルムを前記第一基材２０６の一表面に設置して第一透明導電構造体２０８とするカーボンナノチューブ構造体を形成する。 Finally, at least one carbon nanotube film is placed on one surface of the first base material 206 to form a carbon nanotube structure as the first transparent conductive structure 208.
本実施形態において、前記カーボンナノチューブ構造体は、定向配列される複数のカーボンナノチューブを含み、第一透明導電構造体２０８として用いられる。更に、前記カーボンナノチューブ構造体は、１枚のカーボンナノチューブフィルム又は隙間無く且つ平行に張設された複数のカーボンナノチューブフィルムを含むことができる。前記カーボンナノチューブ構造体における複数のカーボンナノチューブフィルムは、無間隔且つ平行に張設されることができるので、前記カーボンナノチューブ構造体の長さ及び幅に対して限定されず、実際の要求に基づいて前記カーボンナノチューブ構造体を任意の長さ及び幅に製造することができる。前記カーボンナノチューブ構造体は、本実施形態に記載した構造のカーボンナノチューブ構造体に限定されず、他の構造のカーボンナノチューブ構造体であってもよい。本実施形態において、前記カーボンナノチューブ構造体は、無間隔且つ平行に張設された複数のカーボンナノチューブフィルムを含む。前記カーボンナノチューブ構造体の厚さは５０μｍ〜５００μｍである。 In the present embodiment, the carbon nanotube structure includes a plurality of carbon nanotubes that are oriented and used as the first transparent conductive structure 208. Further, the carbon nanotube structure may include one carbon nanotube film or a plurality of carbon nanotube films stretched in parallel without gaps. Since the plurality of carbon nanotube films in the carbon nanotube structure can be stretched in parallel without any gaps, the length and width of the carbon nanotube structure are not limited and based on actual requirements The carbon nanotube structure can be manufactured to an arbitrary length and width. The carbon nanotube structure is not limited to the carbon nanotube structure having the structure described in the present embodiment, and may be a carbon nanotube structure having another structure. In the present embodiment, the carbon nanotube structure includes a plurality of carbon nanotube films stretched in parallel with no space. The carbon nanotube structure has a thickness of 50 μm to 500 μm.
本実施形態において、少なくとも２枚のカーボンナノチューブフィルムを積層張設して複数のカーボンナノチューブ構造体を形成することもできる。前記複数のカーボンナノチューブ構造体において、隣接する２つのカーボンナノチューブ構造体におけるカーボンナノチューブの配列方向は、それぞれ角度αと成し、且つ該角度αは、０≦α≦９０°の条件を満足する。本実施形態において、該角度αは、９０°である。 In the present embodiment, a plurality of carbon nanotube structures can be formed by laminating and stretching at least two carbon nanotube films. In the plurality of carbon nanotube structures, the alignment direction of the carbon nanotubes in the two adjacent carbon nanotube structures is an angle α, and the angle α satisfies the condition of 0 ≦ α ≦ 90 °. In the present embodiment, the angle α is 90 °.
具体的に言えば、前記少なくとも１枚のカーボンナノチューブフィルムを前記第一基材２０６の表面に張設する工程は、下記のように行う。少なくとも１枚のカーボンナノチューブフィルムを前記第一基材２０６の表面に直接張設するか、又は複数のカーボンナノチューブフィルムを前記第一基材２０６の表面に無間隔且つ平行に張設して、前記第一基材２０６の表面に被覆するカーボンナノチューブ構造体を形成する。又、少なくとも２枚のカーボンナノチューブフィルムを前記第一基材２０６の表面に積層張設して、複数のカーボンナノチューブ構造体を形成することもできる。前記複数のカーボンナノチューブ構造体は、前記複数のカーボンナノチューブ構造体におけるカーボンナノチューブの配列方向が角度αで交差されるように積層張設される。該角度αは、０≦α≦９０°の条件を満足する。前記カーボンナノチューブフィルムは、定向配列される複数のカーボンナノチューブを含み、且つ前記複数のカーボンナノチューブは、引き出された方向に沿って配列されるので、前記複数のカーボンナノチューブ構造体を前記複数のカーボンナノチューブ構造体におけるカーボンナノチューブの配列方向が角度αで交差されるように設置することができる。 Specifically, the step of stretching the at least one carbon nanotube film on the surface of the first substrate 206 is performed as follows. At least one carbon nanotube film is stretched directly on the surface of the first base material 206, or a plurality of carbon nanotube films are stretched on the surface of the first base material 206 without any gaps in parallel. A carbon nanotube structure covering the surface of the first substrate 206 is formed. Also, a plurality of carbon nanotube structures can be formed by laminating and stretching at least two carbon nanotube films on the surface of the first base material 206. The plurality of carbon nanotube structures are laminated and stretched so that the arrangement direction of the carbon nanotubes in the plurality of carbon nanotube structures intersects at an angle α. The angle α satisfies the condition of 0 ≦ α ≦ 90 °. The carbon nanotube film includes a plurality of carbon nanotubes arranged in a directed direction, and the plurality of carbon nanotubes are arranged along a drawn direction, so that the plurality of carbon nanotube structures are arranged in the plurality of carbon nanotubes. The carbon nanotubes in the structure can be installed so that the arrangement directions thereof intersect at an angle α.
又、前記少なくとも１枚のカーボンナノチューブフィルムを前記第一基材２０６の表面に張設する工程は、下記のようであってもよい。先ず、少なくとも１枚のカーボンナノチューブフィルムを支持体の表面に直接張設するか、又は複数のカーボンナノチューブフィルムを支持体の表面に無間隔且つ平行に張設する。次に、前記支持体を除去して、自立支持のカーボンナノチューブフィルム構造を形成する。最後に、前記カーボンナノチューブフィルム構造を前記第一基材２０６の表面に直接被覆させてカーボンナノチューブ構造体を形成する。また、少なくとも２枚のカーボンナノチューブフィルムを前記２枚のカーボンナノチューブ構造体におけるカーボンナノチューブの配列方向が角度αで交差されるように支持体の表面に積層張設して、複数の自立支持のカーボンナノチューブフィルム構造を形成することもできる。該角度αは、０≦α≦９０°の条件を満足する。前記複数の自立支持のカーボンナノチューブフィルム構造を前記第一基材２０６の表面に被覆させて複数のカーボンナノチューブ構造体を形成する。前記カーボンナノチューブフィルムは、定向配列される複数のカーボンナノチューブを含み、且つ前記複数のカーボンナノチューブは、引き出された方向に沿って配列されるので、前記複数のカーボンナノチューブ構造体を前記複数のカーボンナノチューブ構造体におけるカーボンナノチューブの配列方向が角度αで交差されるように設置することができる。 Further, the step of stretching the at least one carbon nanotube film on the surface of the first base material 206 may be as follows. First, at least one carbon nanotube film is stretched directly on the surface of the support, or a plurality of carbon nanotube films are stretched on the surface of the support in parallel with no space. Next, the support is removed to form a self-supporting carbon nanotube film structure. Finally, the carbon nanotube film structure is formed by directly coating the surface of the first substrate 206 with the carbon nanotube film structure. Also, a plurality of self-supporting carbons are formed by laminating and stretching at least two carbon nanotube films on the surface of the support so that the alignment direction of the carbon nanotubes in the two carbon nanotube structures intersects at an angle α. Nanotube film structures can also be formed. The angle α satisfies the condition of 0 ≦ α ≦ 90 °. A plurality of carbon nanotube structures are formed by coating the surface of the first substrate 206 with the plurality of self-supporting carbon nanotube film structures. The carbon nanotube film includes a plurality of carbon nanotubes arranged in a directed direction, and the plurality of carbon nanotubes are arranged along a drawn direction, so that the plurality of carbon nanotube structures are arranged in the plurality of carbon nanotubes. The carbon nanotubes in the structure can be installed so that the arrangement directions thereof intersect at an angle α.
前記支持体は、基板又は枠体を用いることができる。本実施形態から提供された超配列カーボンナノチューブアレイは不純物を含まず、且つカーボンナノチューブ自体の比表面積が大きいので、前記カーボンナノチューブフィルムが強い接着性を有する。前記カーボンナノチューブフィルムの接着性を利用して、前記カーボンナノチューブフィルムを基板又は枠体に直接接着させることができる。前記カーボンナノチューブフィルムの余剰部分、即ち前記基板又は枠体に接着されていない部分は、ナイフ等で切り取ることができる。その後、前記基板又は枠体を除去して、カーボンナノチューブフィルム構造を得る。本実施形態において、前記基板又は枠体の大きさは、実際の要求によって決定される。 As the support, a substrate or a frame can be used. The super-aligned carbon nanotube array provided from the present embodiment does not contain impurities, and the carbon nanotube itself has a large specific surface area, so that the carbon nanotube film has strong adhesion. The carbon nanotube film can be directly bonded to a substrate or a frame by using the adhesiveness of the carbon nanotube film. The excess part of the carbon nanotube film, that is, the part not bonded to the substrate or the frame can be cut out with a knife or the like. Thereafter, the substrate or frame is removed to obtain a carbon nanotube film structure. In the present embodiment, the size of the substrate or frame is determined according to actual requirements.
本実施形態は、更に、少なくとも１枚のカーボンナノチューブフィルムを前記第一基材２０６の表面に設置する前、又は前記第一基材２０６の表面を被覆するカーボンナノチューブ構造体を形成した後に、有機溶剤で前記カーボンナノチューブフィルム又はカーボンナノチューブ構造体を処理する工程を含む。前記有機溶剤は、揮発性有機溶剤であり、アルコール、メチルアルコール、アセトン、ジクロロエタン、クロロホルムの一種又は多種の混合物である。本実施例において、前記有機溶剤はアルコールである。前記有機溶剤で処理する工程は、試験管で前記有機溶剤を前記カーボンナノチューブフィルム又はカーボンナノチューブ構造体の表面に滴下させ、前記カーボンナノチューブフィルム又はカーボンナノチューブ構造体を浸漬する。または、前記カーボンナノチューブ構造体が形成された第一基材２０６又は前記カーボンナノチューブフィルム構造が形成された支持体全体を有機溶剤が収容された容器に入れて浸漬する。前記カーボンナノチューブフィルム、カーボンナノチューブ構造体又は前記カーボンナノチューブフィルム構造は、有機溶剤で浸漬させることによって、揮発性有機溶剤の表面張力の作用で、平行している一部分のカーボンナノチューブが凝集して、カーボンナノチューブ束を形成する。従って、前記カーボンナノチューブフィルム、カーボンナノチューブ構造体又は前記カーボンナノチューブフィルム構造は、比表面積が小さくなり、接着性がなくなり、且つ優れた機械強度と強靭性を有する。 In the present embodiment, before the carbon nanotube film is formed on the surface of the first substrate 206 or after the carbon nanotube structure covering the surface of the first substrate 206 is formed, the organic nanotube Treating the carbon nanotube film or carbon nanotube structure with a solvent. The organic solvent is a volatile organic solvent, and is one or a mixture of various kinds of alcohol, methyl alcohol, acetone, dichloroethane, and chloroform. In this embodiment, the organic solvent is alcohol. In the step of treating with the organic solvent, the organic solvent is dropped on the surface of the carbon nanotube film or the carbon nanotube structure with a test tube, and the carbon nanotube film or the carbon nanotube structure is immersed. Alternatively, the first substrate 206 on which the carbon nanotube structure is formed or the entire support on which the carbon nanotube film structure is formed is immersed in a container containing an organic solvent. When the carbon nanotube film, the carbon nanotube structure or the carbon nanotube film structure is immersed in an organic solvent, a part of the carbon nanotubes in parallel are aggregated by the action of the surface tension of the volatile organic solvent. A nanotube bundle is formed. Therefore, the carbon nanotube film, the carbon nanotube structure or the carbon nanotube film structure has a small specific surface area, loses adhesiveness, and has excellent mechanical strength and toughness.
また、本実施形態は、前記第一基材２０６の表面にカーボンナノチューブ複合層を形成して第一透明導電構造体２０８とすることができる。具体的には、次のステップを含む。 In the present embodiment, the first transparent conductive structure 208 can be formed by forming a carbon nanotube composite layer on the surface of the first substrate 206. Specifically, the following steps are included.
先ず、前記第一基材２０６の表面にカーボンナノチューブ構造体を形成する前に、前記第一基材２０６の一表面に高分子材料溶液層を塗布する。 First, before forming a carbon nanotube structure on the surface of the first base material 206, a polymer material solution layer is applied to one surface of the first base material 206.
前記第一基材２０６の一表面に高分子材料溶液層を塗布する工程は、ブラシ又は他の工具で一定量の高分子材料溶液を柔軟性基材の表面に均一に塗布するか、又は柔軟性基材の表面を高分子材料溶液内に浸して直接浸漬することにより、高分子材料溶液層を形成する。前記高分子材料溶液層の塗布方法は、限定されることはなく、柔軟性基材の表面に均一な高分子材料溶液層を形成できればよい。前記高分子材料溶液層の厚さは、０．１μｍ〜１ｍｍである。 The step of applying the polymer material solution layer on one surface of the first substrate 206 may be performed by uniformly applying a certain amount of the polymer material solution to the surface of the flexible substrate with a brush or other tool. A polymer material solution layer is formed by directly immersing the surface of the conductive substrate in a polymer material solution. The method for applying the polymer material solution layer is not limited, as long as a uniform polymer material solution layer can be formed on the surface of the flexible substrate. The polymer material solution layer has a thickness of 0.1 μm to 1 mm.
前記高分子材料溶液は、高分子材料を一定の温度で溶融して得た溶融状態の高分子材料又は高分子材料を揮発性有機溶剤に溶解して得た溶液を含む。前記高分子材料溶液は、一定の粘度を有し、好ましくは、１Ｐａ・ｓ以上の粘度を有する。前記高分子材料は、常温においては、固体の状態に保持され、且つ一定の透明度を有する。前記揮発性有機溶剤は、アルコール、メチルアルコール、アセトン、ジクロロエタンやクロロホルムなどを含む。前記高分子材料は、透明な高分子材料であって、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）又はシクロオレフィンポリマーなどを用いることができる。本実施形態において、前記高分子材料はＰＭＭＡである。 The polymer material solution includes a polymer material in a molten state obtained by melting a polymer material at a constant temperature or a solution obtained by dissolving a polymer material in a volatile organic solvent. The polymer material solution has a certain viscosity, and preferably has a viscosity of 1 Pa · s or more. The polymer material is kept in a solid state at room temperature and has a certain transparency. The volatile organic solvent includes alcohol, methyl alcohol, acetone, dichloroethane, chloroform and the like. The polymer material is a transparent polymer material such as polystyrene, polyethylene, polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), benzocyclobutene (BCB), or cycloolefin polymer. Can be used. In this embodiment, the polymer material is PMMA.
次に前記高分子材料溶液層の上にカーボンナノチューブ構造体を設置して、且つ熱圧、冷圧又は前記カーボンナノチューブ構造体に対してエアを噴出する等の方法を用いて、前記高分子材料溶液を前記カーボンナノチューブ構造体に均一に分散させる。 Next, the carbon nanotube structure is placed on the polymer material solution layer, and the polymer material is heated using a method such as hot pressure, cold pressure, or jetting air to the carbon nanotube structure. The solution is uniformly dispersed in the carbon nanotube structure.
図５を参照すると、本実施形態は、熱圧の方法を用いて、前記高分子材料溶液を前記カーボンナノチューブ構造体に均一に分散させる。該方法は、熱圧装置５０を通して実現され、具体的に次のステップを含む。 Referring to FIG. 5, in the present embodiment, the polymer material solution is uniformly dispersed in the carbon nanotube structure using a hot pressing method. The method is realized through the hot pressing device 50, and specifically includes the following steps.
（ａ）少なくとも１つの前記カーボンナノチューブ構造体及び高分子材料溶液層が被覆された第一基材２０６を押しロールを有する熱圧装置５０内に配置する。 (A) The first base material 206 coated with at least one of the carbon nanotube structure and the polymer material solution layer is placed in a hot-pressing apparatus 50 having a push roll.
前記熱圧装置５０は、加圧装置５２及び加熱装置（図示せず）を備える。本実施形態において、前記熱圧装置５０は、熱圧機又は封止機であり、前記加圧装置５２は、２つの金属製押しロールからなる。 The hot-pressing device 50 includes a pressurizing device 52 and a heating device (not shown). In the present embodiment, the hot-pressing device 50 is a hot-pressing machine or a sealing machine, and the pressurizing device 52 includes two metal push rolls.
（ｂ）前記熱圧装置５０の押しロールを加熱する。詳しくは、前記熱圧装置５０における加熱装置を用いて、前記押しロールを加熱する。前記加熱の温度は、限定されなく、実際の要求によって選択することができる。本実施形態において、前記加熱の温度が１１０℃〜１２０℃である。 (B) The push roll of the hot press 50 is heated. Specifically, the pressing roll is heated using a heating device in the hot-pressing device 50. The heating temperature is not limited and can be selected according to actual requirements. In this embodiment, the heating temperature is 110 ° C to 120 ° C.
（ｃ）前記カーボンナノチューブ構造体及び高分子材料溶液層が被覆された第一基材２０６を前記加熱された押しロールを通過させる。 (C) The heated push roll is passed through the first base material 206 coated with the carbon nanotube structure and the polymer material solution layer.
前記カーボンナノチューブ構造体及び高分子材料溶液層が被覆された第一基材２０６を前記加熱された２つの押しロールの間に挿入し、且つ１ｍｍ／分〜１０ｍ／分の速度で通過させる。加熱された押しロールは、前記カーボンナノチューブ構造体及び高分子材料溶液層が被覆された第一基材２０６に一定の圧力を加え、且つ前記カーボンナノチューブ構造体及び高分子材料溶液層を軟化させることによって、前記カーボンナノチューブ構造体と高分子材料溶液層との間の空気を排出させ、従って前記高分子材料溶液を前記カーボンナノチューブ構造体に均一に分散させる。 The first substrate 206 coated with the carbon nanotube structure and the polymer material solution layer is inserted between the two heated push rolls and passed at a speed of 1 mm / min to 10 m / min. The heated push roll applies a certain pressure to the first base material 206 coated with the carbon nanotube structure and the polymer material solution layer, and softens the carbon nanotube structure and the polymer material solution layer. Accordingly, air between the carbon nanotube structure and the polymer material solution layer is discharged, and thus the polymer material solution is uniformly dispersed in the carbon nanotube structure.
最後に、前記カーボンナノチューブ構造体及び高分子材料溶液層を固化させて、第一透明導電構造体２０８とするカーボンナノチューブ複合層を形成する。前記高分子材料溶液層は、接着剤として、前記カーボンナノチューブ構造体を前記第一基材２０６の表面にしっかり接着させることができる。 Finally, the carbon nanotube structure and the polymer material solution layer are solidified to form a carbon nanotube composite layer serving as the first transparent conductive structure 208. The polymer material solution layer can firmly adhere the carbon nanotube structure to the surface of the first substrate 206 as an adhesive.
（Ｃ）前記熱圧されたカーボンナノチューブ構造体又は第一基材２０６の両端に２つの電極（図示せず）を分離して設置して第一電極板２０２を形成する。 (C) Two electrodes (not shown) are installed separately on both ends of the hot-pressed carbon nanotube structure or the first substrate 206 to form the first electrode plate 202.
前記２つの電極の材料は、金属、カーボンナノチューブフィルム、導電銀ペースト又は他の導電材料である。本実施形態において、前記２つの電極の材料は導電銀ペーストである。前記２つの電極の形成方法は、次の通りである。先ず、スクリーン印刷、転印又はスパッタリングなどにより、前記カーボンナノチューブ構造体又は第一基材２０６の両端にそれぞれ導電銀ペーストを塗布する。その後、加熱装置に入れて１００℃〜１２０℃の温度で１０〜６０分間加熱することにより、前記導電銀ペーストを固化させて前記２つの電極を得る。前記方法により電極を形成するには、前記２つの電極が前記カーボンナノチューブ構造体に接続されることを確保する必要がある。 The material of the two electrodes is metal, carbon nanotube film, conductive silver paste or other conductive material. In this embodiment, the material of the two electrodes is a conductive silver paste. The method for forming the two electrodes is as follows. First, a conductive silver paste is applied to both ends of the carbon nanotube structure or the first substrate 206 by screen printing, imprinting, sputtering, or the like. Thereafter, the conductive silver paste is solidified by heating in a heating device at a temperature of 100 ° C. to 120 ° C. for 10 to 60 minutes to obtain the two electrodes. In order to form an electrode by the method, it is necessary to ensure that the two electrodes are connected to the carbon nanotube structure.
（Ｄ）対向する２つの表面を有する第二基材２１０を提供して、該第二基材２１０の一表面に第二透明導電構造体２１２とするカーボンナノチューブ構造体を形成して、該カーボンナノチューブ構造体又は第二基材２１０の両端に２つの電極（図示せず）を分離して設置して第二電極板２０４を形成する。 (D) providing a second substrate 210 having two opposite surfaces, forming a carbon nanotube structure as a second transparent conductive structure 212 on one surface of the second substrate 210, and Two electrodes (not shown) are separately installed on both ends of the nanotube structure or the second base 210 to form the second electrode plate 204.
前記第二基材２１０は、透明な平面構造である。前記第二基材２１０の厚さは、０．０１ｍｍ〜１ｃｍであり、その面積は、限定されず、実際の要求に基づいて選択することができる。前記第二基材２１０は、硬質材料又は柔軟性材料を用いることができる。前記硬質材料は、ガラス、石英、ダイヤモンド又はプラスチック等の一種又は多種である。前記柔軟性材料は、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＰＩ）、繊維素エステル（Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ Ｅｓｔｅｒ）、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）及びアクリル酸（Ａｃｒｙｌｉｃ Ａｃｉｄ）樹脂の一種又は多種である。前記第二基材２１０の材料は、上述した材料に限定されることはなく、一定の透明度を有する材料であればよい。 The second substrate 210 has a transparent planar structure. The thickness of the second substrate 210 is 0.01 mm to 1 cm, and the area thereof is not limited and can be selected based on actual requirements. The second substrate 210 may be made of a hard material or a flexible material. The hard material may be one or various types such as glass, quartz, diamond, or plastic. The flexible material is polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), polyimide (Polyimide, PI), cellulose ester (Cellulose Ester), benzocyclobutene One or more of (BCB), polyvinyl chloride (PVC), and acrylic acid resin. The material of the second substrate 210 is not limited to the above-described material, and any material having a certain transparency may be used.
本実施形態において、前記第二基材２１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）薄膜（以下はＰＥＴ薄膜と呼ぶ）である。前記ＰＥＴ薄膜は、厚さが２ｍｍで、幅が２０ｃｍで、長さが３０ｃｍである。 In the present embodiment, the second substrate 210 is a polyethylene terephthalate (PET) thin film (hereinafter referred to as a PET thin film). The PET thin film has a thickness of 2 mm, a width of 20 cm, and a length of 30 cm.
前記第二基材２１０の一表面にカーボンナノチューブ構造体を形成する工程及び該カーボンナノチューブ構造体又は第二基材２１０の両端に２つの電極を分離して形成する工程は、前述した工程における前記第一基材２０６の一表面にカーボンナノチューブ構造体を形成する工程及び該カーボンナノチューブ構造体又は第一基材２０６の両端に２つの電極を分離して形成する工程と同じ方法を採用する。 The step of forming a carbon nanotube structure on one surface of the second substrate 210 and the step of separating and forming two electrodes on both ends of the carbon nanotube structure or the second substrate 210 are the steps in the above-described steps. The same method as the step of forming the carbon nanotube structure on one surface of the first substrate 206 and the step of separating and forming two electrodes on both ends of the carbon nanotube structure or the first substrate 206 are employed.
（Ｅ）前記第一電極板２０２と前記第二電極板２０４を封止してタッチパネル２００を得る。該工程は、下記のステップを含む。 (E) The first electrode plate 202 and the second electrode plate 204 are sealed to obtain the touch panel 200. The process includes the following steps.
（ａ）前記第二電極板２０４の第二透明導電構造体２１２の周縁に絶縁層２１４を形成する。 (A) An insulating layer 214 is formed on the periphery of the second transparent conductive structure 212 of the second electrode plate 204.
前記絶縁層２１４は、透明な絶縁性樹脂又は他の透明な絶縁性材料によって形成される。前記絶縁層２１４形成方法は、前記第二電極板２０４の第二透明導電構造体２１２の周縁に絶縁性接着剤を塗布することである。前記絶縁性接着剤は、前記絶縁層２１４を形成するのに用いられる。 The insulating layer 214 is formed of a transparent insulating resin or other transparent insulating material. The insulating layer 214 is formed by applying an insulating adhesive to the periphery of the second transparent conductive structure 212 of the second electrode plate 204. The insulating adhesive is used to form the insulating layer 214.
（ｂ）前記第一透明導電構造体２０８と前記第二透明導電構造体２１２とが互いに向き合うように前記第一電極板２０２を前記絶縁層２１４の上に設置してタッチパネル２００を得る。 (B) The touch panel 200 is obtained by installing the first electrode plate 202 on the insulating layer 214 so that the first transparent conductive structure 208 and the second transparent conductive structure 212 face each other.
該工程において、前記第一電極板２０２における２つの電極と、前記第二電極板２０４における２つの電極とは、互いに交差して設置される。 In this step, the two electrodes on the first electrode plate 202 and the two electrodes on the second electrode plate 204 are installed so as to cross each other.
本実施形態は、前記第一電極板２０２を前記絶縁層２１４の上に設置する前に、前記第一電極板２０２と前記第二電極板２０４との間に複数の透明ドットスペーサ２１６を形成する工程を更に含むことができる。前記透明ドットスペーサ２１６の形成方法は、次のようである。前記複数の透明ドットスペーサ２１６を含むスラリーを前記第二電極板２０４の絶縁層２１４以外の領域に塗布して乾燥させて前記透明ドットスペーサ２１６を得る。前記絶縁層２１４及び前記透明ドットスペーサ２１６は、皆透明な絶縁性樹脂又は他の透明な絶縁性材料によって形成される。前記絶縁層２１４及び前記透明ドットスペーサ２１６を設置することによって、前記第一電極板２０２と前記第二電極板２０４とを電気的に絶縁させる。タッチパネル２００のサイズが小さい場合、前記第一電極板２０２と前記第二電極板２０４との絶縁を確保できれば、前記透明ドットスペーサ２１６を省略することができる。 In the present embodiment, a plurality of transparent dot spacers 216 are formed between the first electrode plate 202 and the second electrode plate 204 before the first electrode plate 202 is installed on the insulating layer 214. A process can further be included. The method for forming the transparent dot spacer 216 is as follows. A slurry including the plurality of transparent dot spacers 216 is applied to a region other than the insulating layer 214 of the second electrode plate 204 and dried to obtain the transparent dot spacers 216. The insulating layer 214 and the transparent dot spacer 216 are all formed of a transparent insulating resin or other transparent insulating material. By installing the insulating layer 214 and the transparent dot spacer 216, the first electrode plate 202 and the second electrode plate 204 are electrically insulated. When the size of the touch panel 200 is small, the transparent dot spacer 216 can be omitted if the insulation between the first electrode plate 202 and the second electrode plate 204 can be secured.
又、本実施形態は、前記第一電極板２０２の第一透明導電構造体２０８の周縁に絶縁層２１４を形成した後に、前記第二電極板２０４を前記絶縁層２１４の上に設置してタッチパネル２００を得ることもできる。 In the present embodiment, after the insulating layer 214 is formed on the periphery of the first transparent conductive structure 208 of the first electrode plate 202, the second electrode plate 204 is installed on the insulating layer 214 to touch the touch panel. 200 can also be obtained.
また、前記タッチパネル２００を製造した後、前記タッチパネル２００の第一基材２０６の他表面に透明保護膜２１８を更に設置して、前記タッチパネル２００を保護して耐用性を高めることができる。前記透明保護膜２１８は、窒化ケイ素、酸化ケイ素、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）、ポリエステル及びアクリル酸樹脂の一種又は多種で形成される。また、前記透明保護膜２１８は、表面硬化処理により平滑で耐摩耗のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）膜のようなプラスチック層を用いてもよろしい。前記透明保護膜２１８は、グレアや反射を低減させるなどの付加機能を提供することができる。本実施形態において、前記透明保護膜２１８は、粘性を有するＰＥＴ膜を採用して、前記第一基材２０６の第一透明導電構造体２０８から離れた表面に直接接着されることができる。 In addition, after the touch panel 200 is manufactured, a transparent protective film 218 may be further provided on the other surface of the first base material 206 of the touch panel 200 to protect the touch panel 200 and improve durability. The transparent protective film 218 is formed of one or more of silicon nitride, silicon oxide, benzocyclobutene (BCB), polyester, and acrylic resin. The transparent protective film 218 may be a plastic layer such as a polyethylene terephthalate (PET) film that is smooth and wear-resistant by surface hardening treatment. The transparent protective film 218 can provide additional functions such as reducing glare and reflection. In the present embodiment, the transparent protective film 218 may be directly adhered to the surface of the first base material 206 away from the first transparent conductive structure 208 using a PET film having viscosity.
（二）図６に示したように、前記タッチパネル２００の第二基材２１０の第二透明導電構造体２１２から離れた表面に偏光層２２０を形成する。 (2) As shown in FIG. 6, the polarizing layer 220 is formed on the surface of the second substrate 210 of the touch panel 200 away from the second transparent conductive structure 212.
前記偏光層２２０は、カーボンナノチューブ構造体である。前記偏光層２２０は、無間隔且つ平行に設置され、又は積層設置された複数の配向型のカーボンナノチューブフィルムを含み、且つ隣接する２枚の配向型のカーボンナノチューブフィルムにおけるカーボンナノチューブの配列方向は同じである。前記配向型のカーボンナノチューブフィルムは、端と端で接続され、且つ優先方位に配列される複数のカーボンナノチューブを含む。前記複数のカーボンナノチューブは、ファンデルワース力によって結合される。端と端で接続されるカーボンナノチューブはファンデルワース力によって接続される一方、優先方位に配列されるカーボンナノチューブは部分的にファンデルワース力によって結合される。そのため、前記配向型のカーボンナノチューブフィルムは、優れた自立支持性及び強靭性を有する。 The polarizing layer 220 is a carbon nanotube structure. The polarizing layer 220 includes a plurality of orientation-type carbon nanotube films that are arranged in parallel with each other without being spaced apart, and the alignment direction of the carbon nanotubes in the two adjacent orientation-type carbon nanotube films is the same. It is. The oriented carbon nanotube film includes a plurality of carbon nanotubes that are connected at the ends and are arranged in a preferred orientation. The plurality of carbon nanotubes are bonded together by van der Waals force. The carbon nanotubes connected at the ends are connected by van der Waals forces, while the carbon nanotubes arranged in the preferred orientation are partially coupled by van der Waals forces. Therefore, the oriented carbon nanotube film has excellent self-supporting support and toughness.
前記第二基材２１０の表面にカーボンナノチューブ構造体を形成する方法は、前述した工程における前記第一基材２０６の表面にカーボンナノチューブ構造体を形成する方法とは大体同じである。その区別は、前者の場合、配向型のカーボンナノチューブフィルムを用いてカーボンナノチューブ構造体を形成する必要があり、且つ該カーボンナノチューブ構造体において、隣接する２枚の配向型のカーボンナノチューブフィルムにおけるカーボンナノチューブの配列方向は同じである。前記偏光層２２０の厚さは１００μｍ〜１ｍｍである。 The method of forming the carbon nanotube structure on the surface of the second substrate 210 is substantially the same as the method of forming the carbon nanotube structure on the surface of the first substrate 206 in the above-described process. In the former case, it is necessary to form a carbon nanotube structure using an oriented carbon nanotube film, and in the carbon nanotube structure, the carbon nanotubes in two adjacent oriented carbon nanotube films are used. Are arranged in the same direction. The polarizing layer 220 has a thickness of 100 μm to 1 mm.
前記カーボンナノチューブは優れた導電性を有し、且つ前記偏光層２２０は同一方向に沿って配列される複数のカーボンナノチューブを含むため、前記偏光層２２０は、同時に透明電極及び偏光層の機能を備える。 Since the carbon nanotube has excellent conductivity and the polarizing layer 220 includes a plurality of carbon nanotubes arranged in the same direction, the polarizing layer 220 has a function of a transparent electrode and a polarizing layer at the same time. .
（三）前記偏光層２２０の表面に第一配向層２２２を形成して上基板２０を得る。 (3) The first alignment layer 222 is formed on the surface of the polarizing layer 220 to obtain the upper substrate 20.
前記第一配向層２２２の製造方法は、主に下記のサブステップを含む。 The method for manufacturing the first alignment layer 222 mainly includes the following sub-steps.
先ず、前記偏光層２２０の表面に配向膜を形成する。前記配向膜の材料としては、ポリスチレン（ＰＳ）及びその誘導体（Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリエステル（Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、エポキシ樹脂（Ｅｐｏｘｙ Ｒｅｓｉｎ）、ポリウレタン（Ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅｓ）、ポリシラン（Ｐｏｌｙｓｉｌａｎｅ）等の一種又は二種を用いる。前記配向膜の形成方法は、スクリーン印刷法又はスパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法等を採用することができる。本実施形態においては、スパッタリング法を用いて前記偏光層２２０の表面に配向膜とするポリイミド層を形成する。 First, an alignment film is formed on the surface of the polarizing layer 220. Examples of the material for the alignment film include polystyrene (PS) and its derivatives (Derivative), polyimide (Polyimide), polyvinyl alcohol (PVA), polyester (Polyester), epoxy resin (Epoxy Resin), polyurethane (Polyurethanes), and polysilane (Polysilane). ) Etc. are used. As a method for forming the alignment film, a screen printing method, a sputtering method, or the like can be employed. In this embodiment, a polyimide layer serving as an alignment film is formed on the surface of the polarizing layer 220 by using a sputtering method.
次に、前記配向膜の表面に複数の微細溝を形成して第一配向層２２２を形成する。前記複数の微細溝を形成するのに、ラビング法、ＳｉＯｘ膜斜方蒸着法、又は膜の表面に対して微細溝処理する方法（Ｍｉｃｒｏ−Ｇｒｏｏｖｅｓ Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ Ｍｅｔｈｏｄ）等を採用することができる。前記第一配向層２２２を省略してもよいため、その形成工程を省略することもできる。 Next, the first alignment layer 222 is formed by forming a plurality of fine grooves on the surface of the alignment film. In order to form the plurality of fine grooves, a rubbing method, an SiOx film oblique vapor deposition method, a method of treating the surface of the film with a fine groove (Micro-Grooves Treatment Method), or the like can be employed. Since the first alignment layer 222 may be omitted, the formation process can be omitted.
第二ステップ：下基板３０を製造する。図７を参照すると。該製造方法は、具体的に下記のステップを含む。 Second step: The lower substrate 30 is manufactured. Referring to FIG. The manufacturing method specifically includes the following steps.
（一）薄膜トランジスタパネル３００を製造する。該製造方法は、具体的に下記のサブステップを含む。 (1) The thin film transistor panel 300 is manufactured. The manufacturing method specifically includes the following sub-steps.
（Ａ）対向する２つの表面を有する第三基材３０２を提供する。 (A) A third substrate 302 having two opposing surfaces is provided.
前記第三基材３０２の材料及び寸法は、前記第二基材２１０と同じである。 The material and dimensions of the third substrate 302 are the same as those of the second substrate 210.
（Ｂ）前記第三基材３０２の一表面に薄膜トランジスタアレイ３０４を形成して薄膜トランジスタパネル３００を得る。 (B) A thin film transistor array 304 is formed on one surface of the third substrate 302 to obtain a thin film transistor panel 300.
前記薄膜トランジスタアレイ３０４は、非晶質ケイ素薄膜トランジスタ、多晶質ケイ素薄膜トランジスタ、有機薄膜トランジスタ又は酸化亜鉛薄膜トランジスタなどを含むことができる。前記薄膜トランジスタアレイ３０４を形成する方法は、限定されたものではない。本実施形態において、前記薄膜トランジスタアレイ３０４は、多晶質ケイ素薄膜トランジスタアレイである。 The thin film transistor array 304 may include an amorphous silicon thin film transistor, a polycrystalline silicon thin film transistor, an organic thin film transistor, or a zinc oxide thin film transistor. A method of forming the thin film transistor array 304 is not limited. In the present embodiment, the thin film transistor array 304 is a polycrystalline silicon thin film transistor array.
(二)前記薄膜トランジスタアレイ３０４の上に被覆する第二配向層３０６を形成する。 (2) A second alignment layer 306 covering the thin film transistor array 304 is formed.
前記薄膜トランジスタアレイ３０４の上に被覆する第二配向層３０６を形成する方法は、前記偏光層２２０の表面に第一配向層２２２を形成する方法とは同じである。前記第二配向層３０６を省略してもよいため、その形成工程を省略することもできる。 The method of forming the second alignment layer 306 covering the thin film transistor array 304 is the same as the method of forming the first alignment layer 222 on the surface of the polarizing layer 220. Since the second alignment layer 306 may be omitted, the formation process can be omitted.
(三)前記第三基材３０２の前記薄膜トランジスタアレイ３０４から離れた一表面に偏光片３０８を設置して下基板３０を形成する。 (3) A polarizing plate 308 is placed on one surface of the third base material 302 away from the thin film transistor array 304 to form the lower substrate 30.
前記偏光片３０８は、金属偏光片、ヨード系偏光片、染料系偏光片又はポリエチレン偏光片を用いることができる。前記偏光片３０８は、透明な接着剤によって前記第三基材３０２の前記薄膜トランジスタアレイ３０４から離れた一表面に接着され、且つ前記偏光片３０８の偏光方向は前記偏光層２２０の偏光方向とお互い直交する。前記偏光片３０８の厚さは、１０μｍ〜１０００μｍである。偏光光源を用いる場合、前記偏光片３０８を省略してもよいため、その形成工程を省略することもできる。 The polarizing piece 308 may be a metal polarizing piece, an iodine polarizing piece, a dye polarizing piece, or a polyethylene polarizing piece. The polarizing piece 308 is bonded to one surface of the third substrate 302 away from the thin film transistor array 304 with a transparent adhesive, and the polarization direction of the polarizing piece 308 is orthogonal to the polarization direction of the polarizing layer 220. To do. The polarizing piece 308 has a thickness of 10 μm to 1000 μm. In the case of using a polarized light source, the polarizing piece 308 may be omitted, and thus the formation process can be omitted.
第三ステップ：前記上基板２０の第一配向層２２２と前記下基板３０の第二配向層３０６との間に液晶層４０を設置してサンドイッチ構造を形成することにより、タッチパネルを利用した液晶表示パネル１０を形成する。 Third step: a liquid crystal display using a touch panel by forming a sandwich structure by installing the liquid crystal layer 40 between the first alignment layer 222 of the upper substrate 20 and the second alignment layer 306 of the lower substrate 30. Panel 10 is formed.
前記上基板２０の第一配向層２２２と前記下基板３０の第二配向層３０６との間に液晶層４０を設置してサンドイッチ構造を形成する方法は、具体的に下記のステップを含む。 The method of forming the sandwich structure by placing the liquid crystal layer 40 between the first alignment layer 222 of the upper substrate 20 and the second alignment layer 306 of the lower substrate 30 specifically includes the following steps.
先ず、前記上基板２０の第一配向層２２２又は前記下基板３０の第二配向層３０６の表面に液晶材料を滴下させて液晶層４０を形成する。本実施形態において、滴管で一定量の液晶材料を吸取って、前記下基板３０第二配向層３０６の表面に滴下させて液晶層４０を形成する。前記液晶層４０は、複数の棒状液晶分子を含む。 First, a liquid crystal material is dropped on the surface of the first alignment layer 222 of the upper substrate 20 or the second alignment layer 306 of the lower substrate 30 to form the liquid crystal layer 40. In this embodiment, the liquid crystal layer 40 is formed by sucking a certain amount of liquid crystal material with a drop tube and dropping it onto the surface of the second alignment layer 306 of the lower substrate 30. The liquid crystal layer 40 includes a plurality of rod-like liquid crystal molecules.
次に、前記上基板２０の第一配向層２２２側が前記液晶層４０に隣接するようにして、前記上基板２０を前記液晶層４０の上に設置する。且つ、この時、前記上基板２０の第一配向層２２２における微細溝の延伸方向と前記下基板３０の第二配向層３０６における微細溝の延伸方向とがお互い垂直する。 Next, the upper substrate 20 is placed on the liquid crystal layer 40 so that the first alignment layer 222 side of the upper substrate 20 is adjacent to the liquid crystal layer 40. At this time, the extending direction of the fine grooves in the first alignment layer 222 of the upper substrate 20 and the extending direction of the fine grooves in the second alignment layer 306 of the lower substrate 30 are perpendicular to each other.
最後に、前記上基板２０及び前記下基板３０の周縁を封止剤で密封する。本実施形態において、前記封止剤は、７０６Ｂ型号の硫化ケイ素ゴムである。前記封止剤を対向設置された前記上基板２０及び前記下基板３０の周縁に塗布して、一日放置すると凝固する。 Finally, the periphery of the upper substrate 20 and the lower substrate 30 is sealed with a sealant. In the present embodiment, the sealant is 706B type silicon sulfide rubber. The sealing agent is applied to the peripheral edges of the upper substrate 20 and the lower substrate 30 facing each other and solidifies when left for a day.
本実施形態は、また、次の方法によって、前記上基板２０の第一配向層２２２と前記下基板３０の第二配向層３０６との間に液晶層４０を設置してサンドイッチ構造を形成することができる。該方法は、具体的に下記のステップを含む。 In the present embodiment, a sandwich structure is formed by installing the liquid crystal layer 40 between the first alignment layer 222 of the upper substrate 20 and the second alignment layer 306 of the lower substrate 30 by the following method. Can do. The method specifically includes the following steps.
先ず、第一配向層２２２が第二配向層３０６と対向するように、前記上基板２０及び前記下基板３０を平行且つ間隔的に設置する。 First, the upper substrate 20 and the lower substrate 30 are arranged in parallel and at intervals so that the first alignment layer 222 faces the second alignment layer 306.
次に、１つの孔を残して前記上基板２０及び前記下基板３０の周縁を封止剤で密封する。 Next, the periphery of the upper substrate 20 and the lower substrate 30 is sealed with a sealant, leaving one hole.
最後に、前記残された孔を通して、前記上基板２０と前記下基板３０との間に一定量の液晶材料を注入して液晶層４０を形成し、且つ密封することによりタッチパネルを利用した液晶表示パネル１０を得る。 Finally, a predetermined amount of liquid crystal material is injected between the upper substrate 20 and the lower substrate 30 through the remaining holes to form a liquid crystal layer 40 and sealed, thereby liquid crystal display using a touch panel Panel 10 is obtained.
更に、前記上基板２０と前記下基板３０との間の距離を保持するために、液晶層４０を設置する前に前記上基板２０と前記下基板３０の間に複数の透明スペーサ(図示せず)を設置する。前記透明スペーサの材料及び寸法は、実際の要求によって選択することができる。本実施形態において、前記透明スペーサの形成方法は次のようである。先ず、１μｍ〜１０μｍのポリエチレン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ、ＰＥ）粒子を超音波分散により無水アルコールに分散させて溶液を得る。次に、滴管で少量の該溶液を吸取って、前記下基板３０の第二配向層３０６の表面に滴下させる。前記滴下された溶液におけるアルコールが揮発すると、残されたＰＥ粒子はスペーサとして働く。 Further, in order to maintain a distance between the upper substrate 20 and the lower substrate 30, a plurality of transparent spacers (not shown) are provided between the upper substrate 20 and the lower substrate 30 before the liquid crystal layer 40 is installed. ). The material and dimensions of the transparent spacer can be selected according to actual requirements. In the present embodiment, the method for forming the transparent spacer is as follows. First, polyethylene (Polyethylene, PE) particles of 1 μm to 10 μm are dispersed in anhydrous alcohol by ultrasonic dispersion to obtain a solution. Next, a small amount of the solution is sucked with a drop tube and dropped onto the surface of the second alignment layer 306 of the lower substrate 30. When alcohol in the dropped solution volatilizes, the remaining PE particles act as spacers.
本発明から提供されたタッチパネルを利用した液晶表示パネル１０の製造方法は、次のような利点がある。第一、カーボンナノチューブ構造体は、優れた力学性能及び耐湾曲性を有するので、カーボンナノチューブを含む透明導電構造体は、優れた靱性と機械強度を有する。又、柔軟性基材と組み合わせると、柔軟性タッチパネルを利用した液晶表示パネル１０を製造することができ、従って柔軟性表示装置に適用される。第二、本発明から提供されたカーボンナノチューブフィルムは、引き出し工具を利用して、カーボンナノチューブアレイから引き出して得られたものであるため、その製造過程において、真空環境及び加熱工程が要らない。従って、上述した方法で製造されたカーボンナノチューブフィルムを透明導電構造体としたタッチパネルを利用した液晶表示パネルは、製造コストが低く、且つ環境保護及び省エネルギーの面にも優れている。第三、前記偏光層におけるカーボンナノチューブは、同一方向に配列され、光を偏光させることができるので、それを採用するとタッチパネルを利用した液晶表示パネルの構造の簡素化を図ることができる。第四、本発明から提供されたカーボンナノチューブフィルムは、熱圧着法を通して基材に圧着されることができるので、製造コストを減少させ、且つ製造工程を簡単にすることができる。更に、本発明の熱圧着工程は温度に対する要求が低いので、基材の材料を選択する時、温度に対する限定は小さい。 The manufacturing method of the liquid crystal display panel 10 using the touch panel provided from the present invention has the following advantages. First, since the carbon nanotube structure has excellent mechanical performance and bending resistance, the transparent conductive structure including the carbon nanotube has excellent toughness and mechanical strength. Further, when combined with a flexible base material, the liquid crystal display panel 10 using a flexible touch panel can be manufactured, and thus applied to a flexible display device. Second, since the carbon nanotube film provided by the present invention is obtained by pulling out from the carbon nanotube array using a drawing tool, a vacuum environment and a heating step are not required in the manufacturing process. Therefore, a liquid crystal display panel using a touch panel using the carbon nanotube film manufactured by the above-described method as a transparent conductive structure is low in manufacturing cost and excellent in environmental protection and energy saving. Third, since the carbon nanotubes in the polarizing layer can be arranged in the same direction and can polarize light, the use of the carbon nanotube can simplify the structure of a liquid crystal display panel using a touch panel. Fourth, since the carbon nanotube film provided from the present invention can be pressure-bonded to the substrate through a thermocompression bonding method, the manufacturing cost can be reduced and the manufacturing process can be simplified. Further, since the thermocompression bonding process of the present invention has a low requirement for temperature, the limitation on temperature is small when selecting the material of the substrate.
１０ タッチパネルを利用した液晶表示パネル
２０ 上基板
２００ タッチパネル
２０２ 第一電極板
２０４ 第二電極板
２０６ 第一基材
２０８ 第一透明導電構造体
２１０ 第二基材
２１２ 第二透明導電構造体
２１４ 絶縁層
２１６ 透明ドットスペーサ
２１８ 透明保護膜
２２０ 偏光層
２２２ 第一配向層
３０ 下基板
３００ 薄膜トランジスタパネル
３０２ 第三基材
３０４ 薄膜トランジスタアレイ
３０６ 第二配向層
３０８ 偏光片
４０ 液晶層
５０ 熱圧装置
５２ 加圧装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Liquid crystal display panel using a touch panel 20 Upper substrate 200 Touch panel 202 First electrode plate 204 Second electrode plate 206 First base material 208 First transparent conductive structure 210 Second base material 212 Second transparent conductive structure 214 Insulating layer 216 Transparent dot spacer 218 Transparent protective film 220 Polarizing layer 222 First alignment layer 30 Lower substrate 300 Thin film transistor panel 302 Third substrate 304 Thin film transistor array 306 Second alignment layer 308 Polarizing strip 40 Liquid crystal layer 50 Hot press device 52 Pressure device
Claims (5)
前記タッチパネルの一表面に偏光層を形成する第二ステップと、
複数の薄膜トランジスタを備える薄膜トランジスタパネルを製造する第三ステップと、
前記偏光層と前記薄膜トランジスタパネルとの間に液晶層を設置する第四ステップと、
を含み、
前記カーボンナノチューブ構造体は、少なくとも一枚のカーボンナノチューブフィルムを含み、前記カーボンナノチューブフィルムは、複数のカーボンナノチューブからなり、
前記第二ステップにおいて形成された偏光層は、同時に透明電極及び偏光層の機能を備えることを特徴とするタッチパネルを利用した液晶表示パネルの製造方法。 A first step of manufacturing a touch panel having a carbon nanotube structure;
A second step of forming a polarizing layer on one surface of the touch panel;
A third step of manufacturing a thin film transistor panel comprising a plurality of thin film transistors;
A fourth step of installing a liquid crystal layer between the polarizing layer and the thin film transistor panel;
Including
The carbon nanotube structure comprises at least one carbon nanotube film, the carbon nanotube film is Ri Do a plurality of carbon nanotubes,
The method for manufacturing a liquid crystal display panel using a touch panel, wherein the polarizing layer formed in the second step has functions of a transparent electrode and a polarizing layer at the same time .
第一基材を提供する第一サブステップと、
前記第一基材の一表面に少なくとも１枚のカーボンナノチューブフィルムを張設して第一カーボンナノチューブ構造体を形成する第二サブステップと、
前記カーボンナノチューブ構造体の両端に２つの電極を分離して設置して、第一電極板を形成する第三サブステップと、
第二基材を提供する第四サブステップと、
前記第二基材の一表面に少なくとも１枚のカーボンナノチューブフィルムを張設して第二カーボンナノチューブ構造体を形成する第五サブステップと、
前記カーボンナノチューブ構造体の両端に２つの電極を分離して設置して、第二電極板を形成する第六サブステップと、
前記第一電極板又は第二電極板のカーボンナノチューブ構造体の周縁に絶縁層を形成する第七サブステップと、
前記第一カーボンナノチューブ構造体と前記第二カーボンナノチューブ構造体とが隣接するように、前記第二電極板と第一電極板とを対向して設置する第八サブステップと、
を含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネルを利用した液晶表示パネルの製造方法。 The method of manufacturing the touch panel includes:
A first sub-step of providing a first substrate;
A second sub-step of forming a first carbon nanotube structure by stretching at least one carbon nanotube film on one surface of the first substrate;
A third sub-step of separating and installing two electrodes at both ends of the carbon nanotube structure to form a first electrode plate;
A fourth sub-step of providing a second substrate;
A fifth sub-step of forming at least one carbon nanotube film on one surface of the second substrate to form a second carbon nanotube structure;
A sixth sub-step of separately installing two electrodes on both ends of the carbon nanotube structure to form a second electrode plate;
A seventh sub-step of forming an insulating layer on the periphery of the carbon nanotube structure of the first electrode plate or the second electrode plate;
An eighth sub-step of placing the second electrode plate and the first electrode plate facing each other so that the first carbon nanotube structure and the second carbon nanotube structure are adjacent to each other;
The manufacturing method of the liquid crystal display panel using the touchscreen of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
カーボンナノチューブアレイを提供する第一サブステップと、
前記カーボンナノチューブアレイから複数のカーボンナノチューブを選択する第二サブステップと、
前記カーボンナノチューブアレイの成長方向と直交する方向に沿って前記複数のカーボンナノチューブを引き出す第三サブステップと、
を含む特徴とする請求項１に記載のタッチパネルを利用した液晶表示パネルの製造方法。 The method for producing the carbon nanotube film includes:
A first sub-step of providing a carbon nanotube array;
A second sub-step of selecting a plurality of carbon nanotubes from the carbon nanotube array;
A third sub-step for pulling out the plurality of carbon nanotubes along a direction orthogonal to the growth direction of the carbon nanotube array;
The manufacturing method of the liquid crystal display panel using the touchscreen of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
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