JP5467531B2 - 表示素子の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Description
そこで、基板に対しても高精度に表示素子を形成するため、高精度に位置検出できる表示素子用の製造装置を提供する。
さらに、本発明の表示素子の製造方法は、長尺の可撓性のシート基板上に表示素子を形成する製造方法であって、前記長尺の方向に沿って所定間隔で複数の基準マークが形成された前記シート基板を、回転する搬送ローラの表面に所定の角度で密着させて、前記長尺の方向に所定の速度で搬送する工程と、前記シート基板の前記搬送ローラに密着している領域であって、前記長尺の方向に所定距離だけ離れた位置の各々に視野が設定される第1アライメント系と第2アライメント系とによって、前記基準マークを検出する工程と、前記第1アライメント系と第2アライメント系による検出結果に基づいて、前記シート基板の前記長尺の方向に関する伸縮、又は前記シート基板の搬送速度を算出する工程と、前記算出された前記伸縮と前記搬送速度の少なくとも一方と、前記基準マークの位置とに基づいて、前記シート基板上の所定領域に前記表示素子を形成する為の処理を施す工程と、を含むことを有する。
この製造方法により、基板の所定方向の伸縮を把握することができ、その伸縮に応じて基板に処理を施すことができるため、熱などによって基板が伸縮した場合であっても正確に基板を処理することができる。
この製造装置により、基板の所定方向の伸縮又は搬送速度を把握することができ、その伸縮又は搬送速度に応じて基板に処理を施すことができるため、正確に基板を処理することができる。
図1(a)は、有機EL素子50の拡大上面図であり、図1(b)及び(c)は、(a)のb−b断面図及びc−c断面図である。有機EL素子50はボトムコンタクト型である。有機EL素子50は、可撓性のシート基板FB(以下はシート基板FBとする)にゲート電極G、ゲート絶縁層I、ソース電極S、ドレイン電極D、画素電極P及び有機半導体層OSが形成される。
図2は、シート基板FBに、図1で示した画素電極P及び発光層IRなど有する有機EL素子50を製造する製造装置100の構成を示した概略図である。
供給ロールRLから送り出されたシート基板FBは、最初にシート基板FBに隔壁BAを形成する隔壁形成工程に入る。隔壁形成工程では、インプリントローラ10がシート基板FBを押圧するとともに、押圧された隔壁BAが形状を保つように熱転写ローラ15でシート基板FBをガラス転移点以上に熱する。インプリントローラ10のローラ表面は鏡面仕上げされており、そのローラ表面にSiC、Taなどの材料で構成された微細インプリント用モールド11が取り付けられている。
薄膜トランジスタ(TFT)としては、無機半導体系のものでも有機半導体を用いたものでも良い。有機半導体を用いて薄膜トランジスタを構成すれば、印刷法や液滴塗布法を活用して薄膜トランジスタを形成できる。
有機EL素子用の製造装置100は、画素電極P上に有機EL素子50の発光層IR(図1を参照)の形成工程を引き続き行う。製造装置100は、発光層形成工程では、印刷ローラ40を使用する。リン光性化合物を染み込ませた印刷ローラ40が回転して、画素電極PXにリン光性化合物ELの層が形成される。印刷法ではなく液滴塗布法でリン光性化合物ELが塗布されてもよい。
続いて、緑色発光層用の印刷ローラ40Gは、G溶液を画素電極P上に塗布する。G溶液は、ホスト材PVKに緑ドーパント材を1、2−ジクロロエタン中に溶解した溶液とする。
さらに、青色発光層用の印刷ローラ40Bは、B溶液を画素電極P上に塗布する。B溶液は、ホスト材PVKに青ドーパント材を1、2−ジクロロエタン中に溶解した溶液とする。その後、熱処理装置BKは熱風又は遠赤外線などの放射熱により発光層溶液を乾燥し硬化する。
図3は第1位置検出装置60の斜視図である。図3で示されるシート基板FBは搬送方向(+X軸方向)に移動する。図3ではアライメントマークAMは、シート基板FBの右側及び左側にX軸方向に均等の間隔で形成されている。以下、右側の第1位置検出装置60Rの下にあるアライメントマークAMをアライメントマークAMR1及びアライメントマークAMR2と呼ぶ。左側の第1位置検出装置60Lの下にあるアライメントマークAMをアライメントマークAML1及びアライメントマークAML2と呼ぶ。また特にそれらを区別しないときにはこれらすべてをアライメントマークAMと呼ぶ。
図5は、第1位置検出装置60の第1アライメント系61と第2アライメント系62との距離間の校正を示した図である。
第1アライメント系61と第2アライメント系62とは低い熱膨張係数の材料で構成される保持部63により固定されているが、第1アライメント系61と第2アライメント系62との距離間は温度などの影響で変動する。そこで、有機EL素子用の製造装置100はシート基板FBを処理する前に校正用の基礎マークBMを正確に形成した校正用基板GRを通過させる。そして第1アライメント系61と第2アライメント系62との距離間の校正が行われる。
図6はレーザー干渉計と第1位置検出装置60とを示した斜視図である。図6(a)は第1位置検出装置60の右側の第1位置検出装置60Rのレーザー干渉計70を示し、図6(b)は第2位置検出装置69の右側の第2位置検出装置69Rのレーザー干渉計70を示している。なお、左側の第1位置検出装置60L及び左側の第2位置検出装置69Lのレーザー干渉計70も同様な構成であるため図示していない。
図7(a)は、第1位置検出装置60及び第1位置検出装置60とゲート用液滴塗布装置20Gとの上面図を示している。以下は、処理装置の代表としてゲート用の液滴塗布装置20Gについて説明する。第2位置検出装置69については説明を割愛する。
図示しないが、他の液滴塗布装置20も同様に、速度アライメント制御部90からの信号を受け取ってインクなどをシート基板FBに塗布する位置を調整することができる。また、切断装置30も同様に、速度アライメント制御部90からの信号を受け取って切断位置を調整する。
図8は、有機EL素子50の製造工程の概略フローチャートである。
ステップP1において、インプリントローラ10によりシート基板FBにアライメントマークAMと、薄膜トランジスタ及び発光層などの隔壁BAとが熱転写で形成される。なお、アライメントマークAMと隔壁BAとは相互の位置関係が重要であるため同時に形成されることが好ましい。
次に、ステップP3では、速度アライメント制御部90からのシート基板FBの速度、左右の進行ずれ及び伸縮状態に関する信号に基づいて、ゲート用液滴塗布装置20G、絶縁層用の液滴塗布装置20I、ソース用及びドレイン用の液滴塗布装置20SDが各種電極用のメタルインクなどを順次塗布する。
次に、ステップP5では、速度アライメント制御部90からの信号に基づいて、切断装置30のレーザー光LLがソース電極Sとドレイン電極Dとの間隙であるチャネルを形成する。
次に、ステップP8では、速度アライメント制御部90から信号に基づいて、印刷ローラ40がRGBの発光層を形成する。
次に、ステップP10では、速度アライメント制御部90からの信号に基づいて、絶縁層用の液滴塗布装置20Iが絶縁層Iを形成する。
次に、ステップP12では、速度アライメント制御部90が補正した信号に基づいて、ITO電極用の液滴塗布装置20ITがITO電極を形成する。
また、実施例の製造装置には熱処理装置BKを設けたが、メタルインク又は発光層溶液などの改良によって熱処理が必要でないインク又は溶液が提案されている。このため、本実施例においても熱処理装置BKを必ず設ける必要はない。
11 … 微細インプリント用モールド
15 … 熱転写ローラ
20 … 液滴塗布装置(20G … ゲート用液滴塗布装置、20I … 絶縁層用の液滴塗布装置、20IT … ITO電極用の液滴塗布装置、20OS … 有機半導体液滴塗布装置、20SD … ソース用及びドレイン用並びに画素電極用の液滴塗布装置)
22 … ノズル
30 … 切断装置
40 … 印刷ローラ(40B 青色発光層用の印刷ローラ、40G 緑色発光層用の印刷ローラ、40R 赤色発光層用の印刷ローラ)
50 … 有機EL素子
60 … 位置検出装置(61、65 … 第1アライメント系、62、66 … 第2アライメント系)
63、67 … 保持部
70 … レーザー干渉計 (71 … レーザー干渉計本体、72 … 固定鏡、73 … 移動鏡)
74、75 … レーザー光
90 … 速度&アライメント制御部
100 … 製造装置
AM … アライメントマーク
BA … 隔壁
BK … 熱処理装置
D … ドレイン電極
FB … シート基板
G … ゲート電極
GBL ゲートバスライン
GR … ガラス基板
I … ゲート絶縁層
IR … 発光層
ITO 透明電極
LL … レーザー光
OS … 有機半導体層
P … 画素電極
PX … X軸方向の所定距離
PY … Y軸方向の所定距離
RL … 供給ロール
RR … ローラ
S … ソース電極
SBL … ソースバスライン
Claims (16)
- 所定方向に配列した第1アライメント系及び第2アライメント系によって、前記所定方向に送られる基板上の基準マークを検出し、前記基板の所定方向の伸縮を算出する伸縮算出工程と、
前記基準マーク及び前記基板の所定方向の伸縮に基づいて、処理装置により前記基板の所定の位置に表示素子を形成する為の処理を施す処理工程と、
を有することを特徴とする表示素子の製造方法。 - 前記基準マークは、前記所定方向と交差する前記基板の両端に形成される請求項1に記載の表示素子の製造方法。
- 前記伸縮算出工程は、前記所定方向と交差する方向の前記基板の伸縮を算出する請求項2に記載の表示素子の製造方法。
- 所定方向に配列した第1アライメント系及び第2アライメント系によって、前記所定方向に送られる基板上の基準マークを検出し、前記基板が所定方向に送られる速度を算出する速度算出工程と、
前記基準マーク及び前記基板の所定方向の速度に基づいて、処理装置により前記基板の所定の位置に表示素子を形成する為の処理を施す処理工程と、
を有する表示素子の製造方法。 - 前記基板が所定方向に送り出される際に前記基準マークを形成するマーク形成工程を有する請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。
- 前記基板上には前記表示素子の画素の領域に対応した隔壁が形成され、前記マーク形成工程では、前記基準マークが前記基板上の前記隔壁と所定の位置関係で形成されると共に、前記所定方向に沿って一定の間隔で複数形成される、請求項5に記載の表示素子の製造方法。
- 前記処理装置は、前記基板に導電部材を塗布又は印刷する処理を行う請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。
- 前記所定方向に予め距離が測定されている一対の基準マークを、前記第1アライメント系及び前記第2アライメント系で同時に検出して、前記第1アライメント系と前記第2アライメント系との距離を校正する請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法。
- 所定方向に沿って所定の間隔で複数の基準マークが形成された基板を所定方向に搬送する搬送部と、
前記基準マークを検出する第1アライメント系と、前記第1アライメント系から前記所定方向に所定距離離れて配置され、前記基準マークを検出する第2アライメント系とを備えた位置検出装置と、
前記基準マークを検出し、前記基板の所定方向の伸縮又は前記基板の搬送速度を算出する算出部と、
前記基板の所定方向の伸縮又は前記基板の搬送速度の少なくとも一方と前記基準マークとに基づいて、前記基板の所定の位置に表示素子を形成する為の処理を施す処理部と、
を有することを特徴とする表示素子の製造装置。 - 前記基板は、可撓性を有し前記所定方向に長尺の基板であり、
前記搬送部は、前記基板を所定の角度に渡って表面に密着させて送る搬送ローラを含み、
前記第1アライメント系と前記第2アライメント系は、前記基板が前記搬送ローラに密着している範囲で前記基準マークを検出するように、前記搬送ローラの回りに取り付け角度を異ならせて配置される、請求項9に記載の表示素子の製造装置。 - 前記第1アライメント系と第2アライメント系を前記所定方向に所定距離だけ離して配置するように結合する低膨張素材による保持部を有する、請求項9又は請求項10に記載の表示素子の製造装置。
- 前記第1アライメント系と第2アライメント系との互いの距離を測定する干渉計が設けられている請求項9から請求項11のいずれか一項に記載の表示素子の製造装置。
- 前記複数の基準マークは前記所定方向と交差する前記基板の幅方向の両側の各々に形成され、
前記位置検出装置は、前記基板の幅方向の両側の各々に配置され、
前記算出部は、前記位置検出装置による前記基準マークの検出結果に基づいて、前記基板の幅方向の伸縮を算出する、請求項9から請求項12のいずれか一項に記載の表示素子の製造装置。 - 前記基板に前記基準マークを形成するマーク形成部を備える請求項9から請求項13のいずれか一項に記載の表示素子の製造装置。
- 長尺の可撓性のシート基板上に表示素子を形成する製造方法であって、
前記長尺の方向に沿って所定間隔で複数の基準マークが形成された前記シート基板を、回転する搬送ローラの表面に所定の角度で密着させて、前記長尺の方向に所定の速度で搬送する工程と、
前記シート基板の前記搬送ローラに密着している領域であって、前記長尺の方向に所定距離だけ離れた位置の各々に視野が設定される第1アライメント系と第2アライメント系とによって、前記基準マークを検出する工程と、
前記第1アライメント系と第2アライメント系による検出結果に基づいて、前記シート基板の前記長尺の方向に関する伸縮、又は前記シート基板の搬送速度を算出する工程と、
前記算出された前記伸縮と前記搬送速度の少なくとも一方と、前記基準マークの位置とに基づいて、前記シート基板上の所定領域に前記表示素子を形成する為の処理を施す工程と、を含むことを特徴とする表示素子の製造方法。 - 前記複数の基準マークは前記長尺の方向と交差する前記シート基板の幅方向の両側の各々に形成され、
前記検出する工程では、前記シート基板の幅方向の両側の各々に配置された前記第1アライメント系と第2アライメント系とによって、前記幅方向の両側に形成された前記基準マークの各々を検出し、
前記算出する工程では、前記基準マークの検出結果に基づいて、前記シート基板の幅方向の伸縮を算出する、請求項15に記載の表示素子の製造方法。
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