JP5460789B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
また、前記排気処理部は、前記排気処理流路と排気上昇流路の下方に液体を流すための排水流路を形成することにした。
3 キャリア 4 キャリア搬入出ユニット
5 基板搬入出ユニット 6 基板処理ユニット
7 キャリアステージ 8 開閉扉
9 キャリア搬送機構 10 キャリアストック
11 キャリア載置台 12 開閉扉
13 基板搬入出機構 14 基板搬送機構
15 基板洗浄乾燥装置 16,17,18 基板洗浄装置
19 保持体 20 洗浄装置
21 基板処理部 22 処理流体供給部
23 排気処理部 24 洗浄槽
25 乾燥室 26 開閉蓋
27 保持体 28 IPA蒸気供給源
29 窒素ガス供給源 30,31 連通管
32 切換器 33 供給管
34 供給ノズル 35 排出管
36 排気処理室 37 排気管
38 排水管 39 排気流入口
40 排気流出口 41 排水流出口
42,43 仕切壁 44 排気処理流路
45 排水流路 46 排気上昇流路
47 排気流路 48,49 噴霧ノズル
50 溶媒供給源 51 連通管
52,53,54 分散板 55 貫通孔
56 気液分離フィルター
Claims (4)
- 基板を処理するための基板処理部と、
基板を処理する処理流体を基板処理部に供給するための処理流体供給部と、
基板処理部から排出された処理流体を含有する排気を処理するための排気処理部と、
を有し、
排気処理部は、水分が重量の作用で落下することで排気中の処理流体濃度を低減させる処理を行い、下方に向けて排気が流れる排気処理流路を形成するとともに、排気処理流路の下流側に下方から上方に向けて排気を流す排気上昇流路を形成し、排気上昇流路の断面積を排気処理流路の断面積よりも大きくして、排気上昇流路を流れる排気の流速を排気処理流路を流れる排気の流速よりも遅くなるようにしたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記排気処理部は、前記排気処理流路と排気上昇流路の下方に液体を流すための排水流路を形成したことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記排気処理部に排気を分散させるための多孔状の分散板を設けたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記排気上昇流路に気液分離フィルターを設けたことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の基板処理装置。
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