JP5460479B2 - パターン寸法測定装置及び輪郭線形成装置 - Google Patents
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Description
ここで、2S:シュリンク量(両側)、Vacc:加速電圧(V)、K1,K2,K3:レジストによって決まるパラメータ、n:測定回数である。
ここで、K1は、レジストの種類によって決まるパラメータである。本実施例では、線幅に依存せずシュリンク前の寸法値を推測する手順を示す。
ΔS1=exp{−(CD1 0.5/K1)}+2S …(3)
次に、上記式(3)を用いた、測定時のシュリンク前測長値推測シーケンス図9に示す。
(2S(S):代表パターンの標準シュリンク量、2S:測定対象パターンのシュリンク量、ΔS:測定対象パターンのオーバーシュリンク量)
式(5)のように、以上のようにして求められた2Sを、測定対象パターンの測定値に加算することによって、シュリンク前のパターン寸法を推定することが可能となる。
(CDe:シュリンク前のパターン寸法推定値、CDx:パターン寸法測定値)
なお、ΔSは、上述したように測定対象パターンの大きさによって変化するため、パターンの種類に応じて予め所定の記憶媒体に記憶しておき、演算時に読み出すようにすると良い。なお、ΔSは、パターンの実寸法によって変化するため、測定対象パターンの設計データのサイズに応じてその値を読み出すようにすると良い。また、ΔSとパターンサイズとの関係を示す近似曲線(関数)、或いはテーブルを予め作成しておき、当該関数とパターンのサイズに基づいて、ΔSを導出するようにしても良い。
1502 引出電極
1503 電子ビーム
1504 コンデンサレンズ
1505 走査偏向器
1506 対物レンズ
1507 試料室
1508 試料台
1509 試料
1510 電子
1511 二次電子
1512 変換電極
1513 検出器
Claims (8)
- 試料に電子ビームを走査することによって得られる信号に基づいて、前記試料上に形成されたパターンの寸法を測定するパターン寸法測定装置において、
前記信号に基づいて得られる前記パターンの寸法値に、前記試料に対する電子ビームの照射によって発生する前記パターンのサイズに応じたシュリンク量に基づく補正量を加算することによって、前記パターンの寸法値を補正する演算装置を備えたことを特徴とするパターン寸法測定装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、第1のサイズのパターンに電子ビームを照射したときの第1のシュリンク量に基づく補正量、或いは当該第1のシュリンク量に、当該第1のサイズより小さなパターンのサイズに応じて記憶された第2のシュリンク量を加算した補正量を用いて、前記パターンの寸法値を補正することを特徴とするパターン寸法測定装置。 - 請求項2において、
前記演算装置は、前記第1のサイズのパターンの第1回目の電子ビーム照射による測定値と第2回目の電子ビーム照射による測定値の差分と、前記第1のサイズのパターンとはサイズが異なる第2のサイズのパターンの第1回目の電子ビーム照射による測定値と第2回目の電子ビーム照射による測定値の差分との差異に基づいて、前記補正量を算出することを特徴とするパターン寸法測定装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記試料上に形成された異なるサイズのパターンについて、電子ビーム照射前の寸法値と、第1回目の電子ビーム照射による測定値の差分を求め、当該異なるサイズの測定値の差分に基づいて、前記パターンのサイズに応じた差分の変化を示す近似曲線を求めることを特徴とするパターン寸法測定装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記試料上に形成されたパターンに対する第1回目の電子ビーム照射による寸法値に、前記補正量を加算することによって、前記パターン寸法値を補正することを特徴とするパターン寸法測定装置。 - 試料に電子ビームを走査することによって得られる信号に基づいて、前記試料上に形成されたパターンエッジの輪郭線を抽出する輪郭線形成部を備えた輪郭線抽出装置において、
当該輪郭線形成部は、前記信号に基づいて得られた輪郭線を構成する複数の片、或いは部位毎に登録され、前記試料に対する電子ビームの照射によって発生するシュリンク量に応じた補正量に基づいて、前記輪郭線を構成する各点の位置を補正し、当該補正された点に基づいて、新たな輪郭線を形成することを特徴とする輪郭線抽出装置。 - 請求項6において、
前記輪郭線形成部は、前記信号に基づいて形成される画像のエッジ部を細線化することによって、前記輪郭線を抽出することを特徴とする輪郭線抽出装置。 - 請求項6において、
前記補正量は、前記片によって形成されるパターンの幅が小さい程、大きくなることを特徴とする輪郭線抽出装置。
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