JP5432094B2 - 光学スケールの製造方法 - Google Patents
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- 少なくともベース基材と、上記ベース基材上に形成された回折格子を有する回折格子膜と、この回折格子膜上に形成された反射膜とを有する光学スケールの製造方法において、
上記ベース基材に成膜した回折格子膜上に、スパッタ法により第1の反射膜を成膜し、この第1の反射膜に対して欠陥除去手段で該第1の反射膜の欠陥部分を除去した後、第1の反射膜上にスパッタ法により第2の反射膜を成膜する光学スケールの製造方法。 - 上記光学スケールは、上記回折格子膜と上記反射膜との間に密着膜を有し、
上記第1の反射膜を成膜する前に、上記回折格子膜上に第1の密着膜を成膜し、この第1の密着膜に対して上記欠陥除去手段で該第1の密着膜の欠陥部分を除去した後、第1の密着膜上に第2の密着膜を成膜し、続けて、上記第1の反射膜を成膜する請求項1記載の光学スケールの製造方法。
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